CZ171396A3 - Hardened glass substrate and the use thereof - Google Patents
Hardened glass substrate and the use thereof Download PDFInfo
- Publication number
- CZ171396A3 CZ171396A3 CZ961713A CZ171396A CZ171396A3 CZ 171396 A3 CZ171396 A3 CZ 171396A3 CZ 961713 A CZ961713 A CZ 961713A CZ 171396 A CZ171396 A CZ 171396A CZ 171396 A3 CZ171396 A3 CZ 171396A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- substrate according
- cao
- sro
- weight
- mgo
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 37
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 claims description 9
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 2
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000013500 data storage Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Inorganic materials [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 3
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000238017 Astacoidea Species 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007928 ZrCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- CSSYLTMKCUORDA-UHFFFAOYSA-N barium(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Ba+2] CSSYLTMKCUORDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000803 paradoxical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 238000012113 quantitative test Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000005185 salting out Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000009997 thermal pre-treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
- C03C15/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47B—TABLES; DESKS; OFFICE FURNITURE; CABINETS; DRAWERS; GENERAL DETAILS OF FURNITURE
- A47B2200/00—General construction of tables or desks
- A47B2200/0084—Accessories for tables or desks
- A47B2200/0094—Copyholder for VDU screen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
Zpevněný skleněný substrát a jeho použiti
Oblast techniky
Vynález se týká skleněných substrátů používaných zejména jako nosiče ve výrobě paměťových jednotek. Vynález se konkrétněji týká skleněných substrátů ve formě disků zejména používaných jako periferní'' paměti v oblasti zpracování dat. I když vynález není omezen na tuto aplikaci, bude popsán s odkazy na výrobu tvrdých magnetických disků. Rovněž se vynález týká použití tohoto zpevněného skleněného substrátu.
Dosavadní stav techniky
Tvrdý magnetický disk je obecné tvořen nosným prvkem vyrobeným tak, že je tvarován podobně jako centrálně perforovaný disk. Na tomto disku mohou být uloženy série tenkých magnetických filmů použitých pro uchovávání dat.
Data jsou zaznamenána a čtena pomocí jedné nebo více čtecích hlav, které jsou umístěny nad diskem, zatímco tento vykonává otáčivý pohyb. Za účelem získání vysoké účinnosti čtení dat musí být čtecí hlava tak blízko, jak je to možné u disku, přičemž se pro toto uspořádání používá výraz kontaktní záznam. Signál snímaný hlavou se exponenciálně snižuje jestliže se zvyšuje jeho altituda (výška). Navíc moderní požadavky vyžadují stále větší hustotu paměti, takže je uvedená informace uchovávána na stále menším povrchu. Za účelem dosažení čtení dat zaznamenaných tímto způsobem musí být vzdálenost oddělující disk od čtecí hLavy velmi malá, konkrétně pod 300 Angstromů (30 nm).
Substráty pro výrobu tvrdých magnetických disků jsou zejména popsány v patentu Spojených států amerických č. 5316844, kde jsou uváděny substráty z hliníku. Tento dokument také popisuje důležitý aspekt takových substrátů, totiž že tyto musí mít jen velmi omezenou drsnost. Tento dokument uvádí hodnoty drsnosti, kde Ra neboli průměrná drsnost je mezi 100 a 300 Angstromy (10 až 30 nm). Moderní požadavky, spojené s potřebou zvýšení potřeby uchovávání a tím ještě menší vzdáleností mezi diskem a čtecí hlavou, odpovídají Ra pod 30 Angstromů (3 nm) .
I když požadavky na paměť tvrdých magnetických disků se stále stupňují, jiný požadavek, který se může jevit paradoxní, se týká rozměrů uvedených disků. Uvedené paměťové jednotky musí mít minimální celkovou velikost a také sníženou hmotnost. Tyto požadavky jsou spojeny se zvýšenou potřebou přenosných a proto malých a lehce uložitelných jednotek. Vývoj přenosných zařízení pro zpracování dat a softwaru, vyžadujícího velké paměti, tvoří základ tohoto požadavku. Pro zvýšení kapacity paměti je také výhodné, aby bylo možno kombinovat některé tvrdé magnetické disky v daném prostoru a mít proto substráty se sníženou tloušťkou.
Hliníkový substrát nemůže mít tloušťku pod 0,6 mm a současně kvality vyžadované pro tvorbu tvrdého disku, zejména tuhost a odolnost vůči poškození při nasedání čtecí hlavy znovu na disk.
Pro vyloučení těchto nevýhod a zmenšení hmotnosti, a případně snížení tloušťky takového substrátu, navrhuje evropská patentová přihláška 579399 vyrábět tyto ze skla. Byly tak použity konvenční skleněné kompozice, které lze získat při výrobě plaveného skla pro použití v budovách nebo v automobilech. Plavené sklo se získá ve formé pásu, je transformováno do desek a nakonec řezáno a zpracováno na disky, mající požadované rozměry. Disky se pak leští pro získání požadované tloušťky a drsnosti.
Během provádění testů s těmito skleněnými materiály bylo zjištěno, že tyto skleněné substráty mají různé nevýhody a následkem toho nejsou dostačující pro výrobu tvrdých magnetických disků. Povrch takových substrátů z plaveného skla je náchylný k významné ztrátě alkalických kovů a zejména draslíku nebo sodíku a k podstatné ztrátě iontu dodávaného při chemickém temperování. Tyto alkalické kovy mají škodlivý vliv na magnetické filmy ukládané na substrátech. Proto se předpokládá, že vysolování alkalických kovů do těchto filmů bude způsobovat destrukci zaznamenaných dat během více či méně krátké doby.
Podstata vynálezu
Cílem vynálezu je vyloučení těchto nevýhod a konkrétněji tvorba substrátů používaných jako nosiče ve výrobě paměťových jednotek, jako jsou tvrdé magnetické disky, které umožňují uložení velkých množství informací a které byly omezeny celkovými rozměry a hmotností.
Vynález se rovněž týká substrátů majících vyhovující charakteristiky pokud se týče chemické a mechanické pevnosti a které nevykazují nevýhody pozorované v souvislosti s výše uvedenými substráty z plaveného skla.
