CN1885165B - 涂敷装置和使用其制造液晶显示器件的方法 - Google Patents
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Abstract
涂敷装置及使用其制造液晶显示器件的方法是通过涂敷装置前端和后端处的辅助涂敷装置并从该辅助涂敷装置开始涂敷操作而在基板的整个表面上形成均匀的涂覆层。涂敷装置包括：其上设置有物体的工作台；安装在工作台上并用来在物体表面上涂敷涂敷液的狭缝喷嘴；安装在工作台至少一侧并用来开始涂敷操作的辅助涂敷装置；和预定方向上移动狭缝喷嘴的驱动单元。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于涂敷涂敷液的涂敷装置，尤其涉及一种用于诸如平板显示(FPD)装置的基板和半导体晶片的表面在物体上均匀涂敷诸如感光液、显影液、和滤色片的涂敷液的涂敷装置以及使用其制造液晶显示器件的方法。
背景技术
制造平板显示器件或半导体器件的工序包括多个薄膜沉积工序、曝光薄膜的选定区域的光刻工序、和蚀刻薄膜的选定区域的工序。具体地说，光刻工序包括在基板或晶片上涂敷由诸如光刻胶的感光材料形成的感光膜的涂敷工序、和通过使用具有预定图案的掩模将感光膜构图的曝光和显影工序。
在基板或晶片上形成感光膜的涂敷工序一般包括喷涂法、辊涂法、旋转涂敷法等。
就涂敷层的均匀性和层厚的调整方面而言，喷涂法和辊涂法不适于较高的精确度。旋转涂敷法用于形成较高精确度的图案。
之后，将参照附图详细描述用于旋转涂敷法的旋转涂敷器。
图1是图解旋转涂敷器构造的截面图。
如这里所示，旋转涂敷器包括与转动轴6连接的旋转卡盘、从外部覆盖旋转卡盘5并可被打开/关闭的盖子7、和位于旋转卡盘5上并当盖子7打开时移到盖子7内的喷嘴4。
将要涂敷感光膜的物体10位于旋转卡盘5上。排出向下滴落的诸如光刻胶的感光液的排出阀(没有示出)安装在盖子7下面。
为了使具有上述构造的旋转涂敷器给预定物体10形成涂覆层，首先，喷嘴4向下移动并在位于旋转卡盘5上的物体10的表面上喷射感光液。
在感光液喷射到物体10上后，轻轻关闭盖子7。此外，电机M转动且与电机M连接的转动轴6也转动，从而其上具有物体10的旋转卡盘5以预定的转数旋转。
当旋转卡盘5旋转时，喷射在物体10上表面上的感光液在离心力的作用下向外扩散，从而感光液涂敷在物体10的整个表面上。
这样，当物体10的整个表面涂敷有感光液时，硬化感光液。通过使用光掩模等将硬化后的感光液进行曝光并显影，从而在物体10表面上形成预定图案。
然而，当给如晶片的小物体涂敷感光液时使用旋转涂敷器的旋转涂敷法是合适的。当给较大和较重的物体，如平板显示器件的基板(例如液晶显示面板的玻璃基板)涂敷感光液时，旋转涂敷法是不合适的。
给较大和较重的基板涂敷感光膜时，高速转动基板更加困难。此外，当高速转动基板时，很有可能损坏基板，且增加了电力消耗。
此外，旋转涂敷方法具有下述问题，即因为浪费的感光液的量比用于涂敷的感光液的量大的多，所以感光液浪费太多。就是说，当高速转动基板时，涂敷在基板表面上的相当大量的感光液分散到旋转卡盘外而浪费掉。浪费的感光液的量比用于光刻工序的感光液的量大的多。此外，在随后用于形成薄膜的工序中，分散的感光液极可能充当外来物质，并污染了环境。
发明内容
因此，本发明的一个目的是提供一种能在大尺寸基板上均匀涂敷诸如显影液和滤色片的涂敷液的涂敷装置，以及使用其制造液晶显示器件的方法。
本发明的另一个目的是提供一种使用狭缝喷嘴，不论是在涂敷操作的开始端还是结束端，能在基板整个表面上均匀涂敷涂敷液的涂敷装置，以及制造液晶显示器件的方法。
本发明的另一个目的是提供一种不管喷嘴状态的改变能保持预定处理条件的涂敷装置，以及制造液晶显示器件的方法。
