JP4017389B2

JP4017389B2 - 光触媒体の製造方法

Info

Publication number: JP4017389B2
Application number: JP2001389657A
Authority: JP
Inventors: 知之田原; 博永石
Original assignee: JFE Metal Products and Engineering Inc
Current assignee: JFE Metal Products and Engineering Inc
Priority date: 2001-12-21
Filing date: 2001-12-21
Publication date: 2007-12-05
Anticipated expiration: 2021-12-21
Also published as: JP2003181299A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光触媒層を基材に強固に接着させ、耐擦傷性、耐候性に優れる光触媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光触媒機能とは光が照射されると活性化し、表面に生成する活性酸素種で有機物などを酸化分解したり、表面が親水化することで防汚、防曇等の機能を発現するものである。近年、公害対策や、健康、快適、清潔志向の高まりから、抗菌、消毒、防汚等の機能を持った環境浄化型製品のニーズがあり、光触媒を利用した製品が注目されている。屋外用途では、都市型汚染の主成分である油分、無機質塵埃、カーボン等に対する耐汚染処理や、視認性を確保するための防曇処理、屋内用途では、抗菌、消毒等の衛生処理として幅広く利用することができる。
【０００３】
光触媒を樹脂、金属、セラミックス、木材などの基材表面に固定する方法として、意匠性を維持する透明膜で被覆することがよく行われるが、アナターゼ型酸化チタンなどの光触媒機能を有する粒子（以下、光触媒粒子と称する）は造膜性に乏しいことから、光触媒コーティング溶液の中には、一般にアルコキシシランの加水分解物に由来するシリカおよび／またはシリコーン系のバインダーが添加される。該コーティング溶液の主溶媒は有機溶媒であるため、作業時の温湿度を制御しなければ塗布時の塗膜がレベリングしにくく、透明膜を形成させることは難しい。また、該コーティング溶液には酸が含まれるため、設備への負荷も大きい。さらに、冷暗所での保存安定性が２，３ヶ月で短いという問題があった。そこで、作業性および環境への配慮から、水性のコーティング溶液への切り替えが望まれている。
【０００４】
そこで、光触媒コーティング溶液に、オルソチタン酸やペルオキソチタン酸に由来するアモルファス酸化チタンなどのチタニア系バインダーを利用すると、有機溶媒を含まず、ｐＨが中性領域の水溶液が使用でき、さらに保存安定性も常温で半年以上と長期に安定であることから、作業性および取り扱いが容易となる。例えば、特許２８７５９９３号明細書には、チタン水酸化物、チタン酸化物の分散溶液に過酸化水素を添加してペルオキソチタン酸を合成し、該溶液を８０℃以上で熱処理することによりペルオキソ基が修飾されたアナターゼ分散溶液を調製する製造方法が提案されている。しかしながら、該アナターゼ分散液では、活性の高い平均一次粒子径を１０〜２０ｎｍ以上の結晶に成長させると、結晶化の過程でペルオキソ基の大部分が消滅してしまうため、該光触媒粒子を高濃度に存在させた光触媒層を低温で強固に成膜させることが難しい。
【０００５】
例えば、特開２０００−１６６８号公報には、ペルオキソチタン酸に由来するアモルファス酸化チタンのチタニア系バインダーを含む光触媒コーティング溶液により、樹脂基板などの疎水性表面に光触媒層を被覆する方法が提案されている。すなわち、界面活性剤および／または親水化剤、または親水性有機高分子により親水化処理した樹脂基板に、ペルオキソチタン酸からなるアモルファス酸化チタン層を被覆した後、光触媒粒子およびペルオキソチタン酸からなる光触媒層を設けた光触媒体が提案されている。しかしながら、無機酸化物のアモルファス酸化チタン層を樹脂基板に直接被覆するため、接着が十分ではなく、該コーティング層に剥離およびクラックが発生しやすく、さらに、光触媒粒子を高濃度に光触媒層に存在させた場合、１００℃程度の低温処理では該粒子が十分に固定されず強固に成膜できないという問題があった。
【０００６】