Tohoto cíle lze dosáhnout pomocí skleněného substrátu, uvažovaného pro použití jako nosič v paměťových jednotkách, zpevněného povrchovou iontovou výměnou, jehož matrice obsahuje následující složky v uvedených hmotnostních poměrech:
SÍO9 | 45 | až | 65 | % |
Al | 0 | až | 20 | % |
B2°3 | 0 | až | 5 | % |
Na20 | 4 | až | 12 | % |
k2o | 3,5 | až | 12 | % |
MgO | 0 | až | 8 | % |
CaO | 0 | až | 13 | % |
ZrO2 | 0 | až | 20 | % |
přičemž součet obsahů oxidů křemičitého SiO2, hlinitého AI7O3 a zirkoničitého ZrO9 je roven nebo je menší než 70 %, a uvedená kompozice obsahuje popřípadě oxidy BaO a/nebo SrO v takových poměrech, že % £ MgO + CaO + BaO + SrO s 24 % a oxidy alkalických kovů jsou zavedeny v následujících hmotnostních procentech :
0,22 Na20/Na20 + K20 s 0,60,
Skleněné matrice substrátů podle vynálezu výhodně obsahují oxid zinečnatý ZnO v množství pod 10 % hmotnostních a výhodně pod 4 % hmotnostní. Tento oxid je schopen zlepšit hydrolytickou odolnost bez zvýšení viskozity při vysokých teplotách.
Substrát vyrobený za použiti některé z kompozic uvedených výše, který prošel iontovou výměnou, zejména zpracováním chemickým tvrzením, může být použit jako nosič pro výrobu paměťové jednotky a zejména tvrdého magnetického disku. Dosažená mechanická odolnost a chemická nebo hydrolytická odolnost jsou vhodné pro taková použití.
Navíc jak je uvedeno v předchozím textu, pokud se rýče požadavků na drsnost, což je spojeno s velmi vysokými rychlosrmi oráčení a relativně těsným umístěním čtecí hlavy rakové, porom je třeba uvést, že je vyžadována hodnota Ra pod 30 Angsrromů (30 nm).
Při použití známých postupů ve sklářském průmyslu známých z dosavadního sravu techniky je sice možné rransformovar skleněnou desku získanou v procesu plavení na substrát, vyhovující různým tolerancím. Tyto postupy v podstatě zahrnují stupně broušení, vrtání a opracování provedené na hranách (nebo okrajích). Po těchto operacích porom následují rakové běžně prováděné leštící fáze, při kterých se používá mechanických prostředků, při kterých je cílem získat jednak požadovanou tloušťku a jednak drsnost s hodnotou Ra pod 30 Angsrromů (3 nm), Je také možné provést konečné leštění tak, že se získá drsnost s hodnotou Ra pod 10 Angsrromů (1 nm). Takové leštění může popřípadě kombinovat několik mechanických a/nebo chemických stupňů leštění.
Ve variantě postupu podle vynálezu jsou produkovány substráty lisovací nebo tvářecí metodou, kdy je předlisek zaváděn do formy nebo lisu za získání požadovaného tvaru Pak je možné provést různé leštící fáze.
Do rozsahu vynálezu také patří i jiné metody pro výrobu těchto substrátů. Neomezující výčet tvarovacích procesů, které mohou být použity v tomto směru představuje : válcování, sestupné tažení nebo tažení a odřezávání .
Ve jedné z variant předmětného vynálezu mají skleněné substráty matrici obsahující následující složky v dále uvedených hmotnostních poměrech:
Si02 | 45 | až | 65 | % |
ai2o3 | 5 | až | 20 | % |
B2°3 | 0 | až | 5 | % |
Na20 | 4 | až | 12 | % |
k2o | 4 | až | 12 | % |
MgO | 0 | až | 8 | % |
CaO | 0 | až | 8 | % |
ZrO9 | 0 | až | 6 | % |
Ve výhodném provedení této varianty činí obsah oxidu hlinitého Α120ς. který je výhodný pro dodání chemické odolnosti, obecně nad 10 % hmotnostními. Tento oxid hlinitý také umožňuje zvýšit dolní chladící teplotu, která je důležitým faktorem, zejména při provádění chemického tvrzení při vysokých teplotách.
Obsah oxidu zirkoničitého ZrO2, který je obtížně Tavitelným prvkem, je výhodně pod 5 %.
Oxid boritý B202 se podílí pouze v omezeném rozsahu na mechanických a chemických vlastnostech skleněné matrice. Tento oxid boritý také výhodně snižuje viskozitu při zvýšených teplotách. Obsah oxidu boritého B2O2 je výhodně mezi 0 a 3 % a nejvýhodněji pod 2 %, přičemž účelem je podpoření homogenity skla.
S1O2
A12O B2°3
Na20
K20
MgO
CaO
Zr02
Ve výhodném provedení podle vynálezu je skelná kompozice tvořena následujícími složkami :.
až 65 % až 20 % až 3 % až 12 % až 12 % až 8 % až 8 % až 5 % přičemž součet obsahů oxidů křemičitého SiC^, hlinitého Al2O- a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice obsahuje popřípadě oxidy barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v takových poměrech, že :
14% s MgO + CaO + BaO + SrO 22 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :
0,22 s Na20/Na20 + K20 £ 0,60.
Celkový obsah prvků alkalických zemin je udržován dostatečně vysoký, přičemž účelem je získání nízké viskozity při vysoké teplotě. Toto je zvláště důležité, je-li sklo získáno procesem plavení.
Přítomnost těchto prvků také podporuje tavení těchto skelných kompozic. Oxid barnatý BaO přispívá ke snížení viskozity při vysokých teplotách. Tato látka snižuje také o
riziko devitrifikace. Oxid manganičitý MgO a oxid strontnatý SrO zvyšují hydrolytickou odolnost skel.
Obsahy oxidů alkalických kovů, oxidu sodného Na9O a oxidu draselného K-^O, jsou pokud se týče molárního obsahu ve výhodném provedení vzájemně blízké. V tomto případe nastává fenomen směsných alkalických kovů, který omezuje povrchovou migraci alkalických kovů. Migrace iontů je výrazně snížena, jsou-li oxid sodný Na20 a oxid draselný K2O přítomny v přibližně ekvivalentních molárních množstvích. Povrchový stav dosažený po iontové výměně, tj. například nepřítomnost iontů sodíku v omezené tloušťce, může trvat po dlouhou dobu díky účinku směsných alkalických kovů, který omezuje migraci iontů.
