CS214655B2 - Method of cleaning the objects following galvanic and/or chemical treatment of the surface and facility for executing the same - Google Patents
Method of cleaning the objects following galvanic and/or chemical treatment of the surface and facility for executing the same Download PDFInfo
- Publication number
- CS214655B2 CS214655B2 CS788347A CS834778A CS214655B2 CS 214655 B2 CS214655 B2 CS 214655B2 CS 788347 A CS788347 A CS 788347A CS 834778 A CS834778 A CS 834778A CS 214655 B2 CS214655 B2 CS 214655B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- surface treatment
- suction
- cleaning
- drum
- liquid
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 4
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0756—Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
- H05K2203/0766—Rinsing, e.g. after cleaning or polishing a conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/08—Treatments involving gases
- H05K2203/082—Suction, e.g. for holding solder balls or components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1518—Vertically held PCB
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1572—Processing both sides of a PCB by the same process; Providing a similar arrangement of components on both sides; Making interlayer connections from two sides
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
Vynález se vztahuje na způsb čištění předmětů po galvanické a/nebo chemické úpravě povrchu od ulpělých prostředků k povrchové úpravě a popřípadě zpětného -získávání těchto prostředků, ja'-kož i na zařízení k provádění způsobu. .
Čištění galvanicky nebo -chemicky zpracovávaných předmětů oplachováním vodou je známo.
Nevýhoda známých způsobů oplachování je v tom, že vznikají velké ztráty cenných látek, -obsažených v ' prostředcích k povrchové úpravě, například solí kovů.
Způsob - Oplachování má značný význam, protože - jednak má do značné míry vliv ' na jakost povrchové úpravy, jednak značně ovlivňuje náklady na úpravu povrchu. Požaduje se dosažení co nejlepšího oplachovacího účinku při co nejmenší spotřebě vody, aby se snížily' náklady jednak na vodu samotnou, jednak náklady - - na čištění odpadních vod, jež obsahují jedovaté látky.
Ke splnění těchto- požadavků byly navrženy různé - způsoby -oplachování. Zásadně - jde o dvě skupiny způsobů oplachování, a - to buď ponořením čištěných předmětů do lázně s vodou, - nebo· ostřlkováním proudem vody ze soustavy trysek.
. - Při - oplachování ponořováním se obvykle používá několika průtokových nádob, vzájemně kaskádovitě spojených, v nichě oplachovací voda a oplachované předměty postupují proti -sobě. 'Tím - se sice spotřeba oplachovácí voďy sníží ve srovnání s oplachováním v jediné nádobě, avšak za cenu vysokých pořizovacích nákladů na zařízení.
Zařízení - na -oplachování postřikem je rovněž nákladné, avšak - při optimálním uspořádání a využití pokrokové ostřikovací techniky je spotřeba vody malá při vynikajícím čisticím účinku. Rozměrné předměty, zejména pak s. -členitým povrchem, unášejí poměrně značné množství prostředku k povrchové úpravě, pož určuje jisté minimální množství oplachovací vody.
Úkolem! vynálezu je vytvořit způsob čištění a příslušné zařízení, jež by umožňovaly odstranit podstatnou část ulpělého prostředku k povrchové úpravě ještě před opláchnutím vodou.
Úloha je řešena vytvořením způsobu čištění předmětů po galvanické a/nebo chemické úpravě - povrchu od ulpělých prostředků k povrchové úpravě a popřípadě zpětného,, získávání těchto prostředků podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že prostředek k povrchově - - úpravě, ulpělý na zpracovávaných předmětech, se odstraňuje odsáváním, přičemž odsávání se provádí podtlakem.
Pro zvýšení účinku čištění se podle vynálezu prostředek k povrchové úpravě nejprve odsává, pak se čištěný předmět oplachuje, zejména vodou, načež se proces- opakuje až do úplného· -odstranění prostředku k povrchové úpravě.
Pro -dosažení účinného -odsávání se podle vynálezu prostředek k povrchové úpravě od sává působením - podtlaku v rozmezí od 4,9 kPa do 78,45 kPa.
Pro dosažení úspor na chemických prostředcích se podle vynálezu odsátý prostředek k povrchové úpravě odvádí, popřípadě koncentruje a pak se - přivádí k novému použití. ·
Zařízení k provádění způsobu je podle vynálezu vytvořeno tak, že obsahuje podtlakovou komoru, která je spojena s odsávacími lištami, které jsoou přilehlé - k - pvrchu nádob, - zejména bubnů pro předměty, jejichž povrch se upravuje, popřípadě k povrchu upravovaných dílů samých. Pro účinnější odstranění prostředku k povrchové úpravě jsou podle vynálezu odsávací lišty opatřeny stěracími kartáči.