また、特開平９−２６２４８１号公報には、基材上に難分解性結着剤であるシリコーン系ポリマー層を介して光触媒粒子とペルオキソチタン酸からなる光触媒層を被覆する光触媒体が提案されている。本公報には該光触媒体の製造方法について具体的な記載はされていないが、一般に硬化させた疎水性シリコーン系樹脂層に、光触媒粒子とペルオキソチタン酸からなる水性光触媒コーティング溶液を塗布することにより光触媒体を製造した場合、シリコーン系樹脂層と光触媒層の接着力が十分ではなく、界面から剥離したり、さらに光触媒層中に界面活性剤が残留することにより該光触媒層の硬度が不足し、傷つきやすいという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような従来技術に鑑みて、表面にペルオキソ基が存在する光触媒粒子、または表面にペルオキソ基が存在する光触媒粒子とチタニア系バインダーを含有する水性光触媒コーティング溶液を利用することにより、光触媒粒子を高濃度に存在させた光触媒層を基材に強固に接着させ、さらに、該光触媒層に波長が３８０ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射して残存する界面活性剤の分解およびペルオキソ基の縮合反応を起こすことにより、耐擦傷性、耐候性に優れる光触媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、光触媒粒子表面に存在するペルオキソ基（Ｔｉ−ＯＯ−）、チタニア系バインダーのオルソチタン酸、ペルオキソチタン酸などに含まれる水酸基（Ｔｉ−ＯＨ）またはペルオキソ基が、シリコーン系樹脂の水酸基（Ｓｉ−ＯＨ）およびアルコキシ基（Ｓｉ−ＯＲ：Ｒはアルキル基）などの官能基に対して高い反応性を示し、化学結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｔｉ−）を形成することに着目した。すなわち、本発明は、基材に被覆したシリコーン系樹脂表面に存在する水酸基および／またはアルコキシ基を、基材またはシリコーン系樹脂の耐熱温度以下の温度で反応させることで、光触媒層をシリコーン系樹脂を介して基材に強固に接着したものである。
【０００９】
また本発明者は、酸化チタンに過酸化水素を作用させることにより、水酸基（Ｔｉ−ＯＨ）が容易にペルオキソ基（Ｔｉ−ＯＯ−）に変化することに着目した。すなわち、本発明は、高活性を示す粒径まで成長させたゾル溶液中の光触媒粒子表面をペルオキソ基で修飾することにより、被覆中の光触媒粒子が熱または紫外線などのエネルギーを吸収して粒子同士またはチタニア系バインダーと強固に化学結合して固定されるため、活性を高めるために光触媒粒子の存在比を多くした光触媒層の場合でも、低温で耐擦傷性に優れる被膜を形成することができるものである。
【００１０】
さらに本発明者は、前記光触媒層に波長が２５０ｎｍ以下の紫外線を照射することで水酸基が活性化され、３８０ｎｍ以下の紫外線を照射することでペルオキソ基が活性化されることにより、縮合反応が促進されること、光触媒で発生する活性酸素、紫外線エネルギー、および波長２４０ｎｍ以下の紫外線で発生するオゾンにより、光触媒層に残留する有機分が効率よく分解除去できることに着目した。すなわち、本発明は、該光触媒層に波長が３８０ｎｍ以下の紫外線を照射することで、光触媒層中の水酸基およびペルオキソ基の縮合反応により緻密化が進行することと、光触媒で発生する活性酸素、紫外線エネルギー、および紫外線で発生するオゾンにより、光触媒層に残留する界面活性剤などの有機分の分解除去が同時に起こることにより、屋外使用にも耐えられる、緻密で硬く、耐擦傷性に優れた光触媒層が短時間で形成することができるものである。このとき、緻密化反応は界面活性剤などの有機物の分解よりも通常遅いため、紫外線照射による有機物の分解後に熱処理により緻密化を行うこともできる。
【００１１】
すなわち、本発明は、基材に設けられたシリコーン系樹脂層の表面に、ペルオキソ基が粒子表面に存在する光触媒粒子を必須成分とする水性光触媒コーティング溶液を塗布し、光触媒層を形成すると共に、
前記シリコーン系樹脂層表面の水酸基および／またはアルコキシ基と、前記水性光触媒コーティング溶液中に存在するペルオキソ基および／または水酸基とを反応させて、前記シリコーン系樹脂層と該光触媒層とを接着させ、
その後、前記光触媒層に、波長が３８０ｎｍ以下の紫外線を照射することを特徴とする光触媒体の製造方法である。
ここで、前記水性光触媒コーティング溶液は、チタニア系バインダーを含有することが好ましい。