V souladu s další variantou podle vynálezu má skleněný substrát matrici, patřící do další skupiny a obsahující následující složky v následujících hmotnostních poměrech:
SÍO9 | 45 | až | 63 | % |
A12°3 | 0 | až | 18 | % |
Na2<3 | 4 | až | 12 | % |
k2o | 3,5 | až | 7 | % |
MgO | 1 | až | 8 | % |
CaO | 1 | až | 13 | % |
Zr02 | 6,5 | až | 20 | % |
Pro tuto skupinu skel slouží oxid zirkoničitý ZrC>2 jako stabilizátor, V určitém rozsahu tento oxid zvyšuje chemickou odolnost skla a napomáhá zvýšit jeho teplotu chlazení. Procentuální obsah oxidu zirkoničitého ZrC^ nesmí přestoupit 20 %, jinak by tavení bylo příliš obtížné. I když je obtížné tento oxid tavit, poskytuje výhodu v tom, že se nezvyšuje viskozita skel podle vynálezu při vysokých xeplotách. Z tohoto důvodu není nutno zavádět do těchto skel takové oxidy jako je oxid boritý B?^3 ' jehož jedním z účinků je snížení viskozity skla nebo zvýšeni obsahu oxidů alkalických kovů, které má stejný účinek.
Skla podle tohoto vynálezu mohou také obsahovat oxid hlinitý, který plní podobnou funkci jako oxid zirkoničitý. Oxid hlinitý zvyšuje chemickou odolnost tohoto typu skla a napomáhá zvýšení jeho dolní chladící teploty. Nicméně tato látka představuje obtížně tavitelný oxid, který zvyšuje viskozitu skla při vysokých teplotách.
Obecně tavení skel podle této varianty vynálezu zůstává v přijatelných teplotních mezích v případě použití výroby skla procesem plavení s tou podmínkou, že obsah oxidů křemičitého SiO^, zirkoničitého Z.rO7 a hlinitého AI2O3 zůstávají rovný nebo pod 70 %. Výraz přijatelné meze znamená, že teplota skla, odpovídající log *J = 1,6 nepřestoupí přibližně 1630 °C a výhodně 1590 ’C.
Ve sklech podle vynálezu představuje součet oxidů zirkoničitého ZrO-? a hlinitého AI2O3 ve výhodném provedení množství vyšší než 8 % nebo množství rovnající se této hodnotě, přičemž ještě výhodněji je toto množství v rozmezí od 8 % do 22 %. Obsah oxidu zirkoničitéo Zr02 je v těchto sklech výhodně v rozmezí od 8 % a 15 %.
Ve výhodném provedení obsahuje skleněné kompozice podle této varianty vynálezu následující složky v hmotnostních poměrech uvedených dále:
LO
Sí°2 | 45 | až | 59 | % |
Al203 | 0 | až | 10 | % |
Na20 | 4 | až | 10 | % |
k2o | 3,5 | až | 7 | % |
MgO | 1 | až | 7 | % |
CaO | 1 | až | 12 | % |
Zr02 | 9 | až | 15 | % |
Ve výhodném provedení varianty podle vynálezu se povrchová iontová výměna dosáhne v lázni ΚΝΌ3, umožňuj ící výměnu iontů sodíku za draselné ionty.
V další variantě tohoto procesu se použije směsné lázně, tj. lázně, obsahující několik typu iontů alkalických kovů, která umožňuje iontovou výměnu více iontů.
V jiných variantách může být chemické vytvrzení aktivováno vnějšími faktory jako je vytvoření elektrického pole nebo přítomnost ultrazvuku. Chemické vytvrzení může být také kombinováno s tepelnou předchozí úpravou.
Z ekonomického hlediska je nezbytné provádět chemické vytvrzování tak rychle, jak je to možné. Tato doba vytvrzování je výhodně pod 15 hodin a výhodněji pod 7 hodin. Teplota vytvrzování je výhodně v rozmezí od 400 C do 520 °C. Tvrzení prováděné za těchto podmínek vede k modulu lomu v kruhovém ohybu nad 500 MPa a hloubce tvrzení alespoň 14 mikrometrů.
Vytvrzování prováděné tímto způsobem má dvojí funkci. Za prvé posiluje chemickou odolnost substrátu snižováním hydrolytické napadnutelnosti tvrzeného substrátu. Za druhé tvrzení působí mechanické zpevnění povrchu. Toto vytvrzování způsobuje povrchové zpevnění vnitřních vlastností substrátu spojeného s jeho kompozicí. Toto je zvláště důležité a umožňuje to dosáhnout vyhovující mechanickou pevnost, zejména odolnost k ohýbání, šokům a lámání např. způsobených čtecí hlavou.
Podle vynálezu bylo rovněž zjištěny důvody rozlamování tvrdých magnetických disků způsobeného rychlým otáčivým pohybem. Během vrtání a zpracování, zejména vnitřního otvoru, se objevuje mnoho vad na plochách, které je obtížné zpracovat. Proto chemické tvrzení zpevňuje zpracovávané okraje substrátu.
Substrát podle vynálezu splňuje nutná kritéria proto, aby byl použit jako nosič ve výrobě tvrdých magnetických disků. Výsledkem kombinace složení a chemického tvrzení, což je případně spojeno s dalším předběžným zpracováváním, je to, že se dosáhne adekvátní mechanické odolnosti nebo pevnosti, přičemž na jedné straně se této zvýšení mechanické odolností nebo pevnosti týká povrchu odolávajícího drcení čtecí hlavy a na druhé straně se týká okrajů, zejména vnitřních okrajů, které mohou odolávat vysokým rotačním rychlostem. Tento substrát má také adekvátní chemickou odolnost a zejména hydrolytickou odolnost umožňující stálost tvrdého magnetického disku.
Příklady provedeni vynálezu
Zpevněný skleněný substrát a jeho použití, jeho vlastnosti a charakteristiky budou v dalším bLížě popsány s pomocí konkrétních příkladů provedení, které jsou pouze ilustrativní a nijak neomezují rozsah tohoto vynálezu.
Tyto podrobnosti a znaky vynálezu budou zřejmé z následujících příkladů a z provedených testů. Produkované substráty představují disky s vnějším průměrem 65 milimetrů vnitřním průměrem 20 milimetrů a s tloušťkou 0,635 milimetru.
