KR101248384B1 - 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 기판 코터 장치의 박판 세정 기구 및 이를 구비한 기판 코터 장치에 관한 것으로, 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 코팅 공정의 일부로서 또는 피처리 기판에 약액을 도포하기 이전에 슬릿 코터의 토출구에 비드를 형성하는 예비 토출 공정 중에 박판의 표면에 묻은 약액을 세정하기 위하여, 에어 노즐에 의하여 에어 커튼을 형성하여 외기와 내부를 차단시킨 상태에서 박판을 박판 수용부에 유입시키고 나서 세정액을 공급함으로써, 박판 수용부에 수위가 높게 세정액이 공급되더라도 세정액이 바깥으로 누설되지 않은 상태로 유지할 수 있으므로, 박판이 상하 방향으로 이동하지 않고 수평 방향으로 박판 수용부로 유입되더라도, 박판의 저면이 세정액에 접촉한 상태로 세정하거나 박판의 전체가 세정액에 잠긴 상태로 그 표면에 묻은 약액을 제거하는 세정 공정을 행할 수 있는 박판 세정 기구 및 이를 구비한 기판 코터 장치를 제공한다.
Description
본 발명은 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 박판을 이용하여 슬릿 노즐의 약액 도포 공정을 보조하는 기판 코터 장치에 있어서 박판의 표면에 무기질 세라믹 코팅층을 형성함으로써 박판에 묻은 약액을 세정하는 공정이 보다 단순화되고 인체에 유해한 시너 등의 용제 사용을 최소화할 수 있는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구에 관한 것이다.
LCD 등 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 공정에서는 유리 등으로 제작된 피처리 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. LCD의 크기가 작았던 종래에는 피처리 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 피처리 기판을 회전시키는 것에 의하여 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다.
그러나, LCD 화면의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 피처리 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 슬릿 노즐과 피처리 기판을 상대 이동시키면서 슬릿 노즐로부터 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다.
도1은 종래의 기판 코터 장치를 개략적으로 도시한 도면이다. 도1에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 코터 장치는 피처리 기판(G)을 기판척(10)상에 거치시킨 상태에서, 피처리 기판(G)의 폭에 대응하는 토출구를 구비한 노즐(30)을 30d로 표시된 방향으로 이동시키면서 약액을 피처리 기판(G)의 표면에 도포한다.
여기서, 기판척(10)은 유리 기판(G)을 안착시키기 위해 통상 유리 기판보다 큰 직사각형 형상으로 형성되고, 상부에는 진공 흡착을 위하여 진공 펌프와 연통된 다수개의 진공홀(미도시)이 형성되어 있다. 예비 토출부(20)는 기판척(10) 일측에는 마련되는 데, 세정조(24)와 상기 세정조(24) 내에 회전 가능하게 설치된 원통형의 프라이밍 롤러(22)로 구성된다. 세정조(24)에는 시너 등의 세정액(w)이 채워져 프라이밍 롤러(22)의 하부가 침지되고, 상기 세정조(24)의 상부의 개구를 통하여 프라이밍 롤러(22)의 상부가 외부로 노출된다.
또한, 기판척(10) 상측에는 기판척(10)의 길이 방향(30d)으로 이동 가능한 노즐(30)이 예비 토출부(20) 및 기판척(10)의 상부를 수평 이동하면서 피처리 기판(G)에 포토레지스트 등의 약액을 도포한다.
상기와 같이 구성된 기판 코터 장치는 도2a에 도시된 바와 같이 노즐(30)을 수평 이동을 하여 예비 토출부(20)의 상부로 이동하여 정지된 상태에서, 노즐(30)의 토출구가 프라이밍 롤러(22)에 근접하도록 하방(30y)이동시켜 회전하는 프라이밍 롤러(22) 상에 약액(55)을 약간 토출하는 것에 의하여 예비 토출 공정을 행한다.