为了获得这些和其它的优点并依照本发明的目的，如这里具体化和广泛描述的，提供了一种涂敷装置，包括：工作台，其上设置有物体；安装在工作台上并用来在物体表面上涂敷涂敷液的狭缝喷嘴；安装在工作台至少一侧并用来开始涂敷操作的辅助涂敷装置；和在预定方向上移动狭缝喷嘴的驱动单元。
为了获得这些和其它的优点并依照本发明的目的，如这里具体化和广泛描述的，提供了一种形成涂敷层的方法，包括：在第一辅助涂敷装置处通过喷嘴开始预备排放涂敷液；在向着基板移动喷嘴的同时排放涂敷液；和排放涂敷液直到基板的结束端。
为了获得这些和其它的优点并依照本发明的目的，如这里具体化和广泛描述的，提供了一种制造液晶显示器件的方法，包括：提供基板；依照光刻工序在基板上执行阵列工序或滤色片工序，所述光刻工序包括在第一辅助涂敷装置处通过喷嘴开始预备排放涂敷液、在向着基板移动喷嘴的同时排放涂敷液、和排放涂敷液直到基板的结束端；彼此粘结其上分别执行了阵列工序和滤色片工序的两基板；和将粘结的基板切成多个单位液晶显示面板。
当结合附图时，本发明的前述和其它目的、特征、方面和优点将从本发明下面的详细描述变得显而易见。
附图说明
包含用来给提供本发明进一步的理解并结合组成该说明书一部分的附图图解了本发明的实施方式，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
在附图中：
图1是图解旋转涂敷器构造的截面图；
图2A和2B是图解狭缝涂敷器涂敷涂敷液的基本原理的透视图；
图3是图解依照本发明实施方式的狭缝涂敷器的示意性前视图；
图4是图解图3中所示的狭缝涂敷器的示意性截面图；
图5A到5E是连续图解依照本发明第一实施方式的涂敷工序的截面图；以及
图6A到6E是连续图解依照本发明第二实施方式的涂敷工序的截面图。
具体实施方式
下面，现在将详细描述依照本发明的涂敷装置和制造液晶显示器件的方法的优选实施方式，在附图中图解了其实施例。
一般地，半导体制造领域和平板显示器件制造领域需要上述的光刻工序，以将诸如金属薄膜或半导体薄膜的用于特定功能的薄膜进行构图，从而形成预定形状。在光刻工序中，使用对光化学反应的感光材料，如光刻胶。
这里，如果感光膜在形成有薄膜的基板上形成为具有非常均匀的厚度，则在工序中不会产生缺陷。例如，当感光膜形成为具有比预定厚度大的厚度时，就不会蚀刻薄膜的所需部分。此外，当感光膜形成为具有比预定厚度小的厚度时，就会以比所需蚀刻量大的量蚀刻薄膜。
特别地，因为随着液晶显示器件的液晶显示面板尺寸增加当前基板的尺寸也增加，所以感光液的均匀涂敷是非常重要的因素。
为了解决该问题，已经提出了下述喷嘴方法，即通过使用狭缝喷嘴而不使用如现有旋转卡盘的旋转器来喷射预定的感光液。使用喷嘴的曝光装置因为没有使用旋转器称作非旋转涂敷器，或因为通过狭缝施加感光液称作狭缝涂敷器。狭缝涂敷器通过具有长度大于宽度的狭缝形状的喷嘴供给感光液，从而以片的形式给基板表面涂敷感光液。因此，当给大尺寸液晶显示面板涂敷感光液时，狭缝涂敷器是合适的。
图2A和2B是图解狭缝涂敷器涂敷感光液的基本原理的透视图。
如这里所示，本发明的狭缝涂覆器具有长且窄的狭缝形状的喷嘴，并通过使用狭缝喷嘴140供给感光液145，从而狭缝涂覆器在基板10表面上以片的形式涂覆感光液145。
就是说，狭缝涂覆器是用于通过具有条形的长狭缝喷嘴140在基板110上涂覆预定量的感光液145的装置。当狭缝涂覆器以预定速度从一侧移到另一侧时，通过精细的喷嘴140涂覆预定量的感光液145，狭缝涂覆器可在基板110表面上形成均匀的感光膜。
此外，狭缝涂覆器具有下述优点，即与上述旋转涂覆器相比，因为仅在希望的基板110表面上涂覆感光液145，所以可没有浪费地使用感光液。此外，狭缝涂覆器适于大尺寸的基板或矩形的基板，因为其以长且窄的片的形式涂覆感光液。