Zvolené kompozice A, B a C pro výrobu substrátu obsahovaly následující složky v uvedených procentech hmotnostních;
A | B | C | |
Si09 | 53,6 % | 48,5 % | 54,6 % |
Al^Oj | 10,0 % | 14,8 % | 3,0% |
B2°3 | 2,2 % | 0 % | 0 % |
Na20 | 5,2 % | 5,3 % | 6,0 % |
k2o | 6,2 % | 6,5 % | 6,9 % |
MgO | 4,2 % | 3,8 % | 4,2 % |
CaO | 6,8 % | 6,6 % | 3,5 % |
SrO | 7,0 % | 7,0 % | 8,0 % |
BaO | 2,8 % | 5,5 % | 3,8 % |
ZrO2 | 2,0 % | 2,0 % | 10,0 % |
Tyto kompozice byly taveny a transformovány do skleněných pásů procesem plavení a potom do skleněných desek. Substráty byly získávány řezáním, zpracováním a leštěním. Leštění bylo provedeno běžnými mechanickými prostředky, takže bylo dosaženo drsnosti Ra pod 10 Angstromů (1 nm). Potom bylo provedeno chemické tvrzování v lázni dusičnanu draselného (KNOj).
Je třeba uvést, že tyto kompozice mají vysoké dolní chladící teploty přibližně 580 “C takže vytvrzování může probíhat při relativně vysokých teplotách. Chemické vytvrzování je účinnější při teplotách blízkých dolní chladící teplotě. Vyšší teplota během vytvrzování umožňuje dosažení vytvrzení rychleji při zachování vysokého povrchového pnutí a/nebo vysoké hloubky iontové výměny.
Zajímavé jsou také jiné pozoruhodné hodnoty těchto kompozic. Tyto kompozice jsou vhodné pro tvarování procesem plavení a musí proto v souvislosti s touto skutečností splňovat s tím spojené požadavky. Je to zejména otázka teplot, odpovídajících viskozitám požadovaným během tavení log^l= 1,6 a během vstupu do cínové lázně log = 3,5. Odpovídající teploty zvolených kompozic jsou uvedeny dále:
A | B | C | |
T(log*l = 1,6) | 1556 ’C | 1587 °C | 1559 °C |
T(logη = 3,5) | 1137 “C | 1183 °C | 1181 “C |
Tyto teploty jsou kompatibilní s požadavky procesu plavení.
Teploty likvidu těchto kompozic jsou:
- A : Tliq = 1120 *C
- B : TLiq = 1180 ’C
- C : Tliq = 1170 °C
Protože tyto teploty jsou pod T(log^ = 3,5), mohou být tato skla získána procesem plavení bez nebezpečí devitrifikace.
Se substráty popsanými ve výše uvedeném textu bylv provedeny různé testy, umožňující charakterizovat mechanickou pevnost a také chemickou odolnost.
První provedený test se týká odolnosti k tepelným šokům. Test demonstruje, že substráty připravené podle vynálezu jsou vhodné pro fáze zpracovávání, kterými musí následně projít, např. během ukládání magnetického filmu. Během tohoto testu substráty odolávaly bez poškození teplotním změnám od 350 do 20 “C.
Další test již uvedený výše, zahrnuje otáčení substrátu vysokou rychlostí (7000 až 25000 otáček za minutu). Substráty podle vynálezu vyhovují tomuto testu. Zpevnění, zejména obvodové, získané po chemickém tvrzení je v souladu s tím vyhovující.
Nakonec byl proveden mechanický test zahrnující zkoušku lámavosti ohybem (mezikruhové ohýbání). Zkušební
LO zařízení je jednak tvořeno dutým válcem o průměru 55 milimetrů, na který je uložen koncentricky substrát, a dalším dutým válcem o průměru 30 milimetrů, který napomáhá ohýbání substrátu. Posledně uvedený válec je také koncentrický vzhledem k ostatním elementům.
Tento test byl proveden na substrátech podle vynálezu, které byly podrobeny chemickým vytvrzovacím procesům různého trvání. Tento test byl rovněž proveden s netemperovaným (nevytvrzovaným) substrátem.
Výsledky těchto testů byly porovnány s výsledky, které byly získány se substrátem, který byl podroben chemickému vytvrzování a jehož složení odpovídá typu křemičito-sodno-vápenatého skla, obvykle používaného při procesu plavení. Tento substrát měl zvýšenou hladinu odsolení alkalických složek pro splnění požadavků pro použití jako nosič ve tvrdých magnetických discích. Jeho modul lomu v lámavosti ohybem nebo jeho povrchové pnutí nebo napětí byly považovány za dostačující, takže pro porovnání mohl sloužit modul lomu. Současné požadavky na tento typ substrátu jsou průměrný modul lomu nad 240 MPa s minimální hodnotou přesahující 150 MPa.
Získané výsledky při tomto porovnávacím testu jsou uvedeny v následující tabulce.
Charakter substrátu | Doba chemickéh | a teplota o vytvrzování | Modul lomu (MPa) |
kompozice A | bez | tvrzení | 117 |
kompozice A | 4 h, | 500 °C | 396 |
kompozice A | 7 h. | 500 ”C | 601 |
kompozice B | 4 h, | 500 ’C | 380 |
kompozice B | 7 h, | 500 °C | 571 |
kompozice C | 4 h, | 500 ’C | 390 |
kompozice C | 7 h, | 500 ’C | 560 |
Výsledky z tabulky uvedené výše demonstrují, že vytvrzování, které může mít trvání kratší než 4 hodiny je dostačující pro dosažení požadované mechanické pevnosti pro substráty podle vynálezu.
Kromě toho byla hodnocena hloubka vad v substrátu podle vynálezu, odpovídající hloubce, ve které neproběhlo chemické vytvrzování. Při tomto měření byla zjištěna maximální hloubka 15 mikrometrů. Proto hloubka výměny během vytvrzování musí přesáhnout tuto hodnotu. Měření hloubek výměny byly provedeny pro kompozici A. Měření byla provedena s elektronickou mikrosondou. Při tomto testu bylo zjištěno, že při době odpovídající 4 hodinám upravování a intervalu delšímu byla překročena hloubka 15 mikrometrů.
Doba a teplota při chemickém vytvrzování | Hloubka výměny (pm) | |
kompozice A | 4 h. 500 ’C | 23 |
kompozice B | 7 h, 500 °C | 31 |
Dále byly provedeny další testy hydrolytické odolnosti substrátů podle vynálezu.