프라이밍 롤러(22)의 외주면에 묻은 약액(55)은 도2c에 도시된 바와 같이 롤러(22)의 회전에 의해 세정조(24) 내의 세정액(w)에 침지된다. 그리고, 세정조(24)에 침지된 프라이밍 롤러(22)는 그 표면에 묻은 약액(55)을 세정액(w)으로 세정시킨 후, 건조기(26)의 건조 에어(26a)에 의해 건조되어 그 다음 예비 토출 공정을 행할 수 있는 준비가 완료된다. 일반적으로 세정조(24) 내에는 세정액(w) 이외에, 세정액 적하 유닛, 블레이드, 세정액 분사기, 압축건조에어(Compressed Dry Air; CDA) 건조기(26) 등 여러 세정 유닛이 설치된다.
이와 같이 예비 토출부(20)는 복잡한 설비를 필요하는 데, 이는 금속 재질의 프라이밍 롤러(22)의 외주면에 묻은 약액(55)이 표면에 퍼지는 친수성이 높아지므로 프라이밍 롤러(22)의 외주면으로부터 약액(55)을 제거하는 것이 까다로워지기 때문이다. 따라서, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(55)을 도포하는 공정마다 실시하는 예비토출공정을 보다 간단하고 짧은 시간 내에 행해야 할 필요성이 크게 대두되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위한 것으로, 약액의 예비 토출 공정이 이루어지는 박판의 표면에 무기질 세라믹 코팅층을 형성함으로써, 박판에 묻은 약액이 표면에 퍼지는 친수성을 지연시켜 박판의 표면으로부터 약액을 손쉽게 제거할 수 있도록 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
그리고, 본 발명은 예비 토출 공정에 사용된 박판의 표면에 무기질 세라믹 코팅을 함으로써, 박판에 묻은 약액의 세정에 시너 등 인체에 유해한 용제(solvent)의 사용을 최소화하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
그리고, 본 발명은 박판이 피처리 기판의 근처로 이동하여 슬릿 노즐의 예비 토출 공정을 행하거나 박판의 표면에서 약액의 토출이 시작되어 연속하여 피처리 기판의 표면에 약액을 코팅함으로써, 피처리 기판의 코팅 공정을 보다 신속하게 행하고, 동시에 피처리 기판의 약액의 코팅 개시 시점에서부터 항상 일정한 두께로 약액을 도포할 수 있도록 하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
본 발명은 상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 슬릿 노즐에 의하여 기판척에 고정된 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하기 이전에 사용되는 예비 토출 기구로서, 상기 슬릿 노즐의 폭보다 더 긴 폭을 갖도록 금속 재질로 형성되고, 상면에 무기질 세라믹 코팅층이 형성된 박판을; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구를 제공한다.
이와 같이, 피처리 기판의 표면에 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 데 사용되는 박판에 세라믹 코팅층을 형성함으로써, 박판에 묻은 약액이 표면에 퍼지는 친수성이 낮아지고 이에 따라 박판 상의 약액이 경화되는 시간이 지연되므로, 박판을 시너 등의 용제로 닦아내지 않고 압력이 높은 에어를 분사하는 것에 의하더라도 박판 상의 약액을 손쉽게 제거할 수 있는 유리한 효과가 얻어진다.
여기서, 박판의 표면에 형성되는 무기질 세라믹 코팅층은 무기질의 비금속 재료의 분말을 포함하는 코팅제를 도포하여 형성된다. 이 때, 무기질의 비금속 재료의 분말은 실리카, 알루미나, 지르코니아 중 어느 하나 이상의 성분이 함유된 코팅제를 이용하는 것이 젖음성이 완화되도록 하는데 효과적이다.
예를 들어, 무기질의 비금속 재료의 분말로서, 실리카 고형분 20~33wt%와, 수용성 용매 67~80wt%로 이루어진 25~40wt%의 콜로이달 실리카졸과; 지르코알루미네이트 커플링제 0.1~8wt%와; 메틸트리메톡시실란 56~67wt%, 메틸트리에톡시실란 29~32wt%, 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란 1~14wt%로 이루어진 알콕시실란 화합물 35~50wt%와; 알콜화합물 8~25wt%와; 기능성 충진재 3~13wt%와; 세라믹 파우더 3~11wt%와; 무기안료 7~15wt%를 포함하여 이루어진 코팅제를 도포하여 형성될 수 있다. 다만, 본 발명의 무기질 세라믹 코팅층은 이와 다른 배합의 코팅제를 도포하는 것에 의해서도 구현될 수 있다.