また、前記方法で製造された光触媒体をさらに熱処理することが好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
図１は、本発明の光触媒体の一例を示す断面図である。光触媒体１は、基材２のひとつの表面に、シリコーン系樹脂層３、該シリコーン系樹脂層３の外面に、光触媒粒子または光触媒粒子とチタニア系バインダーとを含有する光触媒層４を有する積層構造体である。
図２は、本発明の光触媒体の他の一例を示す断面図である。光触媒体１は、基材２のひとつの表面に、プライマー層５、該プライマー層５の外面にシリコーン系樹脂層３、該シリコーン系樹脂層３の外面に、光触媒粒子または光触媒粒子とチタニア系バインダーとを含有する光触媒層４を有する積層構造体である。
【００１３】
［基材］
本発明に使用される基材は、セラミックス、タイル、コンクリート、ガラス、煉瓦などの無機材料、アルミニウム、ステンレス、メッキ鋼板、化成処理鋼板、塗装鋼板などの金属材料、アクリル、ポリカーボネートなどの樹脂、木材などの有機材料であるが、これらに特に限定されない。基材の形状は、ブロック、板、シート、フィルム、構造材であるが、これらに特に限定されない。また、基材の大きさ、厚さは、特に限定されない。
【００１４】
［シリコーン系樹脂］
本発明に使用されるシリコーン系樹脂は、シリコーン樹脂、高分子分散シリカ、有機無機ハイブリッド樹脂であるが、これらに特に限定されない。
該シリコーン系樹脂は、無機成分がＳｉＯ₂換算で２０質量％以上、最終到達硬度が鉛筆硬度でＨ以上であると、最外層に光触媒層を被覆したときのクラックを防止でき、かつ、光触媒の酸化活性に対する耐性が向上するので好ましい。
【００１５】
シリコーン樹脂は、下記構造式で示される加水分解性モノマーの重合体である。
Ｘ_nＳｉ（ＯＲ）_4-n
Ｘはメチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基、γ−グリシドキシアルキル基に代表される有機官能基を導入した変性アルキル基である。モノマーのＸは同じものでもよく、異なるものでもよい。変性アルキル基の導入は、基材の有機樹脂との反応あるいは相溶化する役割を果たし、例えば、アルキッド変性は柔軟性と乾燥性、エポキシ変性は耐薬品性と密着性、アクリル変性は強靭性、ポリエステル変性は柔軟性と光沢性をシリコーン樹脂に付与するので、目的に合わせて適宜選択することができる。
ＯＲは加水分解性の炭素数１〜８のアルコキシ基である。例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。アルコキシ基は加水分解されて水酸基となり、脱アルコール反応および脱水反応により重合体を形成する。ｎは０、１、２または３である。
【００１６】
該シリコーン樹脂の硬度は、４官能アルコキシシランのシロキサン分子構造単位により発現され、可とう性は２、３官能アルコキシシランのシロキサン分子構造単位で付与される。
該シリコーン樹脂は通常水に対し疎水性または撥水性を示すが、該樹脂表面に水酸基（Ｓｉ−ＯＨ）を多く配置することにより親水性を発現させることもできる。例えば、シリコーン樹脂中の４官能アルコキシシランのシロキサン分子構造単位が８０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは９０モル％以上である。
【００１７】
高分子分散シリカは、前記４官能アルコキシシランのシロキサン分子構造単位を主成分とするシリコーン樹脂マトリックス中に、ポリエチレングリコール等の有機高分子を分散させて、可とう性が付与されたものである。
【００１８】
有機無機ハイブリッド樹脂は、前記シリコーン樹脂と有機樹脂との共重合体、水性シリケートと水性有機樹脂との共重合体などである。例えば、前者は、アルコキシシリル基を導入した有機樹脂を、官能性側鎖であるアルコキシ基を持つアルコキシシランなどを介して、シリコーン樹脂と架橋させた共重合体である。有機無機ハイブリッド樹脂は、シラノール基を持つシリコーン樹脂をラジカル重合性ビニルモノマーに溶解し、界面活性剤の存在下で乳化重合して合成したエマルジョン塗料なども使用できる。
【００１９】
シリコーン系樹脂において、アルコキシシラン重合体、またはアルコキシシラン重合体と有機樹脂との共重合体の分子量は、ポリスチレン換算の質量平均分子量で２００〜２００００であり、好ましくは５００〜５０００であるが、特に限定されない。
