CZ171396A3 - Hardened glass substrate and the use thereof - Google Patents

Hardened glass substrate and the use thereof Download PDF

Info

Publication number
CZ171396A3
CZ171396A3 CZ961713A CZ171396A CZ171396A3 CZ 171396 A3 CZ171396 A3 CZ 171396A3 CZ 961713 A CZ961713 A CZ 961713A CZ 171396 A CZ171396 A CZ 171396A CZ 171396 A3 CZ171396 A3 CZ 171396A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
substrate according
cao
sro
weight
mgo
Prior art date
Application number
CZ961713A
Other languages
English (en)
Inventor
Francoise Rifqi
Stephanie Koch
Didier Jousse
Original Assignee
Saint Gobain Vitrage
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from FR9412209A external-priority patent/FR2725713B1/fr
Priority claimed from FR9414352A external-priority patent/FR2727399B1/fr
Application filed by Saint Gobain Vitrage filed Critical Saint Gobain Vitrage
Publication of CZ171396A3 publication Critical patent/CZ171396A3/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C03C15/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47BTABLES; DESKS; OFFICE FURNITURE; CABINETS; DRAWERS; GENERAL DETAILS OF FURNITURE
    • A47B2200/00General construction of tables or desks
    • A47B2200/0084Accessories for tables or desks
    • A47B2200/0094Copyholder for VDU screen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

Zpevněný skleněný substrát a jeho použiti
Oblast techniky
Vynález se týká skleněných substrátů používaných zejména jako nosiče ve výrobě paměťových jednotek. Vynález se konkrétněji týká skleněných substrátů ve formě disků zejména používaných jako periferní'' paměti v oblasti zpracování dat. I když vynález není omezen na tuto aplikaci, bude popsán s odkazy na výrobu tvrdých magnetických disků. Rovněž se vynález týká použití tohoto zpevněného skleněného substrátu.
Dosavadní stav techniky
Tvrdý magnetický disk je obecné tvořen nosným prvkem vyrobeným tak, že je tvarován podobně jako centrálně perforovaný disk. Na tomto disku mohou být uloženy série tenkých magnetických filmů použitých pro uchovávání dat.
Data jsou zaznamenána a čtena pomocí jedné nebo více čtecích hlav, které jsou umístěny nad diskem, zatímco tento vykonává otáčivý pohyb. Za účelem získání vysoké účinnosti čtení dat musí být čtecí hlava tak blízko, jak je to možné u disku, přičemž se pro toto uspořádání používá výraz kontaktní záznam. Signál snímaný hlavou se exponenciálně snižuje jestliže se zvyšuje jeho altituda (výška). Navíc moderní požadavky vyžadují stále větší hustotu paměti, takže je uvedená informace uchovávána na stále menším povrchu. Za účelem dosažení čtení dat zaznamenaných tímto způsobem musí být vzdálenost oddělující disk od čtecí hLavy velmi malá, konkrétně pod 300 Angstromů (30 nm).
Substráty pro výrobu tvrdých magnetických disků jsou zejména popsány v patentu Spojených států amerických č. 5316844, kde jsou uváděny substráty z hliníku. Tento dokument také popisuje důležitý aspekt takových substrátů, totiž že tyto musí mít jen velmi omezenou drsnost. Tento dokument uvádí hodnoty drsnosti, kde Ra neboli průměrná drsnost je mezi 100 a 300 Angstromy (10 až 30 nm). Moderní požadavky, spojené s potřebou zvýšení potřeby uchovávání a tím ještě menší vzdáleností mezi diskem a čtecí hlavou, odpovídají Ra pod 30 Angstromů (3 nm) .
I když požadavky na paměť tvrdých magnetických disků se stále stupňují, jiný požadavek, který se může jevit paradoxní, se týká rozměrů uvedených disků. Uvedené paměťové jednotky musí mít minimální celkovou velikost a také sníženou hmotnost. Tyto požadavky jsou spojeny se zvýšenou potřebou přenosných a proto malých a lehce uložitelných jednotek. Vývoj přenosných zařízení pro zpracování dat a softwaru, vyžadujícího velké paměti, tvoří základ tohoto požadavku. Pro zvýšení kapacity paměti je také výhodné, aby bylo možno kombinovat některé tvrdé magnetické disky v daném prostoru a mít proto substráty se sníženou tloušťkou.
Hliníkový substrát nemůže mít tloušťku pod 0,6 mm a současně kvality vyžadované pro tvorbu tvrdého disku, zejména tuhost a odolnost vůči poškození při nasedání čtecí hlavy znovu na disk.
Pro vyloučení těchto nevýhod a zmenšení hmotnosti, a případně snížení tloušťky takového substrátu, navrhuje evropská patentová přihláška 579399 vyrábět tyto ze skla. Byly tak použity konvenční skleněné kompozice, které lze získat při výrobě plaveného skla pro použití v budovách nebo v automobilech. Plavené sklo se získá ve formé pásu, je transformováno do desek a nakonec řezáno a zpracováno na disky, mající požadované rozměry. Disky se pak leští pro získání požadované tloušťky a drsnosti.
Během provádění testů s těmito skleněnými materiály bylo zjištěno, že tyto skleněné substráty mají různé nevýhody a následkem toho nejsou dostačující pro výrobu tvrdých magnetických disků. Povrch takových substrátů z plaveného skla je náchylný k významné ztrátě alkalických kovů a zejména draslíku nebo sodíku a k podstatné ztrátě iontu dodávaného při chemickém temperování. Tyto alkalické kovy mají škodlivý vliv na magnetické filmy ukládané na substrátech. Proto se předpokládá, že vysolování alkalických kovů do těchto filmů bude způsobovat destrukci zaznamenaných dat během více či méně krátké doby.
Podstata vynálezu
Cílem vynálezu je vyloučení těchto nevýhod a konkrétněji tvorba substrátů používaných jako nosiče ve výrobě paměťových jednotek, jako jsou tvrdé magnetické disky, které umožňují uložení velkých množství informací a které byly omezeny celkovými rozměry a hmotností.