作为参考，标号120表示设置有基板110的工作台，箭头表示狭缝喷嘴140移动的方向。沿箭头方向喷射并涂覆感光液145。
图3是图解依照本发明实施方式的狭缝涂敷器的示意性前视图。
这里，本发明的狭缝涂覆器具有矩形玻璃基板，其作为物体用于制造液晶显示器件的屏幕面板。其中在基板表面上形成导电膜的光刻工序中，狭缝涂覆器用在感光液涂覆工序中用于在基板表面上涂覆感光液。此外，狭缝涂覆器可以改为下述装置，即其用于在平板显示器件的各种类型的基板以及液晶显示器件的玻璃基板上涂覆感光液。
如这里所示，本发明涂覆装置的狭缝涂覆器300包括其上设置有基板(没有示出)的工作台220、用于在基板上涂覆涂覆液，如光刻胶的感光液的狭缝喷嘴单元200、和安装在狭缝喷嘴单元200两端并以预定速度移动狭缝喷嘴单元200的驱动单元260。
此外，狭缝涂覆器300还包括用于供给涂覆在基板上的感光液的供给单元(未示出)、和在从供给单元给狭缝喷嘴单元200供给感光液的同时用于施加预定压力从而喷射感光液的泵浦单元(没有示出)。
这里，尽管附图中没有示出，但供给单元包括用于存储感光液的存储罐、用于供给存储在存储罐中的感光液的供给管、和流量控制装置。
存储罐存储供给狭缝喷嘴单元200的涂覆液，例如，如光刻胶的感光液、显影液、或滤色片。存储罐可连接到驱动单元260。
泵浦单元给狭缝喷嘴单元200施加预定的压力，从而存储在狭缝喷嘴单元200中的感光液通过该压力而喷射。这里，泵浦单元安装在存储罐处。泵浦单元给存储罐内部加压，从而给狭缝喷嘴单元200供给存储在存储罐中的感光液。
如玻璃基板的物体位于工作台220的上部。在工作台表面上安装有用于从工作台220抬起基板的多个销钉(pin)。
这里，工作台220由具有方形形状的岩石材料形成，其上表面和侧表面被处理成平面。
工作台220的上表面对应于水平表面，基板位于上面。因为在上表面上形成多个真空吸气孔，所以在狭缝涂覆器300处理基板的同时可通过吸附基板而将基板保持在预定的水平位置。
这里，尽管附图中没有示出，但还在工作台220的前端和后端安装有辅助涂覆装置。涂覆液在前辅助涂覆装置中开始涂覆，在后辅助涂覆装置中结束涂覆。因此可在基板整个表面上形成均匀的涂覆层。
这里，辅助涂覆装置仅安装在基板的前端，辅助涂覆装置可安装在基板的前端和后端。
驱动单元260包括安装在狭缝喷嘴单元200两端的并沿垂直方向(即Z轴方向)移动狭缝喷嘴单元200的一对Z轴驱动装置261、和沿水平方向(即X轴方向)以预定速度移动狭缝喷嘴单元200从而在基板表面上涂覆感光液的一对X轴驱动装置262。
这里，X轴驱动单元262包括移动单元270，例如电机(没有示出)、输送机和导轨。非接触型线性电机可用作所述电机。
移动单元270与支撑并安装在工作台220两端的支撑块290一起引导狭缝喷嘴单元200的移动。就是说，为了通过狭缝喷嘴单元200在基板上涂覆涂覆液，移动单元270用作沿X轴方向移动狭缝喷嘴单元200的道路上的导向器，从而使狭缝喷嘴单元200相对于工作台220的表面水平。
狭缝喷嘴单元200安装成在工作台200的两侧为基本水平的。狭缝喷嘴单元200包括具有狭缝形状的喷嘴240和安装喷嘴240的头250，其中该狭缝形状具有对应于基板宽度的长度。此外，狭缝喷嘴单元200包括用于测量喷嘴240之间间隙的间隙传感器255。
这里，喷嘴240包括喷嘴体241、入口、和出口242。喷嘴体241具有容纳空间，用于在喷嘴体241内存储感光液。入口在喷嘴体241上，出口242形成在与基板相对的喷嘴体241的表面上。这里，出口242具有狭缝形状，其长度比宽度大。