한편, 본 명세서 및 특허청구범위에 사용된 '예비 토출 기구' 및 이와 유사한 용어는 도1 내지 도2c에 도시된 종래 기술의 프라이밍 롤러에 대응하여 슬릿 노즐의 토출구에 비드를 형성하기 위하여 약간의 약액을 토출하는 데 사용되는 것을 포함할 뿐만 아니라, 후술하는 도12a 및 도12b에 도시된 바와 같이 기판의 약액도포공정의 일부로서 약액이 도포되는 데 사용되는 것을 모두 포함하는 것으로 정의하기로 한다.
한편, 본 발명은, 슬릿 노즐의 토출구로부터 약액이 토출되어 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 코터 장치로서, 상기 피처리 기판을 거치시키는 기판척과; 상기 피처리 기판척 상에 고정된 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 노즐과; 상기 슬릿 노즐의 폭보다 더 긴 폭을 갖도록 금속 재질로 형성되고, 상면에 무기질 세라믹 코팅층이 형성된 박판을 구비한 예비 토출 기구와, 상기 박판을 세정하는 박판 세정 기구로 구성된 기판 코터 장치를 제공한다.
상기 박판 세정 기구는 용제와 고압의 에어를 동시에 분사하여 박판의 표면에 묻은 약액을 제거할 수도 있지만, 대기압보다 높은 압력으로 에어만 상기 박판의 표면에 분사하여 상기 박판의 표면에 묻은 약액을 제거할 수도 있다. 이를 통해, 박판의 세정에 소요되는 용제의 양을 최소화하거나 없앰으로써, 친환경적인 박판의 세정을 가능하게 하는 잇점이 얻어진다.
상기 에어는 질소 가스, 공기 중 어느 하나 이상으로 정해질 수 있다.
한편, 본 발명은 기판 코터 장치의 예비 토출 기구의 박판의 표면에 상기 무기질 세라믹 코팅층을 형성하는 방법으로서, 상기 금속 재질의 박판의 표면에 기름때를 제거하는 단계와; 상기 박판의 표면을 40℃ 내지 100℃로 가열하는 단계와; 제2항에 따른 상기 코팅제를 상기 박판의 표면에 도포하는 단계와; 상기 박판을 건조시키는 단계를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무기질 세라믹 코팅층을 박판에 형성하는 방법을 제공한다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 피처리 기판의 표면에 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 데 사용되는 박판에 무기질 세라믹 코팅층을 형성함으로써, 박판에 묻은 약액이 표면에 퍼지는 친수성이 낮아지고 이에 따라 박판 상의 약액이 경화되는 시간이 지연되므로, 박판 을 시너 등의 용제로 닦아내지 않고 압력이 높은 에어를 분사하는 것에 의하더라도 박판 상의 약액을 짧은 시간 내에 용제의 사용량을 최소화하면서 손쉽게 제거할 수 있는 유리한 효과가 얻어진다.
그리고, 본 발명은 박판이 상기 피처리 기판의 일부와 중복되는 위치로 이동한 상태에서 슬릿 노즐의 약액 도포를 보조함에 따라, 노즐의 토출압이나 노즐의 이동 속도를 별도로 정밀 제어하지 않더라도 코팅이 시작되는 피처리 기판의 위치에서 약액의 두께가 불균일해지는 문제점을 일거에 해소할 수 있는 잇점을 얻을 수 있다.