Vynález se rovněž týká substrátů majících vyhovující charakteristiky pokud se týče chemické a mechanické pevnosti a které nevykazují nevýhody pozorované v souvislosti s výše uvedenými substráty z plaveného skla.
Tohoto cíle lze dosáhnout pomocí skleněného substrátu, uvažovaného pro použití jako nosič v paměťových jednotkách, zpevněného povrchovou iontovou výměnou, jehož matrice obsahuje následující složky v uvedených hmotnostních poměrech:
SÍO9 45 65 %
Al 0 20 %
B2°3 0 5 %
Na20 4 12 %
k2o 3,5 12 %
MgO 0 8 %
CaO 0 13 %
ZrO2 0 20 %
přičemž součet obsahů oxidů křemičitého SiO2, hlinitého AI7O3 a zirkoničitého ZrO9 je roven nebo je menší než 70 %, a uvedená kompozice obsahuje popřípadě oxidy BaO a/nebo SrO v takových poměrech, že % £ MgO + CaO + BaO + SrO s 24 % a oxidy alkalických kovů jsou zavedeny v následujících hmotnostních procentech :
0,22 Na20/Na20 + K20 s 0,60,
Skleněné matrice substrátů podle vynálezu výhodně obsahují oxid zinečnatý ZnO v množství pod 10 % hmotnostních a výhodně pod 4 % hmotnostní. Tento oxid je schopen zlepšit hydrolytickou odolnost bez zvýšení viskozity při vysokých teplotách.
Substrát vyrobený za použiti některé z kompozic uvedených výše, který prošel iontovou výměnou, zejména zpracováním chemickým tvrzením, může být použit jako nosič pro výrobu paměťové jednotky a zejména tvrdého magnetického disku. Dosažená mechanická odolnost a chemická nebo hydrolytická odolnost jsou vhodné pro taková použití.
Navíc jak je uvedeno v předchozím textu, pokud se rýče požadavků na drsnost, což je spojeno s velmi vysokými rychlosrmi oráčení a relativně těsným umístěním čtecí hlavy rakové, porom je třeba uvést, že je vyžadována hodnota Ra pod 30 Angsrromů (30 nm).
Při použití známých postupů ve sklářském průmyslu známých z dosavadního sravu techniky je sice možné rransformovar skleněnou desku získanou v procesu plavení na substrát, vyhovující různým tolerancím. Tyto postupy v podstatě zahrnují stupně broušení, vrtání a opracování provedené na hranách (nebo okrajích). Po těchto operacích porom následují rakové běžně prováděné leštící fáze, při kterých se používá mechanických prostředků, při kterých je cílem získat jednak požadovanou tloušťku a jednak drsnost s hodnotou Ra pod 30 Angsrromů (3 nm), Je také možné provést konečné leštění tak, že se získá drsnost s hodnotou Ra pod 10 Angsrromů (1 nm). Takové leštění může popřípadě kombinovat několik mechanických a/nebo chemických stupňů leštění.
Ve variantě postupu podle vynálezu jsou produkovány substráty lisovací nebo tvářecí metodou, kdy je předlisek zaváděn do formy nebo lisu za získání požadovaného tvaru Pak je možné provést různé leštící fáze.
Do rozsahu vynálezu také patří i jiné metody pro výrobu těchto substrátů. Neomezující výčet tvarovacích procesů, které mohou být použity v tomto směru představuje : válcování, sestupné tažení nebo tažení a odřezávání .
Ve jedné z variant předmětného vynálezu mají skleněné substráty matrici obsahující následující složky v dále uvedených hmotnostních poměrech:
Si02 45 65 %
ai2o3 5 20 %
B2°3 0 5 %
Na20 4 12 %
k2o 4 12 %
MgO 0 8 %
CaO 0 8 %
ZrO9 0 6 %
Ve výhodném provedení této varianty činí obsah oxidu hlinitého Α120ς. který je výhodný pro dodání chemické odolnosti, obecně nad 10 % hmotnostními. Tento oxid hlinitý také umožňuje zvýšit dolní chladící teplotu, která je důležitým faktorem, zejména při provádění chemického tvrzení při vysokých teplotách.
Obsah oxidu zirkoničitého ZrO2, který je obtížně Tavitelným prvkem, je výhodně pod 5 %.
Oxid boritý B202 se podílí pouze v omezeném rozsahu na mechanických a chemických vlastnostech skleněné matrice. Tento oxid boritý také výhodně snižuje viskozitu při zvýšených teplotách. Obsah oxidu boritého B2O2 je výhodně mezi 0 a 3 % a nejvýhodněji pod 2 %, přičemž účelem je podpoření homogenity skla.
S1O2
A12O B2°3
Na20
K20
MgO
CaO
Zr02
Ve výhodném provedení podle vynálezu je skelná kompozice tvořena následujícími složkami :.
až 65 % až 20 % až 3 % až 12 % až 12 % až 8 % až 8 % až 5 % přičemž součet obsahů oxidů křemičitého SiC^, hlinitého Al2O- a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice obsahuje popřípadě oxidy barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v takových poměrech, že :
14% s MgO + CaO + BaO + SrO 22 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :
0,22 s Na20/Na20 + K20 £ 0,60.
Celkový obsah prvků alkalických zemin je udržován dostatečně vysoký, přičemž účelem je získání nízké viskozity při vysoké teplotě. Toto je zvláště důležité, je-li sklo získáno procesem plavení.
Přítomnost těchto prvků také podporuje tavení těchto skelných kompozic. Oxid barnatý BaO přispívá ke snížení viskozity při vysokých teplotách. Tato látka snižuje také o
riziko devitrifikace. Oxid manganičitý MgO a oxid strontnatý SrO zvyšují hydrolytickou odolnost skel.
Obsahy oxidů alkalických kovů, oxidu sodného Na9O a oxidu draselného K-^O, jsou pokud se týče molárního obsahu ve výhodném provedení vzájemně blízké. V tomto případe nastává fenomen směsných alkalických kovů, který omezuje povrchovou migraci alkalických kovů. Migrace iontů je výrazně snížena, jsou-li oxid sodný Na20 a oxid draselný K2O přítomny v přibližně ekvivalentních molárních množstvích. Povrchový stav dosažený po iontové výměně, tj. například nepřítomnost iontů sodíku v omezené tloušťce, může trvat po dlouhou dobu díky účinku směsných alkalických kovů, který omezuje migraci iontů.
