CN1950198A - 基体的保护方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种通过在基体表面上配置导电体与电介质或半导体的复合体，防止或降低基体的经时性褪色或变色，且具有防污功能的新方法。

Description

基体的保护方法
技术领域
本发明涉及通过赋予基体表面正电荷使该表面亲水化、防止或降低污染及进行保护的方法。本申请要求2004年5月6日申请的2004-137330号日本专利申请的优先权，并将其内容引用于此。
背景技术
迄今为止，已知被着色的各种基体(例如，印刷品、建材、纤维、有机高分子树脂制品等)会发生经时性地褪色或变色。作为上述褪色或变色的原因，可以举出光引起的劣化、基体表面附着污染物质等，作为其对策，考虑了各种方法。
例如，为了防止光引起的劣化，采用在基体中混入紫外线吸收剂等方法。
另一方面，为了防止及除去基体表面的污染物质的附着，也开发了在基体表面形成具有防污功能或自我清洁功能的被膜的方法。作为该方法，例如有特开平9-262481号公报中记载的使用锐钛矿型氧化钛形成光触媒层的方法等。
专利文献1：特开平9-262481号公报
发明内容
但是，在基体中混入紫外线吸收剂时，存在因基体中成分的作用导致紫外线吸收剂分解，无法充分发挥紫外线吸收效果的情况。
另外，赋予基体表面光触媒功能时，由于基体的种类，可能导致在光触媒作用下基体自身分解劣化。
本发明目的在于提供防止或降低基体的经时性褪色或变色的新方法。
本发明的目的通过在基体表面上或基体表面层中配置导电体与电介质或半导体的复合体而实现。
根据本发明，通过上述复合体的作用在基体表面生成正电荷，从而使基体表面呈现亲水性，可以防止或减少污染物质的附着，同时还可以保护基体使其不受紫外线等的侵害。
上述复合体优选含有有机硅化合物。另外，上述基体表面与上述复合体之间可以形成中间层，还可以在上述复合体的表面形成光触媒层。
浮游于大气中的污染物质及/或附着于基体上的污染物质在太阳光等的作用下被光氧化，带有正电荷，但是由于实施本发明方法的基体表面上也生成正电荷，所以上述污染物质受到静电排斥而自然从基体表面脱离。因此，可以自清洁基体表面。
另外，根据本发明的方法处理后的基体对太阳光等的作用本身具有高抵抗力。因此，可以良好地保护基体不在太阳光等的作用下发生光劣化。
通过上述作用，本发明可长期地防止或降低基体的褪色或变色。特别是在并用硅或改性硅的情况下，可以发挥更优良的效果。
附图说明
图1为表示利用本发明所使用的复合体赋予正电荷的机制的概念图。
图2表示从带有正电荷的基体表面除去污染物质的机制的概念图。
图3表示金属掺杂氧化钛的第1制备方法之一例的简图。
图4表示赋予基体正电荷的几种方案的概念图。
图5表示实施例中的评价5的结果图。
图6表示实施例中的评价6的结果图。
图7表示在实施例的评价7中使用的基板的图。
图8表示实施例中的评价7的结果图。
具体实施方式
作为基体表面褪色或变色的原因之一的污染物质是通过浮游于大气中的碳等无机物质及/或油等有机物质慢慢地堆积在基体表面从而附着在基体表面。
本发明的技术构思的主旨在于通过静电排斥作用，从基体除去上述污染物质，或避免或降低上述污染物质附着于基体。
主要浮游于屋外的大气中的污染物质、特别是油分在以太阳光为代表的各种电磁波的作用下发生所谓的光氧化反应，处于被“氧化”的状态。
光氧化反应是指在以太阳光为代表的电磁波的作用下，由有机物或无机物表面的水分(H2O)、氧气(O2)产生羟基自由基(·OH)或单态氧(1O2)时，从该有机物或无机物中夺走电子(e-)而使该有机物或无机物被氧化的现象。通过氧化，有机物分子结构发生变化而呈现出被称为劣化的变色或脆化现象，无机物特别是金属会生锈。上述被“氧化”的有机物或无机物的表面由于电子(e-)被夺走而带正电。
本发明中，通过赋予基体表面正电荷，利用静电排斥力使上述有机物或无机物从基体表面自然地脱离。作为赋予基体表面正电荷的方法，在本发明中，使用导电体与电介质或半导体的复合体。通过上述复合体赋予电荷的原理如图1所示。
图1表示在省略图示的基体的表面上或表面层中配置导电体-电介质或半导体-导电体的组合的概念图。导电体可以通过可自由移动的自由电子以高浓度存在于内部，使表面具有正电荷状态。另外，作为导电体也可使用含有正离子的导电性物质。另一方面，与导电体邻接的电介质或半导体受到导电体表面电荷状态的影响而发生电介质极化。结果导致在电介质或半导体中，邻接于导电体一侧产生负电荷，在非邻接一侧产生正电荷。通过该作用，使导电体-电介质或半导体-导电体的组合的表面带有正电荷，赋予基体表面正电荷。
下面从带有正电荷的基体表面除去污染物质的机制如图2所示。
首先，通过在基体表面上或基体表面层中配置导电体与电介质或半导体的复合体，赋予基板表面正电荷(图2-(1))。
污染物质堆积在基体表面上，受太阳光等电磁波的作用而发生光氧化。由此，也可赋予污染物质正电荷(图2-(2))。
在基体表面与污染物质之间正电荷彼此发生静电排斥，对污染物质产生排斥脱离力。由此，降低污染物质对基体表面的附着力(图2-(3))。
通过风雨等物理作用，污染物质被容易地从基体上除去(图2-(4))。由此，基体被自清洁。
作为本发明对象的基体没有特别限定，可以使用各种无机类基体及有机类基体、或上述基体的组合。
作为无机类基体，例如，可以举出由透明或不透明玻璃、金属、金属氧化物、陶瓷、混凝土、灰浆、石材等物质构成的基体。另外，作为有机类基体，例如，可以举出由有机树脂、木材、纸等物质构成的基体。更具体地可列举有机树脂，例如可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、ABS树脂、聚氯乙烯、硅、三聚氰胺树脂、尿素树脂、硅树脂、氟树脂、纤维素、环氧变性树脂等。基体的形状也没有特别限定，可以采取立方体、长方体、球形、薄片形、纤维状等任意形状。另外，基体也可以为多孔质。作为基体，优选使用建筑·土木用密封材料。
可以对基体的表面进行涂装，作为涂装材料，可优选使用含有醇酸树脂、丙烯酸树脂、氨基树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、硅树脂、氟树脂、丙烯酸硅树脂、不饱和聚酯树脂、紫外线固化树脂、酚醛树脂、氯乙烯树脂、合成树脂乳胶等合成树脂和着色剂的所谓油漆涂料。