また、該シリコーン系樹脂に、架橋剤として官能性側鎖であるアルコキシ基を持つアルコキシシラン、硬化剤としてＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｏ、Ｚｒなどを含有する含金属有機化合物、ハロゲン化硼素化合物などを配合してもよい。
【００２０】
また、シリコーン系樹脂に増量剤として、シリカゾルやアルミナゾルなどの無機酸化物粒子を配合したり、帯電防止剤として界面活性剤やシリカゾルを配合することができる。
シリコーン系樹脂層の膜厚は、基材を光触媒の酸化作用から保護するためには０．１μｍ以上でもよいが、基材が柔らかい樹脂などの場合には、シリコーン系樹脂層の強度を確保するために１μｍ以上が好ましく、より好ましくは２μｍ以上である。上限は１０μｍ程度である。
【００２１】
シリコーン系樹脂層と基材との密着性が悪い場合には、図２に示すように、基材２表面にプライマー層５を設けたり、基材２表面に大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理や、波長１８５ｎｍ以下の紫外線照射をするのが好ましい。プライマーは、基材との相性を考慮して、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アクリルシリコン樹脂などを主剤とするプライマーから、適宜選択して使用される。プライマー層の膜厚は０．０５μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．１〜５μｍである。
【００２２】
［光触媒層］
本発明の光触媒層は、基材に被覆したシリコーン系樹脂層表面に、ペルオキソ基が粒子表面に存在する光触媒粒子、またはペルオキソ基が粒子表面に存在する光触媒粒子とオルソチタン酸および／またはペルオキソチタン酸などに由来するアモルファス酸化チタンのチタニア系バインダーを含む水性光触媒コーティング溶液により形成された層である。光触媒層の膜厚は０．０５〜１．０μｍであることが好ましい。
【００２３】
本発明に使用される光触媒粒子は、受光により活性酸素を生成し光触媒活性を示すものであれば何れでもよく、紫外光に応答するものとしては、ブルッカイトまたはアナターゼ型ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ₃など、可視光に応答するものとしては、前記紫外光に応答する光触媒に酸素欠損、遷移金属ドープまたは窒素ドープしたものなどが例示できる。これらは特に限定されないが、好ましくは水に分散したゾル溶液として存在できる形態のものがよい。
【００２４】
光触媒粒子の平均粒径は５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。５ｎｍ未満では量子サイズ効果によりバンドギャップが増大し、２００ｎｍ超えでは光触媒層の透明性および光触媒コーティング溶液中での分散性が低下することがある。
平均粒径が１０〜１００ｎｍの光触媒粒子が分散したゾル溶液は、例えばアナターゼ型酸化チタンの場合、オルソチタン酸、ペルオキソチタン酸、チタンアルコキシドの加水分解物などを含む溶液を８０℃以上で熱処理したり、硫酸チタンなどのチタン塩水溶液をオートクレーブなどの圧力装置を用いて１１０〜２００℃で水熱処理することで得られるが、これらに特に限定されない。ペルオキソチタン酸を出発原料とした場合は、調整条件により光触媒粒子表面にペルオキソ基を残存させることができるが、高活性を示す粒径まで結晶を成長させると、通常、粒子表面のペルオキソ基は殆ど消滅してしまう。該粒子表面にペルオキソ基を導入する方法としては、過酸化水素水を添加することにより、光触媒粒子表面の水酸基をペルオキソ基に変化させる。このとき、ゾル溶液は半透明の白から淡黄色に変化するため、ペルオキソ基の生成が目視で確認できる。過酸化水素水の添加量としては、酸化チタン１モルに対し０．１〜１０モルが好ましく、より好ましくは０．５〜５モルである。該方法を利用すると、高活性な光触媒粒子を高濃度に光触媒層に含有させても強い被膜を得ることが可能となり、さらに安価な酸化チタンゾルの利用も可能となる。
【００２５】
チタニア系バインダーは、オルソチタン酸、ペルオキソチタン酸、チタンアルコキシドの加水分解物、またはこれらの混合物などであるが、これらに特に限定されない。オルソチタン酸は、硫酸チタンなどのチタン塩溶液を加水分解・透析処理して得ることができる。ペルオキソチタン酸は、塩化チタンをアンモニア水処理またはチタンアルコキシドを加水分解して得られる水酸化チタンを過酸化水素水に溶解して得ることができる。チタニア系バインダーのうち、ペルオキソチタン酸はシリコーン系樹脂の水酸基およびアルコキシ基との反応性が高く、さらに造膜性にも優れているので好ましい。