První měření hydrolytické odolnosti bylo provedeno na substrátech podle vynálezu, které nebyly podrobeny chemickému vytvrzování. Toto měření bylo porovnáno s měřením substrátu, majícího skelnou kompozici typu plaveného skla. Tato měření byla provedena metodou D.G.G.
Tato metoda zahrnuje ponoření 10 g drceného skla, jehož velikost zrna je mezi 360 a 400 mikrometry, do 100 mililitrů vody a uvedení do varu po dobu 5 hodin. Po rychlém ochlazení se roztok filtruje a daný objem filtrátu se odpaří do sucha. Hmotnost získané suché látky umožňuje vypočítat množství skla rozpuštěného ve vodě. Toto množství je vyjádřeno jako miligramy na gram testovaného skla.
Získané výsledky při provádění tohoto testu jsou uvedeny v následující tabulce.
substrát A substrát B substrát C substrát typu plaveného skla mg/g 6 mg/g mg/g 30 mg/g
Tyto výsledky ukazují, že substráty podle vynálezu mají hydrolytickou odolnost lepší než substráty produkované z běžné kompozice používané při procesu plavení. Hodnota naměřená podle této metody se substrátem podle vynálezu vlastně odpovídá hodnotě, která by mohla být získána pro skelnou kompozici prostou alkalických činidel. Proto je skelná kompozice podle vynálezu z hlediska chemické odolnosti velmi zajímavá.
Další metodou, která umožňuje vyhodnotit hydrolytickou odolnost substrátu podle vynálezu, který byl popřípadě podroben chemickému vytvrzování, je metoda zahrnující podrobení substrátu stárnutí v uzavřeném obalu po dobu jednoho týdne při teplotě 80 ’C a v atmosféře s relativní vlhkostí 80 %.
Substrát se potom pozoruje skanovací elektronovou mikroskopií, přičemž se analyzuje povrchová krystalizace pomocí EDX (Energy Dispersive X-ray).
Tento test neumožňuje kvantifikovat hladinu odsolení alkalických látek. Nicméně umožňuje porovnat různé substráty. Takto je proto možné zajistit trvalost substrátu například na bázi referenčního substrátu.
Finální metodou hodnocení hydrolytické odolnosti substrátu, který prošel chemickým vytvrzováním, je metoda zahrnující ponoření substrátu na dobu několik hodin (přibližně 24 hodin) do demineralizované vody při teplotě 80 ’C s následujícím dávkováním iontů plasmovým hořákem, které prošly do roztoku a zejména alkalických kovů (Κ ,
Na+, Li+) plasmovým hořákem. Tento kvantitativní test je v dobrém souladu s dříve popsaným testem.
Tyto testy byly provedeny na substrátech podle vynálezu. Získané výsledky jsou vyhovující a ukazují, že hydrolytická odolnost substrátu, po chemickém vytvrzení, je dostačující pro uvažované aplikace.
Výsledky různých testů ukazují na mechanickou odolnost a hydrolytickou odolnost substrátu připraveného podle vynálezu. Potvrzují tak možnost použití substrátu podle vynálezu jako nosiče v paměťové jednotce, ve formě například pevného magnetického disku.
Claims (17)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Skleněný substrát uvažovaný pro použití jako nosič v paměťových jednotkách, zpevněný iontovou výměnou, jehož matrice obsahuje dále uvedené složky v následujících hmotnostních poměrech :
sio2 45 až 65 % Αΐ2θ3 0 až 20 % ®2θ3 0 až 5 % Na20 4 až 12 % κ2ο 3,5 až 12 % MgO 0 až 8 % CaO 0 až 13 % Zr02 0 až 20 % přičemž součet obsahů oxidu křemičitého SÍO2, hlinitého AI2O3 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v následujících poměrech :11 % s MgO + CaO + BaO + SrO 24 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech ;0,22 s Na20/Na20 + K20 0,60. - 2. Skleněný substrát podle nároku 1, vyznačující se tím, že matrice obsahuje následující složky v uvedených hmotnostních procentech ;
Sio2 45 až 65 % a12°3 0 až 20 % B2°3 0 až 5 % Na20 4 až 12 % k2o 4 až 12 % MgO 0 až 8 % CaO 0 až 8 % Zr02 0 až 6 % přičemž součet obsahů oxidu křemičitého SiO2, hlinitého A12O2 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice popřípadě obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v následujících poměrech :11 % MgO -r CaO + BaO + SrO 24 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :0,22 =s Na20/Na20 + K2O s 0,60. - 3. Substrát podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se líis, že hmotnostní obsah oxidu hlinitého Al202 je roven nebo je vyšší než 10 %.
- 4. Substrát podle nároku 1 až 3, vyznačující se tím, že hmotnostní obsah oxidu zirkoničitého ZrO2 je pod 5 %.
- 5. Substrát podle kteréhokoliv z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že hmotnostní obsah oxidu vápenatého CaO je pod 3 %.Ί
- 6. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že hmotnostní obsah oxidu boritého B202 je pod 3 %.
- 7. Substrát podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že kompozice obsahuje následující složky v uvedených procentech hmotnostních :
sío2 45 až 60 % Αΐ2θ3 10 až 20 % B2°3 0 až 3 % Na20 4 až 12 % K2° 4 až 12 % MgO 0 až 8 % CaO 0 až 8 % Zr02 0 až 5 % gpřičemž součet obsahů oxidu křemičitého SÍO2, hlinitého AI2O3 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice popřípadě obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v následujících poměrech :14 % MgO + CaO + BaO + SrO 22 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :0,22 i Na20/Na20 + K20 0,60. - 8. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že matrice obsahuje následující složky v následujících hmotnostních poměrech ;
Si02 53,6 % ai203 10,0 % 2,2 % iNa20 5,2 % k2o 6,2 % MgO 4,2 % CaO 6,8 % SrO 7,0 % BaO 2,8 % ZrO2 2,0 % - 9. Substrát podle nároku 1, vyznačující se tím, že matrice obsahuje následující složky v následujících poměrech hmotnostních
SiO2 45 až 63 % ZrO2 6,5 až 20 % A12°3 0 až 18 % Na?0 4 až 12 % k2° 3,5 až 7 % CaO 1 až 13 % MgO 1 až 8 % přičemž součet obsahů oxidu křemičitého SÍO2, hlinitého AI2O3 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice popřípadě obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v poměrech :11 % s M2O + CaO + BaO + SrO 24 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :0,22 Na?0/Na20 + K20 s 0,60. - 10. Substrát podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že iontová výměna se provádí chemickým vytvrzováním.