上述涂装膜的厚度优选为0.01～100μm，较优选为0.1～50μm，特别优选为0.5μm～10μm。
另外，作为涂装方法，例如可以适用喷雾涂敷法、浸涂法、流涂法、旋涂法、辊涂法、刷毛涂敷法、海绵涂敷法等。需要说明的是，为了提高涂装膜的硬度、与基体的密接性等物理性能，优选在基体与涂装膜容许的范围内加热。
构成用于本发明的复合体的导电体从耐用性的观点考虑优选金属，可以举出铝、锡、铯、铟、铈、硒、铬、镍、锑、铁、银、铜、锰、铂、钨、锆、锌等金属。
作为导电体，也可以使用部分金属的金属盐。具体地可以列举氯化铝、氯化亚锡及氯化锡、氯化铬、氯化镍、氯化亚锑及氯化锑、氯化亚铁及氯化铁、硝酸银、氯化铯、三氯化铟、氯化亚铈、四氯化硒、氯化铜、氯化锰、氯化铂、四氯化钨、二氯氧化钨、钨酸钾、氯化金、氯氧化锆、氯化锌等各种金属盐。另外，也可使用氢氧化铟、硅钨酸等氢氧化物或氧化物等。
作为导电体，也可以使用聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚噻吩维尼仑、聚异硫茚、聚乙炔、聚烷基吡咯、聚烷基噻吩、聚对苯撑、聚苯撑维尼仑、聚甲氧基苯撑、聚苯硫醚、聚苯醚、聚蒽、聚萘、聚芘、聚薁等导电性高分子。
作为半导体，例如有C、Si、Ge、Sn、GaAs、InP、GeN、ZnSe、PbSnTe等，也可以使用半导体氧化金属或光半导体金属、光半导体氧化金属。优选氧化钛(TiO2)，除此之外还优选使用ZnO、SrTiOP3、CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O3、WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、MoS3、InSb、RuO2、CeO2等，优选用Na等使光触媒性能失活的物质。
作为电介质，可以举出强电介质钛酸钡(PZT)所谓的SBT、BLT或以下所列举的PZT、PLZT-(Pb、La)(Zr、Ti)O3、SBT、SBTN-SrBi2(Ta、Nb)2O9、BST-(Ba、Sr)TiO3、LSCO-(La、Sr)CoO3、BLT、BIT-(Bi、La)4Ti3O12、BSO-Bi2SiO5等复合金属。另外，也可使用作为有机硅化合物的硅烷化合物、硅化合物、所谓的有机改性二氧化硅化合物、及有机聚合物绝缘膜丙炔醚类聚合物、苯并环丁烯、氟类聚合物对二甲苯树脂N、或F、氟化非晶质碳等各种低电介质材料。
作为导电体与电介质或半导体的复合体，只要能赋予基体表面正电荷，可以使用任意的导电体与电介质或半导体的组合，但是从基体表面的亲水性·自清洁化方面考虑，优选使用金属掺杂氧化钛。作为上述金属，优选使用选自铜、锰、镍、钴、铁及锌的金属元素的至少一种，作为氧化钛，可以使用TiO2、TiO3、TiO、TiO3/nH2O等各种氧化物、过氧化物。特别优选具有过氧基的过氧化钛。氧化钛可以为非晶质型、锐钛矿型、板钛矿型、金红石型中的任一种，也可以混合上述类型的氧化钛，但是优选非晶质型氧化钛。
非晶质型氧化钛不具有光触媒功能。另一方面，锐钛矿型、板钛矿型及金红石型氧化钛虽然具有光触媒功能，但是如果使其与一定浓度以上的铜、锰、镍、钴、铁或锌复合，则丧失光触媒功能。因此上述金属掺杂钛氧化物不具有光触媒功能。另外，非晶质型氧化钛因被太阳光加热等而经时性地转化为锐钛矿型氧化钛，但是与铜、锰、镍、钴、铁或锌复合时，由于锐钛矿型氧化钛会丧失光触媒功能，因此上述金属掺杂钛氧化物不会经时性地呈现光触媒功能。
作为上述金属掺杂钛氧化物的制备方法，可以采用以作为通常的二氧化钛粉末的制备方法的盐酸法或硫酸法为基础的制备方法，也可以采用各种液体分散二氧化钛溶液的制备方法。上述金属不论在任何制备阶段都可以与钛氧化物复合化。
例如，作为上述金属掺杂钛氧化物的具体的制备方法，可以举出以下的第1～第3制备方法及现有已知的溶胶-凝胶法。
第1制备方法
首先，使四氯化钛等四价钛的化合物与氨等碱反应形成氢氧化钛。然后用氧化剂使该氢氧化钛过氧化，形成非晶质型过氧化钛的超微细粒子。该反应优选在水性介质中进行。也可以进一步通过任意进行加热处理使其转化为锐钛矿型过氧化钛。在上述各工序的任一工序中，混合铜、锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少1种。
过氧化用氧化剂没有特别限定，只要能形成钛的过氧化物即过氧化钛即可，可以使用各种氧化剂，但是优选过氧化氢。使用过氧化氢水溶液作为氧化剂时，过氧化氢的浓度没有特别限定，但优选为30～40％。优选在进行过氧化前冷却氢氧化钛。此时，冷却温度优选为1～5℃。
图3表示上述第1制备方法之一例。在图示的制备方法中，在铜、锰、镍、钴、铁、锌的化合物中的至少1种存在下混合四氯化钛水溶液与氨水，使其生成该金属的氢氧化物及钛的氢氧化物的混合物。对此时的反应混合液的浓度及温度没有特别限定，优选为稀薄且常温。该反应为中和反应，反应混合液的pH优选最终调节至7左右。
将如上所得的金属及钛的氢氧化物用纯水清洗后，冷却至5℃左右，然后，用过氧化氢水溶液使其过氧化。由此，可以制备含有掺杂了金属的非晶质型的具有过氧基的钛氧化物微细粒子的水性分散液，即含有金属掺杂的钛氧化物的水性分散液。
第2制备方法
用氧化剂使四氯化钛等四价钛的化合物过氧化，使其与氨等碱反应形成非晶质型过氧化钛的超微细粒子。该反应优选在水性介质中进行。也可进一步通过任意地实施加热处理而转化成锐钛矿型过氧化钛。在上述各工序的任一工序中，混合铜、锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少1种。
第3制备方法
同时使四氯化钛等四价钛的化合物与氧化剂及碱同时反应而同时进行氢氧化钛形成与其过氧化，形成非晶质型过氧化钛的超微细粒子。该反应优选在水性介质中进行。也可以进一步通过任意地实施加热处理转化为锐钛矿型过氧化钛。在上述各工序的任一工序中，混合铜、锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少任意1种。
需要说明的是，在第1～第3制备方法中，当然可以使用非晶质型过氧化钛与将其加热所得的锐钛矿型过氧化钛的混合物作为金属掺杂钛氧化物。
利用溶胶-凝胶法的制备方法