【００２６】
水性光触媒コーティング溶液は、ペルオキソ基が修飾された光触媒ゾル、またはペルオキソ基が修飾された光触媒ゾル溶液とチタニア系バインダー溶液とを任意の割合で混合して調製することができる。光触媒粒子の配合量は、水性光触媒コーティング溶液に対し０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。また、チタニア系バインダーを含有する場合にその配合量は、水性光触媒コーティング溶液に対し０．０５〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜２質量％である。
該光触媒コーティング溶液には、光触媒層に反射防止、親水性、帯電防止の向上が必要なときは、シリカ成分を添加することができる。シリカ成分としてはコロイダルシリカを添加することができ、好ましくは不純物が少ない無水珪酸であり、粒径および形状は特に限定されない。また、シリコーン系樹脂層に対する濡れ性を改善させることが必要なときは、界面活性剤および／またはアルコールを配合してもよい。
【００２７】
界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、フッ素界面活性剤を使用できるが、光触媒コーティング溶液中で安定に存在し、少量の添加で水溶液の表面張力を低下させるものであれば特に限定されない。例えば、シリコーン界面活性剤である低分子量のポリエーテル変性シリコーンを使用すると、紫外線照射処理の工程で有機分が酸化分解されてシラノール基を生成するため、光触媒層に保湿効果を付与する。配合量としてはコーティング溶液に対して０．０２質量％以上が好ましく、より好ましくは０．０５〜２質量％である。
【００２８】
アルコールは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、グリセリンなどを使用できるが、光触媒コーティング溶液中で安定に存在するものであれば特に限定されない。配合量としては、コーティング溶液に対して５質量％以上が好ましく、より好ましくは１０〜３０質量％である。
【００２９】
［光触媒体の製造方法］
本発明の光触媒体の製造方法は、基材に被覆したシリコーン系樹脂層表面に存在する水酸基および／またはアルコキシ基と、水性光触媒コーティング溶液に含まれる水酸基および／またはペルオキソ基を、基材またはシリコーン系樹脂の耐熱温度以下で反応させることで、シリコーン系樹脂層と光触媒層の界面で化学結合が形成され、光触媒層をシリコーン系樹脂層を介して基材に強固に接着させる。
【００３０】
シリコーン系樹脂塗料の塗布は、ディップ、ロール、スプレー、スクリーンなどの一般的な方法の何れによってもよいが、基材が異形であったり、大型の場合には、スプレーが好適である。その際に、基板を加熱してもよい。また、シリコーン系樹脂塗料を塗布する前に、基材にプライマーを塗布したり、基材表面を大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理や、波長１８５ｎｍ以下の紫外線を照射して、基材とシリコーン系樹脂の接着性を高めてもよい。
【００３１】
シリコーン系樹脂層の表面に水酸基および／またはアルコキシ基を存在させるためには、該シリコーン系樹脂層を完全に硬化させないようにするのが好ましい。シリコーン系樹脂の硬化を進行させ過ぎると、表面の水酸基および／またはアルコキシ基が架橋反応により消費されて減少し、光触媒層との接着力が低下する場合がある。例えば、シリコーン系樹脂塗料を塗布後、ＪＩＳＫ５４００−１９９０に規定される半硬化のシリコーン系樹脂の表面には、水酸基および／またはアルコキシ基が存在することはＥＳＣＡスペクトル図（図３）より確認され、シリコーン系樹脂層と光触媒層との接着力が強力になる。
また、シリコーン系樹脂層表面に官能基が不足して接着力を向上させる必要がある場合は、該樹脂層表面を大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理、または波長１８５ｎｍ以下の遠紫外線、真空紫外線を照射することにより、シリコーン系樹脂層表面に官能基を導入することもできる。
【００３２】