此外，当喷嘴240通过X轴驱动单元262从基板一侧移到另一侧时，喷嘴240通过喷射感光液在基板表面上均匀地涂覆感光液。同时，在喷嘴240固定时通过滑动基板100执行同样的感光液涂覆工序。
将详细地描述具有上述构造的狭缝涂覆器300的狭缝喷嘴240的构造。
图4是图解图3中所示的狭缝涂敷器示意性截面图。
如这里所示，喷嘴240包括第一喷嘴体241a、第二喷嘴体241b、入口246、和出口242。
喷嘴240具有其中喷嘴体241，即第一喷嘴体241a和第二喷嘴体241b彼此耦接的结构。在第一喷嘴体241a与第二喷嘴体241b之间形成有容纳空间244，用于临时存储预定量的感光液，从而均匀地喷射被泵浦单元加压的感光液。
这里，入口246形成在第二喷嘴体241b的上部，以给容纳空间244供给感光液。出口242具有狭缝形状，其长度比宽度大，并形成在与基板相对的表面上，从而以片的形式给基板表面涂覆感光液。
此外，通过由不锈钢片形成的非常薄的膜243确定并保持第一喷嘴体241a和第二喷嘴体241b之间的间隙。
在具有上述构造的喷嘴420中，通过拧紧或放松设置在喷嘴体241下部的多个螺钉248来调整第一喷嘴体241a和第二喷嘴体241b之间的距离。
之后，将参照附图详细描述通过使用本发明的涂覆装置形成涂覆层的方法。
图5A到5E是连续图解依照本发明第一实施方式的涂敷工序的截面图。
首先，如图5A中所示，当喷嘴240与基板210之间的距离D1设为大约35μm时，在涂覆开始阶段时以静止状态开始排放感光液，以在涂覆开始时防止涂覆缺陷并形成均匀的涂覆层245。
在涂覆开始阶段中，通过控制各种处理变量来开始涂覆涂覆液，从而在涂覆液的涂覆操作过程中不会出现涂覆缺陷且均匀性与几乎与正常涂覆阶段一样。
这里，基板210和喷嘴240之间的距离D1较小，用于阻止在涂覆开始端处的涂覆缺陷并保证层均匀性。
之后，当形成其中涂覆层245的均匀性非常出色且没有发生涂覆缺陷的状态时，喷嘴240升高并在水平方向上移动。这里，层均匀性受水平移动加速度、移动速度、涂覆液排放速度、移动单元的同步等的影响。
图5B显示了正常涂覆开始阶段。如这里所示，如果涂覆开始阶段是其中水平和垂直移动速度变化的阶段，则正常涂覆阶段就称作其中水平移动速度保持恒定且垂直移动速度为0的状态。因此可获得均匀的涂覆层245。
这里，喷嘴240和基板210之间的距离D2保持为大约150μm。
图5C显示了正常涂覆阶段，图5D显示了正常涂覆结束阶段。以与图5B相同的状态，用于排放感光液的工序执行到基板210的结束端。
这样，当感光液施加到基板的结束端，如图5E中所示时，就停止用于排放感光液的泵浦(没有示出)的操作，基板210和喷嘴240之间的距离D1变小，以提高层均匀性，如涂覆开始阶段中所述。
这里，即使停止了用于排放感光液的泵浦的操作，但感光液还在基板21上排放一定距离。如果喷嘴240和基板210之间的D1变大，则涂覆层245将会变厚，很容易发生涂覆缺陷。
为了参，标号220表示其上设置有基板的工作台。
依照第一实施方式的涂覆层的涂覆方法，从整个基板涂覆层的均匀性看，在基板的涂覆开始和结束端时可能具有较低均匀性的涂覆层。为了提高涂覆开始和结束端的层均匀性，需要大量装置和控制单元，通过使用控制单元来满足固定的条件需要花费大量的时间。
因此，如上所述，在工作台的前端和后端安装有辅助涂覆装置，通过辅助涂覆装置执行和完成涂覆，从而在涂覆开始和结束端中可提高涂覆设备的涂覆均匀性。同时，因为简化了处理条件的操作，所以用户可很容易控制处理条件。此外，通过根据涂覆条件减小喷嘴状态的灵敏度，处理条件可不受喷嘴状态中小量变化的影响。
图6A到6E是连续图解依照本发明第二实施方式的涂敷工序的截面图，其中作为当使用辅助涂覆装置时的例子，图解了涂覆液涂覆工序。