在烷醇钛中混合搅拌水、乙醇等溶剂、酸或碱催化剂，使烷醇钛水解，生成钛氧化物超微粒子的溶胶溶液。在该水解前后的任一方中，混合铜、锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少1种。需要说明的是，如上所得的钛氧化物为具有过氧基的非晶质型钛氧化物。
作为上述烷醇钛，优选为用通式：Ti(OR′)4(其中R′为烷基)表示的化合物，或用羧基或β-二羰基取代上述通式中的1或2个烷醇基(OR′)得到的化合物或上述化合物的混合物。
作为上述烷醇钛的具体例，可以举出Ti(O-isoC3H7)4、Ti(O-nC4H9)4、Ti(O-CH2CH(C2H5)C4H9)4、Ti(O-C17H35)4、Ti(O-isoC3H7)2[CO(CH3)CHCOCH3]2、Ti(O-nC4H9)2[OC2H4N(C2H4OH)2]2、Ti(OH)2[OCH(CH3)COOH]2、Ti(OCH2CH(C2H5)CH(OH)C3H7)4、Ti(O-nC4H9)2(OCOC17H35)等。
此外，本发明的特定金属掺杂钛氧化物也可采用使特开2000-159786号说明书(在此引用其内容)中记载的“有机钛过氧化合物”与上述特定金属化合物混合溶解于水中，浓缩得到的溶液使其凝胶化的方法制备。
四价钛化合物
作为用于金属掺杂钛氧化物制备中的四价钛化合物，只要是与碱反应时可形成又称为原钛酸(H4TiO4)的氢氧化钛的化合物即可，可以使用各种钛化合物，例如有四氯化钛、硫酸钛、硝酸钛、磷酸钛等钛的水溶性无机酸盐。此外，也可使用草酸钛等钛的水溶性有机酸盐。需要说明的是，上述各种钛化合物中，从水溶性特别优良且在金属掺杂钛氧化物的分散液中不残留钛以外的成分方面考虑，优选四氯化钛。
另外，使用四价钛化合物的溶液时，该溶液的浓度只要为可以形成氢氧化钛的凝胶的范围即可，没有特别限定，但是优选比较稀薄的溶液。具体而言，四价钛化合物的溶液浓度优选为5～0.01wt％，更优选为0.9～0.3wt％。
碱
与上述四价钛化合物反应的碱只要能与四价钛化合物反应形成氢氧化钛即可，可以使用各种碱，其中，可以举出氨、氢氧化钠、碳酸钠、氢氧化钾等，优选氨。
另外，使用上述碱的溶液时，该溶液的浓度只要为可形成氢氧化钛凝胶的范围即可，没有特别限定，但是优选比较稀薄的溶液。具体而言，碱溶液浓度优选为10～0.01wt％，更优选为1.0～0.1wt％。特别是使用氨水作为碱溶液时的氨浓度优选为10～0.01wt％，更优选为1.0～0.1wt％。
金属化合物
作为铜、锰、镍、钴、铁或锌的化合物，可以分别列举以下的化合物。
Ni化合物：Ni(OH)2、NiCl2
Co化合物：Co(OH)NO3、Co(OH)2、CoSO4、CoCl2
Cu化合物：Cu(OH)2、Cu(NO3)2、CuSO4、CuCl2、Cu(CH3COO)2
Mn化合物：MnNO3、MnSO4、MnCl2
Fe化合物：Fe(OH)2、Fe(OH)3、FeCl3
Zn化合物：Zn(NO3)2、ZnSO4、ZnCl2
按照第1至第3制备方法所得的水性分散液中过氧化钛的浓度(含共存的铜、锰、镍、钴、铁或锌的合计量)优选为0.05～15wt％，更优选为0.1～5wt％。另外，关于铜、锰、镍、钴、铁、锌的配合量，以钛与金属成分的摩尔比计算，本发明优选为1∶1，从水性分散液的稳定性考虑优选为1∶0.01～1∶0.5，更优选为1∶0.03～1∶0.1。
图4是表示使用上述导电体-电介质或半导体的复合体赋予基体正电荷的几个方案的概念图。
图4(1)是表示在基体表面形成由导电体的微细粒子与电介质或半导体的微细粒子构成的复合体层的方案。导电体与电介质或半导体的复合体的粒子大小设定为1nm～10μm的范围。另外，复合体中的导电体微细粒子与电介质或半导体微细粒子的组合比例优选为1∶20～1∶1。上述复合体层的厚度可设定为10nm～100μm的范围。
图4(1)的复合体层例如可通过将上述金属掺杂钛氧化物的水性分散液涂敷在基体表面后，使其干燥而制成。含有金属掺杂钛氧化物的层的厚度优选为0.01μm～2.0μm，更优选为0.1μm～1.0μm。作为上述涂敷方法，可以使用刷毛涂敷法、辊涂法、喷雾涂敷法等常用的膜形成方法。
图4(2)是表示将导电体微细粒子聚集在电介质或半导体制的基体表面层中而复合化的方案。图4(2)的方案例如可通过在浇铸成型中未固化的绝缘性树脂液中混入特定量的比重高于或低于该树脂的导电性微细粒子而形成。导电体粒子的大小可设定为0.1nm至100nm，优选设定为0.1nm至10nm的范围。
图4(3)是表示将电介质或半导体的微细粒子聚集于导电体制的基体表面层中而复合化的方案。图4(3)的方案例如可以通过在铸造中的熔融金属液中混入特定量的比重高于或低于该金属的电介质或半导体微细粒子而形成。导电体的粒子大小可设定为0.1nm至100nm，优选设定为0.1nm～10nm之间。
图4(4)是表示将由导电体的微细粒子与半导体的微细粒子组成的复合体聚集于基体表面层中而复合化的方案。图4(4)的方案例如可以通过在浇铸成型中的未固化的树脂液中混入特定量的比重高于或低于该树脂的上述复合体粒子而形成。
大气中的水分(H2O)会被物理吸附至上述基体表面，但在以太阳光为代表的各种电磁波的作用下发生下述反应：
吸附水被分解而产生羟基(OH-)。由此产生的羟基被基板的正电荷所吸引而赋予基体亲水性。基板表面的亲水化可促进其防止或降低污染，并赋予其自清洁功能。
另外，基体表面的正电荷可降低电磁波引起的基体的氧化劣化。即，基体的氧化劣化的原因在于在基体表面或基体中，因紫外线等电磁波产生1O2、·OH等自由基，发生氧化分解反应，但基体的正电荷表面可以使上述自由基成为稳定的分子。因此，认为可防止或降低基体的氧化劣化。另外，基体为金属制的情况下，可采用相同处理降低锈的生成。
如上所述，亲水性对于有效地表现出自清洁功能(防污机能)来说是重要的。为进一步提高其亲水性(超亲水性)，且促进上述导电体微细粒子乃至电介质或半导体微细粒子的分散，优选添加各种表面活性剂或分散剂。
作为表面活性剂或分散剂，可以使用各种有机硅化合物。作为有机硅化合物，可以使用各种硅烷化合物及各种硅油、硅橡胶及硅树脂，但是优选使用分子中具有烷基硅酸酯结构或聚醚结构的化合物、或具有烷基硅酸酯结构与聚醚结构两者的化合物。