水性光触媒コーティング溶液の塗布は、ディップ、ロール、スプレー、スクリーンなどの一般的な方法の何れによってもよいが、基材が異形であったり、大型の場合には、スプレーが好適である。その際に、基板を加熱してもよい。該水性光触媒コーティング溶液の粘度は低いため、スプレーの空気圧はゲージ圧で９．８１Ｎ／ｃｍ²以上であれば霧化が可能であり、基材を均一被覆することが容易となる。
水性光触媒コーティング溶液を塗布した後、シリコーン系樹脂層表面に存在する水酸基およびアルコキシ基と、水性光触媒コーティング溶液中の水酸基および／またはペルオキソ基とを、基材またはシリコーン系樹脂の耐熱温度以下で反応させるが、一般に５００℃以下、好ましくは５０〜３００℃であり、反応時間は１０分以上あればよいが、これらは特に限定されない。また、処理温度が１００〜２００℃以下の場合は、界面活性剤などに起因する有機分が残留しやすく、該光触媒層に紫外線を照射することが好ましい。
【００３３】
該光触媒層に紫外線を照射すると、光触媒層中に残留する水酸基、ペルオキソ基が活性化されて縮合反応により光触媒層が緻密化すること、および光触媒で発生する活性酸素、該紫外線エネルギー、波長２４０ｎｍ以下の紫外線で発生するオゾンにより、光触媒層に残留する界面活性剤等の有機分の分解除去が同時に起こるため、屋外使用にも耐えられる緻密で硬く、耐擦傷性に優れた光触媒層が形成される。また、光触媒層とシリコーン系樹脂の界面に残留する水酸基、ペルオキソ基、アルコキシ基も活性化されて縮合反応により化学結合が形成されるため、光触媒層の接着も向上する。紫外線の波長は３８０ｎｍ以下でもよいが、好ましくは３１５ｎｍ以下の紫外線を照射することにより短時間で耐擦傷性を発現することができる。このとき、緻密化反応は界面活性剤などの有機物の分解よりも通常遅いため、耐擦傷性をより確実にするためには、養生期間を設けたり、紫外線照射後に熱処理を行ってもよい。
【００３４】
紫外線の光源は、波長が３８０ｎｍ以下の紫外線を放射するものであればよく、好ましくは強度が大きく放射効率のよい殺菌ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、エキシマランプ、ブラックライトランプなどであるが、これらに特に限定されない。殺菌ランプは２５４ｎｍ、高圧水銀ランプは３１３ｎｍ、放電ガスがＸｅＣｌのエキシマランプは３０８ｎｍの紫外線を放射するが、低圧水銀ランプは２５４ｎｍの他に１８５ｎｍ、放電ガスＫｒＣｌ、Ｘｅ₂、Ｋｒ₂、Ａｒ₂のエキシマランプはそれぞれ２２２ｎｍ、１７２ｎｍ、１４６ｎｍ、１２６ｎｍの波長の紫外線を放射するため、オゾンを発生することができる。このとき、オゾンを必要としないときは、雰囲気を窒素などの不活性ガスで置換するとよい。なお、紫外線は異なる波長の光を含んでいても構わない。
【００３５】
光触媒層を紫外線照射した後は、該光触媒体をさらに熱処理することが好ましい。熱処理を施すことにより、光触媒層の紫外線照射により界面活性剤などの有機物が分解してポーラスになった部分を修復し、緻密化することができる。
熱処理温度は、基材とシリコーン系樹脂の耐熱温度以下であることが好ましく、具体的にはアクリル樹脂の場合、５０〜９０℃が好ましく、より好ましくは７０〜８０℃である。熱処理時間は、１０〜１２０分が好ましく、より好ましくは２０〜６０分である。
【００３６】
【実施例】
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（水性光触媒コーティング溶液）
アナターゼ型酸化チタンゾル（（株）光触媒研究所製：ＡＴ−０１、３．４８質量％）１００ｇに３０質量％の過酸化水素水を１０ｇ添加してペルオキソ化した酸化チタンゾル溶液に、アモルファス酸化チタンバインダーであるペルオキソチタン酸溶液（（株）光触媒研究所製：ＡＴ−アモルファス、１．７質量％）を５０ｇ混合し、濃度を１質量％に調整した。さらにシリコーン界面活性剤（ビックケミー（株）製、ＢＹＫ３４８）を０．２質量％添加した。
【００３７】
（実施例１）
低圧水銀ランプ（ウシオ電機（株）製）にて紫外線（２５４ｎｍ：５ｍＷ／ｃｍ²、１８５ｎｍ：２ｍＷ／ｃｍ²）を１０分間照射して有機物のコンタミを除去したアクリル樹脂板に、エマルジョンの有機無機ハイブリッド樹脂塗料（大日本インキ（株）製、ジオテック）をスプレー塗布し、５０℃で半硬化になるまで乾燥させた。次いで、前記水性光触媒コーティング溶液をスプレー塗布し、乾燥後、８０℃で６０分間熱処理して硬化させた。さらに、低圧水銀ランプにて紫外線（２５４ｎｍ：５ｍＷ／ｃｍ²、１８５ｎｍ：２ｍＷ／ｃｍ²）を１０分間照射し、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。該光触媒体の特性を下記する方法で、測定、評価した。結果を表１に示す。
