CN1988956A - 通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用 - Google Patents

通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用 Download PDF

Info

Publication number
CN1988956A
CN1988956A CNA2005800248148A CN200580024814A CN1988956A CN 1988956 A CN1988956 A CN 1988956A CN A2005800248148 A CNA2005800248148 A CN A2005800248148A CN 200580024814 A CN200580024814 A CN 200580024814A CN 1988956 A CN1988956 A CN 1988956A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
composition
catalyst
latent light
phenyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2005800248148A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1988956B (zh
Inventor
J·本克霍夫
T·琼
A·瓦勒特
K·迪特利克
E·V·西特兹曼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
Ciba SC Holding AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Publication of CN1988956A publication Critical patent/CN1988956A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1988956B publication Critical patent/CN1988956B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • B01J31/0235Nitrogen containing compounds
    • B01J31/0239Quaternary ammonium compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0201Oxygen-containing compounds
    • B01J31/0205Oxygen-containing compounds comprising carbonyl groups or oxygen-containing derivatives, e.g. acetals, ketals, cyclic peroxides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0215Sulfur-containing compounds
    • B01J31/0217Mercaptans or thiols
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • B01J31/0255Phosphorus containing compounds
    • B01J31/0267Phosphines or phosphonium compounds, i.e. phosphorus bonded to at least one carbon atom, including e.g. sp2-hybridised phosphorus compounds such as phosphabenzene, the other atoms bonded to phosphorus being either carbon or hydrogen
    • B01J31/0268Phosphonium compounds, i.e. phosphine with an additional hydrogen or carbon atom bonded to phosphorous so as to result in a formal positive charge on phosphorous
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/06Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D519/00Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/10Prepolymer processes involving reaction of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen in a first reaction step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/18Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof
    • C08G18/20Heterocyclic amines; Salts thereof
    • C08G18/2009Heterocyclic amines; Salts thereof containing one heterocyclic ring
    • C08G18/2018Heterocyclic amines; Salts thereof containing one heterocyclic ring having one nitrogen atom in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/18Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof
    • C08G18/20Heterocyclic amines; Salts thereof
    • C08G18/2045Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings
    • C08G18/2063Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings having two nitrogen atoms in the condensed ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48Polyethers
    • C08G18/4804Two or more polyethers of different physical or chemical nature
    • C08G18/4812Mixtures of polyetherdiols with polyetherpolyols having at least three hydroxy groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/62Polymers of compounds having carbon-to-carbon double bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/77Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
    • C08G18/78Nitrogen
    • C08G18/79Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/791Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups
    • C08G18/792Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups formed by oligomerisation of aliphatic and/or cycloaliphatic isocyanates or isothiocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/4007Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66
    • C08G59/4064Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66 sulfur containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/686Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D163/00Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04Polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2110/00Foam properties
    • C08G2110/0008Foam properties flexible
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2110/00Foam properties
    • C08G2110/0083Foam properties prepared using water as the sole blowing agent
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

本发明涉及一种施加特殊潜光催化剂(a)的方法,其中一种包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照,随后再接受进一步加工。