如图6A中所示，在涂覆开始阶段中，在基板310前端安装第一辅助涂覆装置400A，涂覆操作从第一辅助涂覆装置400A开始。
这里，狭缝喷嘴340排放感光液，从而在第一辅助涂覆装置400A处形成均匀的涂覆层，狭缝喷嘴340以预定速度沿所示的箭头方向向着基板310移动。
第一辅助涂覆装置400A的上端部位于基板310上，从而彼此交迭。其宽度W1大约为10mm，从而可充分形成涂覆层的均匀性。当狭缝喷嘴340到达基板310，如图6B中所示时，在涂覆液排放速度和喷嘴340移动速度保持恒定且喷嘴340和基板310之间的距离D4保持恒定的同时狭缝喷嘴340在基板310表面上排放涂覆液。
这里，将要涂覆涂覆液的基板310前端的第一辅助涂覆装置400A构造为其上端部具有相对于基板310的倾斜角。
这里，首先当狭缝喷嘴340在第一辅助涂覆装置400A处等待时，狭缝喷嘴340相对于第一辅助涂覆装置400A的上部具有大约20到150μm的距离D3。当喷嘴340虽然没有沿垂直方向移动但通过由第一辅助涂覆装置400A上端部的斜面而到达基板310时，形成了由用户设定的距离D4。用户设定的D4等于或大于在第一辅助涂覆装置400A中时基板310和喷嘴340之间的距离D1。
在通过基板310前端的第一辅助涂覆装置执行预备排放操作，且排放足够执行排放操作的涂覆溶液的状态中，当喷嘴340向着基板310移动并到达基板310时，在移动速度和涂覆液排放速度保持恒定的同时排放涂覆液，并且同时保持喷嘴340和基板310之间的距离D4恒定。
如第一实施方式中所述，图6C示出了正常涂覆阶段，图6D示出了正常涂覆结束阶段。以与图6B中相同的状态，涂覆液一直排放到基板310的结束端。
这里，当水平移动速度保持恒定且均匀排放涂覆液时，可在基板310整个表面上获得均匀的涂覆层345。
这里，喷嘴和基板310之间的距离D4保持为大约150μm。
即使喷嘴340完成涂覆操作一直到基板310的结束端，如图6E中所示，但持续排放涂覆液，直到喷嘴340到达位于基板310后端的第二辅助涂覆装置400B为止。
这里，在本实施方式中，图解了第二辅助涂覆装置400B安装在基板310后端的情形。然而，本发明并不限于此。因为与其开始端相比，在基板310的结束端容易控制涂覆层345的均匀性，所以辅助涂覆装置可以不安装在基板310的后端。
然而，当在基板310端部安装第二辅助涂覆装置400B时，当使用多个喷嘴340时可使用第二辅助涂覆装置400B作为基板310前端的辅助涂覆装置。特别地，当喷嘴340在基板310内以预定速度在喷嘴340和基板310之间保持预定距离移动时，在基板310后端处停止涂覆液排放操作，可提高基板310结束端处的涂覆层345的均匀性并简化了处理条件。就是说，涂覆液排放操作在基板310后端的涂覆层345的质量不受影响的第二辅助涂覆装置400B处停止，而不是在基板310处停止。
此外，如所述的，辅助涂覆装置400A和400B具有上端部，其每一个都向着基板310的上部延伸，从而每个端部都通过大约0.1到5mm的宽度W2与基板310交迭。此外，为了防止基板310的端部被涂覆液污染，每个端部都垂直于基板310保持距离D5为大约0到1000μmm而覆盖基板310。通过这样可以防止由施加给基板310端部的涂覆液导致的基板污染。
在下一个基板310上执行涂覆液排放操作之前，其上形成有涂覆层的辅助涂覆装置400A和400B执行清洗操作。这里，为了在清洗操作过程中不污染工作台320，辅助涂覆装置400A和400B水平移动或旋转到清洗位置，然后执行清洗操作。这里，通过各种方法，如刷、超声波、辊等来执行清洗操作。
辅助涂覆装置400A和400B附加地包括转动或执行线性移动的装置或盖子，以在清洗过程中防止污染用于支撑基板310的工作台。