Pro znovuzískání prostředku k povrchové úpravě jsou - podle vynálezu - odsávací - lišty spojeny s kapalinovými odlučovači odsátého prostředku k povrchové úpravě. .....
Pro čištění drobných předmětů jsou podle vynálezu bubny uspořádány uvnitř ostřikovací kabiny.
Pro další zlepšení čištění - drobných předmětů je podle vynálezu uvnitř bubnu uspořádána děrovaná- trubka pro přívod oplachovací kapalíny. .
Pro lepší využití prostředku k povrchový úpravě jsou podle vynálezu odsávací lišty, stěrači kartáče, odlučovače, a nádoba na prostředek k povrchové úpravě spojeny v uzavřený okruh.
Způsob čištění předmětů podle vynálezu, jakož i zařízení k provádění způsobu, vytvořené rovněž podle vynálezu, mají četné výhody. Základními výhodami jsou dokonalé očištění povrchu - - předmětů, zpětné - získání prostředku, -k úpravě povrchu, ulpělého na povrchu čištěných dílů, jakož i -minimální potřeba oplachovací vody. '
Prostředek k úpravě povrchu se zpětně získává ve vysoké koncentraci, takže - je možno - jej znovu použít bez další úpravy. Odpadní vody, kterých - je velmi málo, není nutno před čištěním zahušťovat.
Proces čištění je jednoduchý. Prostředek k úpravě povrchu lpí na povrchu čištěných předmětů v tenké vrstvě nebo jako kapičky. Velikost podtlaku -se nastaví tak, aby na povrchu předmětu zbyla jen vrstva o- - tloušťce asi 2 μΐη, která zabrání oschnutí, popřípadě vykrystalizování prostředku k úpravě povrchu před následujícím oplachem. Odsátý prostředek se vrací přes filtrační, usazovací, sběrné a čisticí zařízení zpět -do lázně pro povrchovou úpravu.
Při prvním oplachování se -oplachovací kapalina rovněž odsává. Na povrchu čištěného předmětu zůstane- již podstatně nižší koncentrace -cenných látek než před oplachem. Množství oplachovací vody je tak malé, že je možno je použít k náhradě vody v lázni, jež se- z lázně ztratí -odpařováním.
Velikost podtlaku se volí v závislosti na povaze a členitosti povrchu čištěného dílu.
K vyvození podtlaku do 34 kPa postačí něko214655 likastupňové dmychadlo. U tvarovaných dílů a velkých ploch se používá podtlak větší, k jehož vyvození je účelné .použít vývěvy. Množství odsávaného vzduchu činí 200 až 3000 m3/h pro jeden agregát.
Vlivem podtlaku se prostředek pro úpravu povrchu odpařuje a koncentrace cenných látek se v něm zvyšuje. To· umocňuje . použít většího množství ' oplachovací vody, čímž se zvyšuje oplachovací účinek.
Odsávací zařízení se zhotovuje z obvyklých · materiálů, odolných proti účinkům odsávaného prostředku pro úpravu povrchu.
Při pracovních teplotách . až do 65 °C je možno ' · použít · plastických· hmot. Při teplotách vyšších, až do . 95 °C přicházejí v úvahu kovové materiály odolné proti korozi, jako ušlechtilé oceli, titan nebo tantal.
Příklady provedení zařízení k čištění předmětů vytvořeného· podle vynálezu jsou znázorněny na výkresech, kde na obr.· 1 je uvedeno zařízení pro čištění plochých povinných dílů, · umístěné . nad lázní pro. povrchovou úpravu, · na .obr; '2 '. zařízení ''z obr. ' 1 v činnosti, když plochý díl ' ' je . z' lázně vytahován · a na ' obr. . 3 zařízení pro· . čištění .drobných sypných dílů; umístěných ' v bubnu.