此处，所谓烷基硅酸酯结构，是指烷基键合于硅氧烷骨架的硅原子上的结构。另一方面，聚醚结构并不限定于此，具体地可以举出聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、聚四氢呋喃、聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌段共聚物、聚乙烯-聚丁二醇共聚物、聚丁二醇-聚环氧丙烷共聚物等分子结构。其中，从可以通过其嵌段度及分子量控制润湿性的观点考虑，更优选聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌段共聚物。
特别优选分子中同时具有烷基硅酸酯结构与聚醚结构的有机物质。具体地优选聚醚改性聚二甲基硅氧烷等聚醚改性硅。可以采用公知的方法进行制备，例如，可以根据特开平4-242499号公报的合成例1、2、3、4或特开平9-165318号公报的参考例记载的方法等进行制备。特别优选利用使两末端甲代烯丙基聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌段共聚物与二氢聚二甲基硅氧烷反应所得的聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌段共聚物变性聚二甲基硅氧烷。
具体地可以使用TSF4445、TSF4446(GE东芝硅株式会社制)、SH200(东丽道康宁硅株式会社制)、KP系列(信越化学工业株式会社制)及DC3PA、ST869A、SH3746、SH3746M(东丽道康宁硅株式会社制)等。上述物质为涂料用添加剂，除了涂料用添加剂外，只要能赋予该性能的添加剂均可适当使用。
上述有机硅化合物本来是用于稳定基体表面或复合体，通常在基体表面处理后，因风雨·流水及加热而失去亲水性部分。但是，在本发明中，因基体表面带有正电荷，故该亲水性部分丧失后，仍可观察到通过大气中的水分再次恢复亲水性能的现象。
利用该机能，可制成充分发挥“防污·防雾功能”的产品。可将其应用于所有的基体，特别是可有效用于玻璃、金属、丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂等透明有机基体或具有高装饰性的研磨金属板、石材基体等。
另外，在上述金属掺杂钛氧化物中添加具有烷基硅酸酯结构或聚醚结构、或同时具有上述两种结构的硅或改性硅，而在基体上形成复合体层时，在复合体层的表面未表现出光触媒功能，未确认该有机化合物分解得到的防污、抗菌、气体分解、水净化作用。因此，使用该金属掺杂钛氧化物作为复合体，可防止基体的光氧化劣化。
在本发明中，在基体表面与复合体之间也可有中间层存在。特别是在基体表面形成含有有机硅化合物的复合体层时，优选预先在基体上形成含硅烷化合物的中间层。该中间层由于含有大量Si-O键，故可提高复合体层的强度或与基体的密接性。另外，上述中间层也具有防止水分侵入基体的功能。
作为硅烷化合物，可以列举水解性硅烷、其水解产物及上述化合物的混合物。作为水解性硅烷，可使用各种烷氧基硅烷，具体地可以列举四烷氧基硅烷、烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、三烷基烷氧基硅烷。其中，可以单独使用1种水解性硅烷，也可根据需要混合使用2种以上水解性硅烷。另外，也可将各种聚有机硅氧烷配合于上述硅烷化合物中。作为含有上述硅烷化合物的中间层形成剂，有Dryseal S(东丽道康宁硅株式会社制)。
另外，作为中间层形成剂，也可以使用甲基硅树脂及甲基苯基硅树脂等室温固化型硅树脂。作为上述室温固化型硅树脂，有AY42-170、SR2510、SR2406、SR2410、SR2405、SR2411(东丽道康宁硅株式会社制)。
中间层可以为无色透明，也可以为着色的透明、半透明或不透明。此处的着色是指不仅包括红、蓝、绿等色，也包括利用白色形成的颜色。为获得着色的中间层，优选在中间层中配合无机或有机颜料或染料等各种着色剂。
作为无机颜料，可以列举炭黑、石墨、铬黄、氧化铁黄、红丹、氧化铁红、群青、氧化铬绿、氧化铁等。作为有机颜料，可以使用偶氮类有机颜料、酞菁类有机颜料、士林类有机颜料、喹吖啶酮类有机颜料、二噁嗪类有机颜料、异吲哚满酮类有机颜料、二酮吡咯并吡咯类有机颜料及各种金属配位化合物，优选耐光性优良的有机颜料。作为有耐光性的有机颜料，例如，可以举出作为不溶性偶氮类有机颜料的汉撒黄、甲苯胺红，作为酞菁类有机颜料的酞菁蓝B、酞菁绿，作为喹吖啶酮类有机颜料的喹吖啶酮红等。
作为染料，可以举出碱性染料、直接染料、酸性染料、植物性染料等，但优选耐光性优良的染料，例如，红色特别优选直接大红、石蕊紫、偶氮玉红，橙色特别优选直接橙R Conc.、酸性橙，黄色特别优选直接菊黄NS、间胺黄，茶色特别优选直接褐KGG、酸性褐R，蓝色特别优选直接蓝B，黑色特别优选直接黑GX、苯胺黑BHL等。
中间层为由硅烷化合物或硅树脂构成时，该硅烷化合物或硅树脂与颜料的混合比(重量比)优选为1∶2～1∶0.05的范围，更优选为1∶1～1∶0.1的范围。
另外，在中间层中也可以进一步配合分散剂、稳定剂、均化剂等添加剂。上述添加剂具有容易形成中间层的作用。另外，配合颜料·染料等着色剂时，也可以添加该着色剂的固色辅助用粘合剂。作为该情况下的粘合剂，可以使用以耐气候性优良的丙烯酸酯或丙烯酸酯共聚物为主要成分的各种涂料用粘合剂，例如可以举出Polysol AP-3720(昭和高分子株式会社制)、Polysol AP-609(昭和高分子株式会社制)等。
中间层例如可以按照以下操作形成。将挥发性溶剂中含有由硅烷化合物或硅树脂构成的中间层形成剂及根据需要含有上述着色剂、上述添加剂及上述粘合剂的溶液，涂敷在上述基体表面形成2～5mm左右的厚度。根据需要加热，使挥发性溶剂蒸发而在基体上形成中间层。通过将着色的中间层与基体一体化，可赋予基体着色装饰性。
按照上述操作所形成的中间层的厚度没有特别限定，但是优选为0.01～1.0μm，更优选为0.05～0.3μm。另外，添加着色剂、添加剂及粘合剂时，优选为1.0μm～100μm，更优选为10μm～50μm。
作为在基体上的中间层的形成方法，可使用公知的任意方法，例如喷雾涂敷法、浸涂法、流涂法、旋涂法、辊涂法、刷毛涂敷法、海棉涂敷法等。另外，为了提高中间层的硬度、与基体的密接性等物理性能，优选在基体上形成中间层后，在允许范围内的温度下将其加热。