Description

通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用
技术领域
本发明涉及光催化剂的光活化方法,包括先辐照含所述催化剂的制剂,然后进一步加工所述制剂,即,施涂到基材上。
借助辐照固化含潜光(photolatent)催化剂的制剂的技术是公知的。到目前为止,辐射固化在可采取可自由基固化组合物的领域激起许多考虑。已研发出一批用于此类自由基固化体系的潜光催化剂。
另外,含潜光酸(photolatent acid)和适当交联组分的组合物的交联也是公知的,正如利用光激活释放酸来脱除保护基团,例如,在光刻胶技术中那样。
在所有所述应用中,潜光催化剂的辐照和因而被激活是在制剂施涂到基材上以后实施的。
采用此种方法,厚涂层或不透明涂层的固化由于掺入了颜料、玻璃纤维或其它能吸收或散射辐照的填料,要达到充分固化是困难甚至是不可能的。
另外,阴影或者曝光不充分区域的固化,特别是在三维物体中,是困难的,因此在此种情况下辐照装置的尺寸和形状就必须达到与被涂布物体吻合,但这就要求复杂且昂贵的光源设计。
要求采取广泛的、有关环境、健康和安全的保护措施,例如,必须采取保护执行所述组合物施涂和固化的工人的特殊步骤。
在EP 1002587中,提出一种用喷枪施涂漆涂层的方法,其中在漆组合物接触基材之前实施辐照。作为在所述方法中合适的制剂,几乎列举了每一种公知的辐射固化体系,即,自由基、酸和碱-固化的,然而却没给出任何一个说明该方法实际可行和见效的具体例子。
在WO 04/069427中,给出一个采用喷枪的类似方法的例子,其中光源放在喷嘴外面,采用一种碱催化的固化制剂和一种特殊潜光碱,即,2-苄基-2-(二甲氨基)-1-[3,5-二甲氧基苯基]-1-丁酮。
现已发现,上述缺点可这样克服:采用非自由基光固化体系,配合着将制剂的该施涂程序颠倒,随后以辐照诱导固化并采用特殊配方。
本发明的目的是一种使用潜光催化剂(a)的方法,其中一种包含所述催化剂的物质组合物接受辐照,随后再接受进一步加工,其特征在于,该潜光催化剂是:(a1)一种通式VI的潜光酸
其中
Ra2是直接键、S、O、CH2、(CH2)2、CO或NR96
Ra3、Ra4、Ra5和Ra6彼此独立地是氢、C1~C20烷基、C3~C8环烷基、C1~C20烷氧基、C2~C20链烯基、CN、OH、卤素、C1~C6烷基硫代、苯基、萘基、苯基-C1~C7烷基、萘基-C1~C3烷基、苯氧基、萘氧基、苯基-C1~C7烷氧基、萘基-C1~C3烷氧基、苯基-C2~C6链烯基、萘基-C2~C4链烯基、S-苯基、(CO)Ra8、O(CO)Ra8、(CO)ORa8、SO2Ra8、OSO2Ra8
Ra7是C1~C20烷基、C1~C20羟烷基、
Ra8是氢、C1~C12烷基、C1~C12羟烷基、苯基、萘基或联苯基;
Ra9是直接键、S、O或CH2
Ra10、Ra11、Ra12和Ra13彼此独立地具有针对Ra3给出的含义之一;或Ra10和Ra12与它们所连接的苯环一起构成一个稠合环体系;
Ra14
Z是阴离子,尤其是PF6,SbF6,AsF6,BF4,(C6F5)4B,Cl,Br,HSO4,CF3-SO3
Figure A20058002481400075
CH3-SO3,ClO4,PO4,NO3,SO4,CH3-SO4
Figure A20058002481400076
或者其中潜光酸(a1)是选自芳族磷盐、芳族碘盐或基于肟的潜光酸的化合物;或者
(a2)一种潜光碱化合物,条件是(3,4-二甲氧基苯甲酰)-1-苄基-1-二甲氨基丙烷被排除在外,如果该物质组合物包含异氰脲酸酯与硫醇的组合。
本发明方法的特征在于,先辐照含所述催化剂的组合物使潜光催化剂活化,然后再进一步加工,例如,施涂到基材上,以及采用特殊配方和催化剂。
采用本发明方法,单组分或双组分制剂皆可根据需要在施涂前进行活化,而不会发生立即固化。直至固化开始之前制剂的延时可通过修改树脂组分、催化剂活性或采用足以满足施涂方法要求程度的阻聚剂来调节。鉴于活化与施涂步骤分开,故任何辐射源都可用来活化该制剂而与施涂过程的要求无关。例如,凭借本发明方法,可采用高能紫外辐射来有效释放催化剂,而不会出现在传统方法中在此种情况下必须考虑的安全防范问题。采用高能辐射,红移的生色团这种会诱导不希望的固化膜发黄或可能被来自环境的日光活化的生色团的使用就可以避免。
由于相关工艺步骤在本发明方法中的顺序,在催化剂活化与制剂的固化之间,不论在涂层施涂之前或以后,皆可根据要求引入其它加工步骤(例如,涂布物体的成形、层压物类型的结构的建立等)。采用本发明方法,也可能把传统2K(双组分)体系在封端催化剂存在下转变为容易使用的1K体系,这样做既方便操作又能延长立即可用制剂的存储时间。高反应性2K体系目前难以在可能发生停止故障的工业过程中操作,因为在一旦混合后,材料的交联反应将在漆设备内立即开始。这可能导致物料的丧失和/或设备的损坏,如果在涂布设备中停止故障期间制剂发生胶凝的话。
有了本发明方法,多种多样可催化制剂现在便可作为辐射固化体系方便地操作和施涂了。优点是催化剂活化后反应性可调,因此固化可在较低温度进行。
根据要交联或进一步加工的相应物质组合物之不同,潜光催化剂(a),例如,是一种潜光酸化合物(a1)或一种潜光碱化合物(a2)。潜光酸化合物是一种辐照后释放酸的化合物,而潜光碱化合物应理解为一种以电磁辐照后释放碱的化合物。
因此,感兴趣的是一种如上所述的方法,其中
(A)潜光催化剂(a)是潜光酸(a1),同时物质组合物包含酸催化固化化合物(b);或其中
(B)潜光催化剂(a)是潜光碱(a2),同时物质组合物包含碱催化固化化合物(c);或其中
(C)潜光催化剂(a)是至少一种潜光碱催化剂(a2)和至少一种潜光酸催化剂(a1)的混合物,且其中物质组合物包含酸催化固化化合物(b)和碱催化固化化合物(c)的混合物,条件是(a1)和(a2)为选择地活化。
适合交联组分(b)的光引发剂(a1)是,例如,潜光路易斯和布朗斯台德酸、阳离子光引发剂,例如,芳族锍盐,描述在,例如,WO 03/072567和WO 03/00840中;磷或碘盐,例如,描述在,例如,US 4 950 581,列18,行19~列19行10,WO 01/09075、WO 98/46647、US 6306555或WO 01/44343;非离子潜光酸,例如,潜光磺酸,例如,基于肟的潜光酸,描述在,例如,GB 2348644、US 4450598、US 4136055、WO00/10972、WO 00/262 19、WO 02/25376、WO 02/98870、WO 03/067332和WO 04/074242;α-磺酰氧基酮,描述在,例如Berner等人,J.Radiat.Curing 1986,13(4),10;α-羟甲基苯偶姻磺酸盐,描述在EP 89922;邻硝基苄基磺酸盐,见诸于Houlihan等人,Macromolecules 1988,21,2001;磺酸的4-硝基苄基苄基酯,描述在Naitho等人,Phys.Chem.1992,96,238、五氟苄基磺酸盐,描述在Barclay等人,第10届光聚合国际会议,Abstracts SessionII PISPE,1994,重氮萘醌-4-磺酸芳基酯,描述在Buhr等人,Polym.Mat.Sci.Eng.1989,61,269;α-磺酰乙酰苯,描述在LiBassi等人,Conf.Proc.Radcure 86,4/27 l986,2-羟基或2,4-二羟基二苯酮的甲磺酸酯,参见Pappas等人,J.Radiat.Curing 1980,71(1),2,连苯三酚的磺酸酯及其类似物,描述在Ueno等人,Polym.Eng.Sci.1992,32,1511;二烯丙基二砜,描述在Aoai等人,Photopolym.Sci.Tenol.1990,3,389,N-磺酰氧基酰亚胺,描述在Renner等人,美国专利4371605,或者磺化N-羟胺,描述在US 4 371 605中。其它类型非离子潜光酸也可使用,例如,三氯甲基三嗪衍生物,描述在,例如,EP 332044,α-卤代乙酰苯衍生物,描述在Peeters等人,Polym.Paint.Colour J.1989,179.304,连二溴化物,描述在Gannon等人,Org.Chem.1993,58,913,三芳基磷酸酯,描述在Givens等人,Chem.Rev.1993,93,55,或邻-硝基苄基三芳基硅氧烷醚配合铝络合物,描述在Hayase等人,Macromolecules 1985,18,1799中。
优选的潜光酸是,例如,通式V、VI、VII和/或VIIa的化合物,
Figure A20058002481400101
其中
Ra0和Ra1各自独立地是氢、C1~C20烷基、C1~C20烷氧基、OH-取代的C1~C20烷氧基、卤素、C2~C12链烯基、环烷基,尤其是甲基、异丙基或异丁基;以及
Z是阴离子,尤其是PF6、SbF6、AsF6、BF4、(C6F5)4B、Cl、Br、HSO4、CF3-SO3、F-SO3
CH3-SO3,ClO4,PO4,NO3,SO4,CH3-SO4
其中
Ra2是直接键、S、O、CH2、(CH2)2、CO或NR96
Ra3、Ra4、Ra5和Ra6彼此独立是氢、C1~C20烷基、C3~C8环烷基、C1~C20烷氧基、C2~C20链烯基、CN、OH、卤素、C1~C6烷基硫代、苯基、萘基、苯基-C1~C7烷基、萘基-C1~C3烷基、苯氧基、萘氧基、苯基-C1~C7烷氧基、萘基-C1~C3烷氧基、苯基-C2~C6链烯基、萘基-C2~C4-链烯基、S-苯基、(CO)Ra8、O(CO)Ra8、(CO)ORa8、SO2Ra8、OSO2Ra8
Ra7是C1~C20烷基、C1~C20羟烷基、
Ra8是氢、C1~C12烷基、C1~C12羟烷基、苯基、萘基或联苯基;
Ra9是直接键、S、O或CH2
Ra10、Ra11、Ra12和Ra13彼此独立地具有针对Ra3给出的含义之一;或者Ra10与Ra12与它们所连接的苯环一起构成一个稠合环体系;
Ra14
Figure A20058002481400111
Z如上面所定义;
Figure A20058002481400113
其中
Ra15
Figure A20058002481400114
(CO)O-C1-C4烷基,CN
或C1~C12卤代烷基;
Ra16具有针对Ra15给出的定义之一或者是
Ra17是C1~C18烷基磺酰基、C1~C10卤代烷基磺酰基、樟脑基磺酰基、苯基-C1~C3烷基-磺酰基、C3~C30环烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基或菲基磺酰基,基团C3~C30环烷基磺酰基、苯基-C1~C3烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基和菲基磺酰基的基团环烷基、苯基、萘基、蒽基和菲基是未取代的或者被1或多个卤素、C1~C4卤代烷基、CN、NO2、C1~C16烷基、苯基、C1~C4烷基硫代、C1~C4烷氧基、苯氧基、C1~C4烷基-O(CO)-、C1~C4烷基-(CO)O-、Ra27OSO2-和/或NRa20Ra21取代基取代;或者Ra17是C2~C6卤代烷酰基、卤代苯甲酰、
Figure A20058002481400121
X1、X2和X3各自独立地是氢O或S;
q是0或1;以及
Ra18是C1~C12烷基、环己基、樟脑基、未取代的苯基,或被1或多个卤素、C1~C12烷基、ORa19、SRa19或NRa20Ra21取代基取代的苯基;
Ra19是C1~C12烷基、苯基、苯基-C1~C4烷基或C1~C12羟烷基;
Ra20和Ra21各自彼此独立地是氢、C1~C4烷基、C2~C6羟烷基,
或者Ra20和Ra21连同它们键合的氮原子一起构成一个5-或6-元环,该环也可包含O原子或NRa22基团;
Ra22是氢、苯基、苯基-C1~C4烷基、C1~C12烷基或C2~C5羟烷基;
Ra23、Ra24、Ra25和Ra26各自彼此独立地是C1~C6烷基、C1~C6卤代烷基;或者未取代或被C1~C4烷基或卤素取代的苯基;以及
Ra27是氢、C1~C4烷基、苯基或甲苯基。
基团的具体含义如上面所描述。
通式V、VI、VII和VIIa的化合物一般是公知的,在某些情况下有市售供应。其制备乃是本领域技术人员公知的并且在文献中常常有描述。
合适的碘盐是,例如,四(五氟苄基)硼酸甲苯基枯基碘盐、六氟锑酸或六氟磷酸4-[(2-羟基-十四烷氧基)苯基]苯基碘盐(SarCatCD 1012;Sartomer),六氟磷酸甲苯基枯基碘盐、六氟磷酸4-异丁基苯基-4′-甲基苯基碘盐(IRGACURE 250,CibaSpezialittenchemie)、六氟锑酸或六氟磷酸4-辛氧基苯基-苯基碘盐、六氟锑酸或六氟磷酸双(十二烷基苯基)碘盐、六氟磷酸双(4-甲基苯基)碘盐、六氟磷酸双(4-甲氧基苯基)碘盐、六氟磷酸4-甲基苯基-4′-乙氧基苯基碘盐、六氟磷酸4-甲基苯基-4′-十二烷基苯基碘盐、六氟磷酸4-甲基苯基-4′-苯氧基苯基碘盐。在所提到的所有碘盐当中,具有其它阴离子的化合物,当然也是合适的。碘盐的制备乃是本领域技术人员公知的,并且描述在文献中,例如,US 4 151175、US 3 862 333、US 4 694 029、EP 562 897、US 4 399、071、US 6 306555、WO 98/46647,J.V.Crivello,“光引发阳离子聚合”在UV Curing:Scinece and Technology中,主编S.P.Pappas,pp.24~77,TechnologyMarketing Corporation,Norwalk,Conn.,1980,ISBN号0-686-23773-0;J.V.Crivello,J.H.W.Lam,Macromolecules,10,1307(1977)和J.V.Crivello,Ann.Rev.Matt.Sci.1983,13,pp.173~190和J.V.Crivello,Ann.Journal of Polymer Science,部分A:聚合物化学,卷37,4241~4254(1999)。
优选的碘盐是六氟磷酸甲苯基枯基碘盐和六氟磷酸4-异丁基苯基-4′-甲基苯基碘盐。
合适的肟磺酸酯及其制备可见诸于,例如,WO 00/10972,WO 00/26219,GB 2348644,US 4450598,WO 98/10335,WO 99/01429,EP 780 729,EP 821 274,US 5 237 059,EP 571 330,EP 241 423,EP 139 609,EP 361 907,EP 199 672,EP 48615,EP 12158,US 4136055,WO 02/25376,WO 02/98870,WO 03/067332和WO 04/074242.
有关其它潜光酸给体的概述以评论的形式由M.Shirai和M.Tsunooka在Prog.Polym.Sci.,卷21,1~45(1996)中给出,以及在J.Crivello,K.Dietliker,“Photoinititiators for Free Radical Cationic &Anionic Photopolymerisation”,第2版,卷III,在丛书“Chemistry &Technology of UV & EB Formulation for Coatings,Inks & Paints”,JohnWiley/SITA Technology Limited,伦敦,1998,第III章(p.329~463)中给出。
本发明方法优选的潜光酸是六氟锑酸4-辛氧基苯基苯基碘盐、六氟锑酸4-(2-羟基十四烷基-1-氧基苯基)-苯基碘盐、六氟磷酸4-癸氧基苯基-苯基碘盐、六氟磷酸4-癸基苯基-苯基-碘盐、四(五氟苯基)硼酸4-异丙基苯基-4′-甲基苯基碘盐、六氟磷酸4-异丙基苯基-4′-甲基苯基碘盐、四(五氟苯基)硼酸4-异丁基苯基-4′-甲基苯基碘盐、六氟磷酸4-异丁基苯基-4′-甲基苯基-碘盐,特别是六氟磷酸甲苯基枯基碘盐和六氟磷酸4-异丁基苯基-4′-甲基苯基碘盐。合适的肟磺酸酯的例子是α-(甲基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苄基氰化物、α-(辛基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苄基氰化物、α-(甲基磺酰氧基亚氨基)-3-甲氧基苄基氰化物、α-(甲基磺酰氧基亚氨基)-3,4-二甲基苄基氰化物、α-(甲基磺酰氧基亚氨基)-噻吩-3-乙腈、α-(异丙基磺酰氧基亚氨基)-噻吩-2-乙腈,顺/反-α-(十二烷基磺酰氧基亚氨基)-噻吩-2-乙腈、
其中Rc是卤代烷基,尤其是CF3,和烷基,尤其是丙基;
Figure A20058002481400142
其中Rd是烷基,尤其是甲基,以及Re是烷基,尤其是甲基、丙基、辛基、樟脑基、对甲苯基或
Figure A20058002481400143
等。
产生磺酸以外的酸的肟化合物也是合适的,公开在,例如,WO00/26219中。
就本发明的内容而言,上面的清单应理解为不过是举例说明而已,绝不是限制。
在本发明方法中,排除
的使用。在本发明方法中,排除六氟磷酸(η6-异丙基苯)(η5-环戊二烯基)铁(II)的使用。
特别感兴趣的是这样一种方法,其中潜光酸(a1)是通式V、VII和/或VIIa的化合物
其中
Ra0和Ra1彼此独立地是氢、C1~C20烷基、C1~C20烷氧基、OH-取代的C1~C20烷氧基、卤素、C2~C12链烯基、环烷基,尤其是甲基、异丙基或异丁基;和
Z是阴离子,尤其是PF6、SbF6、AsF6、BF4、(C6F5)4B、Cl、Br、HSO4、CF3-SO3、F-SO3
CH3-SO3,ClO4,PO4,NOa,SO4,CH3-SO4
Figure A20058002481400153
其中Ra15
Figure A20058002481400155
(CO)O-C1~C4烷基、CN或C1~C12卤代烷基;
Ra16具有针对Ra15给出的定义之一或者是
Figure A20058002481400156
Ra17是C1~C18烷基磺酰基、C1~C10卤代烷基磺酰基、樟脑基磺酰基、苯基-C1~C3烷基-磺酰基、C3~C30环烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基或菲基磺酰基,基团C3~C30环烷基磺酰基、苯基-C1~C3烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基和菲基磺酰基的基团环烷基、苯基、萘基、蒽基和菲基是未取代的或者被1或多个卤素、C1~C4卤代烷基、CN、NO2、C1~C16烷基、苯基、C1~C4烷基硫代、C1~C4烷氧基、苯氧基、C1~C4烷基-O(CO)-、C1~C4烷基-(CO)O-、Ra27OSO2-和/或-NRa20Ra21取代基取代的;或者Ra17是C2~C6卤代烷酰基、卤代苯甲酰、
Figure A20058002481400157
X1、X2和X3各自独立地是氢O或S;
q是0或1;以及
Ra18是C1~C12烷基、环己基、樟脑基、未取代的苯基,或被1或多个卤素、C1~C12烷基、ORa19、SRa19或NRa20Ra21取代基取代的苯基;
Ra19是C1~C12烷基、苯基、苯基-C1~C4烷基或C1~C12羟烷基;
Ra20和Ra21各自彼此独立地是氢、C1~C4烷基、C2~C6羟烷基,
或者Ra20和Ra21连同它们键合的氮原子一起构成一个5-或6-元环,该环也可包含O原子或NRa22基团;
Ra22是氢、苯基、苯基-C1~C4烷基、C1~C12烷基或C2~C5羟烷基;
Ra23、Ra24、Ra25和Ra26各自彼此独立地是C1~C6烷基、C1~C6卤代烷基;或者未取代或被C1~C4烷基或卤素取代的苯基;以及
Ra27是氢、C1~C4烷基、苯基或甲苯基。
本发明方法中优选的潜光酸是碘盐和肟磺酸酯,特别是肟磺酸酯。
特别优选作为组分(a1)的是通式VII和VIIa的化合物。
另一种感兴趣的本发明方法是这样一种如上所述的方法,其中潜光催化剂(a)是一种潜光碱(a2)并且
该物质组合物包含碱催化的可固化化合物(c)。
作为潜光碱(a2),想到的例如是封端的胺化合物,例如,通常在技术上公知的潜光碱。例子是以下类别的化合物:邻硝基苄氧基羰基胺、3,5-二甲氧基-α,α-二甲基苄氧基羰基胺、苯偶姻氨基甲酸酯,N-酰苯胺衍生物、潜光胍,一般为潜光叔胺,例如,α-酮羧酸的铵盐或其它羧酸盐,二苯甲基铵盐、N-(二苯酮基甲基)-三-N-烷基铵的三苯基烷基硼酸盐、基于金属络合物的潜光碱,例如,钴胺络合物、钨和铬吡啶的五羰基络合物、基于金属的阴离子-生成光引发剂,例如,铬和钴的络合物“Reinecke盐”或金属卟啉。其例子发表在J.V.Crivello,K.Dietliker″Photoinitiators for Free Radical,Cationic & AnionicPhotopolymerisation″,Vol.III of″Chemistry & Technology of UV &EB Formulation for Coatings,Inks & Paints″,2nd Ed.,J.Wiley andSons/SITA Technology(London),1998。
适合作为本发明组合物的潜光碱催化剂的还有描述在WO97/31033中的碱。它们尤其是基于仲胺、胍或脒的潜碱(latent base)。例子是通式(A)的化合物
其中
X10、X20、X30、X40、X50、X60、X70、X80、X90、X100和X110各自独立地是氢、C1~C20烷基、芳基、芳基烷基、卤素、烷氧基、芳氧基、芳基烷氧基、芳基-N-、烷基-N-、芳烷基-N-、烷基硫代、芳基硫代、芳基烷基硫代、NO-、CN、羧酸酯基、羧酸酰氨基或酮或醛基,或者X10、X20、X30和X40可构成一个环结构并且X50、X60、X70、X80、X90、X100和X110独立于X10、X20、X30和X40地可以构成1或多个其它环结构。
其它合适的潜光碱描述在EP 764 698中。它们是封端的氨基化合物,例如,具有通式(B)
Figure A20058002481400172
其中
Y10是基团
Figure A20058002481400174
Y20是氢或NO2
Y30是氢或C1~C8烷基;
Y40、Y50、Y60、Y70和Y80彼此独立地是氢或F;并且
s是15~29的数。
也可能,使用基于α-氨基酮的化合物,如描述在EP 898 202和WO98/32756,基于α-铵、亚胺(iminium)或脒(amidinium)酮或芳基硼酸盐的化合物,公开在WO 98/38195;以及按照WO98/41524的基于α-氨基烯的那些。
在本发明组合物中,优选使用一旦以可见光或紫外光辐照将脱除一个脒基团的化合物。它们包含一种以下通式的结构元素
Figure A20058002481400181
Figure A20058002481400182
其中
R1是能吸收200~650nm波长范围光并由此导致相邻碳-氮键断裂的芳族或杂芳族基。
特别感兴趣的是通式(C1)和(D1)的化合物
其中
R1是能吸收200~650nm波长范围光的并由此导致相邻碳-氮键断裂的芳族或杂芳族基;
r是0或1;
R2和R3彼此独立是氢、C1~C18烷基、C3~C18链烯基、C3~C18炔基或苯基并且,如果R2是氢或C1~C18烷基,则C3另外是基团-CO-R14
或者R1和R3连同羰基基团和R3所连接的C原子一起构成一个苯并环戊酮基;
R5是C1~C18烷基或NR15R16
R4、R6、R7、R15和R16彼此独立是氢或C1~C18烷基;或者
R4和R6一起构成一个C2~C12亚烷基桥或
R5和R7一起,独立于R4和R6,构成一个C2~C12亚烷基桥或者,如果R5是NR15R16,R16和R7一起构成一个C2~C12亚烷基桥;并且
R14是C1~C18烷基或苯基。
R1作为芳族或杂芳族基的例子是苯基、萘基、菲基、蒽基、芘基、5,6,7,8-四氢-2-萘基-、5,6,7,8-四氢-1-萘基、噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、二苯并呋喃基、色烯基、呫吨基、噻吨基(thioxanthyl)、酚黄素基(phenoxathinyl)、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、吲嗪基、异吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、异喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹喔啉基、喹唑啉基、肉啉基、蝶啶基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、白啶基、菲绕啉基、吩嗪基、吲塞唑基、吩噻嗪基、异唑基、呋咱基、三联苯基、均二苯代乙烯基、芴基或吩嗪基,这些基团是未取代或被C1~C18烷基、C3~C18链烯基、C3~C18炔基、C1~C18卤代烷基、NOR、NR6R7、N3、OH、CN、OR8、SR8、C(O)R9、C(O)OR10或卤素单-或多取代的,
或者R1是通式A1或B1的基
Figure A20058002481400191
Figure A20058002481400192
R6和R7如上面定义;
R8、R9、R10、R11和R12是氢或C1~C18烷基;
R13是C1~C18烷基、C2~C18链烯基、C2~C18炔基、C1~C18卤代烷基、NO2、NR8R9、OH、CN、OR10、SR10、C(O)R11、C(O)OR12或卤素;并且
n是0或数字1、2或3。
其它感兴趣的适用于本发明方法的潜光碱是通式(C2)和(D2)的化合物
Figure A20058002481400193
其中
R1如上面定义;
R20、R30和R40各自彼此独立地是氢、C1~C18烷基、C3~C18链烯基、C3~C18炔基或苯基,或R20与R30和/或R40与R30各自彼此独立地构成C2~C12亚烷基桥;或R20、R30、R40连同连接氮原子一起是P1、P2、P<t/4>型膦腈碱或者结构通式(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)或(g)的组
Figure A20058002481400201
k和I彼此独立地是2~12的数;
R35是氢或C1~C18烷基;
R50是氢或C1~C18烷基;或者
R50和R1连同其连接碳原子一起是苯并环戊酮基;
R11是C1~C18烷基、C2~C18链烯基、C2~C18炔基、C1~C18卤代烷基、NO2、NR60R70、OH、CN、OR80、SR80、C(O)R90、C(O)OR100或卤素;
R60、R70、R80、R90和R100是氢或C1~C18烷基;
n是0或1、2或3;并且
m是分子中带正电荷的N-原子数。
“阴离子”是一种能形成盐,特别是卤化物,的任何阴离子,例如,Cl、Br或I,硼酸根,例如,
其中R120、R130和R140是苯基或另一种芳烃,这些基团是未取代的或者是被C1~C18烷基、C3~C18链烯基、C3~C18炔基、C1~C18卤代烷基、NO2、OH、CN、OR8、SR8、C(O)R90、C(O)OR100或卤素单-或多取代;R150是C1~C18烷基、苯基或另一种芳烃,这些基团苯基和芳烃是未取代的或者是被C1~C18烷基、C3~C18链烯基、C3~C18炔基、C1~C18卤代烷基、NO2、OH、CN、OR80、SR80、C(O)R90、C(O)OR100或卤素单-或多取代,或者R150是基团或R120,R130,R140以及R150是卤素;并且Xz是C1~C20亚烷基、被-O-、-S-或NR80中断的C2~C20亚烷基,或者Xz是亚苯基、亚联苯基、亚三联苯基、亚萘基、亚蒽基或亚苯基-CO-亚苯基。该阴离子也可以是上面针对“Z”所定义的阴离子之一,即,