【００３８】
（実施例２）
実施例１において、エマルジョンの有機無機ハイブリッド樹脂塗料の代わりにアルコール溶媒のシリコーン樹脂塗料（大日技研（株）製、ランデックスＰＳ）を使用し、さらに該シリコーン樹脂表面を低圧水銀ランプにて紫外線（２５４ｎｍ：５ｍＷ／ｃｍ²、１８５ｎｍ：２ｍＷ／ｃｍ²）を１０分間照射処理した以外は、実施例１と同じ方法にて、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００３９】
（実施例３）
実施例１において、水性光触媒コーティング溶液に含まれるアモルファス酸化チタンのペルオキソチタン酸溶液の代わりに、オルソチタン酸溶液（日本パーカライジング（株）製、パルチタン５６１０Ｌ）を使用した以外は、実施例１と同じ方法にて、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４０】
（実施例４）
実施例１において、水性光触媒コーティング溶液としてペルオキソ基で修飾されたアナターゼ型酸化チタン粒子の分散ゾル（（株）ＴＡＯ製、ＤＴＡ１００）のみを使用する以外は、実施例１と同じ方法にて、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４１】
（実施例５）
実施例１において、光触媒層に、低圧水銀ランプの代わりにブラックライトランプ（３６５ｎｍ：１０ｍＷ／ｃｍ²）を１２０分間照射した以外は、実施例１と同じ方法で透明な光触媒体を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４２】
（実施例６）
低圧水銀ランプ（ウシオ電機（株）製）にて紫外線（２５４ｎｍ：５ｍＷ／ｃｍ²、１８５ｎｍ：２ｍＷ／ｃｍ²）を１０分間照射して有機物のコンタミを除去したアクリル樹脂板に、エマルジョンの有機無機ハイブリッド樹脂塗料（大日本インキ（株）製、ジオテック）をスプレー塗布し、５０℃で半硬化になるまで乾燥させた。次いで、前記水性光触媒コーティング溶液をスプレー塗布し、乾燥後、ブラックライトランプにて紫外線（３６５ｎｍ：１０ｍＷ／ｃｍ²）を１０分間照射して界面活性剤を分解させ、さらに８０℃で６０分間熱処理して硬化させ、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４３】
（比較例１）
実施例１において、ペルオキソ化しない酸化チタンゾルを使用した水性光触媒コーティング溶液を用いた以外は、実施例１と同じ方法にて、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４４】
（比較例２）
実施例１において、光触媒層に低圧水銀ランプを照射しないこと以外は、実施例１と同じ方法にて、透明な光触媒板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は５μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４５】
（比較例３）
コロナ放電処理したアクリル樹脂板に対し、ペルオキソチタン酸溶液（（株）田中転写製、ＰＴＡ：固形分濃度０．８５質量％）にシリコーン界面活性剤（信越化学工業（株）製、ＫＦ６４０）を０．２質量％添加したコーティング組成物をスプレー塗布し、アモルファス酸化チタン層を設けた。次いで、アナターゼ型酸化チタンゾルとペルオキソチタン酸溶液を混合した水性光触媒コーティング溶液（（株）田中転写製、ＴＰＸ：固形分濃度０．８５質量％）に、シリコーン界面活性剤（ビックケミー（株）製、ＢＹＫ３４８）を０．２質量％添加して得たコーティング溶液をスプレー塗布し、乾燥後、８０℃で、６０分間熱処理して硬化させ、光触媒を被覆した透明樹脂板を得た。このとき、アモルファス酸化チタン層の膜厚は０．２μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４６】
（比較例４）
コロナ放電したアクリル樹脂板に、アルコール溶媒のシリコーン樹脂組成物（大日技研（株）製、ランデックスＰＳ）をスプレー塗布し、室温でタックフリーになるまで乾燥させた後、８０℃で１２０分間熱処理して完全硬化させた。次いで、アナターゼ型酸化チタンゾルとペルオキソチタン酸溶液を混合した水性光触媒コーティング溶液（（株）田中転写製、ＴＰＸ：固形分濃度０．８５質量％）にシリコーン界面活性剤（ビックケミー（株）製、ＢＹＫ３４８）を０．２質量％添加して得られたコーティング溶液をスプレー塗布し、乾燥後、８０℃で６０分間熱処理して硬化させ、光触媒で被覆した透明樹脂板を得た。このとき、シリコーン系樹脂層の膜厚は３μｍ、光触媒層の膜厚は０．１μｍであった。光触媒体の特性を表１に示す。