Zařízení 1 k 'čištění . povrchu plochých předmětů, . je .umístěno na nádobě. 2 zařízení pro· úpravu povrchu ' plochých ' rovinných dílů 3, jako jsou například deskové vodiče. V poloze, znázorněné na obr:. 1, je upravovaný díl ' 3 spuštěn, pomocí na výkresu neznázorněného dopravního zařízení do kapaliny' 4 k úpravě povrchu. Po ' obou stranách upravovaného· .dílu 3 jsou' upraveny odsávací lišty 5 přeš ' ' celou šířku upravovaného ' dílu ' _ 3, popřípadě přes celou ' šířku ' všech, vedle 'sebe' ' zavěšených ' upravovaných ' ' dílů '' 3.' Každá odsávací' lišta 5 je. na straně,..přivrácené ' k upravovanému ' dílu '3, opatřena ; stěracím kartáčem 6. Každá odsávací ' lišta '5 ' je zhotovena z dutých profilových příčníků a je upevněna na trubkovém rameni 7, které . 'je uchyceno v kloubu ' 12. Odsávací lišty ' 5 ták mohou kývnout směrem dolů a usnadnit . průchod upravovanému dílu 3, když se zasouvá do' lázně. Když v nádobě 2 nejsou žádné upravované díly 3, 'stlačí závaží 8, umístěná .. na žádných koncích trubkových ramen 7, tyto zadní konce tak, až dosednou na narážky 9. Trubková ramena 7 jsou ohebným potrubím 10 spojena s kapalinovými odlučovači 11, které jsou napojeny na neznázorněné zařízení na vyvozování podtlaku. Mezi stěracími kartáči 6 jsou vytvořeny sací otvory 13, jimiž se nasává okolní vzduch, který přitom strhuje s sebou prostředek k povrchové úpravě, setřený stěracími kartáči 6. Vzduch,' smísený s prostředkem k povrchové úpravě, proudí odsávacími lištami 5, trubkovými rameny 7, odtud ohebnými potrubími 10 přes kapalinové odlučovače 11 do neznázorněné podtlakové komory zařízení na vyvozování podtlaku.
Odsávací lišty 5 se spojují s podtlakovou komorou až při vyjímání upravovaného, dílu z kapaiiny 4 , jak znázorněno na obr . 2 . Upravovaný díl 3 se zvedá ve směru šipky. Tím- -se zvednou i odsávací lišty 5 až trubková ' .ramena 7 dosednou 'na zarážky 9. Tím se stěrači kartáče 6 ' přitisknou ' k upravovanému dílu 3 .a stírají s jeho povrchu prostředek k povrchové úpravě, který se odsává sacími otvory 13. Tím ' se odsává i kapalina, která ulpívá ve vyvrtaných otvorech upravovaného dílu 3.· Kapalina se ' odlučuje v kapalinových odlučovačích ' 11, odkud ' se prakticky beze ztrát vrací do ' nádoby 2. Při vhodném vyvtvoření odsávacích lišt 5 a stěračích kartáčů 6 je možno na ' tomto zařízení 1 ' čistit i upravované díly 3 poněkud profilované.
Zařízení 17 ' k čištění sypných drobných předmětů je znázorněno na. obr. 3.' Drobné předměty jsou' umístěny ' v bubnu 14, který je součástí nosiče 15 a je otáčivě uložen mezi dvěma nosnými rameny 16.
Při - 'provádění povrchové úpravy drobných předmětů ; je ' buben 14 ponořen v kapalině 24, jež. je ' lázní povrchové úpravy. ' Při ' nanášení ' ochranného ' povlaku 'i při ' vynořování z kapaliny '24 . se buben 14 otáčí .kolem své podélné ' osy. ' ' Zařízení' 17 k . čištění sestává z odsávací lišty 18, uspořádané po celé délce bubnu 14; ze ' ' stíracích kartáčů 19 a ' dvou trubkových ramen 20, ' zaústěných dotrubky
21,. kterou. ;se jednak ' odvácí' odsávaný vzduch 'a ' která jednak tvoří osu kyvu trubkových ' ramen ' 20. Když nosič 15 bubnu 14 není ' vsunut ' ' do nádoby 25, tlačí dvě závaží 22, spojená pákovými rameny 23 s trubkou 21, odsávací ' lištu 18 směrem vzhůru. Při spuštění nosiče 15' bubnu 14 do nádoby ' ' 25, ódtlačí nejprve buben 14 a potom třmen 26 odsávací lištu 18 směrem dolů. .