V souladu s další variantou podle vynálezu má skleněný substrát matrici, patřící do další skupiny a obsahující následující složky v následujících hmotnostních poměrech:
SÍO9 45 63 %
A12°3 0 18 %
Na2<3 4 12 %
k2o 3,5 7 %
MgO 1 8 %
CaO 1 13 %
Zr02 6,5 20 %
Pro tuto skupinu skel slouží oxid zirkoničitý ZrC>2 jako stabilizátor, V určitém rozsahu tento oxid zvyšuje chemickou odolnost skla a napomáhá zvýšit jeho teplotu chlazení. Procentuální obsah oxidu zirkoničitého ZrC^ nesmí přestoupit 20 %, jinak by tavení bylo příliš obtížné. I když je obtížné tento oxid tavit, poskytuje výhodu v tom, že se nezvyšuje viskozita skel podle vynálezu při vysokých xeplotách. Z tohoto důvodu není nutno zavádět do těchto skel takové oxidy jako je oxid boritý B?^3 ' jehož jedním z účinků je snížení viskozity skla nebo zvýšeni obsahu oxidů alkalických kovů, které má stejný účinek.
Skla podle tohoto vynálezu mohou také obsahovat oxid hlinitý, který plní podobnou funkci jako oxid zirkoničitý. Oxid hlinitý zvyšuje chemickou odolnost tohoto typu skla a napomáhá zvýšení jeho dolní chladící teploty. Nicméně tato látka představuje obtížně tavitelný oxid, který zvyšuje viskozitu skla při vysokých teplotách.
Obecně tavení skel podle této varianty vynálezu zůstává v přijatelných teplotních mezích v případě použití výroby skla procesem plavení s tou podmínkou, že obsah oxidů křemičitého SiO^, zirkoničitého Z.rO7 a hlinitého AI2O3 zůstávají rovný nebo pod 70 %. Výraz přijatelné meze znamená, že teplota skla, odpovídající log *J = 1,6 nepřestoupí přibližně 1630 °C a výhodně 1590 ’C.
Ve sklech podle vynálezu představuje součet oxidů zirkoničitého ZrO-? a hlinitého AI2O3 ve výhodném provedení množství vyšší než 8 % nebo množství rovnající se této hodnotě, přičemž ještě výhodněji je toto množství v rozmezí od 8 % do 22 %. Obsah oxidu zirkoničitéo Zr02 je v těchto sklech výhodně v rozmezí od 8 % a 15 %.
Ve výhodném provedení obsahuje skleněné kompozice podle této varianty vynálezu následující složky v hmotnostních poměrech uvedených dále:
LO
Sí°2 45 59 %
Al203 0 10 %
Na20 4 10 %
k2o 3,5 7 %
MgO 1 7 %
CaO 1 12 %
Zr02 9 15 %
Ve výhodném provedení varianty podle vynálezu se povrchová iontová výměna dosáhne v lázni ΚΝΌ3, umožňuj ící výměnu iontů sodíku za draselné ionty.
V další variantě tohoto procesu se použije směsné lázně, tj. lázně, obsahující několik typu iontů alkalických kovů, která umožňuje iontovou výměnu více iontů.
V jiných variantách může být chemické vytvrzení aktivováno vnějšími faktory jako je vytvoření elektrického pole nebo přítomnost ultrazvuku. Chemické vytvrzení může být také kombinováno s tepelnou předchozí úpravou.
Z ekonomického hlediska je nezbytné provádět chemické vytvrzování tak rychle, jak je to možné. Tato doba vytvrzování je výhodně pod 15 hodin a výhodněji pod 7 hodin. Teplota vytvrzování je výhodně v rozmezí od 400 C do 520 °C. Tvrzení prováděné za těchto podmínek vede k modulu lomu v kruhovém ohybu nad 500 MPa a hloubce tvrzení alespoň 14 mikrometrů.
Vytvrzování prováděné tímto způsobem má dvojí funkci. Za prvé posiluje chemickou odolnost substrátu snižováním hydrolytické napadnutelnosti tvrzeného substrátu. Za druhé tvrzení působí mechanické zpevnění povrchu. Toto vytvrzování způsobuje povrchové zpevnění vnitřních vlastností substrátu spojeného s jeho kompozicí. Toto je zvláště důležité a umožňuje to dosáhnout vyhovující mechanickou pevnost, zejména odolnost k ohýbání, šokům a lámání např. způsobených čtecí hlavou.
Podle vynálezu bylo rovněž zjištěny důvody rozlamování tvrdých magnetických disků způsobeného rychlým otáčivým pohybem. Během vrtání a zpracování, zejména vnitřního otvoru, se objevuje mnoho vad na plochách, které je obtížné zpracovat. Proto chemické tvrzení zpevňuje zpracovávané okraje substrátu.
Substrát podle vynálezu splňuje nutná kritéria proto, aby byl použit jako nosič ve výrobě tvrdých magnetických disků. Výsledkem kombinace složení a chemického tvrzení, což je případně spojeno s dalším předběžným zpracováváním, je to, že se dosáhne adekvátní mechanické odolnosti nebo pevnosti, přičemž na jedné straně se této zvýšení mechanické odolností nebo pevnosti týká povrchu odolávajícího drcení čtecí hlavy a na druhé straně se týká okrajů, zejména vnitřních okrajů, které mohou odolávat vysokým rotačním rychlostem. Tento substrát má také adekvátní chemickou odolnost a zejména hydrolytickou odolnost umožňující stálost tvrdého magnetického disku.
Příklady provedeni vynálezu
Zpevněný skleněný substrát a jeho použití, jeho vlastnosti a charakteristiky budou v dalším bLížě popsány s pomocí konkrétních příkladů provedení, které jsou pouze ilustrativní a nijak neomezují rozsah tohoto vynálezu.
Tyto podrobnosti a znaky vynálezu budou zřejmé z následujících příkladů a z provedených testů. Produkované substráty představují disky s vnějším průměrem 65 milimetrů vnitřním průměrem 20 milimetrů a s tloušťkou 0,635 milimetru.