【００４７】
［耐沸騰水性］
ＪＩＳＫ５４００−８．２０（一般塗料試験）に準拠した碁盤目セロハンテープ試験（碁盤目数１００）により評価した。すなわち、試験体を沸騰したイオン交換水に２時間浸漬後、外観観察し、さらに碁盤目剥離試験を行った。碁盤目剥離試験は、カッターで試験体の碁盤に達する深さの切り目を、隙間間隔１ｍｍ、升目１００の碁盤目にセロハンテープを貼り付け、該テープを瞬間的に剥した後の試験体に残存する被膜の碁盤目数をカウントする方法によった。
【００４８】
［耐擦傷性Ｉ］
試験体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に、９８．１ｋＰａ（１ｋｇｆ／ｃｍ²）の加重を掛けて、スポンジタワシの裏面で縦、横それぞれ５０回擦ったあとの外観を目視観察して判定した。判定基準は、傷がない場合を○、傷が５個以下の場合を△、傷が５個超えの場合を×とした。
【００４９】
［耐擦傷性II］
ＪＩＳＫ６９０２（熱硬化性樹脂化粧板試験法）に準拠した耐摩耗性試験により評価した。すなわち、試験体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）を試料台に設置し、該試験体上を摩耗輪ＣＳ１７、加重２．４５Ｎ、回転速度６０ｒｐｍにて、１００回回転させ、試験前後のヘーズ値を測定した。判定は、ヘーズ値が０〜５％のとき○、５〜１０％が△、１０％超えを×とした。
【００５０】
［促進耐候性］
デューパネルウェザーメーター（スガ試験機（株）製、ＤＰＷＬ−５Ｒ）を使用して、紫外線蛍光管による照射（６０℃、２時間、照度３０Ｗ／ｍ²）と結露（５０℃、２時間、暗所）のサイクルを１０００時間まで実施した。
上記サイクル試験の実施前と実施後に、透明樹脂板の接触角、全光線透過率、ヘーズ値（曇価）を下記の方法で測定した。
【００５１】
［接触角］
試験体に、ブラックライトブルー蛍光管を用いて、０．５ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を２４時間照射した後、マイクロシリンジを使用してイオン交換水を２０μリットル滴下し、試験体上の水滴を画像処理式接触角計（協和界面科学（株）製、ＣＡ−Ｘ）を用いて、接触角を３点法にて測定した。
【００５２】
［全透過率・曇価（ヘーズ値）］
全光線透過率、ヘーズ値は、ＪＩＳＫ７１０５に準拠して、濁度計（日本電色（株）製、ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。ヘーズ値は下記式により定義され、ヘーズ値が大きいほど、透明性基材の曇り度が大きく、劣化が進行していることを示す。
ヘーズ値（％）＝拡散透過率／全光線透過率×１００
【００５３】
【表１】

【００５４】
【発明の効果】
本発明は、水性光触媒コーティング溶液を使用して、光触媒層を基材に強固に接着させ、耐擦傷性、耐候性に優れる光触媒体の製造方法である。得られた光触媒体は、道路製品、屋根・側壁材の景観材、外壁材などに使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光触媒体の一態様を示す断面図である。
【図２】本発明の光触媒体の他の態様を示す断面図である。
【図３】本発明の光触媒体の半硬化時のシリコーン系樹脂表面のアルコキシ基のＥＳＣＡスペクトル図である。
【符号の説明】
１光触媒体
２基材
３シリコーン系樹脂層
４光触媒層
５プライマー層

Claims

基材に設けられたシリコーン系樹脂層の表面に、ペルオキソ基が粒子表面に存在する光触媒粒子を必須成分とする水性光触媒コーティング溶液を塗布し、光触媒層を形成すると共に、
前記シリコーン系樹脂層表面の水酸基および／またはアルコキシ基と、前記水性光触媒コーティング溶液中に存在するペルオキソ基および／または水酸基とを反応させて、前記シリコーン系樹脂層と該光触媒層とを接着させ、
その後、前記光触媒層に、波長が３８０ｎｍ以下の紫外線を照射することを特徴とする光触媒体の製造方法。
前記水性光触媒コーティング溶液が、チタニア系バインダーを含有することを特徴とする請求項１に記載の光触媒体の製造方法。
請求項１または２に記載の方法で製造された光触媒体をさらに熱処理することを特徴とする光触媒体の製造方法。