,' ' Po. .ukončení nanášem. povlaku ' se . ' buben 14' pohybem' nosiče 15 vytáhne z ' kapaliny 24, avšak zůstává ' zavěšen ' nad nádobou 25, přičemž kapalina 24, ulpělá. ňa - . bubnu 14 i drobných upravovaných předmětech, odkapává-zpět 'do nádoby 25/ Při zdvihání bubnu 14 sleduje odsávací lišta 18 působením závaží 22 pohyb bubnu 14 a stíracími kartáči 19 přiléhá ve zdvižené poloze 27 bubnu 14 k jeho spodní straně.
Ve zdvižené poloze 27 bubnu' 14' se uvede v činnost na neznázorněné odsávací ústrojí zařízení 17. Sacími otvory '28, uspořádanými mezi stěracími kartáči 19 odsávací lišty 18, se nasává okolní vzduch, který je pak dále veden odsávací lištou 18, trubkovými rameny 20, trubkou 21 a dalšími na výkresu neznázorněnými potrubími přes kapalinové odlučovače do podtlakové komory.
Přitom se odsává i kapalina 24 ulpělá ne• jen na povrchu bubnu 14, ale i v otvorech 29, vytvořených ve stěnách bubnu 14. Částečně se odsává i kapalina 24 ulpělá na jednotlivých drobných předmětech uvnitř bubnu 14, jakož i v mezerách mezi těmito drobnými předměty.
Pokud zařízení 17 je umístěno nad nádobou 25 s kapalinou 24, která je aktivním
214 6 S 5 roztokem pro povrchovou úpravu, získává se kapalina 24 v na výkresu neznázorněných kapalinových odlučovačích zpět v původní koncentraci, riezředěná oplachovací vodou. Tak je tomu v příkladě znázorněném na obr. 3, kde jde o elektrochemickou lázeň, do níž jsou ponořeny anody 30.
Zařízení 17 je možno umístit i nad nádobou pro oplachovací lázeň. Pak se odsáváním získává kapalina s různou koncentrací látek, obsažených v původní aktivní lázni. V tom případě je vhodné umístit buben 14 uvnitř neznázorněné ostřikovací kabiny a dovnitř bubnu 14 umístit děrovanou trubku pro přívod oplachovací kapaliny. Tato trubka není rovněž na výkresu znázorněna.
Způsob a zařízení podle vynálezu mohou být použity. při všech galvanických a/nebo chemických způsobech úpravy povrchu, při nichž je nutné nebo žádoucí očištění předmětů od roztoků к úpravě povrchu, lpějících na předmětech ještě po provedené úpravě a/nebo u nichž jie nutné či žádoucí zpětné získávání těchto roztoků, či látek v roztoku rozpuštěných.
Proto se ^způsob a zařízení podle vynálezu hodí zejména к čištění předmětů, povrchově upravovaných v chemických nebo· galvanických lázních na bázi chrómu, niklu, kobaltu, mědi, kadmia, zinku, cínu, olova, stříbra, zlata nebo jejich slitin, u nichž je buď z hlediska hospodárnosti, nebo s ohledem na ochranu životního prostředí žádoucí získat tyto složky lázní zpět v míře co nejúplnější.
Claims (11)
- PŘEDMĚT VYNALEZU1. Způsob čištění předmětů po galvanické a/nebo chemické úpravě povrchu, od ulp.ělých prostředků к povrchové úpravě a popřípadě zpětného získávání těchto prostředků, vyznačený tím, že prostředek к povrchové úpravě, ulpělý na zpracovávaných předmětech, se odstraňuje odsáváním.
- 2. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že prostředek..к povrchové úpravě se odsává podtlakem.
- 3. Způsob podle bodů 1 a 2, vyznačený tím, že prostředek к povrchové úpravě se nejprve odsává, pak se čištěný předmět oplachuje, zejména vodou, načež se proces opakuje až do úplného odstranění prostředku к povrchové úpravě.
- 4. Způsob podle bodů 1 až 3, vyznačený, tím, že prostředek к povrchové úpravě se odsává působením podtlaku v rozmezí 4,9 kPa až 78,45 kPa.. .
- 5. Způsob podle bodů 1 až 4, vyznačený .tím, že prostředek к povrchové úpravě se po odsávání odvádí, popřípadě koncentruje a pak se přivádí к novému použití.
- 6. Zařízení к provádění způsobu podle bodů 1 až 5, vyznačené tím, že obsahuje pod tlakovou komoru, která je spojena s odsávacími lištami (5), které jsou přilehlé к povrchu nádob, zejména bubnů (14). pro předměty, jejichž povrch se upravuje, popřípadě к povrchu upravovaných dílů (3) ' Samých.