PF6,SbF6,AsF6,BF4,(C6F54B,Cl,Br,HSO4,CF3-SO3,F-SO3
Figure A20058002481400212
CH3-SO3,CLO4,PO4,NO3,SO4,CH3-SO4
优选通式C1和D1的化合物,其中R4和R6一起构成一个C2~C12亚烷基桥,并且R5和R7一起,独立于R4和R6地构成一个C2~C12亚烷基桥。
优选通式C2和D2的化合物,其中R20是通式(a)、(b)或(c)的基团。
特别感兴趣的是潜光碱结构,像
其中r、R1、R2、R3和R50如上面所定义。
R1优选是苯基、萘基、芘基、噻吨基或penothiazinyl,这些基团是未取代的或者是被C1~C18烷基、C1~C18卤代烷基、NR60R70、CN、NO2、SR80或OR80单-或多取代。特别是,R1是未取代的或被1或多个苯基取代。R50优选是氢或C1~C4烷基,特别是氢和甲基。
优选的潜光碱是,例如,通式VIII、VIIIa和VIIIb的化合物
Figure A20058002481400223
其中
r是0或1;
X4是CH2或O;
R2和R3彼此独立是氢或C1~C20烷基;
R1是未取代的或者是C1~C12烷基-或C1~C12烷氧基-取代的苯基、萘基或联苯基;
R20、R30和R40连同氮原子一起构成一个结构式(a)、(b)或(c)的基团
R35是氢或C1~C18烷基;
阴离子是能形成盐的任何阴离子;并且
m是分子中带正电荷的N-原子数。
基团(a)中的C1~C18烷基优选是甲基。
通式(C)、(C1)、(C2)、(D)、(D1)、(D2)、(VIII)和(VIIIa)的化合物的制备是公知的并且描述在WO 98/32756,WO 98/38195,WO98/41524,WO 00/10964和EP 1436297。这些专利说明书还提供此类化合物的更多具体例子,在此将其公开内容收作参考。
在通式C、C1、D、D1中的R1~R16,就本发明目的而言的定义的确切含义类似于WO 98/32756中针对对应基团所给出的含义。在此将该公开内容引作参考。
通式C2、D2和VIIIa中的R1,R20,R30,R40,R50,R60,R70,R80,R90,R100,R120,R130,R140,Xz,基团(a),(b),(c),(d),(e),(f),(g),和P1、P2、P<t/4>型膦腈碱就本发明而言的确切含义类似于WO00/10964中针对对应基所给出的含义。在此将该公开内容引作参考。
适合作为潜光碱给体的还有在EP 898202中描述的α-氨基酮化合物,例如,(4-吗啉代苯甲酰)-1-苄基-1-二甲氨基-丙烷或(4-甲基硫代苯甲酰)-1-甲基-1-吗啉代-乙烷。
在本发明方法的一种实施方案中,α-氨基酮在包含硫醇并包含异氰酸酯的制剂中作为潜光碱的应用被排除。
在本发明方法的一种实施方案中,如果该物质组合物是涂料制剂,则α-氨基酮的应用被排除。
在本发明方法的一种实施方案中,α-氨基酮作为潜光碱的应用被排除。
在本发明方法的一种实施方案中,(3,4-二甲氧基苯甲酰)-1-苄基-1-二甲氨基丙烷在同时包含硫醇和异氰酸酯的物质组合物中的应用被排除。
在本发明方法的一种实施方案中,如果该物质组合物是涂料制剂,则(3,4-二甲氧基苯甲酰)-1-苄基-1-二甲氨基丙烷的应用被排除。
在本发明方法的一种实施方案中,(3,4-二甲氧基苯甲酰)-1-苄基-1-二甲氨基丙烷的应用被排除。
在本发明方法中的优选潜光碱的例子是
Figure A20058002481400241
在某些情况下,可能有利的是采用两种或更多种光引发剂的混合物。它们可以是多种潜光酸的混合物、多种潜光碱的混合物,也可以是自由基光引发剂与潜光酸的混合物(例如,用于所谓混合体系)或者是自由基光引发剂与潜光碱的混合物,或是自由基光引发剂与潜光酸和潜光碱的混合物。就本发明内容而言,上面开列的清单应理解为不过是举例而已,绝不是限制。
有关其它光碱发生剂的概括由M.Shirai和M.Tsunooka以综述的形式发表在Prog.Polym.Sci.卷21,1~45(1996),以及在M.Shirai andM.Tsunooka in Prog.Polym.Sci.,Vol.21,1-45(1996).and in J.Crivello,K.Dietliker,“Photoinititiators for Free Radical Cationic & AnionicPhotopolymerisation”,2nd Edition,Volume III in the Series“Chemistry& Technology of UV & EB Formulation for Coatings,Inks & Paints”,John Wiley/SITA Technology Limited,London,1998,chapter IVI(p.479-544)。
该光聚合组合物包含的潜光催化剂(a),即,(a1)和/或(a2),的含量有利地介于0.01~20wt%,例如,0.05~15wt%,优选介于0.1~20wt%,例如,1~15wt%,优选1~5wt%,以组合物为基准计。当采用其混合物时,给出的光引发剂数量是相对于所有加入的光引发剂的总和而言的。
酸催化的可固化组分(b)是这样一种化合物,它在酸的作用下能发生聚合、缩聚或加聚反应。
本发明组合物包含,作为组分(b),例如能由含烷基-或芳基阳离子或由质子实施阳离子聚合的树脂和化合物。其例子是环状醚,尤其是环氧化物和氧杂环丁烷,还有乙烯基醚和含羟基化合物。内酯化合物和环状硫醚,还有乙烯基硫醚也可使用。另一些例子是氨基塑料或酚醛(resol)树脂。它们尤其是蜜胺、氨基甲酸乙酯、环氧、酚醛、丙烯酸类、聚酯和醇酸树脂,但更尤其是丙烯酸类、聚酯或醇酸树脂与蜜胺树脂的混合物。还包括改性表面-涂料树脂,例如,丙烯酸-改性的聚酯和醇酸树脂。在术语丙烯酸类、聚酯和醇酸树脂项下包括的单个类型树脂的例子描述在,例如,Wagner,Sarx/Lackkunstharze(Munich,1971),即.86 to 123和229 to 238,或在Ullmann/Encyclopdie der techn.Chemie,第4版,卷15(1978),pp.613 to 628,或在Ullmann’sEncyclopedia of Industrial Chemistry,Verlag Chemie,1991,卷18,360ff.,卷A19,371ff.。该组分优选地包含氨基树脂(尤其是当组合物被用作表面涂料时)。其例子是醚化或非醚化的蜜胺、氨基甲酸乙酯、胍或缩二脲树脂。酸催化对于包含醚化氨基树脂,例如,甲基化或丁基化蜜胺树脂(N-甲氧基甲基-或N-丁氧基甲基-蜜胺)或甲基化、丁基化二醇urils,的表面涂料的固化来说尤其重要。酰氨基-和氨基-树脂描述在,例如,Stoye Freitag,Lackharze,Carl Hanser Verlag München 1996,p.104-126线型酚醛清漆树脂描述在,例如Stoye Freitag,Lackharze,Carl Hanser Verlag München 1996,p.150-152。
也可能,例如,采用所有惯用的环氧化物,例如,芳族、脂族或环脂族环氧树脂。它们是分子中具有至少一个环氧基团,优选至少2个环氧基团的化合物。其例子是脂族或环脂族二醇或多元醇的缩水甘油基醚和β-甲基缩水甘油基醚,例如,乙二醇、丙烷-1,2-二醇、丙烷-1,3-二醇、丁烷-1,4-二醇、二甘醇、聚乙二醇、聚丙二醇、甘油、三羟甲基丙烷或1,4-二羟甲基环己烷的那些,或者2,2-双(4-羟基环己基)丙烷和N,N-双(2-羟乙基)苯胺的那些;二-和多酚的缩水甘油基醚,例如,间苯二酚的、4,4′-二羟苯基-2,2-丙烷的、线型酚醛清漆的或1,1,2,2-四(4-羟苯基)乙烷的缩水甘油基醚。例子是苯基缩水甘油基醚、对叔丁基缩水甘油基醚、邻甲酚缩水甘油基醚、聚四氢呋喃缩水甘油基醚、正丁基缩水甘油基醚、2-乙基己基缩水甘油基醚、C12/15烷基缩水甘油基醚、环己烷二甲醇二缩水甘油基醚。其它例子是N-缩水甘油基化合物,例如,亚乙基脲、1,3-亚丙基脲或5-二甲基乙内酰脲的,或4,4′-亚甲基-5,5′-四甲基二乙内酰脲的缩水甘油基化合物,或者化合物如异氰脲酸三缩水甘油基酯。
本发明方法中使用的缩水甘油基醚组分(b)的其它例子是通过多价酚与过量氯醇,例如,表氯醇,反应获得的一价酚的缩水甘油基醚(例如,2,2-双(2,3-环氧丙氧基苯酚)丙烷的缩水甘油基醚)。可用于本发明的缩水甘油基醚环氧化物的其它例子描述在,例如,US 3 018 262和″Handbook of Epoxy Resins″,Lee和Neville,McGraw-Hill Book Co.,纽约(1967)。许多市售供应的缩水甘油基醚环氧化物适合作为组分(b),例如,甲基丙烯酸缩水甘油基醚、双酚A的二缩水甘油基醚,例如,由Shell以商品名EPON 828、EPON 825、EPON 1004和EPON 1010供应的那些;由Dow Chemical以商品名DER-331、DER-332和DER-334供应的那些;酚醛清漆的1,4-丁二醇二缩水甘油基醚,例如,由DowChemical以商品名DEN-431、DEN-438供应的那些;以及间苯二酚二缩水甘油基醚;烷基缩水甘油基醚,例如,C8~C10缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 7,C12~C14缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier8,丁基缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 61,羟甲苯缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 62,对叔丁基苯基缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 65,多官能缩水甘油基醚,例如,1,4-丁二醇的二缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 67,新戊二醇的二缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 68,环己烷二甲醇的二缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 107,三羟甲基乙烷的三缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 44,三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚,例如,HELOXY Modifier 48,脂族多元醇的多缩水甘油基醚,例如,HELOXYModifier 84(所有HELOXY缩水甘油基醚全部由Shell销售)。
合适的还有包含丙烯酸酯的共聚物的缩水甘油基醚,例如,苯乙烯/甲基丙烯酸缩水甘油基酯或甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸缩水甘油基酯。例子是1∶1苯乙烯/甲基丙烯酸缩水甘油基酯、1∶1甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸缩水甘油基酯、62.5∶24∶13.5甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸缩水甘油基酯。
缩水甘油基醚化合物的聚合物可,例如,还包含其它官能团,只要它们不妨碍阳离子固化反应。
适合作为组分(b)并由Vantico销售的其它缩水甘油基醚化合物是多官能液态和固态线型酚醛清漆缩水甘油基醚树脂,例如,PY 307、EPN 1179、EPN 1180、EPN 1182和ECN 9699。
要知道,也可以使用不同缩水甘油基醚化合物的混合物作为组分(b)。
适合作为组分(b)的缩水甘油基醚是,例如,通式XX的化合物
Figure A20058002481400271
其中
x是1~6的数;并且
R85是1价~6价烷基或芳基。
优选,例如,通式XX的缩水甘油基醚化合物,其中
x是1、2或3的数;并且
R85,当x=1时,是未取代的或者是C1~C12烷基取代的苯基、萘基、蒽基、联苯基、C1~C20烷基,或是被1或多个氧原子中断的C2~C20烷基,或者
R85,当x=2时,是1,3-亚苯基、1,4-亚苯基、C6~C10亚环烷基、未取代或卤素取代的C1~C40链烯基、被1或多个氧原子中断的C2~C40链烯基,或者是基团
Figure A20058002481400272
或者
R85,当x=3时,是基团
Figure A20058002481400281
y是1~10的数;并且
R81是C1~C20亚烷基、氧或
缩水甘油基醚是,例如,通式XXa的化合物
其中
R82是未取代或C1~C12烷基取代的苯基;萘基;蒽基;联苯基;C1~C20烷基;被1或多个氧原子中断的C2~C20烷基;或通式的基团;
R85是亚苯基、C1~C20亚烷基、被1或多个氧原子中断的C2~C20亚烷基或者是基团 并且
R81是C1~C20亚烷基或氧。
优选通式XXb的缩水甘油基醚化合物
Figure A20058002481400287
其中
R85是亚苯基、C1~C20亚烷基、被1或多个氧原子中断的C2~C20亚烷基或者是基团
Figure A20058002481400288
并且
R81是C1~C20亚烷基或氧。
组分(b)的其它例子是多缩水甘油基醚和多(β-甲基缩水甘油基)醚,可通过每分子含至少2个游离醇和/或酚羟基基团的化合物与对应表氯醇在碱性条件下,或者替代地在酸催化剂条件下随后用碱处理,反应获得,其中也可使用不同多元醇的混合物。
此类醚可用来自以下醇的聚(表氯醇)制备:无环醇例如乙二醇、二甘醇和高级聚(氧乙烯)二醇、丙烷-1,2-二醇和聚(氧丙烯)二醇、丙烷-1,3-二醇、丁烷-1,4-二醇、聚(氧四亚甲基)二醇、戊烷-1,5-二醇、己烷-1,6-二醇、己烷-2,4,6-三醇、甘油、1,1,1-三羟甲基丙烷、季戊四醇和山梨糖醇,环脂族醇如间苯二酚、对环己二醇、双(4-羟基环己基)甲烷、2,2-双(4-羟基环己基)丙烷和1,1-双(羟甲基)环己-3-烯;以及具有芳核的醇,例如,N,N-双(2-羟乙基)苯胺和p,p’-双(2-羟乙基氨基)二苯甲烷。它们也可由单核酚制备,例如由间苯二酚和氢醌;以及多核酚,例如,双(4-羟苯基)甲烷、4,4-二羟基联苯、双(4-羟苯基)砜、1,1,2,2-四(4-羟苯基)乙烷、2,2-双(4-羟苯基)丙烷(双酚A)和2,2-双(3,5-二溴-4-羟苯基)丙烷。
适合制备聚缩水甘油基醚和聚-(β-甲基缩水甘油基)醚的另一些羟基化合物是可通过醛,例如,甲醛、乙醛、氯醛和糠醛,与酚,例如,苯酚、邻甲酚、间甲酚、对甲酚、3,5-二甲基苯酚、4-氯酚和4-叔丁基酚的缩合获得的线型酚醛清漆。
聚(N-缩水甘油基)化合物可通过,例如,表氯醇与含至少2个胺氢原子的胺,例如,苯胺、正丁基胺、双(4-氨苯基)甲烷、双(4-氨苯基)丙烷、双(4-甲基氨苯基)甲烷和双(4-氨苯基)醚,砜和亚砜的反应产物脱氯化氢来获得。其它合适的聚(N-缩水甘油基)化合物是异氰脲酸三缩水甘油基酯和环状亚烷基脲,例如,亚乙基脲和1,3-亚丙基脲,以及乙内酰脲如5,5-二甲基乙内酰脲的N,N′-二缩水甘油基衍生物。
聚(S-缩水甘油基)化合物也适合。其例子是,二硫醇,例如,乙烷-1,2-二硫醇和双(4-巯基甲基苯基)醚的二-S-缩水甘油基衍生物。
还想到作为组分(b)的是环氧树脂,其中缩水甘油基基团或β-甲基缩水甘油基基团键合在不同种类杂原子上,例如,4-氨基酚的N,N,O-三缩水甘油基衍生物、水杨酸或对羟基苯甲酸的缩水甘油基醚缩水甘油基酯、N-缩水甘油基-N′-(2-缩水甘油基氧丙基)-5,5-二甲基乙内酰脲和2-缩水甘油基氧基-1,3-双(5,5-二甲基-1-缩水甘油基乙内酰脲-3-基)丙烷。
双酚的二缩水甘油基醚是优选的。其例子是双酚A二缩水甘油基醚,例如,ARALDIT GY 250,由Huntsman供应,双酚F二缩水甘油基醚和双酚S二缩水甘油基醚。特别优选双酚A二缩水甘油基醚。
具有技术重要性并适合用于组分(b)的另一些缩水甘油基化合物是,羧酸,尤其是二-和多羧酸的缩水甘油基酯。其例子是琥珀酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、四-和六-氢邻苯二甲酸、间苯二甲酸或偏苯三酸的,或二聚脂肪酸的缩水甘油基酯。
不是缩水甘油基化合物的聚环氧化物的例子是乙烯基环己烷和二环戊二烯的环氧化物,3-(3′,4′-环氧环己基)-8,9-环氧-2,4-二氧杂螺[5.5]-十一烷,3,4-环氧环己烷羧酸的3′,4′-环氧环己基甲基酯、(3,4-环氧环己基-甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯)、丁二烯二环氧化物或异戊二烯二环氧化物、环氧化亚油酸衍生物和环氧化聚丁二烯。
另一些合适的环氧化物是,例如,柠檬烯一氧化物、环氧化豆油、双酚A和双酚F环氧树脂,例如,Araldit GY 250(A),Araldit GY 282(F),Araldit GY 285(F)(Huntsman),还有含有环氧基团的可光交联硅氧烷。
另一些合适的可阳离子聚合或可交联组分(b)可参见,例如,美国专利3 117 099、4 299 938和4 339 567。
在脂族环氧化物当中合适的是,例如,尤其是具有由10、12、14或16个碳原子组成的无支化链的单官能α-烯烃环氧化物。
由于目前市场上有大量不同的环氧化合物供应,故基料的性质可能差别很大。一种可能的差异,例如取决于组合物的预期用途,是不同环氧化物的混合物的使用,和增韧剂及反应性稀释剂的加入。
该环氧树脂可用溶剂稀释以便于施涂,例如,当施涂是通过喷涂实施时,但优选采用无溶剂状态的环氧化合物。在室温下呈粘稠直至固态的树脂可以,例如,以热态施涂。
也适合作为组分(b)的是所有惯用乙烯基醚,例如,芳族、脂族或环脂族乙烯基醚,还有含硅乙烯基醚。它们是分子中具有至少一个乙烯基醚基团,优选至少2个乙烯基醚基团的化合物。适用于本发明的乙烯基醚的例子是三乙二醇二乙烯基醚、1,4-环己烷二甲醇二乙烯基醚、4-羟丁基乙烯基醚、碳酸亚丙酯的丙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、叔丁基乙烯基醚、叔戊基乙烯基醚、环己基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、乙二醇单乙烯基醚、丁二醇单乙烯基醚、己二醇单乙烯基醚、1,4-环己烷二甲醇单乙烯基醚、二甘醇单乙烯基醚、乙二醇二乙烯基醚、乙二醇丁基乙烯基醚、丁二醇-1,4-二乙烯基醚、己二醇二乙烯基醚、二甘醇二乙烯基醚、三甘醇二乙烯基醚、三甘醇甲基乙烯基醚、四甘醇二乙烯基醚、Pluriol-E-200二乙烯基醚、聚四氢呋喃二乙烯基醚290、三羟甲基丙烷三乙烯基醚、二丙二醇二乙烯基醚、十八烷基乙烯基醚、(4-环己基-亚甲基氧亚乙基)戊二酸甲酯和(4-丁氧基亚乙基)间苯二甲酸酯。
含羟基化合物的例子是聚酯多元醇,例如,聚己内酯或聚酯己二酸酯多元醇、二醇和聚醚多元醇、蓖麻籽油、羟基-官能乙烯基和丙烯酸树脂、纤维素酯,例如,纤维素乙酸酯丁酸酯和苯氧基树脂。
其它合适的阳离子可固化制剂可见诸于,例如,EP 119 425。
优选作为组分(b)的是环脂族环氧化物,或基于双酚A的环氧化物。
1.表面涂料,基于冷-或热-可交联醇酸树脂、丙烯酸酯、聚酯、环氧、脲或蜜胺树脂或者此类树脂的混合物,任选地加入固化催化剂;
2.单组分聚氨酯表面涂料,基于在氨基甲酸乙酯结构中具有游离氨基团的脂族或芳族氨基甲酸乙酯丙烯酸酯或聚氨酯丙烯酸酯,以及蜜胺树脂或聚酯树脂,任选地加入固化催化剂;
3.热塑性聚丙烯酸酯表面涂料,基于热塑性聚丙烯酸酯树脂或本质交联的丙烯酸酯树脂与醚化蜜胺树脂的组合;
4.被氟或硅氧烷改性的基于丙烯酸酯树脂的表面涂料;
5.表面涂料,特别是透明表面涂料,基于丙二酸酯(malonate)-封端的异氰酸酯,以蜜胺树脂(例如,六甲氧基甲基蜜胺)作为交联剂(酸-催化的);
6.双-固化体系,即,首先热固化,然后由紫外辐照固化-反之亦然-其中表面涂料组合物的组分含双键,该双键由紫外光和光引发剂和/或通过电子束辐照引发反应。
特别感兴趣作为酸催化可固化组分(b)的是
1.表面涂料,基于冷-或热-可交联醇酸树脂与氨基甲酸乙酯或蜜胺树脂的组合,任选地加入固化催化剂;
2.表面涂料,基于冷-或热-可交联羟基官能丙烯酸酯和/或聚酯与脲或蜜胺树脂的组合,加入固化催化剂;
3.表面涂料,基于冷-或热-可交联环氧与脲或蜜胺树脂的组合,加入固化催化剂。
碱催化可固化组分(c)是在碱的作用下能参与聚合、缩聚或加聚反应的化合物。
碱催化聚合、缩聚、加聚或取代反应可用低分子量化合物(单体)、用低聚物、用聚合化合物或用此类化合物的混合物实施。可采用本发明方法用单体或用低聚物/聚合物实施的反应的例子是Knoevenagel反应或Michael加成反应。其它组分的存在对该反应来说可能是有利或必要的。这公开在,例如,EP 1 092 757中。
特别重要的是这样的组合物,其中组分(c)是阴离子可聚合或可交联有机材料。
该阴离子可聚合或可交联有机材料[组分(c)]可呈单-或多-官能单体、低聚物或聚合物的形式。
尤其优选的低聚/聚合体系(c)是涂料工业惯用的基料。
由α,β-烯键式不饱和羰基化合物和包含活化的CH2基团的聚合物组成的双组分体系,其中该活化的CH2基团存在于主链或在侧链或在二者中,公开在,例如,EP 161 697,关于(聚)丙二酸酯基团。该丙二酸酯基团可在被键合在主链或在侧链中的聚氨酯、聚酯、聚丙烯酸酯、环氧树脂、聚酰胺或聚乙烯基聚合物中。所使用的α,β-烯键式不饱和羰基化合物可以是任何被羰基基团活化的双键。例子是丙烯酸或甲基丙烯酸的酯或酰胺。其它羟基基团也可存在于酯基团中。二-和三-酯也是可能的。典型的例子是己二醇的二丙烯酸酯和三羟甲基丙烷的三丙烯酸酯。替代丙烯酸,也可使用其它酸和酯或其酰胺,例如,巴豆酸或肉桂酸。
其它具有活化CH2基团的化合物是(聚)乙酰乙酸酯和(聚)氰基乙酸酯。
其它例子是由含活化CH2基团的聚合物,该活化CH2基团存在于主链或在侧链或者在二者中,或者含活化CH2基团的聚合物,例如,(聚)乙酰乙酸酯和(聚)氰基乙酸酯,以及多醛交联剂,例如,对苯二甲醛组成的双组分体系。此类体系描述在,例如,Urankar等人,Polym.Prepr.(1994),35,933。
该体系的诸组分在碱催化剂的作用和室温下彼此起反应,形成适合多种用途的交联涂料体系。凭借其已经具备的优良耐候性,该体系也适合,例如,用于露天场合并且可,必要的话,附加地用紫外吸收剂和其它光稳定剂予以稳定化。
想到可作为本发明组合物组分(c)的还有环氧体系。适合制备本发明以环氧树脂作为组分(c)的可固化混合物的环氧树脂是环氧树脂技术中惯用的那些。此类环氧树脂的例子已在上面组分(b)项下给出。合适的例子尤其是聚缩水甘油基和聚(β-甲基缩水甘油基)酯,它们可分别通过在分子中具有至少2个羧基基团的化合物与表氯醇和β-表氯醇起反应来获得。该反应有利地在碱存在下实施。
脂族多羧酸可用作“在分子中具有至少2个羧基基团的化合物”。此类多羧酸的例子是草酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸和二聚或三聚亚油酸。然而,也可以使用环脂族多羧酸,例如,四氢邻苯二甲酸、4-甲基四氢邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸或4-甲基六氢邻苯二甲酸。芳族多羧酸,例如,邻苯二甲酸、间苯二甲酸或对苯二甲酸,也可使用。
可通过具有至少2个游离醇羟基基团和/或酚羟基基团的化合物与表氯醇或β-甲基表氯醇在碱性条件下或在酸性催化剂存在下随后碱处理制取聚缩水甘油基或聚(β-甲基缩水甘油基)醚。
此种缩水甘油基醚由,例如,无环醇,例如,乙二醇、二甘醇或高级聚(氧乙烯)二醇、丙烷-1,2-二醇或聚(氧丙烯)二醇、丙烷-1,3-二醇、丁烷-1,4-二醇、聚(氧四亚甲基)二醇、戊烷-1,5-二醇、己烷-1,6-二醇、己烷-2,4,6-三醇、甘油、1,1,1-三羟甲基丙烷、季戊四醇和山梨糖醇,还有由聚表氯醇,衍生而来。然而,它们也可由,例如,环脂族醇,例如,1,4-环己烷二甲醇、双(4-羟基环己基)甲烷或2,2-双(4-羟基环己基)丙烷衍生,或者它们具有芳核,例如,N,N-双(2-羟乙基)苯胺或p,p’-双(2-羟乙基氨基)二苯甲烷。缩水甘油基醚也可由单核酚衍生,例如由间苯二酚和氢醌,或者它们基于多核酚,例如,双(4-羟苯基)甲烷、4,4’-二羟基联苯、双(4-羟苯基)砜、1,1,2,2-四(4-羟苯基)乙烷、2,2-双(4-羟苯基)丙烷、2,2-双(3,5-二溴-4-羟苯基)丙烷,以及基于线型酚醛清漆,可由醛,如甲醛、乙醛、氯醛或糠醛与酚类,例如,苯酚,或者与在核上被氯原子或被C1~C9烷基基团取代的苯酚,例如,4-氯苯酚、2-甲基苯酚或4-叔丁基苯酚之间的缩合,或者通过与双酚,例如,上面提到的那些种类的进行缩合来制取。
可通过使表氯醇与含至少2个胺氢原子的胺的反应产物脱氯化氢制取聚(N-缩水甘油基)化合物。此类胺是,例如,苯胺、正丁基胺、双(4-氨苯基)乙烷、间苯二甲胺或双(4-甲基氨苯基)甲烷。
然而,聚(N-缩水甘油基)化合物还包括异氰脲酸三缩水甘油基酯、环亚烷基脲的N,N′-二缩水甘油基衍生物,例如,亚乙基脲或1,3-亚丙基脲,以及乙内酰脲,例如,5,5-二甲基乙内酰脲的二缩水甘油基衍生物。
聚(S-缩水甘油基)化合物,例如,二-S-缩水甘油基衍生物,由二硫醇衍生,例如,由乙烷-1,2-二硫醇或双(4-巯基甲基苯基)醚衍生。
环脂族环氧树脂,例如,双(2,3-环氧环戊基)醚、2,3-环氧环戊基缩水甘油基醚、1,2-双(2,3-环氧环戊基氧基)乙烷或3,4-环氧环己基甲基-3′,4′-环氧环己烷羧酸酯。
然而,也可使用这样的环氧树脂,其中1,2-环氧基团键合在不同杂原子或官能团上;此类化合物包括,例如,4-氨基苯酚的N,N,O-三缩水甘油基衍生物、水杨酸的缩水甘油基醚缩水甘油基酯、N-缩水甘油基-N′-(2-缩水甘油基氧丙基)-5,5-二甲基乙内酰脲和2-缩水甘油氧基-1,3-双(5,5-二甲基-1-缩水甘油基乙内酰脲-3-基)丙烷。
也可以使用环氧树脂的混合物作为组分(c)。因此,本发明还涉及包含环氧树脂或不同环氧树脂的混合物作为组分(c)的组合物。
组分(c)还可包含在碱作用下能转化为不同形式的化合物。它们是,例如,当受到碱催化时,例如,通过脱除保护基团,而改变其在适当溶剂中的溶解度的化合物。
正如将从上文中看出的,某些单体、低聚物和聚合物适合作为组分(b),或者(c),因为它们既可自由基交联又可酸-或碱-交联。例如,上面被描述为碱催化可固化组分的双组分体系(2K体系),也可通过加入自由基生成光引发剂来实现交联。
另一些感兴趣的组分(c)是
1.双组分聚氨酯表面涂料,基于含羟基基团丙烯酸酯、聚酯或聚醚树脂,以及脂族或芳族异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯;