Zvolené kompozice A, B a C pro výrobu substrátu obsahovaly následující složky v uvedených procentech hmotnostních;
A B C
Si09 53,6 % 48,5 % 54,6 %
Al^Oj 10,0 % 14,8 % 3,0%
B2°3 2,2 % 0 % 0 %
Na20 5,2 % 5,3 % 6,0 %
k2o 6,2 % 6,5 % 6,9 %
MgO 4,2 % 3,8 % 4,2 %
CaO 6,8 % 6,6 % 3,5 %
SrO 7,0 % 7,0 % 8,0 %
BaO 2,8 % 5,5 % 3,8 %
ZrO2 2,0 % 2,0 % 10,0 %
Tyto kompozice byly taveny a transformovány do skleněných pásů procesem plavení a potom do skleněných desek. Substráty byly získávány řezáním, zpracováním a leštěním. Leštění bylo provedeno běžnými mechanickými prostředky, takže bylo dosaženo drsnosti Ra pod 10 Angstromů (1 nm). Potom bylo provedeno chemické tvrzování v lázni dusičnanu draselného (KNOj).
Je třeba uvést, že tyto kompozice mají vysoké dolní chladící teploty přibližně 580 “C takže vytvrzování může probíhat při relativně vysokých teplotách. Chemické vytvrzování je účinnější při teplotách blízkých dolní chladící teplotě. Vyšší teplota během vytvrzování umožňuje dosažení vytvrzení rychleji při zachování vysokého povrchového pnutí a/nebo vysoké hloubky iontové výměny.
Zajímavé jsou také jiné pozoruhodné hodnoty těchto kompozic. Tyto kompozice jsou vhodné pro tvarování procesem plavení a musí proto v souvislosti s touto skutečností splňovat s tím spojené požadavky. Je to zejména otázka teplot, odpovídajících viskozitám požadovaným během tavení log^l= 1,6 a během vstupu do cínové lázně log = 3,5. Odpovídající teploty zvolených kompozic jsou uvedeny dále:
A B C
T(log*l = 1,6) 1556 ’C 1587 °C 1559 °C
T(logη = 3,5) 1137 “C 1183 °C 1181 “C
Tyto teploty jsou kompatibilní s požadavky procesu plavení.
Teploty likvidu těchto kompozic jsou:
- A : Tliq = 1120 *C
- B : TLiq = 1180 ’C
- C : Tliq = 1170 °C
Protože tyto teploty jsou pod T(log^ = 3,5), mohou být tato skla získána procesem plavení bez nebezpečí devitrifikace.
Se substráty popsanými ve výše uvedeném textu bylv provedeny různé testy, umožňující charakterizovat mechanickou pevnost a také chemickou odolnost.
První provedený test se týká odolnosti k tepelným šokům. Test demonstruje, že substráty připravené podle vynálezu jsou vhodné pro fáze zpracovávání, kterými musí následně projít, např. během ukládání magnetického filmu. Během tohoto testu substráty odolávaly bez poškození teplotním změnám od 350 do 20 “C.
Další test již uvedený výše, zahrnuje otáčení substrátu vysokou rychlostí (7000 až 25000 otáček za minutu). Substráty podle vynálezu vyhovují tomuto testu. Zpevnění, zejména obvodové, získané po chemickém tvrzení je v souladu s tím vyhovující.
Nakonec byl proveden mechanický test zahrnující zkoušku lámavosti ohybem (mezikruhové ohýbání). Zkušební
LO zařízení je jednak tvořeno dutým válcem o průměru 55 milimetrů, na který je uložen koncentricky substrát, a dalším dutým válcem o průměru 30 milimetrů, který napomáhá ohýbání substrátu. Posledně uvedený válec je také koncentrický vzhledem k ostatním elementům.
Tento test byl proveden na substrátech podle vynálezu, které byly podrobeny chemickým vytvrzovacím procesům různého trvání. Tento test byl rovněž proveden s netemperovaným (nevytvrzovaným) substrátem.
Výsledky těchto testů byly porovnány s výsledky, které byly získány se substrátem, který byl podroben chemickému vytvrzování a jehož složení odpovídá typu křemičito-sodno-vápenatého skla, obvykle používaného při procesu plavení. Tento substrát měl zvýšenou hladinu odsolení alkalických složek pro splnění požadavků pro použití jako nosič ve tvrdých magnetických discích. Jeho modul lomu v lámavosti ohybem nebo jeho povrchové pnutí nebo napětí byly považovány za dostačující, takže pro porovnání mohl sloužit modul lomu. Současné požadavky na tento typ substrátu jsou průměrný modul lomu nad 240 MPa s minimální hodnotou přesahující 150 MPa.
Získané výsledky při tomto porovnávacím testu jsou uvedeny v následující tabulce.
Charakter substrátu Doba chemickéh a teplota o vytvrzování Modul lomu (MPa)
kompozice A bez tvrzení 117
kompozice A 4 h, 500 °C 396
kompozice A 7 h. 500 ”C 601
kompozice B 4 h, 500 ’C 380
kompozice B 7 h, 500 °C 571
kompozice C 4 h, 500 ’C 390
kompozice C 7 h, 500 ’C 560
Výsledky z tabulky uvedené výše demonstrují, že vytvrzování, které může mít trvání kratší než 4 hodiny je dostačující pro dosažení požadované mechanické pevnosti pro substráty podle vynálezu.
Kromě toho byla hodnocena hloubka vad v substrátu podle vynálezu, odpovídající hloubce, ve které neproběhlo chemické vytvrzování. Při tomto měření byla zjištěna maximální hloubka 15 mikrometrů. Proto hloubka výměny během vytvrzování musí přesáhnout tuto hodnotu. Měření hloubek výměny byly provedeny pro kompozici A. Měření byla provedena s elektronickou mikrosondou. Při tomto testu bylo zjištěno, že při době odpovídající 4 hodinám upravování a intervalu delšímu byla překročena hloubka 15 mikrometrů.