- 11. Substrát podle nároku 10, vyznačující se tím, že chemické vytvrzování se provádí v lázni KNOj při teplotě mezi 400 a 520 ’C po méně než 24 hodin.
- 12. Substrát podle nároku 10 nebo 11, vyznačující se tím, že chemické vytvrzování může být aktivováno vnějšími faktory jako je elektrické pole nebo ultrazvuk.
- 13. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že se získá procesem plavení a pak řezáním, vrtáním a obráběním.
- 14. Substrát podle kteréhokoliv z nároků 1 až 12, vyznačující se tím, že se získá lisováním předlisku s následujícím vrtáním a obráběním.
- 15. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že je leštěn jakýmkoliv způsobem tak, aby drsnost byla pod 30 . 10“^θ m.
- 16. Substrát podle nároku 15, vyznačující se tím, že se podrobí konečnému leštění vedoucímu k drsnosti s Ra pod 10 . 10'10 m.
- 17. Použití substrátu podle kteréhokoliv z nároků 1 až jako nosiče pro tvrdý magnetický disk.Zastupuje :
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9412209A FR2725713B1 (fr) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | Substrat en verre renforce |
FR9414352A FR2727399B1 (fr) | 1994-10-13 | 1994-11-30 | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ171396A3 true CZ171396A3 (en) | 1996-12-11 |
Family
ID=26231465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ961713A CZ171396A3 (en) | 1994-10-13 | 1995-10-05 | Hardened glass substrate and the use thereof |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5780371A (cs) |
EP (1) | EP0734357B1 (cs) |
JP (1) | JPH09507206A (cs) |
KR (1) | KR100402511B1 (cs) |
CN (1) | CN1047158C (cs) |
AT (1) | ATE166858T1 (cs) |
AU (1) | AU3656495A (cs) |
CZ (1) | CZ171396A3 (cs) |
DE (1) | DE69502806T2 (cs) |
HU (1) | HU222256B1 (cs) |
MY (1) | MY113087A (cs) |
TW (1) | TW284883B (cs) |
WO (1) | WO1996011888A1 (cs) |
Families Citing this family (85)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2727399B1 (fr) * | 1994-10-13 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
JP3666054B2 (ja) * | 1995-04-14 | 2005-06-29 | 日本電気硝子株式会社 | 基板用ガラス |
FR2744440B1 (fr) * | 1996-02-07 | 1998-03-20 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
FR2747119B1 (fr) * | 1996-04-05 | 1998-05-07 | Saint Gobain Vitrage | Procede de fabrication de verre en feuille par flottage |
JP3930113B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2007-06-13 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP3989988B2 (ja) * | 1996-09-04 | 2007-10-10 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法 |
US5871879A (en) * | 1996-10-24 | 1999-02-16 | Agfa-Gevaert, N.V. | Material comprising a layer on a glass support |
US5854153A (en) * | 1997-01-09 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
FR2758550B1 (fr) * | 1997-01-17 | 1999-02-12 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
FR2764596B1 (fr) * | 1997-06-17 | 1999-07-09 | Saint Gobain Vitrage | Composition de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
FR2761978B1 (fr) * | 1997-04-11 | 1999-05-07 | Saint Gobain Vitrage | Composition de verre et substrat en verre trempe chimiquement |
DE19721738C1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-05 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen |
CN1124995C (zh) * | 1997-07-30 | 2003-10-22 | 保谷株式会社 | 信息记录媒体用玻璃基板的制造方法 |
US6183892B1 (en) * | 1997-09-19 | 2001-02-06 | Mitsubishi Chemical Corporation | Magnetic recording medium substrate and magnetic recording medium |
US5854152A (en) * | 1997-12-10 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
DE19802919C1 (de) * | 1998-01-27 | 1999-10-07 | Schott Glas | Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate |
GB2335423A (en) * | 1998-03-20 | 1999-09-22 | Pilkington Plc | Chemically toughenable glass |
DE69902839T2 (de) | 1998-04-28 | 2003-05-28 | Asahi Glass Co., Ltd. | Flachglas und Substratglas für die Elektronik |
FR2780054B1 (fr) * | 1998-06-19 | 2000-07-21 | Saint Gobain Vitrage | Procede de depot d'une couche a base d'oxyde metallique sur un substrat verrier, substrat verrier ainsi revetu |
TW565539B (en) * | 1998-08-11 | 2003-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | Glass for a substrate |
JP4544666B2 (ja) * | 1998-09-11 | 2010-09-15 | Hoya株式会社 | ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体 |
JP4507135B2 (ja) * | 1998-09-11 | 2010-07-21 | Hoya株式会社 | ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体 |
JP4488555B2 (ja) * | 1998-09-22 | 2010-06-23 | Hoya株式会社 | ガラス組成物およびその製造方法、ならびにそれを用いた情報記録媒体用基板、情報記録媒体および情報記録装置 |
DE19906240A1 (de) * | 1999-02-15 | 2000-08-17 | Schott Glas | Hochzirkoniumoxidhaltiges Glas und dessen Verwendungen |
DE19917921C1 (de) | 1999-04-20 | 2000-06-29 | Schott Glas | Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung |
FR2801302B1 (fr) * | 1999-11-22 | 2001-12-21 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre et substrats en verre pour la realisation d'ecrans de visualisation |
WO2001049620A2 (en) | 2000-01-05 | 2001-07-12 | Schott Glass Technologies, Inc. | Alkaline-earth-free boroalkali silicate glass |
US6949485B2 (en) | 2000-06-01 | 2005-09-27 | Asabi Glass Company, Limited | Glass for substrate and glass substrate |
WO2001098015A2 (de) * | 2000-06-21 | 2001-12-27 | Schott Glas | Verfahren zur herstellung von glassubstraten für elektronische speichermedien |
DE10102296C1 (de) * | 2001-01-19 | 2002-02-21 | Schott Glas | Gläser mit hohem spezifischen Elastizitätsmodul und deren Verwendung |
DE10133963B4 (de) * | 2001-07-17 | 2006-12-28 | Schott Ag | Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen |
JP2003201148A (ja) * | 2001-10-31 | 2003-07-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化用ホルダー |
US7309671B2 (en) * | 2002-05-24 | 2007-12-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition, glass article, glass substrate for magnetic recording media, and method for producing the same |