此外，在清洗了辅助涂覆装置400A和400B之后，执行用于干燥辅助涂覆装置400A和400B的工序。
之后，将详细描述使用依照本发明形成涂覆层的方法制造液晶显示器件的方法。
制造液晶显示器件的方法包括形成阵列基板的阵列工序、形成滤色片基板的滤色片工序、和将阵列基板和滤色片基板彼此粘附在一起形成单位液晶显示面板的单元工序。现在将更加详细地描述。
首先，在如玻璃的透明绝缘基板上水平和垂直地设置多条栅线和数据线，并确定多个像素区域。在每个像素区域上形成与栅线和数据线连接且作为开关器件的薄膜晶体管。此外，依照阵列工序，像素电极与薄膜晶体管相连并根据通过薄膜晶体管施加的信号驱动液晶层。在IPS模式的情形中，依照阵列工序，同时形成在液晶层中形成水平电场的像素区域和公共电极。
此外，依照滤色片工序，在滤色片基板上形成包含显示红色、绿色和蓝色的子滤色片和将子滤色片彼此分开并透射液晶层的黑矩阵。
黑矩阵使用由树脂形成的有机层。例如可使用着色的有机树脂，如含有碳黑和黑颜料中任意之一的丙烯酸、环氧树脂、或聚酰亚胺树脂。
之后，在基板整个表面上形成由透明绝缘材料形成的保护层。
保护层是具有绝缘特性的透明树脂，以使形成有滤色片的基板平坦化，并防止颜料离子的洗提。特别地，保护层可由丙烯酸树脂或环氧树脂形成。
当形成诸如薄膜晶体管和滤色片的图案时，阵列工序和滤色片工序需要多个光刻工序。
光刻工序是指一些列的工序，其中通过将画在掩模上的图案转移到沉积有薄膜的基板上来形成所需的图案。光刻工序包括多个工序，例如感光液涂覆工序、曝光工序、显影工序等。
这里，在感光液涂覆工序中，使用上述的涂覆装置和形成涂覆层的方法。这里，将辅助涂覆装置安装在工作台的前端和后端，可通过辅助涂覆装置开始并通过辅助涂覆装置结束涂覆感光液的操作。结果，可提高在基板的涂覆开始端和涂覆结束端处的涂覆均匀性，且通过简化处理条件的操作用户很容易控制处理条件。此外，通过减小依照涂覆条件的喷嘴状态的灵敏度，即使喷嘴状态改变一点，处理条件也不会受到影响。
接下来，在滤色片基板和阵列基板上形成由有机层形成的衬垫料。
随着液晶显示面板尺寸增加，固定到阵列基板或滤色片基板的柱状衬垫料(或构图后的衬垫料)用作上述的衬垫料。
之后，在阵列基板和滤色片基板的每一个上都涂覆定向层之后，将定向层定向，从而给形成在两基板之间的液晶层液晶分子提供定向控制力或表面锚定力(即从而设定预倾角和定向方向)。这里，对于将定向层定向的方法，可以使用摩擦方法或光定向方法。
此外，通过滤色片基板上的密封剂形成预定的密封剂图案，同时在阵列基板上形成液晶层。
之后，给阵列基板和滤色片基板施加压力，以将两基板彼此粘结在一起，从而形成单位液晶显示面板。
在不脱离其精神或实质特性的情况下以几种形式实施本发明，还应当理解到，上述的实施方式不限于前面说明书的任何细节，除非另有说明，而是应当广泛解释为在所附权利要求定义的精神和范围内，因此落在权利要求的边界和范围内、或这种边界和范围的等效物内的所有改变和修改意在由所附的权利要求包含。
Claims (13)
1.一种在基板上形成涂敷层的方法，包括：
在第一辅助涂敷装置处通过喷嘴开始预备排放涂敷液，其中，当所述喷嘴在所述第一辅助涂敷装置处等待时，所述喷嘴相对于所述第一辅助涂敷装置的上端部具有第一距离；
其中，所述第一辅助涂敷装置的所述上端部包括向着所述基板的上部延伸的第一区域，在涂敷工序开始时所述喷嘴在从所述第一辅助涂敷装置移到所述基板的同时排放涂敷液，
其中，所述第一区域具有0.1mm到5mm范围内的宽度，并且
其中，所述第一辅助涂敷装置的所述上端部相对于所述基板具有预定角度的倾斜，其中，当所述喷嘴虽然没有沿垂直方向移动但通过所述第一辅助涂敷装置的所述上端部的斜面而到达所述基板时，形成大于所述第一距离的第二距离；