在本发明的复合体表面可进一步设置光触媒功能层。
光触媒功能层是具有通过对特定的金属化合物进行光激发而氧化分解该层表面的有机及/或无机化合物的功能的层。光触媒的原理通常理解为特定金属化合物被光激发而由空气中的水或氧气产生OH-及O2 -自由基种，该自由基种氧化还原分解有机及/或无机化合物。
但是，由于光触媒功能层表面不产生正电荷而会产生负电荷，故因光氧化反应而带正电的污染物质可通过静电力附着于光触媒功能层表面。而附着的污染物质可被上述自由基种分解，在分解物的静电力降低的阶段，通过流水·风雨等外力，将分解物除去。
作为上述金属化合物，已知有代表性的氧化钛(TiO2)，除此之外还已知有ZnO、SrTiOP3、CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O5、WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、MoS3、InSb、RuO2、CeO2等
光触媒功能层可通过将同时含有根据需要添加的各种添加剂、上述金属化合物的微粒(2nm～20nm左右)的水性分散液在复合体层上涂敷·干燥而形成。光触媒功能层的厚度优选为0.01μm～2.0μm，更优选为0.1μm～1.0μm。作为光触媒功能层形成用液，优选使用水性分散液，但也可以醇类为溶剂。
光触媒功能层形成用水性分散液例如可以利用以下的方法制成。另外，水性分散液中的过氧化钛在干燥造膜状态下可变成氧化钛。
第1制备方法
使上述的四价钛化合物与氨等碱反应形成氢氧化钛。然后，用过氧化氢等氧化剂将该氢氧化钛过氧化，形成非晶质型过氧化钛的超微细粒子。再利用加热处理使其转化为锐钛矿型过氧化钛。
第2制备方法
用过氧化氢等氧化剂将上述的四价钛化合物过氧化，然后，使其与氨等碱反应形成非晶质型过氧化钛的超微细粒子。再利用加热处理使其转化成锐钛矿型过氧化钛。
第3制备方法
使上述的四价钛的化合物与过氧化氢等氧化剂及与氨等碱反应，同时进行氢氧化钛的形成与过氧化，以形成非晶质型过氧化钛的超微细粒子。再通过加热处理使其转化为锐钛矿型过氧化钛。
光触媒功能层中也可以添加提高光触媒性能的金属(Ag、Pt)。另外，为降低有机及/或无机化合物对表面的静电附着，也可在不使光触媒功能失活程度的范围内添加金属盐等各种物质，作为上述金属盐，可以举出铝、锡、铬、镍、锑、铁、银、铯、铟、铈、硒、铜、锰、钙、铂、钨、锆、锌等的金属盐，此外，对于部分金属或非金属等，也可以使用氢氧化物或氧化物。具体地可以举出氯化铝、氯化亚锡及氯化锡、氯化铬、氯化镍、氯化亚锑及氯化锑、氯化亚铁及氯化铁、硝酸银、氯化铯、三氯化铟、氯化亚铈、四氯化硒、氯化铜、氯化锰、氯化钙、氯化铂、四氯化钨、二氯氧化钨、钨酸钾、氯化金、氯氧化锆、氯化锌等各种金属盐。另外，作为金属盐以外的化合物，也可列举氢氧化铟、硅钨酸、硅溶胶、氢氧化钙等。为了提高光触媒功能层的固着性，也可以配合非晶质型氧化钛。
在光触媒功能层的作用下分解基体表面的污染物质，故可防止基体表面的污染，经时性地维持基体的装饰性。另外，如果直接在基体上形成光触媒功能层，则光触媒功能层有经时性地由基体上剥离的可能，但可通过间隔复合体层，使光触媒功能层良好地与基体一体化。
另外，在基体表面形成上述中间层时，如果在中间层上直接形成光触媒功能层，则中间层中的硅化合物等会因为光触媒功能层的氧化分解作用而劣化，但在本发明中，由于在中间层与光触媒功能层间间隔不具有光触媒功能的复合体层，故中间层不会劣化。
实施例
参考例1(导电体(Cu)与电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在将0.463g 97％CuCl2·2H2O(氯化铜)(日本化学产业株式会社制)完全溶解于500ml纯水而配制成的溶液中，进一步添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍得到的氨水滴入该溶液调节至pH7.0，使氢氧化铜与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下。由于导电率达到0.80mS/m而停止清洗，即可制成340g浓度为0.81wt％的氢氧化物。
然后，一边将其冷却至12℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木(Taiki)药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到365g绿色透明的掺杂铜的0.90wt％的非晶质型过氧化钛水溶液。用纯水将其稀释，调制成385g的0.85wt％的作为导电体的铜与作为电介质的非晶质型过氧化钛的分散液。
参考例2(光触媒功能赋予液)
以锐钛矿型过氧化钛水分散液(B56：永续科技株式会社制)作为光触媒机能赋予液。
参考例3(混合液)
调制以7∶3的比率混合参考例1的复合体分散液与参考例2的光触媒功能赋予液的混合液。
实施例1
在市售陶瓷瓷砖(100mm×100mm)基板表面，利用喷枪以20g/m2(湿状态)的比例涂敷参考例1的分散液，使其常温干燥，作为实施例1。
实施例2
与实施例1同样地在瓷砖基板表面涂敷参考例3的混合液，使其常温干燥，作为实施例2。
比较例1
与实施例1同样地在瓷砖基板表面涂敷参考例2的光触媒功能赋予液，使其常温干燥，作为比较例1。
比较例2
以瓷砖基板本身作为比较例2。
用纯水将作为有机染料的市售红色油墨(PILOT公司制)稀释20倍，利用喷枪以20g/m2(湿状态)的比例将其涂敷在实施例1及2及比较例1及2的表面，使其常温干燥。
评价1
并列配置实施例1及2以及比较例1及2，于其上设置15W黑光照明(NATIONAL株式会社制)，以1,400μw/cm2的强度照射紫外线。持续100小时，利用色彩计CR-200(美能达公司制)进行红色的消色评价。结果如表1所示。
[表1]
                        红色油墨消色率(单位：％)
 时间   0   0:35   1:35   3:05   6:30   23:20   47:40   99:45
 实施例1   0.0   1.5   3.5   12.0   28.7   49.6   65.4   77.3