AU2003275708A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-25 | Hoya Corporation | Chemically strengthened glass, substrate for information recording medium and information recording medium |
US7566673B2 (en) * | 2003-10-31 | 2009-07-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass substrate for an information recording medium and information recording medium employing it |
JP4039381B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2008-01-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物を用いた情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体 |
JP4808985B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-11-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2007099557A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラス物品およびその製造方法 |
US8677782B2 (en) * | 2006-07-25 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Method of making glass including surface treatment with aluminum chloride at or just prior to annealing LEHR |
TWI424972B (zh) * | 2007-03-02 | 2014-02-01 | Nippon Electric Glass Co | 強化板玻璃 |
JP5467490B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2014-04-09 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板 |
JP5743125B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2015-07-01 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス及び強化ガラス基板 |
CN103113022B (zh) * | 2008-02-26 | 2016-09-28 | 康宁股份有限公司 | 用于硅酸盐玻璃的澄清剂 |
US8673163B2 (en) | 2008-06-27 | 2014-03-18 | Apple Inc. | Method for fabricating thin sheets of glass |
US7810355B2 (en) | 2008-06-30 | 2010-10-12 | Apple Inc. | Full perimeter chemical strengthening of substrates |
EP2404228B1 (en) * | 2009-03-02 | 2020-01-15 | Apple Inc. | Techniques for strengthening glass covers for portable electronic devices |
US9637408B2 (en) * | 2009-05-29 | 2017-05-02 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium containing glass |
KR101577492B1 (ko) * | 2009-07-02 | 2015-12-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그의 제조 방법 |
CN102471133B (zh) * | 2009-08-10 | 2014-10-15 | Hoya株式会社 | 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板及其制造方法、以及磁记录介质 |
US8549882B2 (en) * | 2009-09-30 | 2013-10-08 | Apple Inc. | Pre-processing techniques to produce complex edges using a glass slumping process |
US9778685B2 (en) | 2011-05-04 | 2017-10-03 | Apple Inc. | Housing for portable electronic device with reduced border region |
KR100978678B1 (ko) * | 2010-02-08 | 2010-08-27 | 노바테크인더스트리 주식회사 | 투명 전극 일체형 봉지 모듈의 제조 방법 |
US9213451B2 (en) | 2010-06-04 | 2015-12-15 | Apple Inc. | Thin glass for touch panel sensors and methods therefor |
US8923693B2 (en) | 2010-07-30 | 2014-12-30 | Apple Inc. | Electronic device having selectively strengthened cover glass |
US10189743B2 (en) | 2010-08-18 | 2019-01-29 | Apple Inc. | Enhanced strengthening of glass |
US8873028B2 (en) | 2010-08-26 | 2014-10-28 | Apple Inc. | Non-destructive stress profile determination in chemically tempered glass |
US8824140B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-09-02 | Apple Inc. | Glass enclosure |
US20120111056A1 (en) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | Christopher Prest | Enhanced strengthening of glass |
JP2012214356A (ja) * | 2010-12-29 | 2012-11-08 | Avanstrate Inc | カバーガラス及びその製造方法 |
US8539794B2 (en) * | 2011-02-01 | 2013-09-24 | Corning Incorporated | Strengthened glass substrate sheets and methods for fabricating glass panels from glass substrate sheets |
US9725359B2 (en) | 2011-03-16 | 2017-08-08 | Apple Inc. | Electronic device having selectively strengthened glass |
US10781135B2 (en) | 2011-03-16 | 2020-09-22 | Apple Inc. | Strengthening variable thickness glass |
EP2692706B1 (en) * | 2011-03-31 | 2016-03-30 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass composition suitable for chemical strengthening and chemically strengthened glass article |
US9128666B2 (en) | 2011-05-04 | 2015-09-08 | Apple Inc. | Housing for portable electronic device with reduced border region |
US9051214B2 (en) * | 2011-09-02 | 2015-06-09 | Guardian Industries Corp. | Method of strengthening glass by plasma induced ion exchanges, and articles made according to the same |
US9988304B2 (en) | 2011-09-02 | 2018-06-05 | Guardian Glass, LLC | Method of strengthening glass by plasma induced ion exchanges in connection with tin baths, and articles made according to the same |
US9604877B2 (en) | 2011-09-02 | 2017-03-28 | Guardian Industries Corp. | Method of strengthening glass using plasma torches and/or arc jets, and articles made according to the same |
US9944554B2 (en) | 2011-09-15 | 2018-04-17 | Apple Inc. | Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor |
US9516149B2 (en) | 2011-09-29 | 2016-12-06 | Apple Inc. | Multi-layer transparent structures for electronic device housings |
US10144669B2 (en) | 2011-11-21 | 2018-12-04 | Apple Inc. | Self-optimizing chemical strengthening bath for glass |
US8684613B2 (en) | 2012-01-10 | 2014-04-01 | Apple Inc. | Integrated camera window |
US10133156B2 (en) | 2012-01-10 | 2018-11-20 | Apple Inc. | Fused opaque and clear glass for camera or display window |
US8773848B2 (en) | 2012-01-25 | 2014-07-08 | Apple Inc. | Fused glass device housings |
US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
SG11201407592YA (en) | 2012-05-16 | 2015-01-29 | Hoya Corp | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof |
US9946302B2 (en) | 2012-09-19 | 2018-04-17 | Apple Inc. | Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing |
US11352287B2 (en) | 2012-11-28 | 2022-06-07 | Vitro Flat Glass Llc | High strain point glass |
EP2953910A1 (en) * | 2013-02-11 | 2015-12-16 | Corning Incorporated | Antimicrobial glass articles and methods of making and using same |
US9459661B2 (en) | 2013-06-19 | 2016-10-04 | Apple Inc. | Camouflaged openings in electronic device housings |
KR101493601B1 (ko) | 2013-07-17 | 2015-02-13 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법 |
KR101493612B1 (ko) | 2013-10-08 | 2015-02-13 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법 |