在向着所述基板移动所述喷嘴的同时排放涂敷液；以及
排放涂敷液，一直到所述基板的结束端。
2.根据权利要求1所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，通过所述喷嘴排放涂敷液，所述涂敷液是光刻胶、显影液或滤色片之一。
3.根据权利要求1所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，所述第一辅助涂敷装置安装在所述基板的前端。
4.根据权利要求1所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，进一步包括：
在所述基板的后端设置的第二辅助涂敷装置，在所述第二辅助涂敷装置处完成涂敷液的涂敷工序。
5.根据权利要求1所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，所述第一辅助涂敷装置允许在涂敷工序的开始端和结束端处排放涂敷液，同时所述喷嘴和所述第一辅助涂敷装置之间的第一距离保持在20μm到150μm的范围内。
6.根据权利要求1所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，进一步包括：在完成涂敷液的涂敷工序之后清洗所述第一辅助涂敷装置以供下一基板涂敷工序使用。
7.根据权利要求6所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，进一步包括： 在清洗所述第一辅助涂敷装置之后干燥所述第一辅助涂敷装置。
8.根据权利要求1所述的形成涂敷层的方法，其特征在于，进一步包括当清洗所述第一辅助涂敷装置或所述基板移动时，水平地或旋转地移动所述第一辅助涂敷装置。
9.一种液晶显示器件的制造方法，包括：
提供基板；
依照光刻工序在所述基板上执行阵列工序或滤色片工序，所述光刻工序包括在第一辅助涂敷装置处通过喷嘴开始预备排放涂敷液、在向着所述基板移动所述喷嘴的同时排放涂敷液、以及排放涂敷液直到所述基板的结束端，其中，当所述喷嘴在所述第一辅助涂敷装置处等待时，所述喷嘴相对于所述第一辅助涂敷装置的上端部具有第一距离，
其中，所述第一辅助涂敷装置的所述上端部包括向着所述基板的上部延伸的第一区域，在涂敷工序开始时所述喷嘴在从所述第一辅助涂敷装置移到所述基板的同时排放涂敷液，
其中，所述第一区域具有0.1mm到5mm范围内的宽度，并且
其中，所述第一辅助涂敷装置的所述上端部相对于所述基板具有预定角度的倾斜，其中，当所述喷嘴虽然没有沿垂直方向移动但通过所述第一辅助涂敷装置的所述上端部的斜面而到达所述基板时，形成大于所述第一距离的第二距离；
彼此粘结其上分别执行了阵列工序和滤色片工序的两基板；以及
将粘结的基板切成多个单位液晶显示面板。
10.根据权利要求9所述的液晶显示器件的制造方法，其特征在于，通过喷嘴排放涂敷液，所述涂敷液是光刻胶、显影液或滤色片之一。
11.根据权利要求9所述的液晶显示器件的制造方法，其特征在于，所述第一辅助涂敷装置安装在基板的前端。
12.根据权利要求9所述的液晶显示器件的制造方法，其特征在于，进一步包括：
在所述基板的后端设置的第二辅助涂敷装置，在所述第二辅助涂敷装置处完成涂敷液的涂敷工序。
13.根据权利要求9所述的液晶显示器件的制造方法，其特征在于，所述 第一辅助涂敷装置允许在涂敷工序的开始端和结束端处排放涂敷液，同时所述喷嘴和所述第一辅助涂敷装置之间的第一距离保持在20μm到150μm的范围内。
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