- 7. Zařízení podle bodu 6, vyznačené tím, žé pdsávačí lišty (5) jsou opatřeny stěračími kartáči (6).
- 8. Zařízení podle bodů 6 a 7, vyznačené tím, že odsávací lišty (5) jsou spojepy s kapalinovými odlučovači (11) odsátého prostředku к povrchové úpravě.
- 9. Zařízení podle bodů 6 až 8, vyznačené tím, že bubny (14) jsou uspořádány uvnitř ostřikovací kabiny.
- 10. Zařízení půdle bodů 6 až 9, vyznačené tím, žé uvnitř bubnu (14) .je uspořádána děrovanátrubka pro přívod oplachóvácí kapalíny.· \
- 11. Zařízení podle bodů 6 áž 10, vyznačené tím, že odsávací lišty (5), stěrači kartáče (6), odlučovače (11) a nádoba (2) na prostředek к povrchové úpravě jsou spojeny v uzavřený okruh.2 listy výkresů
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2758550A DE2758550C2 (de) | 1977-12-23 | 1977-12-23 | Verfahren zur Entfernung von Restmengen einer Behandlungsflüssigkeit von Gegenständen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS214655B2 true CS214655B2 (en) | 1982-05-28 |
Family
ID=6027556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS788347A CS214655B2 (en) | 1977-12-23 | 1978-12-14 | Method of cleaning the objects following galvanic and/or chemical treatment of the surface and facility for executing the same |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54119766A (cs) |
| AT (1) | AT360812B (cs) |
| CH (1) | CH641697A5 (cs) |
| CS (1) | CS214655B2 (cs) |
| DE (1) | DE2758550C2 (cs) |
| FR (1) | FR2412357A1 (cs) |
| GB (1) | GB2013718B (cs) |
| IT (1) | IT1101589B (cs) |
| SE (1) | SE7813041L (cs) |
| SU (1) | SU961566A3 (cs) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3133629A1 (de) * | 1981-08-21 | 1983-03-03 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Vorrichtung und verfahren zur reinigung von gegenstaenden von anhaftenden fluessigen behandlungsmitteln und deren rueckgewinnung |
| DE3229455A1 (de) * | 1982-08-06 | 1984-02-09 | Hans 8500 Nürnberg Henig | Verfahren und vorrichtung zur rueckgewinnung von behandlungsloesungen in anlagen zur galvanischen und/oder chemischen oberflaechenbehandlung |
| ATE87790T1 (de) * | 1988-02-25 | 1993-04-15 | Schmid Gmbh & Co Geb | Vorrichtung zur behandlung von elektrischen leiterplatten. |
| DE4124183A1 (de) * | 1991-07-20 | 1993-01-21 | Schering Ag | Anordnung zum entfernen der behandlungsfluessigkeit von einem gut nach seiner chemischen oder elektrochemischen oberflaechenbehandlung |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE41353C (de) * | O. SCHULZ in Berlin SO., Naunynstr. 69 | Verfahren, Metallgegenstände durch Evacuiren von den in die Poren eingedrungenen oxydirenden Flüssigkeiten zu befreien | ||
| US2395397A (en) * | 1940-03-20 | 1946-02-26 | Blaw Knox Co | Apparatus for cleaning strip metal |
| GB731543A (en) * | 1952-07-14 | 1955-06-08 | James Alexander Gordon | A new or improved machine for cleaning and/or degreasing strip material |
| DE1916786U (de) * | 1964-11-25 | 1965-05-26 | Schering Ag | Vorrichtung zur trocknung galvanisch behandelter massenteile im vakuum. |
| DE1757181A1 (de) * | 1968-04-09 | 1972-04-06 | Fuetterer Paul | Verfahren zum maschinellen Reinigen von kleineren Gebinden,insbesondere Kanistern fuer Mineraloel und Vorrichtung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens |
| DE1771725A1 (de) * | 1968-06-29 | 1971-12-30 | Demag Ag | Verfahren zum kontinuierlichen Entfernen von Feuchtigkeitsrueckstaenden von der Oberflaeche metallischer Baender |
| JPS4913020B1 (cs) * | 1969-11-18 | 1974-03-28 | ||