2.双组分聚氨酯表面涂料,基于含硫醇基团丙烯酸酯-、聚酯-或聚醚-树脂,以及脂族或芳族异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯;
3.单组分聚氨酯表面涂料,基于封端异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯,它们在加热期间将脱除封端;也可以加入蜜胺树脂,若恰当的话;
4.双组分表面涂料,基于(聚)酮亚胺以及脂族或芳族异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯;
5.双组分表面涂料,基于(聚)酮亚胺以及不饱和丙烯酸酯树脂或聚乙酰乙酸酯树脂或甲基丙烯酰氨基甘醇酸甲酯;
6.双组分表面涂料,基于含羧基-或胺基团的聚丙烯酸酯和聚环氧化物,特别是基于含羧基基团聚丙烯酸酯和聚环氧化物;
7.双组分表面涂料,基于含酸酐基团的丙烯酸酯树脂和多羟基或多胺组分,特别是多羟基组分;
8.双组分表面涂料,基于含丙烯酸酯的酸酐和聚环氧化物;
9.双组分表面涂料,基于(聚)唑啉和含酸酐基团的丙烯酸酯树脂或不饱和丙烯酸酯树脂,或脂族或芳族异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯;
10.双组分表面涂料,基于不饱和(聚)丙烯酸酯和(聚)丙二酸酯;
11.单组分环氧树脂表面涂料
12.双组分表面涂料,基于含硫醇基团的丙烯酸酯-、聚酯-或聚醚-树脂和聚环氧化物。
13.双固化体系,首先通过碱催化热交联,随后通过紫外辐照-进行固化——反之亦然——其中表面涂料组合物的组分包含由紫外光和光引发剂和/或通过电子束辐照诱导发生反应的双键。
特别感兴趣作为碱催化可固化组分(c)的是
1.双组分聚氨酯表面涂料,基于含羟基基团丙烯酸酯、聚酯或聚醚树脂,和脂族或芳族异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯;
2.双组分聚氨酯表面涂料,基于含硫醇基团丙烯酸酯、聚酯-或聚醚树脂,和脂族或芳族异氰酸酯、异氰脲酸酯或多异氰酸酯;
3.双组分表面涂料,基于含羧基-或胺基团的聚丙烯酸酯和聚环氧化物,特别是基于含羧基基团的聚丙烯酸酯和聚环氧化物;
4.单组分环氧树脂表面涂料
双组分表面涂料,基于含硫醇基团的丙烯酸酯-聚酯或聚醚树脂和聚环氧化物。
也可以,在本发明方法中,作为物质组合物,采用(b)和(c)的混合物并且还采用潜光催化剂(a1)与(a2)的混合物,只要催化剂被不同波长的辐射活化(即,被选择地激活)。
感兴趣的是这样的如上所述方法,其中
潜光催化剂(a)是至少一种潜光碱催化剂(a2)与至少一种潜光酸催化剂(a1)的混合物,且其中
物质组合物包含酸催化可固化化合物(b)和碱催化可固化化合物(c)的混合物,条件是(a1)和(a2)选择地活化。
另外,自由基可聚合组分可存在于本发明物质组合物中。例子是(甲基)丙烯酸酯化合物,可举出的例子是(甲基)丙烯酸酯,尤其是多官能醇,尤其是除了羟基基团之外不含任何其它官能团或仅含醚基团的那些,的丙烯酸酯。此类醇的例子是双官能醇,例如,乙二醇和丙二醇,以及缩合度较高的同类化合物,例如,二甘醇、三甘醇、二丙二醇和三丙二醇等,丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、烷氧基化酚类化合物,例如,乙氧基化和丙氧基化双酚、环己烷二甲醇、官能度等于或大于3的醇,例如,甘油、三羟甲基丙烷、丁三醇、三羟甲基乙烷、季戊四醇、二(三羟甲基丙烷)、二季戊四醇、山梨糖醇、甘露糖醇和对应烷氧基化醇,尤其是乙氧基化和丙氧基化醇。
烷氧基化产物可按照公知的方式通过上面提到的醇与氧化烯,尤其是环氧乙烷或环氧丙烷起反应制取。每个羟基基团的烷氧基化度优选介于0~10;换句话说,1mol羟基基团可优选地以最高10mol氧化烯进行烷氧基化。
其它(甲基)丙烯酸酯化合物是聚酯(甲基)丙烯酸酯,它是聚酯醇的丙烯酸酯。
合适的聚酯醇的例子是可通过多羧酸,优选二羧酸,与多元醇,优选二醇,进行酯化制备的那些。此类含羟基聚酯的起始材料乃是本领域技术人员公知的。作为二羧酸,优选采用琥珀酸、戊二酸、己二酸、癸二酸和邻苯二甲酸,其异构体和氢化产物,以及可酯化的衍生物,例如,所述酸的酸酐或二烷基酯。合适的多元醇是上面提到的醇,优选乙二醇、1,2-和1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇和乙二醇和丙二醇类型的聚二醇。
聚酯(甲基)丙烯酸酯可分多段或在1段中,正如,例如,EP 279303中所述,由丙烯酸、聚羧酸和多元醇制备。
其它例子是环氧或氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。
环氧(甲基)丙烯酸酯的例子是可通过环氧化烯烃或多-和/或二缩水甘油基醚,例如,双酚A二缩水甘油基醚,与(甲基)丙烯酸起反应制取的那些。该反应乃是本领域技术人员公知的并且描述在,例如,R.Holmann,U.V.and E.B.Curing Formulation for Printing Inks andPaints.London 1984。氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,特别是,(甲基)丙烯酸羟烷基酯与多-和/或二异氰酸酯的反应产物(仍参见R.Holmann,U.V and E.B.Curing Formulation for Printing Inks and Paints.London1984)。
当然,也可使用上面描述的不同自由基可聚合化合物的混合物,包括,特别是,上述(甲基)丙烯酸化合物的混合物。
该可光聚合混合物,除了包含潜光催化剂(a)之外,还可包含各种添加剂(h)。
其例子是热抑制剂(=热阻聚剂),旨在防止过早聚合,例如,氢醌、氢醌衍生物、对甲氧基酚、β-萘酚或空间位阻酚,例如,2,6-二(叔丁基)对甲酚,或4-羟基-2,2,6,6-四甲基-哌啶-1-氧基(对羟基-tempo)、双(2,2,6,6-四甲基-1-氧基-4-哌啶基)-癸二酸酯和1-甲基-8-(2,2,6,6-四甲基-1-氧基-4-哌啶基)-癸二酸酯。为了延长黑暗贮存稳定性,可使用,例如,铜化合物,例如,环烷酸铜、硬脂酸铜或辛酸铜、磷化合物,例如,三苯膦、三丁基膦、亚磷酸三乙酯、亚磷酸三苯酯或亚磷酸三苄酯,季铵化合物,例如,四甲基氯化铵或三甲基苄基氯化铵或羟胺衍生物,例如,N-二乙基羟胺。
作为其它添加剂,可在组合物中加入光稳定剂(e)。例子是紫外吸收剂,例如,羟苯基苯并三唑、羟苯基二苯酮、草酸酰胺或羟苯基-s-三嗪类型的那些。此类化合物可单独使用或者以混合物形式,配合使用或不使用空间位阻胺(HALS)皆可。此类紫外吸收剂和光稳定剂(e)的例子是
1.2-(2′-羟苯基)-苯并三唑,例如,2-(2′-羟基-5′-甲基苯基)-苯并三唑、2-(3′,5′-二叔丁基-2′-羟苯基)-苯并三唑、2-(5′-叔丁基-2′-羟苯基)-苯并三唑、2-(2′-羟基-5′-(1,1,3,3-四甲基丁基)-苯基)-苯并三唑、2-(3′,5′-二叔丁基-2′-羟苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(3′-仲丁基-5′-叔丁基-2′-羟苯基)-苯并三唑、2-(2′-羟基-4′-辛氧基苯基)-苯并三唑、2-(3′,5′-二叔戊基-2′-羟苯基)-苯并三唑、2-(3′,5′-双(α,α-二甲基苄基)-2′-羟苯基)苯并三唑,以下组分的混合物:2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-辛氧基羰基乙基)-苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(3′-叔丁基-5′-[2-(2-乙基己氧基)-羰基乙基]-2′-羟苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-甲氧基羰基乙基)-苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-甲氧基羰基乙基)-苯基)-苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-辛氧基羰基乙基)-苯基)苯并三唑、2-(3′-叔丁基-5′-[2-(2-乙基己氧基)-羰基乙基]-2′-羟苯基)苯并三唑、2-(3′-十二烷基-2′-羟基-5′-甲基苯基)-苯并三唑和2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-异辛氧基羰基乙基)-苯基-苯并三唑、2,2′-亚甲基-双-[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-苯并三唑-2-基-苯酚];2-[3′-叔丁基-5′-(2-甲氧基羰基乙基)-2′-羟苯基]-苯并三唑与聚乙二醇300的酯交换产物;[R-CH2CH2-COO(CH2)3]2-,其中R=3′-叔丁基-4′-羟基-5′-2H-苯并三唑-2-基-苯基。
2.2-羟基二苯酮,例如,4-羟基、4-甲氧基、4-辛氧基、4-癸氧基、4-十二烷氧基、4-苄氧基、4,2′,4′-三羟基或2′-羟基-4,4′-二甲氧基衍生物。
3.未取代或取代的苯甲酸的酯,例如,4-叔丁基-苯基的水杨酸酯、水杨酸苯酯、水杨酸辛基苯酯、二苯甲酰间苯二酚、双(4-叔丁基苯甲酰)间苯二酚、苯甲酰间苯二酚、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸2,4-二叔丁基苯基酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十六烷基酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十八烷基酯和3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸2-甲基-4,6-二叔丁基-苯酯。
4.丙烯酸酯,例如,α-氰基-β,β-二苯基丙烯酸乙酯或异辛酯,α-甲氧基羰基肉桂酸甲酯、α-氰基-β-甲基-对甲氧基肉桂酸甲酯或丁酯、α-甲氧基羰基-对甲氧基肉桂酸甲酯和N-(β-甲氧基羰基-β-氰基乙烯基)-2-甲基二氢吲哚。
5.空间位阻胺,例如,双(2,2,6,6-四甲基哌啶基)癸二酸酯、双(2,2,6,6-四甲基哌啶基)琥珀酸酯、双(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)癸二酸酯、正丁基-3,5-二叔丁基-4-羟苄基-丙二酸双(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)酯、1-羟乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶与琥珀酸的缩合产物、N,N′-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)六亚甲基二胺与4-叔辛基氨基-2,6-二氯-1,3,5-s-三嗪的缩合产物、三(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)次氮基三乙酸酯、四(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)1,2,3,4-丁烷四甲酸酯、1,1′-(1,2-乙二基)-双(3,3,5,5-四甲基哌嗪酮)、4-苯甲酰基-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-十八烷氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、双(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-2-正丁基-2-(2-羟基-3,5-二叔丁基苄基)丙二酸酯、3-正辛基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮杂螺[4.5]癸烷-2,4-二酮、双(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶基)癸二酸酯双(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶基)琥珀酸酯、N,N′-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)六亚甲基二胺与4-吗啉代-2,6-二氯-1,3,5-三嗪的缩合产物、2-氯-4,6-二(4-正丁基氨基-2,2,6,6-四甲基哌啶基)-1,3,5-三嗪与1,2-双(3-氨丙基氨基)乙烷的缩合产物、2-氯-4,6-二(4-正丁基氨基-1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-1,3,5-三嗪与1,2-双(3-氨丙基氨基)乙烷的缩合产物、8-乙酰-3-十二烷基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮杂螺[4.5]癸烷-2,4-二酮、3-十二烷基-1-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-吡咯烷-2,5-二酮、3-十二烷基-1-(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-吡咯烷-2,5-二酮、2,4-双[N-(1-环己氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)-正丁基氨基]-6-(2-羟乙基)氨基-1,3,5-三嗪,和2,4-双[1-环己氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)丁基氨基]-6-氯-s-三嗪与N,N′-双(3-氨丙基)乙二胺的缩合产物。
正如本领域技术人员公知的,位阻胺的类型和浓度必须小心地选择(如果本发明方法采用潜光酸作为潜光催化剂的话),以防止固化过程受到抑制。
6.草酸二酰胺,例如,4,4′-二辛氧基-草酰二苯胺、2,2′-二乙氧基-草酰二苯胺、2,2′-二辛氧基-5,5′-二叔丁基草酰二苯胺、2,2′-双十二烷氧基-5,5′-二叔丁基草酰二苯胺、2-乙氧基-2′-乙基草酰二苯胺、N,N′-双(3-二甲基氨丙基)草酰胺、2-乙氧基-5-叔丁基-2′-乙基草酰二苯胺及其与2-乙氧基-2′-乙基-5,4′-二叔丁基草酰二苯胺的混合物,以及邻-和对-甲氧基-的和邻-和对乙氧基-二取代的草酰二苯胺的混合物。
7.2-(2-羟苯基)-1,3,5-三嗪,例如,2,4,6-三(2-羟基-4-辛氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羟基-4-辛氧基苯基)-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2,4-二羟苯基)-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(2-羟基-4-丙氧基苯基)-6-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羟基-4-辛氧基苯基)-4,6-双(4-甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羟基-4-十二烷氧基苯基)-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羟基-4-(2-羟基-3-丁氧基-丙氧基)-苯基]-4,6-双(2,4-二甲基-苯基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羟基-4-(2-羟基-3-辛氧基-丙氧基)-苯基]-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪和2-[4-十二烷氧基/十三烷氧基-(2-羟丙基)氧基-2-羟苯基]-4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪。
8.亚磷酸酯和亚膦酸酯,例如,亚磷酸三苯酯、亚磷酸二苯基烷基酯、亚磷酸苯基二烷基酯、亚磷酸三(壬基苯基)酯、亚磷酸三月桂酯、亚磷酸三(十八烷基)酯、二(十八烷基)-季戊四醇的二亚磷酸酯、亚磷酸三(2,4-二叔丁基苯基)酯、二异癸基季戊四醇的二亚磷酸酯、双(2,4-二叔丁基苯基)季戊四醇的二亚磷酸酯、双(2,6-二叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇的二亚磷酸酯、双-异癸氧基-季戊四醇二亚磷酸酯、双(2,4-二叔丁基-6-甲基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、双(2,4,6-三叔丁基苯基)-季戊四醇二亚磷酸酯、三(十八烷基)山梨糖醇的三亚磷酸酯、四(2,4-二叔丁基苯基)-4,4′-联亚苯基二亚膦酸酯、6-异辛氧基-2,4,8,10-四叔丁基-12H-二苯并[d,g]-1,3,2-二氧杂磷杂环辛烯(dioxaphosphocine)、6-氟代-2,4,8,10-四叔丁基-12-甲基-二苯并[d,g]-1,3,2-二氧杂磷杂环辛烯、双(2,4-二叔丁基-6-甲基苯基)甲基亚磷酸酯和双(2,4-二叔丁基-6-甲基苯基)乙基亚磷酸酯。
9.其它无机化合物,例如,纳米-二氧化钛
适合作为组分(e)的紫外吸收剂和光稳定剂的例子还包括“Krypto-UVA”,描述在,例如,EP 180 548中。也可以使用潜伏紫外吸收剂,正如,例如,Hida等人在“RadTech Asia 97”1997,p.212所描述的。
光稳定剂(e)在制剂中的比例是,例如,介于0.01~10wt%,例如,0.05~5wt%,尤其是0.1~5wt%,以基料固体为基准计。要使用的浓度随涂布的层厚而变化。层越薄,选择的组分(e)的浓度必须越高。这乃是本领域技术人员公知的并且广泛地描述在文献中。
其它技术上惯用的添加剂,例如,抗静电剂、流动改进剂和增粘剂,也可使用。
也可在组合物中加入技术上惯用的链转移试剂。例子是硫醇、胺和苯并噻唑。
固化操作,尤其是着色组合物(例如,用二氧化钛着色的)的固化操作,可通过,作为附加添加剂(h),在热条件下加入生成自由基的组分来加速,例如加入,偶氮化合物,例如,2,2′-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、三氮烯、苯并噻二唑、五氮二烯或过氧化合物,例如,氢过氧化物或过氧碳酸酯,例如,叔丁基氢过氧化物,正如在,例如,EP 245 639中描述的。
也可加入,作为添加剂(h),用于提高机械稳定性的纳米颗粒形式的添加剂,例如,提高抗划痕能力。例子公开在EP114917中。
其它惯用添加剂(h)——按照预期用途——是荧光增白剂、填料、颜料、白色和彩色颜料、染料、抗静电剂、润湿剂和流动改进剂。
在固化厚并着色的涂层的情况下,加入玻璃微球或粉碎的玻璃纤维,正如在,例如,US 5 013 768中公开的,是适合的。
添加剂的选择取决于预期的应用领域以及该领域所要求的性能。上面描述的添加剂(h)是技术上惯用的,其用量也按技术上的惯例。
该附加添加剂(h)在本发明制剂中的比例是,例如,0.01~10wt%,例如,0.05~5wt%,尤其是0.1~5wt%。
交联可通过加入能移动或拓宽光谱敏感性的光敏剂(f)而加速。此类光敏剂尤其是芳族羰基化合物,例如,二苯酮衍生物、噻吨酮衍生物,尤其是异丙基噻吨酮、蒽醌衍生物和3-酰基香豆素衍生物,三联苯、苯乙烯基酮,以及3-(芳酰基亚甲基)-噻唑啉、樟脑醌,还有曙红、若丹明和四碘荧光素染料。
上面提到的胺,例如,也可考虑作为光敏剂。
此类光敏剂的其它例子是
1.噻吨酮
噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、3-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-十二烷基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、1-甲氧基羰基噻吨酮、2-乙氧基羰基噻吨酮、3-(2-甲氧基乙氧基羰基)-噻吨酮、4-丁氧基羰基噻吨酮、3-丁氧基羰基-7-甲基噻吨酮、1-氰基-3-氯噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-氯噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-乙氧基噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-氨基噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-苯基硫酰噻吨酮、3,4-二[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基羰基]噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-(1-甲基-1-吗啉代乙基)-噻吨酮、2-甲基-6-二甲氧基甲基-噻吨酮、2-甲基-6-(1,1-二甲氧基苄基)-噻吨酮、2-吗啉代甲基噻吨酮、2-甲基-6-吗啉代甲基噻吨酮、N-烯丙基噻吨酮-3,4-二羧胺(dicarboximide)、N-辛基-噻吨酮-3,4-二羧胺、N-(1,1,3,3-四甲基丁基)-噻吨酮-3,4-二羧胺、1-苯氧基噻吨酮、6-乙氧基羰基-2-甲氧基噻吨酮、6-乙氧基羰基-2-甲基噻吨酮、噻吨酮-2-聚乙二醇酯、2-羟基-3-(3,4-二甲基-9-氧代-9H-噻吨酮-2-基氧基)-N,N,N-三甲基-1-丙铵氯化物;
2.二苯酮
二苯酮、4-苯基二苯酮、4-甲氧基二苯酮、4,4′-二甲氧基二苯酮、4,4′-二甲基二苯酮、3-甲基-4′-苯基-二苯酮、2,4,6-三甲基-4′-苯基-二苯酮、4,4′-二氯二苯酮、4,4′-二甲基氨基二苯酮、4,4′-二乙基氨基二苯酮、4-甲基二苯酮、2,4,6-三甲基二苯酮、4-(4-甲基硫代苯基)-二苯酮、3,3′-二甲基-4-甲氧基二苯酮、2-苯甲酰-苯甲酸甲酯、4-(2-羟乙基硫代)-二苯酮、4-(4-甲苯基硫代)二苯酮、4-苯甲酰-N,N,N-三甲基苯甲铵氯化物、2-羟基-3-(4-苯甲酰苯氧基)-N,N,N-三甲基-1-丙铵氯化物一水合物、4-(13-丙烯酰-1,4,7,10,13-五氧杂十三烷基)-二苯酮、4-苯甲酰-N,N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基)乙基苯甲铵氯化物、2,4,6-三甲基-4′-苯基-二苯酮、3-甲基-4′-苯基-二苯酮;
3.3-酰基香豆素
3-苯甲酰香豆素、3-苯甲酰-7-甲氧基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二(丙氧基)香豆素、3-苯甲酰-6,8-二氯香豆素、3-苯甲酰-6-氯代香豆素、3,3′-羰基-双[5,7-二(丙氧基)香豆素]、3,3′-羰基-双(7-甲氧基香豆素)、3,3′-羰基-双(7-二乙基氨基香豆素)、3-异丁酰香豆素、3-苯甲酰-5,7-二甲氧基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二乙氧基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二丁氧基香豆素、3-苯甲酰-5,7-二(甲氧基乙氧基)-香豆素、3-苯甲酰-5,7-二(烯丙氧基)香豆素、3-苯甲酰-7-二甲基氨基香豆素、3-苯甲酰-7-二乙基氨基香豆素、3-异丁酰-7-二甲基氨基香豆素、5,7-二甲氧基-3-(1-萘甲酰)-香豆素、5,7-二甲氧基-3-(1-萘甲酰)-香豆素、3-苯甲酰苯并[f]香豆素、7-二乙基氨基-3-噻吩甲酰香豆素、3-(4-氰基苯甲酰)-5,7-二甲氧基香豆素;
4.3-(芳酰基亚甲基)-噻唑啉
3-甲基-2-苯甲酰亚甲基-β-萘并噻唑啉、3-甲基-2-苯甲酰亚甲基-苯并噻唑啉、3-乙基-2-丙酰亚甲基-β-萘并噻唑啉;
5.其它羰基化合物
乙酰苯、3-甲氧基乙酰苯、4-苯基乙酰苯、偶苯酰、2-乙酰萘、2-萘醛、9,10-蒽醌、9-芴酮、二苯并环庚酮、呫吨酮、2,5-双(4-二乙基氨基苄叉)环戊酮、α-(对二甲基氨基苄叉)酮,例如,2-(4-二甲基氨基-苄叉)-吲哚-1-酮或3-(4-二甲基氨基-苯基)-1-吲哚-5-基-丙烯酮、3-苯基硫代邻苯二甲酰亚胺、N-甲基-3,5-二(乙基硫代)邻苯二甲酰亚胺。
本发明制剂中的敏化剂(f)的比例是,例如,0.01~10wt%,例如,0.05~5wt%,尤其是0.1~5wt%。
该制剂还可包含染料和/或白色或彩色颜料(g)。无机或有机颜料都可使用。此类添加剂乃是本领域技术人员公知的,其某些例子是二氧化钛颜料,例如,金红石或锐钛矿型的,炭黑、氧化锌、例如,锌白、氧化铁如氧化铁黄、氧化铁红、铬黄、铬绿、镍钛黄、群青蓝、钴蓝、钒酸铋、镉黄和镉红。有机颜料的例子是单-或双-偶氮颜料,还有其金属络合物,酞菁颜料、多环颜料,例如,苝、蒽醌、硫靛蓝、喹吖酮或三苯甲烷颜料,还有二酮-吡咯并吡咯、异吲哚满酮,例如,四氯异吲哚满酮、异吲哚啉、二嗪、苯并咪唑啉酮和喹酞酮颜料。颜料可单独或以混合物形式用于制剂中。视预期用途而定,颜料在制剂中以惯用数量加入,例如,数量介于0.1~60wt%,0.1~30wt%或10~30wt%,以总质量为基准计。
该制剂还可,例如,包含多种多样有机染料。例子是偶氮染料、次甲基染料、蒽醌染料和金属络合物染料。惯用浓度是,例如,0.1~20%,尤其是1~5%,以总质量为基准计。
本发明方法特别适合固化和进一步加工着色的制剂。因此,优选这样的方法,其中含光催化剂的物质组合物另外包含染料或颜料(g)。优选的是,所述制剂是碱催化固化制剂。
视所用制剂而定,也可使用,作为稳定剂,能中和酸的化合物,尤其是胺。合适的体系描述在,例如,JP-A 11-199610。例子是吡啶和其衍生物、N-烷基-或N,N-二烷基苯胺、吡嗪衍生物、吡咯衍生物等。
本发明还涉及这样的如上所述方法,其中该组合物除了包含潜光组分(a)以外,还包含其它添加剂(h)、敏化剂化合物(f)和/或染料或颜料(g)。
也感兴趣的是这样的如上所述方法,其中该组合物包含,作为其它添加剂(e),至少一种光稳定剂和/或至少一种紫外吸收剂化合物。
另外,该组合物可包含填料材料、透明填料,而且也包含光学不透明的材料。就此而论,光学不透明指的是对用于激活催化剂的辐照不透明。例子是织物、帆布、组织、纤维长丝,既包括天然也包括合成类,例如,聚合物、尼龙、聚酯等,增强材料、腻子、玻璃、炭黑等。
按照本发明方法,含潜光催化剂的所述组合物先以辐照活化,随后再进一步加工和固化。然而,也可这样固化包含上述填料或颜料或染料或其它添加剂之一或多种但不一定包含潜光催化剂的物质组合物,即,将上述“充填的”和任选光学不透明的组合物,即,一种不透明糊料混合到透明组合物中,后者包含潜光催化剂并已在混合之前通过辐照激活了。
换句话说,在本发明方法中,包含潜光催化剂的物质组合物(光学上辐射透明)经辐照以后,将另一种可固化组合物,例如,包含光学不透明填料或添加剂的,混入其中,然后所获得的混合物通过以前激活的组合物实现固化。