도1은 종래의 일반적인 기판 코터 장치의 구성을 도시한 개략 사시도
도2a 내지 도2c는 도1의 기판 코터 장치를 이용한 예비 토출 공정 및 기판 코팅 공정을 설명하기 위한 개략도
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코터 장치를 도시한 사시도
도4는 도3의 분해 사시도
도5는 도3의 박판의 단면도
도6은 도3의 'A'부분의 확대도
도7은 도4의 'B'부분의 확대도
도8은 도3의 박판 유닛의 정면도
도9는 도8의 'C'부분의 확대도
도10 및 도11는 도3의 박판 세정 기구의 세정 메커니즘을 도시한 도면이다.
도2a 내지 도2c는 도1의 기판 코터 장치를 이용한 예비 토출 공정 및 기판 코팅 공정을 설명하기 위한 개략도
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코터 장치를 도시한 사시도
도4는 도3의 분해 사시도
도5는 도3의 박판의 단면도
도6은 도3의 'A'부분의 확대도
도7은 도4의 'B'부분의 확대도
도8은 도3의 박판 유닛의 정면도
도9는 도8의 'C'부분의 확대도
도10 및 도11는 도3의 박판 세정 기구의 세정 메커니즘을 도시한 도면이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 박판 세정 기구(100)를 구비한 기판 코터 장치를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코터 장치를 도시한 사시도, 도4는 도3의 분해 사시도, 도5는 도3의 박판의 단면도, 도6은 도3의 'A'부분의 확대도, 도7은 도4의 'B'부분의 확대도, 도8은 도3의 박판 유닛의 정면도, 도9는 도8의 'C'부분의 확대도, 도10은 도3의 박판 세정 기구의 횡단면도, 도11 및 도12는 도3의 박판 세정 기구의 세정 메커니즘을 도시한 도면이다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코터 장치는, 피처리 기판(G)을 다수의 흡입공으로 흡착하여 견고하게 요동없이 고정시키는 기판척(10)과, 기판척(10)에 고정된 피처리 기판(G)의 표면에 약액(55)을 도포하는 슬릿 노즐(30)과, 슬릿 노즐(30)을 기판척(10)의 길이 방향(30d)을 따라 이동시키는 슬릿노즐 이동기구(미도시)와, 슬릿 노즐(30)에 의하여 피처리 기판(G)의 표면에 약액(55)을 토출하기 이전에 슬릿 노즐(30)의 토출구에 비드를 형성하기 위하여 예비적으로 소량의 약액(55)을 토출하거나 피처리 기판(G)의 표면에 약액(55)을 도포하는 공정의 일부로서 약액(55)을 도포하는데 사용되는 박판(210)을 구비한 박판 유닛(200)과, 박판(210)의 표면에 묻은 약액(55)을 세정하는 박판 세정 기구(100)로 구성된다.
상기 박판 유닛(200)은 피처리 기판(G)의 폭에 대응하는 길이로 형성된 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)로부터 토출되는 약액이 묻도록 금속 재질로 형성된 박판(210)과, 박판(210)의 양측에서 잡아당기는 긴장력을 작용하거나 긴장력을 완화시키는 긴장부(220)와, 긴장부(220)에 의해 도입되는 긴장력을 측정하는 긴장력 측정부(224)와, 박판(210)과 긴장부(220) 등을 고정하는 메인 몸체(230)와, 박판(210)이 피처리 기판(G)과 중복되는 제1위치와 피처리 기판(G)으로부터 벗어나 세정되는 제2위치를 왕복하도록 메인 몸체(230)를 전후 방향으로 이동시키는 이동부(240)로 구성된다.
여기서, 박판(210)은 도4 내지 도6에 도시된 바와 같이 피처리 기판(G)의 폭에 비하여 약간 길게 대응하는 길이로 설정되도록 이격된 한 쌍의 지지대(211a)에 핀 또는 볼트(211b)로 고정된다. 그리고, 지지대(211a)의 상부는 곡면으로 형성되어 박판(210)이 한 쌍의 지지대(211a)에 감기면서 설치됨에 따라, 긴장부(220)의 동기제어오류에도 항상 일정한 길이 방향으로 긴장력이 작용하도록 하고, 지지대(210a)의 배치 방향으로 박판(210)이 자동 정렬되도록 할 뿐만 아니라, 박판(210)의 양끝단부에 국부적인 응력이 크게 작용하는 것을 방지한다.