| DE2125102A1 (de) * | 1971-05-19 | 1972-11-30 | Anton Huber Gmbh & Co Kg, 8050 Freising | Verfahren und Einrichtung zum Reinigen einer Anzahl kleiner Gegenstände |
| US3885499A (en) * | 1973-12-20 | 1975-05-27 | Hercules Inc | Thermal detonation energy-initiatable blasting caps, and detonation system and method |
| DE2416419C2 (de) * | 1974-04-04 | 1984-01-05 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Vorrichtung zum kontinuierlichen Reinigen von bandförmigen flexiblen Schichtträgern |
| JPS5122268A (en) * | 1974-08-17 | 1976-02-21 | Yasuji Kotsutsumi | Handososano eaajojinki |
| JPS5125434A (ja) * | 1974-08-28 | 1976-03-02 | Inoue Japax Res | Renzokumetsukisochi |
| JPS5127822A (ja) * | 1974-09-02 | 1976-03-09 | Inoue Japax Res | Metsukisochi |
-
1977
- 1977-12-23 DE DE2758550A patent/DE2758550C2/de not_active Expired
-
1978
- 1978-12-12 SU SU782696906A patent/SU961566A3/ru active
- 1978-12-14 CS CS788347A patent/CS214655B2/cs unknown
- 1978-12-19 SE SE7813041A patent/SE7813041L/xx unknown
- 1978-12-20 JP JP15654978A patent/JPS54119766A/ja active Granted
- 1978-12-20 GB GB7849198A patent/GB2013718B/en not_active Expired
- 1978-12-20 CH CH1297178A patent/CH641697A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-12-21 AT AT914578A patent/AT360812B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-12-22 FR FR7836109A patent/FR2412357A1/fr active Granted
- 1978-12-22 IT IT31204/78A patent/IT1101589B/it active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2013718B (en) | 1982-06-09 |
| IT7831204A0 (it) | 1978-12-22 |
| FR2412357B1 (cs) | 1985-01-18 |
| ATA914578A (de) | 1980-06-15 |
| SE7813041L (sv) | 1979-06-24 |
| JPS54119766A (en) | 1979-09-17 |
| AT360812B (de) | 1981-02-10 |
| DE2758550C2 (de) | 1986-01-30 |
| FR2412357A1 (fr) | 1979-07-20 |
| CH641697A5 (de) | 1984-03-15 |
| DE2758550A1 (de) | 1979-06-28 |
| JPH0127154B2 (cs) | 1989-05-26 |
| IT1101589B (it) | 1985-10-07 |
| SU961566A3 (ru) | 1982-09-23 |
| GB2013718A (en) | 1979-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101485603B1 (ko) | 피가공재의 표면 처리 시스템 | |
| RU2108172C1 (ru) | Способ обработки деталей жидкостью | |
| US3734108A (en) | Cleaning devices for chemical or electrochemical surface treatment plants | |
| US5490460A (en) | Automated cleaning of printing cylinders | |
| US4427019A (en) | Chemical process apparatus | |
| US4452264A (en) | Rinsing of articles to remove an adhering substance | |
| CS214655B2 (en) | Method of cleaning the objects following galvanic and/or chemical treatment of the surface and facility for executing the same | |
| KR20160018695A (ko) | 세정 방법 및 세정 장치 | |
| JPH0143028B2 (cs) | ||
| US2628924A (en) | Method of cleaning strip | |
| JPH07313424A (ja) | 食器の連続洗浄方法および装置 | |
| US4537640A (en) | Rinsing of articles to remove an adhering substance | |
| JP2000500242A (ja) | フィルム剥離方法 | |
| JP7441023B2 (ja) | 被処理体の処理方法及び処理装置 | |
| JP2668846B2 (ja) | 浸漬ロールの付着物の除去方法および除去装置 | |
| JPH0512285Y2 (cs) | ||
| GB2104104A (en) | Cleaning of chemically treated articles | |
| JPS61194199A (ja) | 被処理物の取出及びバレルの洗浄装置 | |
| KR102252654B1 (ko) | 단품 자동 래크 회전 전기도금장치 | |
| JPH06106140A (ja) | 連続走行材の洗浄方法及び洗浄装置 | |
| DE2722211C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beseitigung von Lacken und/oder anderen Auftragsmitteln auf Werkstücken | |
| JP3165521B2 (ja) | 電着塗装の水洗方法 | |
| JP3949504B2 (ja) | 母材表面の活性化処理方法および活性化処理装置 | |
| RU2002114220A (ru) | Способ бессточной гальванохимической обработки и очистки поверхностей деталей, в частности, на подвесках | |
| JPH07108208A (ja) | 塗装前処理装置 |