也可在通过辐照步骤激活了潜光催化剂物质组合物以后,向其中混入其它添加剂或组分。上述组合物随后可施涂到基材上或者以其它方式进一步加工。
适合辐照物质组合物的辐射源是这样的辐射源,它发射波长大致介于150~1500,例如,180~1000,或者优选地190~700nm的辐射、电子束(e-束)辐射和高能电磁辐射如X-射线,乃至微波辐射。点光源和扁平形聚光灯(灯罩)是适合的。例子是:碳弧灯,氙弧灯、中压、高压和低压汞灯,任选掺杂金属卤化物(金属卤化物灯)、微波激励金属蒸汽灯、激发体灯、超锕系元素荧光管、荧光灯、氩丝灯、电子闪光灯、闪光灯、摄影泛光灯、冷扁平瓦状紫外-可见光源(例如,EXFO光子方案)、电子束和借助同步加速器或激光等离子体发生的X-射线束。辐射源与被辐照物质组合物之间的距离可根据预期用途和辐射源类型和/或强度在2cm~150cm之间变化。合适的辐射源尤其是汞蒸汽灯,特别是中和高压汞灯,从其辐射中可滤除其它波长的发射线。在较短波长辐射情况下尤其如此。然而,也可以使用能发射适当波长范围的低能灯(例如,荧光管),例如,Philips TL03灯。可使用的另一类型辐射源是能在整个光谱范围的不同波长发射的发光二极管(LED),或者作为窄带辐射源或者作为宽带(白光)源。合适的还有激光辐射源,例如,准分子激光器,例如,Kr-F激光器用于在248nm的辐照,Ar-F激光器在193nm,或F2激光器在157nm。在可见光范围和红外光范围的激光器也可使用。作为光源,另外的在13nm的EUV(远紫外)也适合。合适的激光束源是,例如,氩离子激光器,它发射454、458、466、472、478、488和514nm波长的辐射。发射1064nm及其第二和第三谐波(分别为532nm和355nm)光的Nd-YAG激光器也可使用。合适的还有,例如,具有在442nm的发射的氨/镉激光器,或发射紫外范围的激光器。另外,较低强度的辐射也适合。此类辐射包括,例如,日光和相当于日光的光源。日光在光谱组成和强度上不同于紫外固化中惯用的人造辐射源。本发明化合物的吸收特性也适合用来开发利用日光作为固化辐射用自然光源。可用于活化本发明化合物的日光-等效的人造光源应理解为低强度聚光灯,例如,某些荧光灯,例如,Philips TL05特殊荧光灯或Philips TL09特殊荧光灯。也可通过以等离子体气体处理实现固化。在真空条件下获得等离子体的可能途径常常见诸于文献中。
对该物质组合物的辐照可,例如,直接实施,然而也可在透明层(例如,玻璃板或塑料板)后面进行。
物质组合物先接受辐照,然后再将所述组合物施涂到基材上,或者对所述组合物进行进一步加工,可例如这样实施:径直辐照制备或贮存组合物的容器中的该组合物。此种情况下的辐射源设置在,例如,容器的上方,例如,在搅拌器处。另一种可能性是采用透明容器,例如,玻璃或塑料制成的,然后直接透过容器辐照该组合物。就本发明而言的透明指的是,用于活化的辐射能透过该材料。在此种情况下,辐射源位于容器的外部。该容器可从外面覆盖以,例如,灯罩。
另一种辐照物质组合物的实施方案是将灯直接放入到制剂中,例如,通过以透明容器保护该灯并将所述容器放入到装有待辐照制剂的容器中。也可以将辐射源结合到制备制剂用的设备的一部分中,例如,在搅拌器中。另外,辐照可采用浸没到制剂中的光导管来实施。
另外,装有待辐照物质组合物的容器可放入到备有适当辐照源或几个辐照源的室内,例如,放在室的顶部,或者在顶部和一个在顶部并且仅几个或全部在侧板上,或者甚至全都在侧板,甚至包括,在装有组合物的容器是透明的情况下,放在底部。
另外,辐照可在制剂临施涂到基材上之前实施,例如,可采用具有透明吸入管的喷涂装置和在所述管透明部分的顶部设置适当辐照源。辐照源也可放在喷枪的出口以后,以便辐照喷雾蒸汽。另外,辐照源可放在喷涂装置的喷嘴内或外面。
本领域技术人员公知的适当辐照装置是,例如,浸没井式设备,正如,例如,Ace反应器,由,例如,Sigma-Aldrich出品,merry-go-round光反应器、圆环式辐照设备,例如,Rayonette光化学反应器,穿流式光化学反应器(例如,J.Cooke,G.Austin,M.J.McGarrity,WO 9635508),曝光室如由Luzchem Inc.提供的,具有顶部辐照曝光(例如,LuzchemLZC-1/LCZ-PAP),侧面辐照曝光(例如,Luzchem LZC-5/LCZ-ORG),或者顶面辐照曝光(例如,Luzchem LZC-4V);多灯式设备,釜式光反应器,具有悬浮在反应混合物中的发光装置的光反应器(例如,JP59059246 A2),钢光化学反应器(例如,L.Teodorescu,G.Musca,E.Mocanu,H.Culetu,N.Rada,RO 93292 B1)、流动反应器(例如,D.W.Clark等人,lcarus 200,147,282)、降膜式光反应器(例如,H.Ehrich等人,Chimia 2002,56,647)、喷泉光反应器、摆动流动反应器、牵拉管挡板光反应器、连续环形光反应器、半连续光化学反应器(例如,M.Herbert,J.Ollivier,G.Fremy,WO 202081080 A1)、管式光反应器(例如,A.Tkac,CS 249894 B1)、薄膜级联光反应器、高通量激光光化学反应器(例如,L.M.Gantayet,S.Sethi,Adv.Chem.Eng.Nucl.ProcessInd.1994,146)、微制造光反应器(H.Lu等人,Lab on a Chip2001,1,22)、小规模反应器(James E.Gano,Andrew J.Gano,PatriciaGarry,and Padmanabhan Sekher,J.Chem Edu.2002,79(11)1361)、平台反应器。
一篇关于现有光反应器的综述发表在,例如,A.M.Braun,M.-T.Maurette,E.Oliveros,“Photochemical Technology”,Wiley,Chchester,West Sussex,England/New York 1993;A.M.Braun,M.-T.Maurette,E.Oliveros,D.F.Ollis,N.Serpone,“Industrial Photochemistry”,M.L.Viriot,J.C.André,A.M.Braun,eds.,CPIC-ENSIC,Nancy,1990,Vol.A,253-301“Photochemical reactors”;或者在NATO Advanced StudyInstitute在″Chemical Reactor Design and Technologies, Hugo I.De Lasa(Editor),North Atlantic Treaty Organization Scientific AffairsDivision,上的“Chemical Reactor Design and Technology:Overview ofthe New Developments of Energy and Photochemical ReactorTechnologies.Projections for the 90′s”.光反应器工程设计基础发表在J.Costa Lopez,Afinidad 1977,34(343),19.一篇有关光化学反应器工程设计原理的讨论还可参见L.Rizzuti,A.Brucato,NATO ASI Series,Series C:Mathematical and Physical Sciences(1988),237,623。
本发明的一种实施方案也可以是这样一种方法,按此法,辐照是在烧瓶、罐、泵回路、在连续辐照装置中、在蒸发器出口,在喷枪外部或内部,在导管或在喷墨印刷机中实施的。
特别是,该物质组合物直接在储罐中辐照,随后接受进一步加工。
光化学活化既可按间歇也可按连续方式实施。
因此,本发明另一个主题是一种方法,其特征在于,它通过用泵将一种含潜光催化剂(a)的物质组合物由储罐经入口管道穿过一个辐射源直接送到喷涂装置而连续地进行。
制剂的辐照与固化之间的时间间隙(此间隙允许采取其它加工步骤)可在0.1s~几天之间调节,例如,7天,优选介于1s~24h,最优选介于2s~8h。
该时间间隙可根据潜光催化剂、敏化剂、辐照源和制剂组分的恰当选择和组合加以调节。因此,本发明还涉及一种方法,其中在物质组合物辐照以后经0.5s~7天实施进一步加工。
优选的是,本发明方法作为基材施涂的方法实施,其中
(A)一种组合物,包含
(b)酸催化固化组分和
(a1)如上所定义的潜光酸化合物;
或者
(B)一种组合物,包含
(c)碱催化固化组分和
(a2)如上所定义的潜光碱化合物;
或者(A)与(B)的混合物
接受电磁辐射,特别是紫外光的辐照,随后被施涂到基材上。
优选的是,本发明方法中的物质组合物是一种漆制剂,或任选地是一种粘合剂制剂,包含多元醇与异氰酸酯的组合以及,作为潜光催化剂,一种潜光碱(a2),后者具有通式VIII、VIIIa和VIIIb
Figure A20058002481400481
其中r是0或1;
X4是CH2或O;
R2和R3彼此独立地是氢或C1~C20烷基;
R1是未取代的或C1~C12烷基-或C1~C12烷氧基取代的苯基、萘基或联苯基;
R20、R30和R40连同连接氮原子一起是以下结构式的基团
Figure A20058002481400482
阴离子是能形成盐的任何阴离子;并且
m是分子中的带正电荷的N-原子数。
合适的多元醇和异氰酸酯一般如同上面所述。粘合剂制剂的优选、合适的多元醇和异氰酸酯将在下文中给出。
感兴趣的又是一种潜光催化剂(a)的使用方法,其中包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照,然后再进一步加工,其中该物质组合物是一种漆制剂,或任选地是一种粘合剂制剂,包含环氧化物组分和,作为潜光催化剂,一种潜光碱(a2),后者具有通式VIIIa
Figure A20058002481400483
其中
r是0或1;
X4是CH2或O;
R1是未取代的或C1~C12烷基-或C1~C12烷氧基取代的苯基、萘基或联苯基;
R20、R30和R40连同连接氮原子一起是结构式(a)、(b)或(c)的基团
R35是氢或C1~C18烷基;
阴离子是能形成盐的任何阴离子;并且
m是分子中的带正电荷的N-原子数。
合适的环氧化物组分如上面描述。优选双酚A型环氧化物。
涉及漆和粘合剂制剂的上述方法中的物质组合物优选是一种粘合剂。
上面已经提到的本发明方法也可用于粘合剂的施涂,例如,层压、结构或压敏粘合剂,例如,压敏热熔粘合剂。特别是也可用于不透明基材的层压方法中,其中可先实施粘合剂制剂以光辐照的活化,随后再将待层压的2部分合在一起。典型的粘合剂组合物是一种酸催化的或碱催化的可固化制剂,基于环氧组分或异氰酸酯组分,形成聚氨酯。合适的环氧和异氰酸酯型组分,以及对应潜光碱和潜光酸已在上面描述过。
合适的聚氨酯粘合剂,也适合本发明方法的例子在US 2005/027091中给出。所述制剂包含(a)官能度小于或等于3的脂族或脂环族多异氰酸酯,以及(b)≥1的聚丙二醇和聚丙二醇三醇的混合物(二醇OH基团数目与三醇OH基团数目之比<10并且NCO基团数目与OH基团数目之比为0.95<n<1.05,其中分子量≤1000的二醇与分子量≥1000的三醇一起使用,并且分子量>1000的二醇与分子量<1000的三醇一起使用。向所述组合物中加入一种如上所述潜光催化剂,其用量如上所述。
更合适的聚氨酯类制剂公开在,例如,US 2004/265529、US2005/01 9560、WO 04/055087、US 6596787中。
还有,单组分聚氨酯粘合剂,如公开在WO 03/050155中,可按照本发明方法采用上面描述的潜光碱作为胺催化剂来制备。
因此,感兴趣的又是一种使用潜光催化剂(a)的方法,其中物质组合物是一种粘合剂。感兴趣的又是这样的如上面描述的方法,其中潜光催化剂是一种潜光碱(a2),且物质组合物是一种碱催化可固化化合物(c)。
本发明中所描述的方法也可反复地应用。在如此应用中,本发明第一组合物通过辐照而活化,随后根据需要进一步加工。接着,在同一施涂中,第二组合物被活化并进一步加工。该过程可根据要求重复多次,即,通常所谓的湿碰湿方法。不同步骤中使用的潜光催化剂可相同或不同并且每个步骤可独立地是潜光酸或者是潜光碱。同样,不同步骤中的碱催化或酸催化可固化组分在每一步骤中也可相同或不同。此种施涂的例子例如是多层涂布,其中例如,第一涂层作为底漆被施涂到载体材料上,随后是第二层,后者可包含颜料,而在其上是第三层,它是一个保护透明涂层。在所有层都被施涂后,该体系例如通过加热被固化。鉴于当下一层施涂时前面的层尚未完全固化,因此在层与层之间的界面处可能发生不同涂料的一定程度混合,从而改进了不同层之间的附着力。在此种多步程序中,不一定要求每个层都是按照本发明活化的涂层。也可以,例如,加上仅一个活化的层,和另外一个不带催化剂的层。随后,该活化的层可起一种基料或粘合剂的作用,正如前面所提到的那种。
在本发明另一种实施方案中,反复应用该方法,在每一重复步骤中光催化剂可与其它步骤相同或不同,并且独立地是潜光酸和/或潜光碱。
在所述重复过程中,在组合物活化和施涂之后不一定要求进行进一步的加工步骤,例如,固化。每种单一制剂可依次被活化和施涂,并最后在一个步骤中实施所有涂层的固化。但是,也可以在活化和施涂后、施涂下一个活化涂层之前,直接实施每一涂层的固化。
“活化(的)”在本申请的上下文中是指,包含潜光催化剂的物质组合物经过了辐照,这将使制剂中的潜光催化剂活化。
在如上所述方法中,可以对包含潜光催化剂的组合物(施涂前活化的)实施1步或多步骤,而同时1或多种组合物则可加入高度不透明填料和/或颜料并且仅任选地包含潜光催化剂。这就是说,包含潜光催化剂的第一物质组合物通过辐照而活化并被施涂到基材上,在第一层上面施涂第二物质组合物,后者可与第一组合物相同或不同并任选地包含潜光催化剂,如此等等。在所有要求的涂层施涂以后,实施固化,例如,通过加热或进一步辐照。
本发明方法将重复进行,例如,2~10次,例如,2~5次,或者2~3次。含有大量不透明填料和/或颜料的所述涂层可以糊料形式,即,一种不透明糊料的形式,使用。
本发明的主题又是一种方法,其中进一步的加工是一种采用紫外光和/或加热的附加固化步骤。
本发明另一种实施方案是一种以权利要求1的物质组合物覆盖的基材。
作为本发明方法目标的组合物可用于各种目的,在表面涂层的制备、印刷油墨,例如,丝网印刷墨、凹版-或苯胺印刷墨中,作为罩面清漆、作为白色或彩色罩面漆,例如,用于木材或金属,作为粉末涂料,作为涂料,特别是用于纸、木材、金属或塑料,作为日光可固化涂层用于标记建筑物和路标,作为牙科充填复合材料,作为粘合剂,作为压敏粘合剂,作为层压树脂用于通过本体固化生产三维制品,或者通过注塑生产复合材料(例如,苯乙烯聚酯,后者可以,要求的话,含有玻璃纤维和/或其它纤维和其它辅料)以及其它厚层状组合物,用于包覆或密封电子元件和集成电路,或者作为涂层用于光纤,或用于生产光学透镜,例如,隐形眼镜或菲涅耳透镜。本发明方法中的组合物也适合生产医疗设备、辅料或植入物以及用于制备具有热致性能的凝胶,正如,例如,在DE 19700064和EP 678534中描述的。
按照本发明方法固化的组合物也可,例如,用作修复材料和作为腻子材料使用。
当加工步骤包括印刷或冲压步骤,其中活化的制剂以图像方式被施涂到适当支撑材料上时,可生产结构化的装置。这例如可采用由G.Whitesides研发的软平版印刷技术(例如,Xia,Y.,and G.M.Whitesides,Extending microcontact printing as a microlithographic technique.Langmuir 1997,13,2059-67;Xia,Y.,D.Qin,and G.M.Whitesides,Microcontact printing with a cylindrical rolling stamp:A practical steptoward automatic manufacturing of patterns with submicrometer-sizedfeatures.Adv.Mater.1996,8,1015-17)。如此施涂的制剂随后利用酸或碱催化固化方法进行交联。如此获得的微结构可以,例如,被用于复制技术,例如,图像记录技术,以生产印刷板,作为抗蚀剂、抗焊剂、抗电镀剂或永久抗蚀剂,既包括液体也包括干膜,作为TFT抗蚀剂,用于印刷电路板和电子电路,作为抗蚀剂用于制造滤色器,例如,用于产生红色、绿色和蓝色像素和黑像素;用于各种显示器之用或者在等离子体-显示器板和电致发光显示器制造方法中的各种结构。
本发明方法也可用于制备粉末涂料。
所谓“粉末涂料组合物”或“粉末涂料”是指″Ullmann′sEncyclopedia of Industrial Chemistry,5th,Completely Revised Edition,Vol.A 18″,pages 438 to 444(1991),Section 3.4中描述的定义。所谓粉末涂料是指热塑性或可烘烤、可交联聚合物,可以粉末形式施涂到主要为金属的基材上。使粉末与待涂工件彼此接触的方式是各种不同施涂技术的典型特征,例如,静电粉末喷涂、静电流化床烧结、固定床烧结、流化床烧结、旋转烧结或离心烧结。
按照本发明,粉末涂料制剂先接受活化,然后再施涂。本发明方面涂料组合物用的优选有机成膜基料是基于以下材料的烘烤体系,例如,环氧树脂、聚酯-羟烷基酰胺、聚酯-glycoluril、环氧-聚酯树脂、聚酯-异氰脲酸三缩水甘油酯、羟基官能聚酯-封端的多异氰酸酯、羟基官能聚酯-脲烷二酮、具有硬化剂的丙烯酸酯树脂,或者此类树脂的混合物。
聚酯通常是羟基-或羧基-官能的并且通常通过二醇和二羧酸的缩合制备。通过加入多元醇和/或多元酸,获得一种支化聚酯,随后在交联剂存在下的烘烤过程中,生成能赋予涂层要求的物理性能,例如,抗划痕、冲击强度和挠曲强度的网络结构。替代多官能酸,也可使用酸酐或酰氯,例如,马来酐、衣康酐、邻苯二甲酸酐、对苯二甲酸酐、六氢对苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、均苯四甲酸二酐、琥珀酸酐等。也可采用简单酯,例如,对苯二甲酸二甲酯,例如,在此种情况下,聚合反应通过酯交换反应进行,同时脱除挥发性醇。同样也可实施的是一种由酯交换和缩合组合的制备方法。另外,聚酯可通过羟基羧酸如12-羟基硬脂酸和羟基新戊酸,或者通过对应内酯,例如,ε-己内酯的缩聚来制备。二羧酸和多羧酸的例子包括对苯二甲酸、间苯二甲酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、1,12-十二烷二酸、1,2,4,5-苯四酸3,6-二氯邻苯二甲酸、琥珀酸、1,3-环己烷二羧酸和1,4-环己烷二羧酸。二醇和多元醇的例子包括乙二醇、丙二醇、甘油、己三醇、己烷-2,5-二醇、己烷-1,6-二醇、季戊四醇、山梨糖醇、新戊二醇、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、三-1,4-环己烷二甲醇、三甲基戊二醇、2,2-二乙基-1,3-丙二醇、2-甲基-2-丁基-1,3-丙二醇、酯二醇204(羟基新戊酸和新戊二醇的酯)、氢化双酚A、双酚A、羟基新戊酸、羟基新戊酸酯、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、2-丁烯-1,4-二醇、2-丁炔-1,4-二醇或2-甲基-1,3-丙二醇。
适合羧基-官能聚酯用的交联剂是环氧化合物,例如,Novolac-环氧树脂、双酚A的二缩水甘油基醚、氢化双酚A和改性的双酚A,例如,通过与脂族二羧酸起反应改性。合适的还有反应性环氧化合物,例如,三缩水甘油基三唑烷-3,5-二酮、多元酸的缩水甘油基酯,例如,对苯二甲酸二缩水甘油基酯和六氢对苯二甲酸二缩水甘油基酯、乙内酰脲的环氧化物(US 4,402,983)以及,尤其是,异氰脲酸三缩水甘油基酯、环氧化不饱和脂肪酸酯(例如,Uranox,来自DSM)和Araldit PT910 (Ciba Spezialitten-chemie AG)。用于羧基-官能聚酯的另一些交联剂是β-羟烷基酰胺(US 4,076,917),例如,己二酸的以四官能β-羟烷基酰胺为主的衍生物(Primid XL552,由Rohm & Haas出品)。以低分子量醇烷基化的蜜胺、苯并胍胺和glycoluril的衍生物也证明是合适的。例子是四甲基甲氧基glycoluril(Powderlink 1174,由AmericanCyanamid出品)。另外,双-和三唑烷,例如,1,4-双唑烷基苯,也是公知的交联剂。
较新的是含有化学键合的环氧基团并且因而能与自身交联的羧基官能聚酯(Molhoek等人.,22nd Fatipec Congress,15-19.5.95,Budapest,Vol.1,119-132)。
在所有在交联反应中包括环氧基团或缩水甘油基与羧基基团或与酸酐起反应的体系中,都可采用催化剂。例子是胺或金属化合物,例如,乙酰丙酮酸铝或辛酸锡。多异氰酸酯交联剂作为羟基官能聚酯的交联剂特别重要。为防止由于异氰酸酯的高反应性导致过早交联并为获得熔融粉末优良流平性,多异氰酸酯需进行封端保护(内部呈异氰酸酯二聚体形式,或者作为与封闭剂的加成物)。最常使用的封闭剂是ε-己内酰胺、甲乙基酮肟或丁酮肟。其它适合异氰酸酯使用的封闭剂描述在以下出版物中:G.B.Guise,G.N.Freeland and G.C.Smith,J.Applied Polymer Science, 23,353(1979)以及M.Bock and H.-U.Maier-Westhues在“Progress in Product Development for PowderCoating Technology,XIX th Int.Conf.on Organic Coatings,Scienceand Technol.,Athens,12-16 July″,1993的出版物。封端和未封端多异氰酸酯的例子包括2-甲基戊烷1,5-二异氰酸酯、2-乙基丁烷1,4-二异氰酸酯、3(4)-异氰酸根合甲基-1-甲基环己基异氰酸酯、3-异氰酸根合甲基-3,5,5-三甲基环己烷二异氰酸酯、三(异氰酸根合甲基)苯、4,4′-二异氰酸根合二环己基甲烷、1,4-双(异氰酸根合甲基)环己烷、间四甲基二甲苯二异氰酸酯、对四甲基二甲苯二异氰酸酯以及,特别是,异佛尔酮二异氰酸酯。为脱封闭(脱保护),通常加入金属催化剂,例如,辛酸锡、二丁基锡氧化物或二月桂酸二丁基锡,到多异氰酸酯制剂中。
另一些合适的用于羟基官能聚酯的交联剂是酸酐,例如,偏苯三酸酐及其与二醇和二胺的反应产物。此类交联剂的其它例子描述在T.A.Misev,“Powder Coatings:Chemistry and Technology”,J.Wiley & Sons出版,Chichester,pp.123和124。
聚丙烯酸酯,通常具有羟基、羧基或缩水甘油基官能团者,也可用作粉末涂料的基料。它们由惯用方法制备,主要由以下单体,例如,苯乙烯和丙烯酸或甲基丙烯酸的线型或支化C1~C8烷基酯出发。另外,其它烯键式不饱和化合物,例如,二乙烯基苯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丁氧基甲基丙烯酰胺、丙烯腈、丁二烯等,可以加入并参与共聚。羟基官能性由羟基官能单体如丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸羟丙酯的共聚来保证。为提供羧基官能性,采用烯键式不饱和羧酸和酸酐,例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸和巴豆酸以及马来酐、衣康酐、丙烯酸酐和甲基丙烯酸酐(US-A-3,836,604)。缩水甘油基官能性的来源,正如在EP-A-0 256 369和US-A-3,876,578中所述,由单体如丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯的共聚提供。作为用于具有羟基或羧基官能性的聚丙烯酸酯的交联剂,原则上可使用与上面已描述过的具有羟基或羧基官能性的聚酯所用相同的化合物。另一些合适的交联剂是US-A-0,045,040的环氧化合物。适合具有缩水甘油基官能性的聚丙烯酸酯用的交联剂是二羧酸,例如,癸二酸和1,12-十二烷基二甲酸,以及酸酐,例如,双偏苯三酸酐,以及在US-A-3,880,946中描述的化合物。另外,DE-A-3 310 545还公开了自-交联的聚丙烯酸酯。
粉末涂料用的环氧树脂一般是Novolac(一种线型酚醛清漆)-环氧树脂或者,特别是,基于芳族多元醇的那些,尤其是基于双酚如双酚A的那些。已知的还有改性双酚环氧树脂,公开在JP-A-58 187464(1982)。该环氧树脂与交联剂组合使用,后者选自以下类别:固体脂族胺、固体芳族胺、胺加成物、酚醛树脂、多元酸和已经提到的羧酸官能聚酯。特别值得一提的硬化剂是常常与催化剂配合使用的双氰胺,其例子是路易斯酸、三氟化硼-胺络合物、金属络合物、叔或季铵,以及咪唑啉衍生物,例如,2-甲基咪唑啉。
光固化对于印刷具有重要意义,因为油墨的干燥时间是图形产品生产速率的关键因素,并且应在几分之一秒的数量级。紫外固化油墨对于网印和凹印油墨具有特殊重要性。此种印刷油墨乃是本领域技术人员公知的,广泛用于该领域并在载于文献中。它们是,例如,着色印刷油墨和以染料着色的印刷油墨。
印刷油墨是,例如,一种液态或糊料形式分散体,含有着色剂(颜料或染料)、基料以及任选地溶剂和/或任选地水和添加剂。在液态印刷油墨中,基料以及,恰当的话,添加剂一般溶解在溶剂中。以Brookfield粘度计测定的惯用粘度是,例如,20~5000mPa.s,例如,20~1000mPa.s,对于液态印刷油墨而言。在糊料形式印刷油墨的情况下,该数值介于,例如,1~100Pa.s,优选5~50Pa.s。本领域技术人员熟悉印刷油墨的成分和组成。合适的颜料,像技术上惯用印刷油墨配方,一般是公知的并且广泛描述过。
印刷油墨可用于,例如,凹版印刷、苯胺印刷、网印、胶印、石印或连续或滴状喷墨,被印刷在按照本发明方法采用一般公知的配方处理过的材料上,例如,在出版、包装或运输,后勤、广告、保安印刷或者在办公室设备领域的。
合适的印刷油墨既包括溶剂基印刷油墨也包括水性印刷油墨。感兴趣的是,例如,基于含水丙烯酸酯的印刷油墨。
在凹印或苯胺印刷的情况下,印刷油墨一般是通过将印刷油墨浓缩物稀释配制的,随后可按照本身公知的方式使用。
印刷油墨可,例如,还包含靠氧化干燥的醇酸树脂体系。该油墨一般包含颜料或染料或者颜料与染料的组合,分散剂以及基料。要知道,印刷油墨可包含其它添加剂,例如,惯用的,例如,防腐剂、抗氧化剂、脱泡剂、消泡剂、粘度调节剂、增稠剂、流动改进剂、抗沉淀剂、乳化剂、稳定剂、疏水剂、光稳定剂、手感改进剂、抗静电剂、缓冲物质、表面活性剂、润湿剂和抑制真菌和/或细菌生长的物质。
印刷油墨也可按照惯用方式通过将各个组分在一起混合,例如,在要求数量的水中,制成。该印刷油墨也适合,例如,用于这样的记录体系中,其中印刷油墨被从小孔以液滴形式挤出,该液滴喷向要形成图象的基材上。合适的基材是,例如,按照本发明预处理的纺织纤维材料、纸、塑料或铝箔。合适的记录体系是,例如,市售供应的喷墨印刷机。
特别是,用于印刷的潜伏催化剂包含
(a1)潜光酸,例如,三芳基锍盐,或上面描述的通式VI的芳族锍盐;
或者其中潜光酸(a1)是一种选自芳族锍盐、芳族碘盐或基于肟的潜光酸的化合物;或者
(a2)潜光碱化合物。