 实施例2   0.0   1.6   5.5   18.8   38.4   62.0   71.7   78.9
 比较例1   0.0   9.7   32.4   66.2   91.7   98.5   98.8   98.5
 比较例2   0.0   0.6   1.0   -2.0   2.5   89.8   94.6   98.0
结果
相对于比较例1及2，实施例1及2的紫外线引起的红色油墨消色率较低，可知其保护有机染料不受紫外线侵害。
另外，由于实施例1及2显示类似的结果，故可知在铜及非晶质型氧化钛的复合体的存在下，不会表现出锐钛矿型过氧化钛的光触媒功能。
另一方面，可知在比较例1中，有机染料在锐钛矿型过氧化钛的光触媒功能作用下被高速分解。
在比较例1中，被锐钛矿型过氧化钛光激发产生的电子(e-)与空气中的氧或水起反应产生活性自由基(O2 -、·OH)，通过其作用分解有机染料。
但是，在实施例1及2中，基板表面处于正电荷状态，生成具有分解能力的自由基(O2 -、·OH)所需的电子(e-)在基板表面被电中和，无法与空气中的氧或水起反应。因此，可知基板表面的有机染料难以被分解。即，可以理解实施例1及2的基板表面带正电荷，可降低有机物的氧化分解。
实施例3
在市售聚碳酸酯基板(40mm×40mm)表面，利用喷枪以20g/m2(湿状态)的比例涂敷参考例1的分散液，使其常温干燥后，在120℃下利用恒温恒湿机加热15分钟，作为实施例3。
比较例3
以聚碳酸酯基板本身作为比较例3。
评价2
在实施例3及比较例3中分别用喷枪以20g/m2(湿状态)的比例涂敷亚甲基蓝水溶液(0.02mmol/l)，使其常温干燥。于其上设置15W黑光照明(NATIONAL公司制)，以1mw/cm2的强度照射紫外线。持续10小时，利用色彩计CR-200(美能达公司制)进行红色的消色评价。结果如表2所示。
[表2]
                    亚甲基蓝消色率(单位：％)
 时间   0   1:56   4:01   5:55   7:45   10:00
 实施例3   0.0   1.0   3.8   5.6   7.3   28.7
 比较例3   0.0   0.0   0.0   0.0   0.0   0.0
结果
在实施例3中，具有下述化学结构的亚甲基蓝的颜色已消失。所述化学结构为： 该现象是
由于紫外线首先使Cl-脱离亚甲基蓝分子，然后，亚甲基蓝分子的正电荷部分与具有正电荷的基板表面相排斥而脱离基板表面。另一方面，在比较例3中则完全观察不到该倾向。
不限于亚甲基蓝，通过日光中的紫外线等而成为正电荷状态的污染物质也会与实施例3相斥而脱离。因此，实施例3具有自动防污功能。
评价3
将实施例3及比较例3放入耐气候促进试验装置1,300小时后进行评价。表示紫外线劣化程度的黄色变化量(ΔYE)显示实施例3为3.8，比较例3为23.0。
结果
可知由于实施例3不具有光触媒功能，因此不会发生粉化，且紫外线劣化(光氧化分解)的程度较低。
参考例4
在100g参考例1的分散液中添加0.4wt％聚醚改性硅油SH3746(东丽道康宁硅公司制)作为参考例4。
实施例4
在浮法玻璃基板(100mm×100mm)表面，利用喷枪以20g/m2(湿状态)的比例涂敷参考例4的分散液，使其常温干燥，用自来水充分冲洗洗净后，放入电气加热锅，在80℃下加热15分钟，作为实施例4。
实施例5
在电气加热锅中在200℃下加热15分钟，除此之外，按照与实施例4相同的操作获得的基板作为实施例5。
实施例6
在电气加热锅中在500℃下加热15分钟，除此之外，按照与实施例4相同的操作获得的基板作为实施例6。
比较例4
以对浮法玻璃基板仅进行与实施例4相同的加热处理的基板作为比较例4。
比较例5
以对浮法玻璃基板仅进行与实施例5相同的加热处理的基板作为比较例4。
比较例6
以对浮法玻璃基板仅进行与实施例6相同的加热处理的基板作为比较例4。
评价4
将实施例4-6及比较例4-6放置于室外1周后，照射紫外线72小时(1,200μw/cm2)。其后，用市售的滴管滴下纯水，1分钟后测定基体上的水膜的直径。测定重复3次，按照以下的基准判定基板的亲水性及疏水性：
直径10mm以上：水滴与玻璃的接触角10°以下(目测)：亲水
直径5mm以下：水滴与玻璃的接触角40°以下(目测)：疏水
结果如表3所示。
[表3]
     亲水性/疏水性判定结果
 第1次  第2次  第3次
 实施例4  亲水  亲水  亲水
 实施例5  亲水  亲水  亲水
 实施例6  亲水  亲水  亲水
 比较例4  疏水  疏水  疏水
 比较例5  疏水  疏水  疏水
 比较例6   疏水  疏水  疏水
结果
可知实施例4-6不管在哪种温度下加热处理，均可维持优良的亲水性，具有防污·防雾性能。
本来，如果加热聚醚改性硅油，则具有亲水性的聚醚基会脱离而增强疏水性，但在实施例4-6中，因基板表面具有正电荷，故存在羟基的吸附作用，所吸附的羟基会置换成聚醚基而维持亲水性。该现象可有效地用作防污·防雾功能。
参考例5(导电体(Sn)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.594g SnCl2·2H2O(氯化亚锡：吉田化学工业(株))完全溶解在500g纯水中而配制成的溶液中，进一步添加10g的50％的四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液中，调节至pH7.0，使氢氧化锡与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下。由于导电率达到0.713mS/m而停止清洗，即可制成304g浓度为0.70wt％的氢氧化物。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g的35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到黄褐色透明的掺杂锡的0.81wt％的非晶质型过氧化钛水溶液328g。