Doba a teplota při chemickém vytvrzování Hloubka výměny (pm)
kompozice A 4 h. 500 ’C 23
kompozice B 7 h, 500 °C 31
Dále byly provedeny další testy hydrolytické odolnosti substrátů podle vynálezu.
První měření hydrolytické odolnosti bylo provedeno na substrátech podle vynálezu, které nebyly podrobeny chemickému vytvrzování. Toto měření bylo porovnáno s měřením substrátu, majícího skelnou kompozici typu plaveného skla. Tato měření byla provedena metodou D.G.G.
Tato metoda zahrnuje ponoření 10 g drceného skla, jehož velikost zrna je mezi 360 a 400 mikrometry, do 100 mililitrů vody a uvedení do varu po dobu 5 hodin. Po rychlém ochlazení se roztok filtruje a daný objem filtrátu se odpaří do sucha. Hmotnost získané suché látky umožňuje vypočítat množství skla rozpuštěného ve vodě. Toto množství je vyjádřeno jako miligramy na gram testovaného skla.
Získané výsledky při provádění tohoto testu jsou uvedeny v následující tabulce.
substrát A substrát B substrát C substrát typu plaveného skla mg/g 6 mg/g mg/g 30 mg/g
Tyto výsledky ukazují, že substráty podle vynálezu mají hydrolytickou odolnost lepší než substráty produkované z běžné kompozice používané při procesu plavení. Hodnota naměřená podle této metody se substrátem podle vynálezu vlastně odpovídá hodnotě, která by mohla být získána pro skelnou kompozici prostou alkalických činidel. Proto je skelná kompozice podle vynálezu z hlediska chemické odolnosti velmi zajímavá.
Další metodou, která umožňuje vyhodnotit hydrolytickou odolnost substrátu podle vynálezu, který byl popřípadě podroben chemickému vytvrzování, je metoda zahrnující podrobení substrátu stárnutí v uzavřeném obalu po dobu jednoho týdne při teplotě 80 ’C a v atmosféře s relativní vlhkostí 80 %.
Substrát se potom pozoruje skanovací elektronovou mikroskopií, přičemž se analyzuje povrchová krystalizace pomocí EDX (Energy Dispersive X-ray).
Tento test neumožňuje kvantifikovat hladinu odsolení alkalických látek. Nicméně umožňuje porovnat různé substráty. Takto je proto možné zajistit trvalost substrátu například na bázi referenčního substrátu.
Finální metodou hodnocení hydrolytické odolnosti substrátu, který prošel chemickým vytvrzováním, je metoda zahrnující ponoření substrátu na dobu několik hodin (přibližně 24 hodin) do demineralizované vody při teplotě 80 ’C s následujícím dávkováním iontů plasmovým hořákem, které prošly do roztoku a zejména alkalických kovů (Κ ,
Na+, Li+) plasmovým hořákem. Tento kvantitativní test je v dobrém souladu s dříve popsaným testem.
Tyto testy byly provedeny na substrátech podle vynálezu. Získané výsledky jsou vyhovující a ukazují, že hydrolytická odolnost substrátu, po chemickém vytvrzení, je dostačující pro uvažované aplikace.
Výsledky různých testů ukazují na mechanickou odolnost a hydrolytickou odolnost substrátu připraveného podle vynálezu. Potvrzují tak možnost použití substrátu podle vynálezu jako nosiče v paměťové jednotce, ve formě například pevného magnetického disku.

Claims (17)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Skleněný substrát uvažovaný pro použití jako nosič v paměťových jednotkách, zpevněný iontovou výměnou, jehož matrice obsahuje dále uvedené složky v následujících hmotnostních poměrech :
    sio2 45 65 % Αΐ2θ3 0 20 % ®2θ3 0 5 % Na20 4 12 % κ2ο 3,5 12 % MgO 0 8 % CaO 0 13 % Zr02 0 20 %
    přičemž součet obsahů oxidu křemičitého SÍO2, hlinitého AI2O3 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v následujících poměrech :
    11 % s MgO + CaO + BaO + SrO 24 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech ;
    0,22 s Na20/Na20 + K20 0,60.
  2. 2. Skleněný substrát podle nároku 1, vyznačující se tím, že matrice obsahuje následující složky v uvedených hmotnostních procentech ;
    Sio2 45 65 % a12°3 0 20 % B2°3 0 5 % Na20 4 12 % k2o 4 12 % MgO 0 8 % CaO 0 8 % Zr02 0 6 %
    přičemž součet obsahů oxidu křemičitého SiO2, hlinitého A12O2 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice popřípadě obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v následujících poměrech :
    11 % MgO -r CaO + BaO + SrO 24 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :
    0,22 =s Na20/Na20 + K2O s 0,60.
  3. 3. Substrát podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se líis, že hmotnostní obsah oxidu hlinitého Al202 je roven nebo je vyšší než 10 %.
  4. 4. Substrát podle nároku 1 až 3, vyznačující se tím, že hmotnostní obsah oxidu zirkoničitého ZrO2 je pod 5 %.
  5. 5. Substrát podle kteréhokoliv z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že hmotnostní obsah oxidu vápenatého CaO je pod 3 %.
    Ί
  6. 6. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že hmotnostní obsah oxidu boritého B202 je pod 3 %.
  7. 7. Substrát podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že kompozice obsahuje následující složky v uvedených procentech hmotnostních :
    sío2 45 60 % Αΐ2θ3 10 20 % B2°3 0 3 % Na20 4 12 % K2° 4 12 % MgO 0 8 % CaO 0 8 % Zr02 0 5 %
    gpřičemž součet obsahů oxidu křemičitého SÍO2, hlinitého AI2O3 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice popřípadě obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v následujících poměrech :
    14 % MgO + CaO + BaO + SrO 22 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :
    0,22 i Na20/Na20 + K20 0,60.