무엇보다도, 도5에 도시된 바와 같이, 박판(210)은 약액에 대한 내부식성과 내약품성이 우수하면서 긴장력에 의해 파손되지 않도록 연성이 확보되는 스텐레스 계열의 금속재질로 선택되며, 대략 1㎛ 내지 1000㎛의 두께(t2)로 형성되며, 보다 바람직하게는 20㎛ 내지 200㎛의 두께(t2)로 형성된다. 그리고, 그 표면에는 대략 0.1㎛ 내지 100㎛의 두께(t1)로 무기질 세라믹 코팅층이 형성된다.
무기질 세라믹 코팅층은 예를 들어 실리카 고형분 20~33wt%와, 수용성 용매 67~80wt%로 이루어진 25~40wt%의 콜로이달 실리카졸과; 지르코알루미네이트 커플링제 0.1~8wt%와; 메틸트리메톡시실란 56~67wt%, 메틸트리에톡시실란 29~32wt%, 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란 1~14wt%로 이루어진 알콕시실란 화합물 35~50wt%와; 알콜화합물 8~25wt%와; 기능성 충진재 3~13wt%와; 세라믹 파우더 3~11wt%와; 무기안료 7~15wt%를 포함하여 이루어진 코팅제를 금속 재질의 박판 기재(210m) 상에 도포하여 형성된다.
여기서, 콜로이달 실리카졸은 함량이 20wt%보다 낮아지면 코팅막이 약해지며, 33wt%를 초과하면 쉽게 겔화되는 문제가 야기된다. 그리고, 지르코알루미네이트 커플링제는 금속 재질의 박판(210)에 접착력과 강도 내마모성을 향상시키는 역할을 한다. 알콕시실란 화합물은 RnSi(OR')4-n으로 표시되며, 이 함량이 35wt%보다 낮으면 반응성이 저하되고 50wt%를 초과하면 코팅제로서의 물성이 저하되는 문제가 있다.
상기와 같은 함량의 코팅제를 이용하여 금속 기재(210m) 상에 무기질 세라믹 코팅층(210b)을 형성하는 공정은, 먼저 금속 기재(210m)의 박판(210)의 표면에 기름때를 제거하고, 박판의 금속 기재(210m)의 표면을 40℃ 내지 60℃로 가열한 후, 상기 코팅제를 표면에 도포하여 건조하는 것에 의해 이루어진다.
이와 같이 박판(210)의 표면에 무기질 세라믹 코팅층(210b)이 코팅되면, 슬릿 노즐(30)로부터 약액(55)이 박판(210)의 표면에 묻더라도, 표면의 친수성이 저하되어 약액 입자가 표면에 퍼지지 않고 뭉친 형태로 유지가 되므로, 약액(55)이 굳는데 걸리는 시간이 길어지므로 박판(210)의 표면으로부터 약액(55)을 제거하는 것이 보다 용이해진다. 또한, 무기질 세라믹 코팅층(210b) 상의 약액(55)은 표면에 친수성이 낮으므로 도12a 및 도12b에 도시된 모식도에서와 같이 높은 압력의 에어를 불어주면 박판(210)의 표면에 묻은 약액 입자가 도면부호 55d로 표시된 방향으로 밀려 이동하게 되어, 시너와 같은 용제를 이용하여 박판(210)의 표면 상의 약액을 녹이는 공정을 배제시키거나 최소화하더라도, 신속하게 박판(210)의 표면으로부터 약액을 세정할 수 있는 잇점이 얻어진다.