可采用本发明光固化方法的另一个领域是金属的涂布,例如,金属板和管、罐头盒或瓶盖、汽车和其它车辆,例如,火车、自行车、飞机、游艇、舰船等的涂布的情况,以及聚合物涂层的光固化,例如,基于PVC的地面或墙壁的覆盖物。纸涂层的光固化的例子是标签、记录套筒和书籍封面的无色清漆涂层。
也感兴趣的是将本发明方法用于固化由复合材料组合物组成的成形制品的应用。该复合材料配混料由自支撑基材,例如,玻璃纤维布或替代地,例如,植物纤维,所组成[参见K.-P.Mieck,T.Reussmann inKunststoffe 85(1995),366-370],该材料以活化的,即,辐照过的光固化制剂进行浸渍。包含该复合材料配混料的成形零件能达到高水平机械稳定性和耐受性。本发明方法还可用于制备模塑件,或用于浸渍和涂布组合物,正如在,例如,EP 7086中描述的。此类组合物的例子是胶衣树脂,该树脂符合在固化活性和抗变黄方面的严格要求;以及纤维增强模塑件,例如,光散射板,可以是平面的或者具有纵或横向波纹。生产此类模塑件的技术,例如,手工层压、喷涂铺置、离心铸造或长丝卷绕,描述在,例如,P.H.Selden in“Glasfaserverstrkte Kunststoffe”,page 610,Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967。可采用此类技术生产的制品的例子是游艇、具有双面玻璃纤维-增强塑料涂层的纤维板或刨花板,管道、容器、冲浪板等。模塑件、浸渍和涂布组合物的另一些例子是包含玻璃纤维的模塑件的UP树脂胶衣(GRP),例如,波纹板和纸层压材料。纸层压材料可基于脲醛树脂或蜜胺树脂。在生产层压材料之前,胶衣在载体(例如,薄膜)上接受辐照并形成。本发明方法还可用于生产铸造树脂或用于镶嵌制品,例如,电子元件等。
本发明方法适合,例如,各种涂布基材,例如,木材、纺织品、纸、陶瓷、玻璃、塑料如聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚烯烃或纤维素乙酸酯,尤其是薄膜形式的,还有金属如Al、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg或Co和GaAs、Si或SiO2,例如,在它们上面施涂保护层。
基材的涂布可通过在基材上施涂预先经过辐照的液态组合物、溶液或悬浮体来实施。溶剂和浓度的选择主要依赖于组合物的类型和涂布技术。溶剂应为惰性,即,它不应与组分发生化学反应并应能在涂布后,在干燥过程中,重新被赶出。合适的溶剂的例子是酮、醚和酯,例如,丁酮、异丁基甲基甲酮、环戊酮、环己酮、N-甲基吡咯烷酮、二烷、四氢呋喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、1-甲乙基-2-丙醇、1,2-二甲氧基乙烷、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-甲乙基丙基的乙酸酯、甲基-3-甲乙基丙酸酯、2-庚酮、2-戊酮和乳酸乙酯。
溶液采用公知的涂布技术均匀地涂布到基材上,例如,采用旋涂、浸涂、刮刀涂布、幕涂、刷涂、喷涂,尤其是借助静电喷涂,以及逆向辊涂,还有电泳沉积。也可将光敏层施涂到一个临时、挠性载体上,随后借助层压转移该层从而涂布到最终基材上,例如,包铜印刷电路,或玻璃基材上。
涂布量(涂层厚度)和基材(层的载体)的性质取决于所要求的应用领域。涂层厚度的范围一般包含介于约0.1μm~超过100μm,例如,0.1μm~1cm,优选0.5μm~1000μm。
本发明方法另外还可应用于乳液聚合、珠状聚合或悬浮聚合。
上面描述的方法,其中进一步的加工涉及
将辐照的物质组合物施涂到基材上,任选地随后进行进一步涂布后基材的机械加工步骤,例如,弯曲、切削、抛光;泡沫体的制备;聚合物制备;纤维制备;胶衣制备;复合材料制备;粘合剂制备;透明或着色涂层、印刷油墨、喷墨油墨的制备;或具有掺入的附加材料,例如,砂纸用砂的涂层的制备。
在本发明方法中,进一步的加工也可在于泡沫体(软、硬、整体或微孔泡沫)的制备。
制备所述泡沫体的物质组合物包含聚醚多元醇、聚酯多元醇或聚氨酯组合物。
聚氨酯可通过,例如,令含有端羟基基团的聚醚、聚酯和聚丁二烯与脂族或芳族多异氰酸酯起反应获得。
具有端羟基基团的聚醚和聚酯是公知的并且可,例如,通过令环氧化物如环氧乙烷、环氧丙烷、环氧丁烷、四氢呋喃、氧化苯乙烯或表氯醇与它们本身在,例如,BF3的存在下聚合,或者通过这些环氧化物,单独或作为混合物或依次,与含活性氢原子的启动组分如水、醇、氨或胺,例如,乙二醇、丙-1,3-和1,2-二醇、三羟甲基丙烷、4,4′-二羟基二苯基丙烷、苯胺、乙醇胺或乙二胺的加成反应来制备。蔗糖聚醚也适合本发明。在多种情况中,优选那些主要(最高90wt%,以聚醚中存在的OH基团为基准计)包含伯OH基团的聚醚。另外,由乙烯基聚合物改性的聚醚,例如,通过苯乙烯和丙烯腈在聚醚存在下聚合生成的,是合适的,正如含OH基团的聚丁二烯那样。这些化合物一般具有40的分子量并且是多羟基化合物,尤其是包含2~8个羟基基团,尤其是分子量介于800~10 000,优选1000~6000的那些,例如,含至少2,一般2~8但优选2~4个羟基基团的聚醚,正如从均匀聚氨酯和微孔聚氨酯的制备所公知的那样。当然,可以使用含至少2个异氰酸酯-活性氢原子的上述化合物的混合物,尤其是400~10 000的。合适的多异氰酸酯是脂族、环脂族、芳脂族、芳族和杂环多异氰酸酯,例如,亚乙基二异氰酸酯、1,4-四亚甲基二异氰酸酯、1,6-六亚甲基二异氰酸酯、1,12-十二烷二异氰酸酯、环丁烷1,3-二异氰酸酯、环己烷1,3-和1,4-二异氰酸酯,还有这些异构体的任意混合物,1-异氰酸根合-3,3,5-三甲基-5-异氰酸根合甲基环己烷、2,4-和2,6-六氢甲苯二异氰酸酯,还有这些异构体的任意混合物,六氢-1,3-和/或-1,4-亚苯基二异氰酸酯、全氢化-2,4′-和/或-4,4′-二苯甲烷二异氰酸酯、1,3-和1,4-苯二异氰酸酯、2,4-和2,6-甲苯二异氰酸酯、还有这些异构体的任何要求的混合物,二苯甲烷2,4′-和/或-4,4′-二异氰酸酯、萘1,5-二异氰酸酯、三苯甲烷4,4′,4″-三异氰酸酯、多苯基-多亚甲基多异氰酸酯,正如可由苯胺-甲醛缩合,随后光气化得到的,间-和对-异氰酸根合苯基磺酰基异氰酸酯、全氯化芳基多异氰酸酯、含碳二亚胺基团的多异氰酸酯、含脲基甲酸酯基团的多异氰酸酯、含异氰脲酸酯基团的多异氰酸酯、含氨基甲酸酯基团的多异氰酸酯、含酰基化脲基团的多异氰酸酯、缩二脲基团的多异氰酸酯、含酯基团的多异氰酸酯、上述异氰酸酯与缩醛的反应产物,以及含聚合脂肪酸基的多异氰酸酯。
也可使用含异氰酸酯基团的蒸馏残余,处于它们溶解在上述多异氰酸酯之一或多种中的状态,此种物料可在异氰酸酯的分离过程中得到。另外也可以使用上述多异氰酸酯的任何要求的混合物。
一般地,特别优选容易从工业上获得的多异氰酸酯,例如,2,4-和2,6-甲苯二异氰酸酯以及这些异构体的任何要求的混合物(″TDI″)、多苯基-多亚甲基-多异氰酸酯,正如通过苯胺-甲醛缩合,随后光气化制备的(″粗MDI″),以及含碳二亚胺、氨基甲酸酯、脲基甲酸酯、异氰脲酸酯、脲或缩二脲基团的多异氰酸酯(“改性多异氰酸酯”)。
聚氨酯泡沫塑料优选地由液态起始组分制备,或者由这些彼此要起反应的起始组分在一种一步法中在一起混合,或者先制备由多元醇与过量所要制备的多异氰酸酯生成的含NCO基团预加成物,随后令其发泡,典型地通过与水起反应。
按照本发明方法,泡沫塑料组合物先接受辐照,随后加入异氰酸酯组分。
在泡沫塑料的制备中,发泡常常在模具中进行。在这样的情况中,将反应混合物放入到模具中,例如,在辐照并加入水组分以后。合适的模具材料是金属,典型的是铝,或者塑料,典型的是环氧树脂。在该模具中,可发泡反应混合物起发并形成模塑制品。该泡沫模塑可这样进行,以致形成的模塑件具有微孔表面结构或者,替代地,使模塑件具有致密皮层和微孔芯。就此而论,可以在模具中放入足够数量可发泡反应混合物,使获得的泡沫体恰好充满模具。然而,也可以在模具中放入多于使模具内部充满泡沫体所需要的可发泡反应混合物。在后一种情况下,于是操作便在超注料条件下进行。
在泡沫塑料模塑的情况中,伴随使用公知的外脱模剂,典型的是硅油。然而,也可使用所谓内脱模剂,任选地与外脱模剂混合起来使用。也可以使用冷-固化泡沫塑料。当然,该泡沫塑料替代地可采取块料发泡或采用所谓双运输带法。这些方法可用于制备软、半软或硬聚氨酯泡沫塑料。
该泡沫塑料已知在家具和汽车工业中作为,例如,垫子和家居装饰品之类产品等得到应用,并用于制造配件,例如,在汽车工业中使用的那些,最后是作为隔音组合物以及作为隔热和低温绝缘组合物,例如,在建筑行业或在冷藏工业或者在纺织工业中,例如,作为垫肩。所述泡沫塑料在例如汽车工业中,特别令人感兴趣,例如,用于,由软泡沫塑料制备手枕、头枕、吸音泡沫地毯、座垫;或者,由半软泡沫塑料制备,例如,车顶内衬、帽骨架、门板、扶手、仪表板、头防撞板、侧面防撞板;或者利用泡沫塑料充填凹陷(硬泡沫塑料);或者用软整体泡沫塑料制备,例如,方向盘、空气过滤器、换挡柄、扰流板、电缆片、头枕。
由此可见,本发明另一个主题是一种施涂潜光催化剂(a)的方法,其中一种包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照,然后再进行进一步加工,其特征在于,进一步加工是泡沫塑料的制备以及该物质组合物包含多元醇和异氰酸酯组分,和作为潜光催化剂,一种潜光碱(a2)。
下面的实施例用于进一步说明本发明但不应视为对本发明权利要求范围的限制。正如在正文其余部分和专利权利要求中那样,份数和百分数一律指重量而言,除非另外指出。在提到具有3个以上碳原子的烷基或烷氧基而没有指出其异构体形式的情况下,相应n-异构体均在考虑之列。
实施例1:
下面的制剂通过混合相应成分而制成:
组分A
54.78份羟基官能聚丙烯酸酯(Desmophen A VP LS 2350,由拜耳公司提供)
0.70份流平剂Byk 333(10%在丙烯酸丁酯中,聚醚改性的聚二甲基硅氧烷,由Byk化学公司提供)
0.50份流平剂Byk 335(聚丙烯酸酯溶液,由Byk化学公司提供)0.55份消泡剂  Byk 141(聚硅氧烷,由Byk化学公司提供)
18.47份二甲苯/丙烯酸甲氧基丙酯/丙烯酸丁酯按照1∶1∶1比例的混合物,
组分B
20.08份脂族多异氰酸酯(Desmodur N 3390,由拜耳公司提供)
2.8%潜光碱
Figure A20058002481400611
能很好地溶解在组分A中。施涂前,将组分B加入到样品中并进行均化.如此制备的涂料制剂随后被放在有盖培养皿中并在紫外固化设备上以2×80W/cm汞灯以3m/min线速度进行辐照。
用Byk-Gardner出品的干燥记录器测定所包含的制剂的反应性。制剂在有盖培养皿中接受辐照以后,用75μm缝型涂布器将该涂料施涂到长30cm的玻璃板上。涂布的玻璃板随后被置于记录器上,在此,一根针在黑暗中以恒速在涂布的基材上移动。针需要24h走完整个基材的长度。经过这段时间以后,确定固化的阶段。重要的是获得不粘涂层的时间(=阶段3)。
包含组分A和B的制剂的第二样品在未经预辐照的条件下接受记录器的测试。另外,不含潜光催化剂的样品也接受与上面所述相同程序的测试,即,包括或不包括预辐照步骤。结果总括在下表1。
表1达到不粘涂层的固化时间。
    催化剂 黑暗中固化,未经预辐照 预辐照,随后在黑暗中固化
  无     8h     8h
  潜光碱(PLB-1)     8b     5h
实施例2:聚醚、聚氨酯软泡沫塑料的制备
0.08g(0.05%,以多元醇为基准计)胺类催化剂、1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯(DBN)
0.24g(0.15%,以多元醇为基准计)潜光催化剂PLB-1溶解在160g聚醚多元醇[Lupranol 2082(RTM)羟基值48mg KOH/g中,水含量小于0.1%,酸值小于0.1mg KOH/g]。随后,该样品在Panacol UVA灯UVF 450W下暴露2min,其中采用蓝光滤色片。
加入9.6g溶液,它包含1.92g聚硅氧烷聚氧化烯嵌段共聚物泡沫稳定剂(TegostabBF 2370;由Goldschmidt,德国,供应)和7.68g去离子水,然后该反应混合物以2600rpm剧烈搅拌10s。随后加入0.32g辛酸亚锡(Kosmos 29;由Goldschmidt,德国,供应),然后,该反应混合物再以2600rpm剧烈搅拌18s。随后,加入94.54g异氰酸酯(LupranatT80,由BASF供应;甲苯-2,4-和甲苯-2,6-二异氰酸酯混合物),同时以2600rpm连续搅拌5~7s。随后,混合物倒入到20×20×20cm蛋糕盒中并在放热反应中得到一种泡沫塑料块。
在第二个试验中,0.08g(0.05%,以多元醇为基准计)潜光催化剂(PLB-1)被加入到制剂中。按照以上所述实施泡沫塑料的制备。在本情况中也得到一种泡沫塑料块。
实施例3:无溶剂2P(=双组分)聚氨酯粘合剂制剂的制备
组分A通过混合下面给出的成分制成:
50.0wt%三官能聚亚丙基聚醚多元醇(Desmophen 1380 BT,拜耳公司供应)
20.0wt%线型聚亚丙基聚醚多元醇(Desmophen1112 BD,拜耳公司供应)
0.21wt%敏化剂,异丙基噻吨酮(Darocure ITX,Ciba SpecialtyChemicals供应)
2.1wt%潜光碱PLB-1
组分B:
芳族多异氰酸酯预聚物,基于二苯甲烷二异氰酸酯(MDI),DesmodurE21,由拜耳公司供应。
(组分A和B按照比例A∶B=1∶0.74混合)
实施例3.1∶0.5g配混料A被置于敞开玻璃结晶器(层厚约1mm)中,并以紫外荧光灯TL 05(Philips)辐照10min。辐照期间,液体利用磁搅拌装置不停地搅拌。辐照后,加入0.37g配混料B并利用不锈钢刮板快速搅拌。用线涂布器(WFT 34μm)将均匀制剂施涂到FTIR-光谱法使用的KBr晶体上。施涂后立即以采用Perkin Elmer 1600光谱仪的FTIR-光谱法跟踪异氰酸酯的交联反应。
经5;15;30;60和120min后测定光谱,设定第一光谱为时间0。异氰酸酯在2271cm-1的峰值高度随时间的减少被用作衡量体系反应性的尺度。结果总括在下表2,其中给出从FTIR-测定值算出的NCO-转化率。
实施例3.2:0.28g配混料A和0.21g配混料B被置于敞开玻璃结晶器(层厚约1mm)中,并以紫外荧光灯TL 05(Philips)辐照10min。辐照期间,液体利用磁搅拌装置不停地搅拌。
辐照后,用线涂布器(WFT 34μm)将制剂施涂到FTIR-光谱法使用的KBr晶体上。施涂后立即采用FTIR-光谱法跟踪反应。结果载于表2。
表2
时间t[min]         NCO-转化率[%]
    实施例3.1     实施例3.2
    0     0     0
    5     12.91     4.47
    15     32.08     15.48
    30     46.45     30.03
    60     64.77     47,03
    120     77.01     64.55
FTIR-测定后留住晶体上的膜摸上去已干燥。
实施例4:无溶剂2P聚氨酯粘合剂制剂的制备
0.5g配混料A(如同在实施例3中所述)被置于敞开玻璃结晶器(层厚约1mm)中,并以紫外荧光灯TL 05(Philips)辐照10min。辐照期间,液体利用磁搅拌装置不停地搅拌。
辐照后,加入0.37g配混料B(如同在实施例3中所述)并利用不锈钢刮板快速搅拌。均匀制剂被施涂到聚乙烯薄膜条(=条A)上。将第二聚乙烯薄膜(=条B),未涂布粘合剂,压在条A上,二层之间不留空气。条A和条B层压后,立即将扁平木质板放在条的顶面,随后再加上5kg载荷。5h后,通过拉条的端部测试附着力。当从两头拉时二条仍粘在一起。
实施例5:
重复实施例4的程序,替代PLB-1而采用
当从两头拉时二条仍粘在一起。
实施例6:着色涂料制剂
制剂A通过混合下面给出的成分制成:
0.4wt%敏化剂异丙基噻吨酮(Darocur ITX,Ciba SpecialtyChemicals供应)
59.6wt%乙酸丁酯作为溶剂
40.0wt%三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)(由Aldrich提供)
制剂B通过混合下面给出的成分制成:
9.0wt%透明泛绿-黄色有机颜料(Chromophtal 黄8GN(CibaSpecialty Chemicals供应)
76.0wt%双酚A环氧树脂(Bakelite EPR 162,由Bakelite AG供应)
8.0wt%聚合物分散剂(EFKA 4010,Ciba Specialty Chemicals供应)
7.0wt%乙酸丁酯作为溶剂
0.011wt%潜光催化剂PLB-1溶解在0.4g制剂A中,然后该制剂在3.6cm大结晶器在剧烈搅拌下接受紫外光(荧光灯Philips TL40W/05,主要发射介于350~400nm)辐照10min。加入0.123g制剂B并进一步搅拌几秒钟以便获得均匀制剂。
在室温下以ATR光谱法(Nicolet Magna-IR 750光谱仪)监测涂层的反应,跟踪SH(2564cm-1)和环氧(912cm-1)的消失。结果载于表3。
表3
    辐照后的时间     SH含量(%)     环氧含量(%)
    起始     100     100
    9min     97     75
    15min     65     64
另外,该完整制剂,即,合并的组分A+B,在同样条件下接受辐照:反应慢得多,因此,正如表3a所示,交联也受到影响。
表3a
    辐照后的时间     SH含量(%)     环氧含量(%)
    起始     100     100
    10min     79     86
    19min     93     80
实施例7:胶衣制剂的制备
组分A通过混合下面给出的成分制成:
0.4wt%敏化剂异丙基噻吨酮(Darocur ITX,Ciba SpecialtyChemicals供应)
58wt%乙酸丁酯作为溶剂
42.0wt%三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)(由Aldrich提供)
组分B按照实施例4那样制备。
将0.11g潜光碱PLB-1溶解在4.3g制剂A中,然后该制剂在6cm大结晶器在剧烈搅拌下接受紫外光(荧光灯Philips TL 40W/05,主要发射介于350~400nm)辐照20min。加入1.43g制剂B并进一步搅拌几秒钟以获得均匀制剂。
在室温下以ATR光谱法(Nicolet Magna-IR 750光谱仪)监测涂层的反应,跟踪SH(2564cm-1)的消失。结果载于表4。
表4
    辐照后的时间     SH含量(%)
    起始     100
    50min     49
胶衣在室温下经50min后仍发粘。
另外,该完整制剂,即,合并的组分A+B,在同样条件下接受辐照:反应慢得多,因此,正如表4a所示,交联也受到影响。
表4a
    辐照后的时间     SH含量(%)
    起始     100
    10min     100
在此种情况中,胶衣在室温下经50min仍为液态。
实施例8:玻璃纤维复合材料的制备
制剂通过混合以下成分制成:
0.4 wt%敏化剂异丙基噻吨酮(Darocur ITX,Ciba SpecialtyChemicals供应)
59.0wt%乙酸丁酯作为溶剂
41.0wt%三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)(由Aldrich提供)
将0.33g潜光碱PLB-1溶解在12.8g制剂中,然后该制剂在9cm大结晶器在剧烈搅拌下接受紫外光(荧光灯Philips TL 40W/05,主要发射介于350~400nm)辐照40min。加入3.3g Bakelite EPR 162(双酚A环氧树脂)并进一步搅拌几秒钟以便获得均匀制剂。
玻璃纤维以该制剂浸渍,随后在其上铺另一层玻璃纤维,然后再次以该制剂浸渍。重复该程序直至3个玻璃纤维层都浸渍了制剂。
在室温下以ATR光谱法(Nicolet Magna-IR 750光谱仪)监测涂层的反应,跟踪SH(2564cm-1)的消失。结果载于表5。
表5
    辐照后的时间     SH含量(%)
    起始     100
    36min     50
    60min     50
制剂在室温下经3h后已摸上去不粘。
另外,该完整制剂,即,合并的组分A+B,在同样条件下接受辐照:反应慢得多,因此,正如表5a所示,交联也受到影响。
表5a
    辐照后的时间     SH含量(%)
    起始     100
    36min     73
    60min     61
制剂在室温下经3h后仍然发粘。
实施例9:NCO/OH涂料制剂的固化
组分A通过混合下面给出的成分制成:
73.0wt%带羟基的聚丙烯酸酯、70%在乙酸丁酯(Desmophen A VPLS 2350,由拜耳公司供应)中
0.9wt%添加剂、10%乙酸丁酯(Byk 333,由Byk提供)
0.7wt%添加剂、50%的供应形式(Byk 335,由Byk提供)
0.7wt%添加剂、4%的供应形式(Byk 141,由Byk提供)
24.7wt%二甲苯/甲氧基丙基的乙酸酯/乙酸丁酯按照比例1∶1∶1作为溶剂
组合物B是100%脂族多异氰酸酯、90%在乙酸正丁酯(DesmodurN 3390 BA,由拜耳公司供应)中
0.14g潜光碱PLB-1溶解在3.76g制剂A中,然后该制剂在1cm大石英池中接受4.5J/cm2紫外光剂量辐照(AETEK国际公司)。制剂进一步通过双进料喷枪与1.03g组分B混合并施涂到BaF2晶体上。
采用FTIR-光谱法(Perkin Elmer 1600 FTIR光谱仪)跟踪在130℃下的反应,监测NCO(2270cm-1)的消失。结果载于表6。
表6
在130℃下辐照后的时间   NCO含量(%)
    起始     100
    4min     71
    15min     32
实施例10:NCO/OH涂料制剂的固化
0.14g潜光碱PLB-1溶解在3.76g在如实施例9所描述的制剂A中,然后该制剂在1cm大石英池中接受4.5J/cm2紫外光剂量辐照(AETEK国际公司)。制剂进一步通过双进料喷枪与1.03g组分B,如实施例9中所述,混合并以干厚度约40μm施涂到铝板上。得到一种完全固化、不粘的涂层。
实施例11:NCO/OH涂料制剂的固化
重复实施例10的程序,但替代PLB-1采用PLB-2。
实施例12:
以下制剂通过混合以下成分制成:
56.16份Joncryl 510(丙烯酸多元醇,由Johnson Polymer供应)
19.18份Cymel 303(六甲氧基蜜胺,由Cytec提供)
14.16份丁醇
9.89份甲基-戊基甲酮
0.61份DC-57(10%在甲基-戊基甲酮中)流平剂,由Dow Corning供应
将2%潜光酸α-(4-甲基苯基磺酰氧基亚胺基)-4-硫代甲基苄基氰)(PLA-1)充分溶解在所述制剂中。如此制备的涂料制剂随后被置于有盖培养皿中并在紫外固化设备上以2×120W/cm汞灯以5m/min线速度进行辐照。辐照后,涂料制剂以50μm干膜厚度被施加到“白线圈-涂覆(white coil-coated)”的铝板上。该板在90℃烘烤30min。板冷却后2h,测定按照Knig(DIN 53157)的摆撞硬度。摆撞硬度越高,固化得越好。
涂料制剂的第二样品接受同样程序的处理,但未经在有盖培养皿中的预辐照。
另一些不含潜光催化剂的样品接受如上所述程序的处理,即,经或不经预辐照步骤。
结果总括在下表7中。
表7:不粘涂层的摆撞硬度(s)
    催化剂 在黑暗中固化,不经预辐照 预辐照,随后在黑暗中固化
  无     发粘     发粘
  潜光酸(PLA)     发粘     31
实施例13:阳离子紫外固化粘合剂
组分A通过以下成分的混合至均匀而制成:
20.0 wt%聚酯多元醇(Tone Polyol 0310,由Dow Chemical提供)
5.0wt%乙酸丁酯作为溶剂
4.0wt%阳离子光引发剂
Figure A20058002481400681
(lrgacure 250,由CibaSpecialty Chemicals提供-=PLA-2)
组分B:环脂族环氧树脂(Cyracure Resin UVR 6105,由DowChemical供应)
组分A采用线型涂布器施涂到聚碳酸酯条(2cm×12cm,厚约1mm)上(湿膜厚度4μm)并置于紫外灯(Hoenle UVASPOT,汞灯)下并辐照10min(条A)。
组分B采用线型涂布器施涂到聚碳酸酯条(2cm×12cm,厚约1mm)上(湿膜厚度12μm)(条B)。
辐照后,条A和B沿涂布侧压在一起,二层之间不留空气。条A和条B层压后,立即将扁平木质板放在条的顶面,随后再加上5kg载荷。5h后,通过拉条的端部测试附着力。当从两头拉时二条仍粘在一起。
实施例14:无溶剂环氧树脂粘合剂的制备
制剂通过混合下面给出的成分制成:
97.0wt%双酚-A/双酚F为主的环氧树脂(Bakelite EPR 144,由Bakelite供应)
3.0wt%潜光碱(PLB-2)
0.5g制剂被置于敞开玻璃结晶器(层厚约1mm)中,并以4.5J/cm2的紫外光剂量(AETEK国际公司)辐照。
辐照后,制剂施涂到聚乙烯薄膜条(=条A)上。将第二聚乙烯薄膜(=条B),未涂布粘合剂,压在条A上,二层之间不留空气。条A和条B层压后,立即将扁平木质板放在条的顶面,随后再加上5kg载荷。通过拉条的端部测试附着力。当从两头拉时二条仍粘在一起。
实施例15:环氧涂层的制备
通过混合下面给出的成分制备该制剂:
80.0wt%双酚-A的二缩水甘油基醚(Bakelite EPR 162,由Bakelite供应)
17.0wt%乙酸丁酯
3.0wt%潜光碱
Figure A20058002481400691
0.5g制剂被置于敞开玻璃结晶器(层厚约1mm)中,并以4.5J/cm2的紫外光剂量(AETEK international)辐照。
辐照后,借助线型涂布器在线圈涂布的铝板上施涂40μm厚该制剂层。得到一种完全固化、不粘涂层。
实施例16:聚氨酯泡沫塑料的制备
聚醚多元醇(LupranolRTM 2080,三官能聚醚多元醇,具有伯羟基基团;羟基值48mg KOH/g,水含量小于0.1%,酸值小于0.1mgKOH/g,含有0.45%稳定剂IrgastabPUR 55)、潜光碱PLB-1和异丙基噻吨酮(Darocur ITX)按照比例100∶5∶0.5进行混合。10g所述混合物以紫外光(荧光灯,Philips TL 40W/05,主要发射介于350~400nm)辐照4×5min。
7.5g辐照的溶液随后溶解在另外的78.60g Lupranol 2080中。随后加入4.96g溶液,该溶液由0.96g TegostabRTM BF 2370(由Goldschmidt,德国,供应)和4g去离子水组成,然后该反应混合物以2600rpm剧烈搅拌10s。随后加入1.6g Kosmos 29(由Goldschmidt,德国,供应)/Lupranol 2080(比例1∶9)的溶液,然后,该反应混合物再以2600rpm剧烈搅拌18s。
随后,加入48.88g异氰酸酯(LupranatRTM T80,由BASF供应;甲苯-2,4-和甲苯-2,6-二异氰酸酯混合物),同时以2600rpm连续搅拌5~7s。随后,混合物倒入到20×20×20cm蛋糕盒中,于是开始发泡反应,从而形成泡沫块。