  8. 8. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že matrice obsahuje následující složky v následujících hmotnostních poměrech ;
    Si02 53,6 % ai203 10,0 % 2,2 % iNa20 5,2 % k2o 6,2 % MgO 4,2 % CaO 6,8 % SrO 7,0 % BaO 2,8 % ZrO2 2,0 %
  9. 9. Substrát podle nároku 1, vyznačující se tím, že matrice obsahuje následující složky v následujících poměrech hmotnostních
    SiO2 45 63 % ZrO2 6,5 20 % A12°3 0 18 % Na?0 4 12 % k2° 3,5 7 % CaO 1 13 % MgO 1 8 %
    přičemž součet obsahů oxidu křemičitého SÍO2, hlinitého AI2O3 a zirkoničitého ZrO2 je roven nebo je menší než 70 % a uvedená kompozice popřípadě obsahuje oxid barnatý BaO a/nebo strontnatý SrO v poměrech :
    11 % s M2O + CaO + BaO + SrO 24 % a oxidy alkalických kovů jsou přítomny v následujících hmotnostních procentech :
    0,22 Na?0/Na20 + K20 s 0,60.
  10. 10. Substrát podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že iontová výměna se provádí chemickým vytvrzováním.
  11. 11. Substrát podle nároku 10, vyznačující se tím, že chemické vytvrzování se provádí v lázni KNOj při teplotě mezi 400 a 520 ’C po méně než 24 hodin.
  12. 12. Substrát podle nároku 10 nebo 11, vyznačující se tím, že chemické vytvrzování může být aktivováno vnějšími faktory jako je elektrické pole nebo ultrazvuk.
  13. 13. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že se získá procesem plavení a pak řezáním, vrtáním a obráběním.
  14. 14. Substrát podle kteréhokoliv z nároků 1 až 12, vyznačující se tím, že se získá lisováním předlisku s následujícím vrtáním a obráběním.
  15. 15. Substrát podle kteréhokoliv z předchozích nároků, vyznačující se tím, že je leštěn jakýmkoliv způsobem tak, aby drsnost byla pod 30 . 10“^θ m.
  16. 16. Substrát podle nároku 15, vyznačující se tím, že se podrobí konečnému leštění vedoucímu k drsnosti s Ra pod 10 . 10'10 m.
  17. 17. Použití substrátu podle kteréhokoliv z nároků 1 až jako nosiče pro tvrdý magnetický disk.
    Zastupuje :
CZ961713A 1994-10-13 1995-10-05 Hardened glass substrate and the use thereof CZ171396A3 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9412209A FR2725713B1 (fr) 1994-10-13 1994-10-13 Substrat en verre renforce
FR9414352A FR2727399B1 (fr) 1994-10-13 1994-11-30 Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ171396A3 true CZ171396A3 (en) 1996-12-11

Family

ID=26231465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ961713A CZ171396A3 (en) 1994-10-13 1995-10-05 Hardened glass substrate and the use thereof

Country Status (13)

Country Link
US (1) US5780371A (cs)
EP (1) EP0734357B1 (cs)
JP (1) JPH09507206A (cs)
KR (1) KR100402511B1 (cs)
CN (1) CN1047158C (cs)
AT (1) ATE166858T1 (cs)
AU (1) AU3656495A (cs)
CZ (1) CZ171396A3 (cs)
DE (1) DE69502806T2 (cs)
HU (1) HU222256B1 (cs)
MY (1) MY113087A (cs)
TW (1) TW284883B (cs)
WO (1) WO1996011888A1 (cs)

Families Citing this family (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2727399B1 (fr) * 1994-10-13 1997-01-31 Saint Gobain Vitrage Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications
JP3666054B2 (ja) * 1995-04-14 2005-06-29 日本電気硝子株式会社 基板用ガラス
FR2744440B1 (fr) * 1996-02-07 1998-03-20 Saint Gobain Vitrage Procede de traitement de substrats en verre
FR2747119B1 (fr) * 1996-04-05 1998-05-07 Saint Gobain Vitrage Procede de fabrication de verre en feuille par flottage
JP3930113B2 (ja) * 1996-08-30 2007-06-13 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板
JP3989988B2 (ja) * 1996-09-04 2007-10-10 Hoya株式会社 情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法
US5871879A (en) * 1996-10-24 1999-02-16 Agfa-Gevaert, N.V. Material comprising a layer on a glass support
US5854153A (en) * 1997-01-09 1998-12-29 Corning Incorporated Glasses for display panels
FR2758550B1 (fr) * 1997-01-17 1999-02-12 Saint Gobain Vitrage Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications
FR2764596B1 (fr) * 1997-06-17 1999-07-09 Saint Gobain Vitrage Composition de verre silico-sodo-calcique et leurs applications
FR2761978B1 (fr) * 1997-04-11 1999-05-07 Saint Gobain Vitrage Composition de verre et substrat en verre trempe chimiquement
DE19721738C1 (de) * 1997-05-24 1998-11-05 Schott Glas Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen
CN1124995C (zh) * 1997-07-30 2003-10-22 保谷株式会社 信息记录媒体用玻璃基板的制造方法
US6183892B1 (en) * 1997-09-19 2001-02-06 Mitsubishi Chemical Corporation Magnetic recording medium substrate and magnetic recording medium
US5854152A (en) * 1997-12-10 1998-12-29 Corning Incorporated Glasses for display panels
DE19802919C1 (de) * 1998-01-27 1999-10-07 Schott Glas Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate
GB2335423A (en) * 1998-03-20 1999-09-22 Pilkington Plc Chemically toughenable glass
DE69902839T2 (de) 1998-04-28 2003-05-28 Asahi Glass Co., Ltd. Flachglas und Substratglas für die Elektronik
FR2780054B1 (fr) * 1998-06-19 2000-07-21 Saint Gobain Vitrage Procede de depot d'une couche a base d'oxyde metallique sur un substrat verrier, substrat verrier ainsi revetu
TW565539B (en) * 1998-08-11 2003-12-11 Asahi Glass Co Ltd Glass for a substrate
JP4544666B2 (ja) * 1998-09-11 2010-09-15 Hoya株式会社 ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体
JP4507135B2 (ja) * 1998-09-11 2010-07-21 Hoya株式会社 ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体
JP4488555B2 (ja) * 1998-09-22 2010-06-23 Hoya株式会社 ガラス組成物およびその製造方法、ならびにそれを用いた情報記録媒体用基板、情報記録媒体および情報記録装置
DE19906240A1 (de) * 1999-02-15 2000-08-17 Schott Glas Hochzirkoniumoxidhaltiges Glas und dessen Verwendungen