긴장부(220)는 슬릿 노즐(30)의 토출구 길이에 걸쳐 박판(210)의 표면과 일정한 간극이 되도록 박판(210)을 팽팽하게 긴장시킨다. 이를 위하여, 박판(210)을 지지하는 지지대(211a)의 하부에 고정된 몸체(211)에 고정된 고정 블록(223y)이 구비되고, 일단이 고정 블록(223y)에 고정되고 타단이 직선 왕복 운동을 행하는 액츄에이터(222)에 연결 고정된 작동 바(123)가 구비된다. 이 때, 고정 블록(223y)은 메인 몸체(230)상에 설치된 가이드 레일(220r)을 따라 왕복 이동한다. 이를 통해, 액츄에이터(222)에 의하여 작동 바(223)가 도면부호 222d로 표시된 방향으로 왕복 이동함으로써, 한 쌍의 지지대(211a)의 간격을 서로 가까워졌다가 멀어질 수 있게 되므로, 박판(210)에 도면부호 210x로 표시된 방향으로 긴장력이 도입되거나 도입된 긴장력을 완화시킬 수 있다.
긴장부(220)에 의하여 박판(210)에 도입되는 긴장력은 긴장력 측정부(224)에 의하여 실시간으로 측정되고 감시된다. 긴장부(220)에 의해 도입되는 긴장력이 과도한 경우에는 박판의 인장 파열이 발생될 수 있고, 긴장력이 부족한 경우에는 박판의 처짐량이 허용값을 초과하는 문제가 발생되므로, 긴장부(220)에 의해 박판(210)을 잡아당기는 힘을 긴장력 측정부(224)으로 측정하여, 박판(210)의 탄성 한도 내에서 허용할 수 있는 긴장력으로 박판(210)의 처짐량을 최소화하는 적정한 긴장력을 도입할 수 있게 된다.
이를 위하여, 긴장부(220)의 작동바(223)에는 요입 형성된 함몰부가 형성되고, 함몰부에는 긴장력 측정부(224)으로서 로드셀이 위치하여, 작동바(123)의 왕복 이동에 따라 작동부(123)에 고정된 가압부(123x)가 로드셀을 가압한다. 이에 따라, 로드셀의 변형량으로부터 긴장부(220)에 의해 도입되는 긴장력을 측정한다.
이 때, 긴장부(220)는 박판(210)의 일측에 설치되고 긴장력 측정부도 긴장부이 설치되는 박판(210)의 일측에만 설치될 수도 있지만, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코터 장치의 박판 유닛(200)은 긴장부(220)과 긴장력 측정부(224)가 박판(210)의 양측에 설치되는 것이 좋다. 이를 통해, 박판(210)에 긴장력을 도입하는 과정에서 어느 일측에 치우쳐 과도한 힘이 작용하는 것을 방지할 수 있다.
도9에 도시된 바와 같이, 긴장부(220)와 박판(210)은 메인 몸체(230) 상에 고정된다. 그리고, 메인 몸체(230)는 도4에 도시된 바와 같이 기판척(10)과 박판 세정 기구(100)를 연결하는 수평 방향으로 바닥면의 양측에 설치된 한 쌍의 안내 레일(241)을 따라 이동부(240)에 의하여 왕복 이동하도록 제어된다. 이를 위하여, 기판 코터 장치의 프레임(20)에 고정 설치된 리드 스크류 모터(242)가 정,역방향으로 회전하면, 스크류 모터(242)의 회전축(242a)에 형성된 수나사산이 메인 몸체(230)에 고정된 고정 플레이트(243)에 형성된 암나사산과 맞물리면서, 메인 몸체(230)를 전후 방향(240d)으로 이동시킨다.
상기 박판 세정 기구(100)는 피처리 기판(G)의 표면에 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 데 사용되며, 박판(210)에 약액이 묻은 오염 영역을 수용하고 박판(210)이 수평으로 유입되는 박판 수용부를 구비한 세정 몸체(110)와, 세정액(CW)을 공급하여 박판(210)의 표면에 묻은 약액을 제거하도록 세정액(CW)을 박판(210)에 분사하는 세정액 공급노즐과, 박판(210)의 표면에 묻은 약액(55)이나 세정액(CW)을 고압의 에어(CDA)로 불어 도12b에 도시된 원리로 약액(55)을 제거하거나 세정액(CW)을 건조시는 에어 노즐(131)과, 박판 수용부(110c)의 세정액을 배출하는 배출부로 구성된다.