Claims (13)

1.一种施加潜光催化剂(a)的方法,
其中将一种包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照,随后再进一步加工,其特征在于,该潜光催化剂是:
(a1)一种通式VI的潜光酸
Figure A2005800248140002C1
其中
Ra2是直接键、S、O、CH2、(CH2)2、CO或NR96
Ra3、Ra4、Ra5和Ra6彼此独立地是氢、C1-C20烷基、C3~C8环烷基、C1~C20烷氧基、C2~C20链烯基、CN、OH、卤素、C1~C6烷基硫代、苯基、萘基、苯基-C1~C7烷基、萘基-C1-C3烷基、苯氧基、萘氧基、苯基-C1-C7烷氧基、萘基-C1-C3烷氧基、苯基-C2~C6链烯基、萘基-C2~C4链烯基、S-苯基、(CO)Ra8、O(CO)Ra8、(CO)ORa8、SO2Ra8、OSO2Ra8
Ra7是C1~C20烷基、C1~C20羟烷基、
Figure A2005800248140002C2
Ra8是氢、C1~C12烷基、C1~C12羟烷基、苯基、萘基或联苯基;
Ra9是直接键、S、O或CH2
Ra10、Ra11、Ra12和Ra13彼此独立地具有针对Ra3给出的含义之一;或Ra10和Ra12与它们所连接的苯环一起构成一个稠合环体系;
Ra14
Z是阴离子,尤其是
PF6,SbF6,AsF6,BF4,(C6F5)4B,Cl,Br,HSO4,CF3-SO3,F-SO3
Figure A2005800248140003C1
CH3-SO3,ClO4,PO4,NO3,SO4,CH3-SO4
或者其中潜光酸(a1)是选自芳族磷盐、芳族碘盐或基于肟的潜光酸的化合物;或者
(a2)一种潜光碱化合物,条件是如果该物质组合物包含异氰酸酯与硫醇的组合,(3,4-二甲氧基苯甲酰)-1-苄基-1-二甲氨基丙烷被排除在外。
2.权利要求1的方法,其中
(A)潜光催化剂(a)是潜光酸(a1),同时该物质组合物包含酸催化固化化合物(b);或其中
(B)潜光催化剂(a)是潜光碱(a2),同时该物质组合物包含碱催化固化化合物(c);或其中
(C)潜光催化剂(a)是至少一种潜光碱催化剂(a2)和至少一种潜光酸催化剂(a1)的混合物,且其中该物质组合物包含酸催化固化化合物(b)和碱催化固化化合物(c)的混合物,条件是(a1)和(a2)为选择地活化。
3.权利要求1的方法,其中该包含光催化剂的物质组合物另外还包含染料或颜料(g)。
4.权利要求1的施加潜光催化剂的方法,其中该包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照然后再进行进一步加工,
其中该物质组合物是漆制剂,包含多元醇与异氰酸酯的组合以及,作为潜光催化剂,通式VIII、VIIIa和VIIIb的潜光碱(a2)
Figure A2005800248140003C3
其中
r是0或1;
X4是CH2或O;
R2和R3彼此独立是氢或C1~C20烷基;
R1是未取代的或者是C1~C12烷基-或C1~C12烷氧基-取代的苯基、萘基或联苯基;
R20、R30和R40连同连接氮原子一起构成一个以下结构式的基团
Figure A2005800248140004C2
阴离子是能形成盐的任何阴离子;并且
m是分子中带正电荷的N-原子数。
5.权利要求1的施加潜光催化剂(a)的方法,其中该包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照,然后再进一步加工,其中该物质组合物是一种漆制剂,包含环氧化物组分和,作为潜光催化剂,通式VIIIa的潜光碱(a2),
Figure A2005800248140004C3
其中
r是0或1;
X4是CH2或O;
R1是未取代的或C1~C12烷基-或C1~C12烷氧基取代的苯基、萘基或联苯基;
R20、R30和R40连同连接氮原子一起是结构式(a)、(b)或(c)的基团
Figure A2005800248140004C5
R35是氢或C1~C18烷基;
阴离子是能形成盐的任何阴离子;并且
m是分子中的带正电荷的N-原子数。
6.权利要求1的施加潜光催化剂(a)的方法,
其中该物质组合物是粘合剂。
7.权利要求6的方法,其中潜光催化剂是潜光碱(a2),且物质组合物是碱催化固化化合物(c)。
8.权利要求1的方法,其中进一步的加工涉及
将辐照过的物质组合物施涂到基材上,任选地随后对涂布的基材实施进一步机械加工步骤;制备泡沫;制备聚合物;制备纤维;制备胶衣;制备复合材料,制备粘合剂、制备透明涂层或着色涂层,印刷油墨、喷墨油墨,或制备具有其它掺入材料的涂层。
9.权利要求1的方法,其被反复实施,每一重复步骤中的光催化剂与其它步骤的相同或不同,并独立地是潜光酸和/或潜光碱。
10.权利要求1的方法,其中该物质组合物直接在储罐中接受辐照,随后接受进一步加工。
11.权利要求1的方法,其中进一步加工是采用紫外光和/或加热的附加固化步骤。
12.根据权利要求1的方法用物质组合物覆盖的基材。
13.一种施加潜光催化剂(a)的方法,
其中使一种包含所述催化剂的物质组合物先接受辐照,然后再进行进一步加工,其特征在于,进一步加工在于制备泡沫塑料,以及该物质组合物包含多元醇和异氰酸酯组分,和作为潜光催化剂,一种潜光碱(a2)。
CN2005800248148A 2004-07-21 2005-07-11 通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用 Expired - Fee Related CN1988956B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP04103477 2004-07-21
EP04103477.8 2004-07-21
PCT/EP2005/053299 WO2006008251A2 (en) 2004-07-21 2005-07-11 Process for the photoactivation and use of a catalyst by an inverted two-stage procedure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1988956A true CN1988956A (zh) 2007-06-27
CN1988956B CN1988956B (zh) 2012-10-03