DE19917921C1 (de) 1999-04-20 2000-06-29 Schott Glas Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung
FR2801302B1 (fr) * 1999-11-22 2001-12-21 Saint Gobain Vitrage Procede de traitement de substrats en verre et substrats en verre pour la realisation d'ecrans de visualisation
WO2001049620A2 (en) 2000-01-05 2001-07-12 Schott Glass Technologies, Inc. Alkaline-earth-free boroalkali silicate glass
US6949485B2 (en) 2000-06-01 2005-09-27 Asabi Glass Company, Limited Glass for substrate and glass substrate
WO2001098015A2 (de) * 2000-06-21 2001-12-27 Schott Glas Verfahren zur herstellung von glassubstraten für elektronische speichermedien
DE10102296C1 (de) * 2001-01-19 2002-02-21 Schott Glas Gläser mit hohem spezifischen Elastizitätsmodul und deren Verwendung
DE10133963B4 (de) * 2001-07-17 2006-12-28 Schott Ag Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen
JP2003201148A (ja) * 2001-10-31 2003-07-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化用ホルダー
US7309671B2 (en) * 2002-05-24 2007-12-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass composition, glass article, glass substrate for magnetic recording media, and method for producing the same
AU2003275708A1 (en) * 2002-10-29 2004-05-25 Hoya Corporation Chemically strengthened glass, substrate for information recording medium and information recording medium
US7566673B2 (en) * 2003-10-31 2009-07-28 Konica Minolta Opto, Inc. Glass substrate for an information recording medium and information recording medium employing it
JP4039381B2 (ja) * 2004-03-25 2008-01-30 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物を用いた情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体
JP4808985B2 (ja) * 2005-03-31 2011-11-02 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP2007099557A (ja) * 2005-10-04 2007-04-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス物品およびその製造方法
US8677782B2 (en) * 2006-07-25 2014-03-25 Guardian Industries Corp. Method of making glass including surface treatment with aluminum chloride at or just prior to annealing LEHR
TWI424972B (zh) * 2007-03-02 2014-02-01 Nippon Electric Glass Co 強化板玻璃
JP5467490B2 (ja) * 2007-08-03 2014-04-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP5743125B2 (ja) * 2007-09-27 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス基板
CN103113022B (zh) * 2008-02-26 2016-09-28 康宁股份有限公司 用于硅酸盐玻璃的澄清剂
US8673163B2 (en) 2008-06-27 2014-03-18 Apple Inc. Method for fabricating thin sheets of glass
US7810355B2 (en) 2008-06-30 2010-10-12 Apple Inc. Full perimeter chemical strengthening of substrates
EP2404228B1 (en) * 2009-03-02 2020-01-15 Apple Inc. Techniques for strengthening glass covers for portable electronic devices
US9637408B2 (en) * 2009-05-29 2017-05-02 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium containing glass
KR101577492B1 (ko) * 2009-07-02 2015-12-14 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리 및 그의 제조 방법
CN102471133B (zh) * 2009-08-10 2014-10-15 Hoya株式会社 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板及其制造方法、以及磁记录介质
US8549882B2 (en) * 2009-09-30 2013-10-08 Apple Inc. Pre-processing techniques to produce complex edges using a glass slumping process
US9778685B2 (en) 2011-05-04 2017-10-03 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
KR100978678B1 (ko) * 2010-02-08 2010-08-27 노바테크인더스트리 주식회사 투명 전극 일체형 봉지 모듈의 제조 방법
US9213451B2 (en) 2010-06-04 2015-12-15 Apple Inc. Thin glass for touch panel sensors and methods therefor
US8923693B2 (en) 2010-07-30 2014-12-30 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened cover glass
US10189743B2 (en) 2010-08-18 2019-01-29 Apple Inc. Enhanced strengthening of glass
US8873028B2 (en) 2010-08-26 2014-10-28 Apple Inc. Non-destructive stress profile determination in chemically tempered glass
US8824140B2 (en) 2010-09-17 2014-09-02 Apple Inc. Glass enclosure
US20120111056A1 (en) * 2010-11-04 2012-05-10 Christopher Prest Enhanced strengthening of glass
JP2012214356A (ja) * 2010-12-29 2012-11-08 Avanstrate Inc カバーガラス及びその製造方法
US8539794B2 (en) * 2011-02-01 2013-09-24 Corning Incorporated Strengthened glass substrate sheets and methods for fabricating glass panels from glass substrate sheets
US9725359B2 (en) 2011-03-16 2017-08-08 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened glass
US10781135B2 (en) 2011-03-16 2020-09-22 Apple Inc. Strengthening variable thickness glass
EP2692706B1 (en) * 2011-03-31 2016-03-30 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass composition suitable for chemical strengthening and chemically strengthened glass article
US9128666B2 (en) 2011-05-04 2015-09-08 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
US9051214B2 (en) * 2011-09-02 2015-06-09 Guardian Industries Corp. Method of strengthening glass by plasma induced ion exchanges, and articles made according to the same
US9988304B2 (en) 2011-09-02 2018-06-05 Guardian Glass, LLC Method of strengthening glass by plasma induced ion exchanges in connection with tin baths, and articles made according to the same
US9604877B2 (en) 2011-09-02 2017-03-28 Guardian Industries Corp. Method of strengthening glass using plasma torches and/or arc jets, and articles made according to the same
US9944554B2 (en) 2011-09-15 2018-04-17 Apple Inc. Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor
US9516149B2 (en) 2011-09-29 2016-12-06 Apple Inc. Multi-layer transparent structures for electronic device housings
US10144669B2 (en) 2011-11-21 2018-12-04 Apple Inc. Self-optimizing chemical strengthening bath for glass