세정액(CW)은 신나(thinner) 등의 용제(solvent)를 사용할 수도 있지만, 세정액(CW)을 사용하지 않고, 도10 및 도11에 도시된 원리에 의하여, 에어 노즐(130)로부터 분사되는 고압의 에어만으로도 박판(210)의 표면에 묻은 약액(55)을 제거할 수 있다.
에어 노즐에 의하여 분사되는 고압의 압축 건조 공기는 박판 수용부를 향하여 경사진 방향으로 분사된다. 이에 의하여, 박판(210)상의 세정액(CW)이나 약액(55)의 액체 입자를 바깥으로 밀어 제거하는 것이 보다 용이해진다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구 범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **
10: 기판척 30: 슬릿 노즐
100: 박판 세정 기구 110: 세정 몸체
120: 세정액 공급노즐 130: 에어 노즐
200: 박판 유닛 210: 박판
210b: 무기질 세라믹 코팅층
10: 기판척 30: 슬릿 노즐
100: 박판 세정 기구 110: 세정 몸체
120: 세정액 공급노즐 130: 에어 노즐
200: 박판 유닛 210: 박판
210b: 무기질 세라믹 코팅층
Claims (10)
- 슬릿 노즐에 의하여 기판척에 고정된 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하기 이전에 사용되는 예비 토출 기구로서,
상기 슬릿 노즐의 폭보다 더 긴 폭을 갖도록 금속 재질로 형성되고, 상면에 세라믹 코팅층이 형성된 박판을;
포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구.
- 제 1항에 있어서, 상기 세라믹 코팅층은,
무기질의 비금속 재료의 분말을 포함하는 코팅제를 도포하여 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구.
- 제 1항에 있어서,
상기 박판이 상기 피처리 기판의 일부와 중복되는 제1위치와, 상기 제1위치로부터 벗어나 상기 박판의 표면에 묻은 약액을 세정하는 제2위치에 각각 위치할 수 있도록 상기 박판을 이동시키는 이동부를;
더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구.
- 제 1항에 있어서,
상기 박판은 상측이 곡면으로 형성된 한 쌍의 지지대에 감기면서 고정 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구.
- 제 4항에 있어서,
상기 박판의 끝단을 고정하는 한 쌍의 지지대 사이의 간격을 조절하는 것에 의하여 상기 박판에 긴장력을 가하거나 상기 긴장력을 완화하는 긴장 유닛과;
상기 긴장 유닛에 의해 상기 박판을 잡아당기는 힘을 측정하는 긴장력 측정유닛을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구.
- 제 2항에 있어서,
상기 무기질의 비금속 재료의 분말은 실리카, 지르코니아, 알루미나 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치의 예비 토출 기구.
- 슬릿 노즐의 토출구로부터 약액이 토출되어 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 기판 코터 장치로서,
상기 피처리 기판을 거치시키는 기판척과;
상기 피처리 기판척 상에 고정된 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 슬릿 노즐과;
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 따른 예비 토출 기구를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치.
- 제 7항에 있어서,
상기 박판이 상기 피처리 기판으로부터 벗어난 위치에 있는 상태에서 상기 박판을 세정하는 박판 세정 기구를;
더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코터 장치.
- 제 8항에 있어서,
상기 박판 세정 기구는 에어 노즐로부터 대기압보다 높은 압력의 에어를 상기 박판의 표면에 분사하여 상기 박판의 표면에 묻은 약액을 제거하는 것을 특징으로 기판 코터 장치.
- 제2항에 따른 기판 코터 장치의 예비 토출 기구의 박판의 표면에 상기 세라믹 코팅층을 형성하는 방법으로서,
상기 금속 재질의 박판의 표면에 기름때를 제거하는 단계와;
상기 박판의 표면을 40℃ 내지 100℃로 가열하는 단계와;
제2항에 따른 상기 코팅제를 상기 박판의 표면에 도포하는 단계와;
상기 박판을 건조시키는 단계를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무기질 세라믹 코팅층을 박판에 형성하는 방법
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