Family

ID=34929356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2005800248148A Expired - Fee Related CN1988956B (zh) 2004-07-21 2005-07-11 通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20070249484A1 (zh)
EP (1) EP1789188A2 (zh)
JP (1) JP2008506826A (zh)
KR (1) KR101166746B1 (zh)
CN (1) CN1988956B (zh)
BR (1) BRPI0513709A (zh)
RU (1) RU2381835C2 (zh)
TW (1) TW200615049A (zh)
WO (1) WO2006008251A2 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101925616A (zh) * 2008-01-28 2010-12-22 巴斯夫欧洲公司 用于氧化还原固化可自由基固化的配制剂的光潜脒碱
CN102081303A (zh) * 2009-11-26 2011-06-01 住友化学株式会社 光致抗蚀剂组合物
CN102369068A (zh) * 2009-04-08 2012-03-07 拜尔材料科学有限公司 加强的可uv-a固化的复合组合物和方法
CN103987754A (zh) * 2011-12-16 2014-08-13 三键精密化学有限公司 固化性树脂组合物
CN107531886A (zh) * 2015-04-29 2018-01-02 3M创新有限公司 由多硫醇和聚环氧化合物制备聚合物网络的方法

Families Citing this family (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7728050B2 (en) 2005-11-04 2010-06-01 Fujifilm Corporation Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed matter, method for producing planographic printing plate, planographic printing plate and oxetane compound
ATE496766T1 (de) 2006-03-03 2011-02-15 Fujifilm Corp Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte
JP5128084B2 (ja) * 2006-04-27 2013-01-23 タキロン株式会社 光触媒部材
JP5465528B2 (ja) * 2006-07-17 2014-04-09 チバ ホールディング インコーポレーテッド 接着方法
RU2009115962A (ru) * 2006-09-29 2010-11-10 Циба Холдинг Инк. (Ch) Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах
CN101641643B (zh) 2007-04-03 2013-08-07 巴斯夫欧洲公司 可光活化的氮碱
GB2450975B (en) 2007-07-12 2010-02-24 Ciba Holding Inc Yellow radiation curing inks
JP5147348B2 (ja) 2007-09-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 インク組成物
EP2197840B1 (en) 2007-10-10 2013-11-06 Basf Se Sulphonium salt initiators
JP2009126974A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Three Bond Co Ltd 樹脂組成物
WO2009085678A1 (en) * 2007-12-19 2009-07-09 3M Innovative Properties Company Ink solutions for microcontact printing
US20110065203A1 (en) * 2008-02-21 2011-03-17 Basf Se Uv-dose indicator
US8604251B2 (en) 2009-03-24 2013-12-10 Basf Se Oligofunctional photoinitiators
US20120043480A1 (en) 2009-03-30 2012-02-23 Basf Se Uv-dose indicator films
ES2660198T3 (es) 2009-07-30 2018-03-21 Igm Group B.V. Macrofotoiniciadores
WO2011020727A1 (en) 2009-08-21 2011-02-24 Basf Se Apparatus and method for a sub microscopic and optically variable image carrying device
CN102471617B (zh) * 2009-08-27 2014-08-13 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 催化剂在底涂层中改善随后涂层的剥离性的用途
WO2011032875A1 (en) 2009-09-15 2011-03-24 Basf Se Photo-latent titanium catalysts
US8933138B2 (en) 2009-09-15 2015-01-13 Basf Se Photo-latent titanium-chelate catalysts
EP2322571A1 (de) * 2009-11-06 2011-05-18 Sika Technology AG Zweikomponentige Klebstoff- oder Dichtstoffzusammensetzung mit Beschleunigungskomponente
WO2011104127A1 (en) 2010-02-24 2011-09-01 Basf Se Latent acids and their use
JP5862021B2 (ja) * 2010-03-05 2016-02-16 株式会社リコー 活性光線硬化型インク組成物、活性光線硬化型インクジェットインク組成物及びその印刷方法
DE102010037592A1 (de) * 2010-09-16 2012-03-22 Steinemann Technology Ag Verfahren zur Herstellung eines Laminats und dazu gehörige Bogenlaminiermaschine
CN103221084B (zh) 2010-09-22 2016-10-19 克拉弗席德股份有限公司 治疗蒸发器
TWI520940B (zh) 2010-10-05 2016-02-11 巴地斯顏料化工廠 肟酯
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
SG189275A1 (en) 2010-10-05 2013-05-31 Ferro Corp Single component, low temperature curable polymeric composition and related method
EP2694211A1 (en) 2011-04-05 2014-02-12 Basf Se Photo-latent titanium-oxo-chelate catalysts
WO2012176126A1 (en) 2011-06-21 2012-12-27 Basf Se Printing diffraction gratings on paper and board
JP5842459B2 (ja) * 2011-08-19 2016-01-13 株式会社リコー 活性光線硬化組成物及び活性光線硬化型インクジェット用インク
CN103998427A (zh) 2011-12-07 2014-08-20 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
KR102013541B1 (ko) 2012-05-09 2019-08-22 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
WO2013186167A2 (en) 2012-06-14 2013-12-19 Basf Se Method for manufacturing security elements and holograms
JP5975775B2 (ja) * 2012-07-31 2016-08-23 日東電工株式会社 粘着剤
BR112015005323A2 (pt) 2012-09-17 2017-07-04 Basf Se elemento de segurança, método para formar um elemento de segurança, produto de segurança, e, uso de um elemento de segurança
EP2900743B1 (en) * 2012-09-27 2016-10-26 Dow Global Technologies LLC Method of using a carbon-michael compound
JP6053942B2 (ja) 2012-10-19 2016-12-27 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ハイブリッド光開始剤
KR101798739B1 (ko) 2012-12-18 2017-11-16 바스프 에스이 나프탈렌디이미드-비닐렌-올리고티오펜-비닐렌 중합체를 기재로 하는 반도체 물질
WO2014095724A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Basf Se Derivatives of bisacylphosphinic acid, their preparation and use as photoinitiators
US10252561B2 (en) 2013-05-21 2019-04-09 Basf Se Security elements and method for their manufacture
CN105339375A (zh) 2013-07-08 2016-02-17 巴斯夫欧洲公司 液态双酰基氧化膦光引发剂
KR20160030233A (ko) 2013-07-08 2016-03-16 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
BR112016006911B1 (pt) 2013-10-04 2022-01-11 Basf Se Método para formar um revestimento liso de superfície decorativa, produto de papel ou papelão, e, uso de um produto de papel ou papelão
DE102014108671B4 (de) 2014-04-11 2022-08-11 Jowat Ag Verfahren zum Fügen von Werkstücken und mit diesem erhältliche Verbundwerkstücke sowie Verwendung einer Lösung und/oder Dispersion eines Katalysators und eines Haftvermittlers
EP2933019A1 (en) * 2014-04-15 2015-10-21 Henkel AG&Co. KGAA Storage stable heat activated quaternary ammonium catalysts for epoxy cure
US10113075B2 (en) 2014-09-04 2018-10-30 Igm Malta Limited Polycyclic photoinitiators
RU2708214C2 (ru) 2015-02-02 2019-12-04 Колопласт А/С Устройство для стомы
TWI649620B (zh) * 2015-02-18 2019-02-01 日商住友電木股份有限公司 含有光產鹼劑的光可成像組成物
EP3277884A1 (en) 2015-03-30 2018-02-07 Basf Se High gloss metal effect papers and boards
EP3280368B1 (en) 2015-04-10 2019-06-12 Coloplast A/S Ostomy device
KR102143261B1 (ko) * 2016-04-01 2020-08-10 주식회사 엘지화학 잉크 조성물, 이로 제조된 경화 패턴, 이를 포함하는 발열체 및 이의 제조방법
US10597515B2 (en) 2016-09-02 2020-03-24 Igm Group B.V. Polycyclic glyoxylates as photoinitiators
US11098151B2 (en) 2016-10-14 2021-08-24 Basf Se Hardenable polymer composition
CN109952349A (zh) 2016-11-03 2019-06-28 3M创新有限公司 将密封剂施用到飞机部件的方法
CA3042861A1 (en) 2016-11-03 2018-05-11 3M Innovative Properties Company Compositions including a photolatent amine, camphorquinone, and a coumarin and related methods
EP3784499A1 (en) 2018-04-25 2021-03-03 Basf Se Process for the production of strongly adherent (embossed) films on flexible substrates
CN112639034A (zh) 2018-09-24 2021-04-09 巴斯夫欧洲公司 用于3d打印的可uv固化组合物
WO2020064522A1 (en) 2018-09-24 2020-04-02 Basf Se Photocurable composition for use in 3d printing
MX2021004736A (es) 2018-10-25 2021-06-04 Basf Se Composiciones, que comprenden nanoplaquetas de plata.
EP3680274A1 (en) 2019-01-14 2020-07-15 Basf Se Hydroxyurethane (meth)acrylate prepolymers for use in 3d printing
EP3680263A1 (en) 2019-01-14 2020-07-15 Basf Se Limonene-based (meth)acrylates for use in 3d printing
CN113302064A (zh) 2019-01-21 2021-08-24 巴斯夫欧洲公司 安全元件
CN113272087B (zh) 2019-01-29 2024-04-19 巴斯夫欧洲公司 安全元件
AU2020269835A1 (en) 2019-05-06 2022-01-06 Basf Se Compositions, comprising silver nanoplatelets
JP2023500370A (ja) 2019-11-07 2023-01-05 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 3d印刷で使用するための水洗可能な組成物
WO2021213942A1 (en) 2020-04-23 2021-10-28 Basf Se Compositions, comprising platelet-shaped transition metal particles
CN112221541B (zh) * 2020-09-27 2022-07-05 东北师范大学 一种多酸-卟啉杂化材料及其制备方法和应用
CN112569936B (zh) * 2020-12-14 2022-04-15 江南大学 一种新型选择性合成双酚f的金属掺杂催化剂及其制备方法和应用
WO2022209858A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 富士フイルム株式会社 紫外線感知部材、紫外線感知キット
DE102021006273B4 (de) * 2021-12-21 2024-06-13 Lohmann Gmbh & Co. Kg Indikatormischung
WO2023170132A1 (en) 2022-03-10 2023-09-14 Basf Se Casting lacquer for screen printing

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3702999C2 (de) * 1987-02-02 2003-03-06 Siemens Ag Vorrichtung zur Verarbeitung von UV-härtbaren Reaktionsharzmassen und deren Anwendung
DE69009837T2 (de) * 1989-04-19 1994-10-13 Nat Starch Chem Invest Klebstoff-/Dichtungsmittel-Zusammensetzung und Verfahren zu ihrer Anwendung.
AU726375B2 (en) * 1997-02-26 2000-11-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoactivatable nitrogen-containing bases based on alpha-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
DE59903270D1 (de) * 1998-08-21 2002-12-05 Ciba Sc Holding Ag Photoaktivierbare stickstoffhaltige basen
US6485886B1 (en) * 1998-10-29 2002-11-26 Ciba Specialty Chemicals Corporation Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
DE19851139A1 (de) * 1998-11-05 2000-05-11 Basf Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von gehärteten Lackschichten
SG78412A1 (en) * 1999-03-31 2001-02-20 Ciba Sc Holding Ag Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
KR100728462B1 (ko) * 2000-05-26 2007-06-13 아크조 노벨 엔.브이. 광활성가능한 코팅조성물
ATE460445T1 (de) * 2000-07-28 2010-03-15 Woodbridge Foam Corp Verbesserte härteeigenschaften aufweisendes geschäumtes auf isocyanat basierendes polymer und verfahren zur herstellung
AU2002227945A1 (en) * 2000-12-04 2002-06-18 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Onium salts and the use therof as latent acids
KR100918556B1 (ko) * 2001-07-19 2009-09-21 램베르티 에스.피.에이. 술포늄염, 이의 제조방법 및 방사선 경화계용광개시제로서의 이의 용도
EP1436297B1 (en) * 2001-10-17 2007-04-25 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoactivable nitrogen bases
GB0204467D0 (en) * 2002-02-26 2002-04-10 Coates Brothers Plc Novel fused ring compounds, and their use as cationic photoinitiators
CN100348336C (zh) * 2003-02-06 2007-11-14 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 用于施加可光化辐射固化的涂层的喷枪和方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101925616A (zh) * 2008-01-28 2010-12-22 巴斯夫欧洲公司 用于氧化还原固化可自由基固化的配制剂的光潜脒碱
CN102369068A (zh) * 2009-04-08 2012-03-07 拜尔材料科学有限公司 加强的可uv-a固化的复合组合物和方法
CN102369068B (zh) * 2009-04-08 2015-04-01 湛新Ip有限公司 加强的可uv-a固化的复合组合物和方法
CN102081303A (zh) * 2009-11-26 2011-06-01 住友化学株式会社 光致抗蚀剂组合物
TWI495952B (zh) * 2009-11-26 2015-08-11 Sumitomo Chemical Co 光阻組成物
CN103987754A (zh) * 2011-12-16 2014-08-13 三键精密化学有限公司 固化性树脂组合物
CN107531886A (zh) * 2015-04-29 2018-01-02 3M创新有限公司 由多硫醇和聚环氧化合物制备聚合物网络的方法
CN107531886B (zh) * 2015-04-29 2020-08-07 3M创新有限公司 由多硫醇和聚环氧化合物制备聚合物网络的方法

Also Published As

Publication number Publication date
BRPI0513709A (pt) 2008-05-13
CN1988956B (zh) 2012-10-03
US20070249484A1 (en) 2007-10-25
KR101166746B1 (ko) 2012-07-27
WO2006008251A3 (en) 2006-04-13
RU2381835C2 (ru) 2010-02-20
EP1789188A2 (en) 2007-05-30
RU2007106175A (ru) 2008-08-27
KR20070044461A (ko) 2007-04-27
TW200615049A (en) 2006-05-16
JP2008506826A (ja) 2008-03-06
WO2006008251A2 (en) 2006-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1988956B (zh) 通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用
CN101522745B (zh) 以封闭异氰酸酯为基础的体系的光潜碱
CN100482694C (zh) 等离子体诱发的涂层固化
CN101874050B (zh) 基于有机金属化合物的光潜催化剂
CN1307207C (zh) 可引入的光敏引发剂
CN104736513B (zh) 混合光引发剂
EP2829534B1 (en) Novel compound and photosensitive resin composition
CN101641643B (zh) 可光活化的氮碱
TWI431020B (zh) A reactive urethane compound having an ether bond, a hardened composition and a hardened product
CN102497930B (zh) 光潜钛螯合物催化剂
CN101925616A (zh) 用于氧化还原固化可自由基固化的配制剂的光潜脒碱
JP2001512421A (ja) α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基
CN102186815A (zh) 锍衍生物及其作为潜酸的用途
CN101523289A (zh) 包含苯甲酰甲酸酯型光引发剂的可光固化组合物
KR102669269B1 (ko) 화합물, 잠재성 염기 발생제, 상기 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물, 및 경화물
JP2001515500A (ja) α−アミノアルケン類に基づく光励起性の窒素含有塩基類
CN103596684B (zh) 光潜钛-氧-螯合物催化剂
JP5978138B2 (ja) 新規化合物及び感光性樹脂組成物
CN101133132A (zh) 可自由基固化的涂料配混物
JPS61120862A (ja) 被覆方法
KR20220094795A (ko) 수용화도가 우수하여 미반응물의 제거가 용이한 아미노 술폰산 변성 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트-이소시아누레이트-아크릴레이트화합물을 포함하는 3d 광경화수지 조성물
JP2001348375A (ja) マレイミド化合物の製造方法、これを用いた樹脂組成物及びその硬化物
TW202204460A (zh) 硬化性樹脂組成物、乾膜、硬化物及印刷配線板

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20121003

Termination date: 20140711

EXPY Termination of patent right or utility model