US9886062B2 (en) | 2014-02-28 | 2018-02-06 | Apple Inc. | Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing |
GB201505091D0 (en) | 2015-03-26 | 2015-05-06 | Pilkington Group Ltd | Glass |
CN106854037B (zh) * | 2016-12-30 | 2018-03-16 | 东旭集团有限公司 | 一种硅酸盐制品及其强化方法 |
US20210214269A1 (en) * | 2018-06-01 | 2021-07-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Tempered glass and glass for tempering |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE753189A (fr) * | 1969-07-10 | 1970-12-16 | Asahi Glass Co Ltd | Procede de renforcement d'un article en verre par echange d'ions et produit ainsi obtenu |
DE2020674A1 (de) * | 1970-04-28 | 1971-11-11 | Owens Illinois Ins | Verfahren zur Herstellung eines Glasgegenstandes mit guenstigem Bruchmodul |
US4015045A (en) * | 1974-01-09 | 1977-03-29 | Ppg Industries, Inc. | Chemical strengthening of glass |
US4119760A (en) * | 1975-08-15 | 1978-10-10 | Ppg Industries, Inc. | Chemical strengthening of glass |
US4015966A (en) * | 1976-06-01 | 1977-04-05 | Owens-Illinois, Inc. | Manufacture of X-ray absorbing glass composition by a float glass process |
SU975618A1 (ru) * | 1980-12-30 | 1982-11-23 | Предприятие П/Я В-2268 | Стекло |
SU998401A1 (ru) * | 1981-06-08 | 1983-02-23 | Предприятие П/Я Х-5382 | Стекло |
GB2171990B (en) * | 1985-03-08 | 1988-12-07 | Central Glass Co Ltd | Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article |
JPS62128944A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-11 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
EP0256278A1 (de) * | 1986-07-16 | 1988-02-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Magnetplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
JPS6374935A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-05 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 耐薬品性に優れたガラス基板 |
SU1604763A1 (ru) * | 1988-09-12 | 1990-11-07 | Производственное Объединение "Силикат" | Стекло |
JP2738036B2 (ja) * | 1989-07-06 | 1998-04-08 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物 |
EP0579399A2 (en) * | 1992-07-09 | 1994-01-19 | Pilkington Plc | Glass substrate for a magnetic disc and manufacture thereof |
GB9221227D0 (en) * | 1992-10-09 | 1992-11-25 | Pilkington Plc | Ctv batches |
US5508237A (en) * | 1994-03-14 | 1996-04-16 | Corning Incorporated | Flat panel display |
JP2799544B2 (ja) * | 1994-04-28 | 1998-09-17 | 株式会社オハラ | 情報記録ディスク用結晶化ガラス |
US5599754A (en) * | 1994-10-14 | 1997-02-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
US5691256A (en) * | 1995-12-28 | 1997-11-25 | Yamamura Glass Co., Ltd. | Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate |
-
1995
- 1995-10-05 EP EP95934172A patent/EP0734357B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-05 JP JP8512975A patent/JPH09507206A/ja active Pending
- 1995-10-05 WO PCT/FR1995/001296 patent/WO1996011888A1/fr not_active Application Discontinuation
- 1995-10-05 DE DE69502806T patent/DE69502806T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-05 CN CN95191479A patent/CN1047158C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-05 AU AU36564/95A patent/AU3656495A/en not_active Abandoned
- 1995-10-05 KR KR1019960703077A patent/KR100402511B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-05 CZ CZ961713A patent/CZ171396A3/cs unknown
- 1995-10-05 AT AT95934172T patent/ATE166858T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-10-05 US US08/652,590 patent/US5780371A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-13 HU HU9601623A patent/HU222256B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1995-10-13 MY MYPI95003082A patent/MY113087A/en unknown
- 1995-12-12 TW TW084113317A patent/TW284883B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0734357B1 (fr) | 1998-06-03 |
CN1047158C (zh) | 1999-12-08 |
CN1139914A (zh) | 1997-01-08 |
MX9602309A (es) | 1997-07-31 |
EP0734357A1 (fr) | 1996-10-02 |
DE69502806T2 (de) | 1999-03-04 |
JPH09507206A (ja) | 1997-07-22 |
HU222256B1 (hu) | 2003-05-28 |
KR100402511B1 (ko) | 2004-03-20 |
WO1996011888A1 (fr) | 1996-04-25 |
TW284883B (cs) | 1996-09-01 |
HU9601623D0 (en) | 1996-08-28 |
KR960706456A (ko) | 1996-12-09 |
MY113087A (en) | 2001-11-30 |
HUT76865A (en) | 1997-12-29 |
ATE166858T1 (de) | 1998-06-15 |
AU3656495A (en) | 1996-05-06 |
US5780371A (en) | 1998-07-14 |
DE69502806D1 (de) | 1998-07-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ171396A3 (en) | Hardened glass substrate and the use thereof | |
US6114039A (en) | Process for treating glass substrates | |
HU222265B1 (hu) | Erősített üvegszubsztrátumok és alkalmazásuk | |
DE19802919C1 (de) | Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate | |
CN100468526C (zh) | 用于信息记录介质的玻璃衬底及其制备方法,和信息记录介质及其制备方法 | |
US6440531B1 (en) | Hydrofluoric acid etched substrate for information recording medium | |
WO2019150654A1 (ja) | 化学強化用ガラス | |
JP4086211B2 (ja) | ガラス組成物およびその製造方法 | |
US5726108A (en) | Glass-ceramic magnetic disk substrate | |
US6399527B1 (en) | Glass composition and substrate for information recording medium | |
JP4086210B2 (ja) | 情報記録媒体用基板 | |
CN103493133B (zh) | 磁记录介质用玻璃基板及其利用 | |
KR100446053B1 (ko) | 정보 기억 매체용 기판 | |
JP2004161597A (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
JPH11302032A (ja) | ガラス組成物およびそれを用いた情報記録媒体用基板 | |
JPWO2004039738A1 (ja) | 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法 | |
JP2001019466A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板 | |
JP2000159540A (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス | |
JP2007161552A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板 | |
EP0755901B1 (en) | Glass composition for making magnetic disk substrates and magnetic disk substrate | |
US6217971B1 (en) | Magnetic disk comprising a substrate | |
JP4081826B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよびドーナツ状円形ガラスディスク基板 | |
JP4619115B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 | |
JP2005104774A (ja) | 情報記録ガラス基板用ガラス材料、情報記録ガラス基板、情報記録ディスク及びハードディスク装置 | |
US20230312400A1 (en) | Glass and crystallized glass |