参考例6(导电体(Zn)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.359g ZnCl2(氯化锌)完全溶解在500g纯水中配制而成的溶液中，进一步添加10g的50％四氯化钛溶液(位友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液中，调节至pH7.0，使氢氧化锌与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下。由于导电率达到0.713mS/m而停止清洗，即可制成409g的0.48wt％浓度的氢氧化物。然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到430g黄褐色透明的掺杂锌的非晶质型过氧化钛水溶液。
另外，计量上述制作的掺杂锌的非晶质型过氧化钛水溶液100g，在100℃下加热5小时，得到48g浓度为0.96wt％的淡黄色的掺杂锌的锐钛矿型过氧化钛溶胶。
参考例7(导电体(Al)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.712g AlCl3·6H2O(氯化铝：吉田化学工业(株))完全溶解在500ml纯水中配制而成的溶液中，进一步添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液调节至pH7.0，使氢氧化铝与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下。由于导电率达到0.744mS/m而停止清洗，即可制成290g浓度为0.68wt％的氢氧化物。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到314g黄褐色透明的掺杂铝的0.79wt％的非晶质型过氧化钛水溶液。
参考例8(导电体(Fe)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.712g FeCl3·6H2O完全溶解在500ml纯水中配制而成的溶液中，进一步添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液中，调节至pH7.0，使氢氧化铁与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下，于导电率达到0.744mS/m时停止清洗，即可制成420g浓度为0.47wt％的含有氢氧化物的溶液。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到440g深黄褐色透明的掺杂铁的0.44wt％的非晶质型过氧化钛分散液。利用超滤浓缩装置进行浓缩，调制220g浓度为0.85wt％的上述分散液。
参考例9(导电体(Mn)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.521g MnCl2·4H2O完全溶解在500ml纯水中配制而成的溶液中，进一步添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液中，调节至pH7.0，使氢氧化锰与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下，于导电率达到0.650mS/m时停止清洗，即可制成343g浓度为0.77wt％的含有氢氧化物溶液。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到367g黑褐色半透明的掺杂锰的0.87wt％的非晶质型过氧化钛分散液。用纯水将其稀释，调制375g 0.85wt％的掺杂锰的非晶质型过氧化钛的分散液。
参考例10(导电体(Ni)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.594g NiCl2·6H2O(日本化学产业株式会社制)完全溶解在500ml纯水中配制而成的溶液中，进一步添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液，调节至pH7.0，使氢氧化镍与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下，于导电率达到0.650mS/m时停止清洗，即可制成343g浓度为0.77wt％的含有氢氧化物的溶液。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到374g淡黄色透明的掺杂镍的0.87wt％的非晶质型过氧化钛分散液。用纯水将其稀释，调制381g 0.85wt％的掺杂镍的非晶质型过氧化钛的分散液。
参考例11(导电体(In)及电介质(非晶质型过氧化钛)的复合体分散液)
准备下述溶液：在使0.772g InCl3.4H2O(三氯化铟：添川理化学(株))完全溶解在纯水500ml中配制而成的溶液中，进一步添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液中，调节至pH7.0，使氢氧化铟与氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下。由于导电率达到0.724mS/m而停止清洗，即可制成328g浓度为0.74wt％的含有氢氧化物的溶液。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加56g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到380g黄褐色透明的掺杂有铟的0.73wt％的非晶质型过氧化钛溶液。
对照例12(电介质(非晶质型过氧化钛)的分散液)
准备下述溶液：在500g纯水中，添加10g 50％四氯化钛溶液(住友西堤克斯株式会社制)，加入纯水，增加至1000ml。将25％氨水(高杉制药株式会社制)稀释10倍的氨水滴入该溶液，调节至pH7.0，使氢氧化钛的混合物沉淀。用纯水清洗该沉淀物直至上清液的导电率达到0.8mS/m以下。由于导电率达到0.738mS/m而停止清洗，即可制成398g浓度为0.73wt％的含有氢氧化物的溶液。
然后，一边将其冷却至1～5℃，一边添加25g 35％过氧化氢水溶液(大木药品工业株式会社制)，搅拌16小时，得到374g淡黄褐色的浓度为0.86wt％的非晶质型过氧化钛分散液。