US8684613B2 (en) 2012-01-10 2014-04-01 Apple Inc. Integrated camera window
US10133156B2 (en) 2012-01-10 2018-11-20 Apple Inc. Fused opaque and clear glass for camera or display window
US8773848B2 (en) 2012-01-25 2014-07-08 Apple Inc. Fused glass device housings
US8885447B2 (en) 2012-03-29 2014-11-11 Hoya Corporation Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use
SG11201407592YA (en) 2012-05-16 2015-01-29 Hoya Corp Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof
US9946302B2 (en) 2012-09-19 2018-04-17 Apple Inc. Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing
US11352287B2 (en) 2012-11-28 2022-06-07 Vitro Flat Glass Llc High strain point glass
EP2953910A1 (en) * 2013-02-11 2015-12-16 Corning Incorporated Antimicrobial glass articles and methods of making and using same
US9459661B2 (en) 2013-06-19 2016-10-04 Apple Inc. Camouflaged openings in electronic device housings
KR101493601B1 (ko) 2013-07-17 2015-02-13 쌩-고벵 글래스 프랑스 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법
KR101493612B1 (ko) 2013-10-08 2015-02-13 쌩-고벵 글래스 프랑스 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법
US9886062B2 (en) 2014-02-28 2018-02-06 Apple Inc. Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing
GB201505091D0 (en) 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
CN106854037B (zh) * 2016-12-30 2018-03-16 东旭集团有限公司 一种硅酸盐制品及其强化方法
US20210214269A1 (en) * 2018-06-01 2021-07-15 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Tempered glass and glass for tempering

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE753189A (fr) * 1969-07-10 1970-12-16 Asahi Glass Co Ltd Procede de renforcement d'un article en verre par echange d'ions et produit ainsi obtenu
DE2020674A1 (de) * 1970-04-28 1971-11-11 Owens Illinois Ins Verfahren zur Herstellung eines Glasgegenstandes mit guenstigem Bruchmodul
US4015045A (en) * 1974-01-09 1977-03-29 Ppg Industries, Inc. Chemical strengthening of glass
US4119760A (en) * 1975-08-15 1978-10-10 Ppg Industries, Inc. Chemical strengthening of glass
US4015966A (en) * 1976-06-01 1977-04-05 Owens-Illinois, Inc. Manufacture of X-ray absorbing glass composition by a float glass process
SU975618A1 (ru) * 1980-12-30 1982-11-23 Предприятие П/Я В-2268 Стекло
SU998401A1 (ru) * 1981-06-08 1983-02-23 Предприятие П/Я Х-5382 Стекло
GB2171990B (en) * 1985-03-08 1988-12-07 Central Glass Co Ltd Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article
JPS62128944A (ja) * 1985-11-27 1987-06-11 Sharp Corp 光メモリ素子
EP0256278A1 (de) * 1986-07-16 1988-02-24 Siemens Aktiengesellschaft Magnetplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
JPS6374935A (ja) * 1986-09-17 1988-04-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐薬品性に優れたガラス基板
SU1604763A1 (ru) * 1988-09-12 1990-11-07 Производственное Объединение "Силикат" Стекло
JP2738036B2 (ja) * 1989-07-06 1998-04-08 旭硝子株式会社 基板用ガラス組成物
EP0579399A2 (en) * 1992-07-09 1994-01-19 Pilkington Plc Glass substrate for a magnetic disc and manufacture thereof
GB9221227D0 (en) * 1992-10-09 1992-11-25 Pilkington Plc Ctv batches
US5508237A (en) * 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
JP2799544B2 (ja) * 1994-04-28 1998-09-17 株式会社オハラ 情報記録ディスク用結晶化ガラス
US5599754A (en) * 1994-10-14 1997-02-04 Asahi Glass Company Ltd. Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof
US5691256A (en) * 1995-12-28 1997-11-25 Yamamura Glass Co., Ltd. Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate

Also Published As

Publication number Publication date
EP0734357B1 (fr) 1998-06-03
CN1047158C (zh) 1999-12-08
CN1139914A (zh) 1997-01-08
MX9602309A (es) 1997-07-31
EP0734357A1 (fr) 1996-10-02
DE69502806T2 (de) 1999-03-04
JPH09507206A (ja) 1997-07-22
HU222256B1 (hu) 2003-05-28
KR100402511B1 (ko) 2004-03-20
WO1996011888A1 (fr) 1996-04-25
TW284883B (cs) 1996-09-01
HU9601623D0 (en) 1996-08-28
KR960706456A (ko) 1996-12-09
MY113087A (en) 2001-11-30
HUT76865A (en) 1997-12-29
ATE166858T1 (de) 1998-06-15
AU3656495A (en) 1996-05-06
US5780371A (en) 1998-07-14
DE69502806D1 (de) 1998-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ171396A3 (en) Hardened glass substrate and the use thereof
US6114039A (en) Process for treating glass substrates
HU222265B1 (hu) Erősített üvegszubsztrátumok és alkalmazásuk
DE19802919C1 (de) Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate
CN100468526C (zh) 用于信息记录介质的玻璃衬底及其制备方法,和信息记录介质及其制备方法
US6440531B1 (en) Hydrofluoric acid etched substrate for information recording medium
WO2019150654A1 (ja) 化学強化用ガラス
JP4086211B2 (ja) ガラス組成物およびその製造方法
US5726108A (en) Glass-ceramic magnetic disk substrate
US6399527B1 (en) Glass composition and substrate for information recording medium
JP4086210B2 (ja) 情報記録媒体用基板
CN103493133B (zh) 磁记录介质用玻璃基板及其利用
KR100446053B1 (ko) 정보 기억 매체용 기판
JP2004161597A (ja) ガラス組成物及びガラス基板
JPH11302032A (ja) ガラス組成物およびそれを用いた情報記録媒体用基板
JPWO2004039738A1 (ja) 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法
JP2001019466A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板
JP2000159540A (ja) 情報記録媒体基板用ガラス
JP2007161552A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板
EP0755901B1 (en) Glass composition for making magnetic disk substrates and magnetic disk substrate
US6217971B1 (en) Magnetic disk comprising a substrate
JP4081826B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよびドーナツ状円形ガラスディスク基板
JP4619115B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体
JP2005104774A (ja) 情報記録ガラス基板用ガラス材料、情報記録ガラス基板、情報記録ディスク及びハードディスク装置
US20230312400A1 (en) Glass and crystallized glass