评价5
在市售陶瓷瓷砖(100mm×100mm)基板上，利用喷枪以15g/m2(湿状态)的比例分别涂敷参考例1及参考例5-11的导电体及电介质的复合分散液，在常温干燥后，在恒温恒湿库内于200℃下加热15分钟。
用纯水将作为有机染料的市售红色油墨(PILOT公司制)稀释20倍，分别以5g/m2(湿状态)的比例将其涂敷在各基板上，经干燥而分别制作评价基板1及5-11。
对对照例12也同样地实施处理，制作对照基板1。
并列配置评价基板1、评价基板5-11以及对照基板1，于其上设置20W黑光照明(NATIONAL公司制)，用1,000μw/cm2的强度照射紫外线。持续42小时，利用色彩计CR-200(美能达公司制)进行红色的消色评价。结果如图5所示。
消色率＝100-_((L2-L0)2+(a2-a0)2+(b2-b0)2)/_((L1-L0)2+(a1-a0)2+(b1-b0)2)*100
残存率＝100-消色率
＝_((L2-L0)2+(a2-a0)2+(b2-b0)2)/_((L1-L0)2十(a1-a0)2+(b1-b0)2)*100
红色油墨着色前的各基板颜色：(L0，a0，b0)
红色油墨着色后的各基板颜色：(L1，a1，b1)
紫外线照射后的各基板颜色：(L2，a2，b2)
结果
可知：与仅有电介质的对照基板1相比，评价基板1及评价基板5-11的防褪色性能均优良，具有降低褪色功能。
所谓具有防褪色功能，意味着对染料(红色油墨)的消色具有耐受性，即具有难以在基板表面因电磁波从O2、H2O产生1O2(单态氧)、·OH(羟基自由基)的正电荷性能。在具有正电荷的基板表面上，即使附着浮游于大气中的污染物质，也可通过电磁波使污染物质带正电荷，故可通过静电排斥使污染物质脱离基板表面，因此，表明其具有防污性能。另外，也可降低太阳光等引起的基板本身的紫外线劣化(氧化劣化)。
评价6
评价基板12(聚苯胺)
在作为电介质的按照对照例12的工序制得的50g非晶质型过氧化钛分散液中混合作为导电性有机高分子树脂的聚苯胺分散体(ORMECON D1012W：固形成分浓度3％、平均粒经100nm以下)2.5g作为导电体，以制作分散液，并添加SH3746M(东丽道康宁(株))0.1％制作涂敷液。利用喷雾法将该液在白色瓷砖上成膜为膜厚约0.2μm的膜，在200℃下加热固定15分钟制成评价基板12。
评价基板13(钛酸钡)
在48.3g作为导电体的参考例1的工序中制作的掺杂铜的非晶质型过氧化钛溶液中混合搅拌1.7g作为电介质的钛酸钡，制作分散液，并添加0.1％SH3746M(东丽道康宁(株))制作涂敷液。利用喷雾法将该液在白色瓷砖上成膜为膜厚约0.2μm的膜，在200℃下加热固定15分钟制成基板。
评价基板14(硅酸甲酯)
在45g作为导电体的参考例1的工序中制得的掺杂铜的非晶质型过氧化钛溶液中混合搅拌15g作为电介质的硅酸甲酯MSH200(多摩化学(株))，制作分散液，并添加0.1％SH3746M(东丽道康宁(株))制作涂敷液。利用喷雾法将该液在白色瓷砖上成膜为膜厚约0.2μm的膜，在200℃下加热固定15分钟制成基板。
作为对照，使用与评价5所用的对照基板1相同的基板作为对照基板2。
评价基板12～14是对对照基板2作如下处理所得到的基板：用乙醇将作为有机染料的市售红色油墨(PILOT公司制)稀释10倍，利用喷枪以7g/m2(湿状态)将其涂敷在各基板表面，使其常温干燥。
按照与评价5相同的方法照射紫外线26小时10分钟，利用色彩计CR-200(美能达公司制)进行红色的消色评价。结果如图6所示。
结果
可知评价基板12～14均具有降低褪色功能。
评价7
使用市售的工作用聚丙烯薄片(无氯)红色板而制作如图7所示的基板。图7中，(A)部分是以15g/100cm2的比例涂敷参考例1的掺杂铜的非晶质型过氧化钛溶液的部分。(B)部分是以10g/100cm2的比例涂敷参考例1的掺杂铜的非晶质型过氧化钛溶液后进一步以20g/100cm2的比例涂敷参考例2的光触媒功能赋予液的部分。(C)部分是未实施表面处理的无涂敷部分。
将上述基板在日本佐贺县向东南面固定于下端离地面1300mm的高度，暴露于室外1年后进行防污评价。结果如图8所示。
结果
基板中的(A)部分在开始评价时，具有与无涂敷部分相同的颜色，且开始评价时与经过1年后的各L*、a*、b*的变化最少。因此，可知：(A)部分不会损及基体的颜色，且防污性能比(B)部分优良。另外，(A)部分与无涂敷的(C)部分相比，其防污性能特别优良。
产业上的可利用性
本发明可利用于要求各种装饰性及高防水·防污性能的任意领域，优选用于玻璃、金属、陶瓷、混凝土、木材、石材、密封剂等或由其组合所构成的建材、空调室外机、厨房机器、卫生机器、照明器具、汽车、自行车、机车、航空器、火车、船舶等用于室外的人造物的制造。尤其适用于建材，可使使用该建材所建造的房屋、大楼、公路、隧道等建筑物经时性地发挥高防水·防污效果。

Claims (11)

1、一种基体表面的正电荷产生方法，其特征在于，在基体表面上或基体表面层中，配置导电体与电介质或半导体的复合体。
2、一种基体表面的亲水化方法，其特征在于，在基体表面上或基体表面层中，配置导电体与电介质或半导体的复合体。
3、一种防止或降低基体表面污染的方法，其特征在于，在基体表面上或基体表面层中，配置导电体与电介质或半导体的复合体。
4、一种基体表面的保护方法，其特征在于，在基体表面上或基体表面层中，配置导电体与电介质或半导体的复合体。
5、如权利要求1～4中的任一项所述的方法，其中，所述复合体含有机硅化合物。
6、如权利要求1～5中的任一项所述的方法，其中，在所述基体表面与所述复合体之间形成中间层。
7、如权利要求1～6中的任一项所述的方法，其中，在所述复合体表面上形成光触媒层。
8、一种用于基体表面的正电荷产生剂，由导电体与电介质或半导体的复合体构成。
9、一种用于基体表面的亲水化剂，由导电体与电介质或半导体的复合体构成。
10、一种用于基体表面的污染防止或降低剂，由导电体与电介质或半导体的复合体构成。
11、一种用于基体表面的保护剂，由导电体与电介质或半导体的复合体构成。
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