WO2011077959A1 - 塗布システム - Google Patents

Abstract

　スリット状の吐出口（２３）有する吐出ヘッド（２２）を有する塗布システム（１）において、吐出ヘッド（２２）が基板（４）上方に進入する前に吐出した塗料を受けるために、基板（４）の吐出ヘッド（２２）が進入する側に、進入側塗料受け板（３１Ａ）を有する塗料受け装置（３Ａ）を配置するものである。さらには、基板（４）の吐出ヘッド（２２）が退去するする側に、退去側塗料受け板（３１Ｂ）を有する塗料受け装置（３Ｂ）を配置するものである。　当該構成により、塗布開始時における不均一な厚みの塗布層の形成を抑制できる。

Description

塗布システム

　本発明は、スリットコート式塗布装置を利用して基板上に塗布層を形成する塗布システムに関する。

　従来、スリットコート式塗布装置（所謂、スリットコータ）を利用して、板状の基板表面に、塗料を塗布することが行われている。例えば、特許文献１に示されるように、前記塗布装置を利用して、液晶表示パネルディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用のガラス基板表面に、レジスト塗料を塗布することが行われている。

　前記塗布装置は、特許文献１の図１等に示されるように、スリット状の吐出口を含む吐出ヘッドを備え、この吐出ヘッドが、ステージ（吸着保持盤）上に固定された基板表面に対して、接近した状態で水平方向（平行）に移動できるように構成されている。前記吐出ヘッドは、水平方向に移動しながら、前記吐出口から塗料を前記基板に向けて吐出する。前記吐出ヘッドが通過すると、基板上には、前記塗料からなる塗布層が形成される。この塗布層の厚みは、前記吐出ヘッドの移動速度及び前記吐出口から吐出される塗料の量（吐出量）等を適宜、調節することによって制御される。例えば、吐出ヘッドの移動速度、塗料吐出量等を一定に設定すれば、均一な厚みの塗布層を基板上に形成できる。

　この種の塗布装置に関する文献としては、前記特許文献１以外に、例えば、特許文献２及び３が挙げられる。

特開２０００－１２６６６４号公報 特開２００１－３１０１４７号公報 特開平１１－１３５００６号公報

　特許文献１等に示されるように、この種の塗布装置を利用して基板上に塗布層を形成する際、一般的に、塗布開始地点及び塗布終了地点における塗布層の厚みを制御することが難しいという問題がある。

　塗布開始時の吐出ヘッドは、吐出口付近の塗料粘度が上昇する等の理由で吐出口が詰まり、吐出量が不安定になることがある。その為、このような場合、特許文献２に示されるように、基板上に塗料を吐出する前に、予め吐出ヘッドを洗浄液を満たした槽内に入れて、予備的な塗料の吐出を行っている。このような予備的な塗料吐出を、基板上に塗布層を形成する前に行っておくと、吐出ヘッドの塗料吐出量を安定化し易い。

　しかしながら、塗布開始前に吐出ヘッドの吐出量を安定化させても、塗布開始地点の塗布層の厚みを均一に制御することは難しい。何故ならば、塗布開始前に静止状態（待機状態）にある吐出ヘッドを、塗布開始と同時に動かし始め、その後一定速度で移動させようとすると、速度が一定になるまでの間、吐出ヘッドが加速しながら塗料を基板に向けて吐出するため、基板上で粘性を有する塗料が不均一に引き伸ばされてしまうからである。

　また、塗布終了時には、特許文献１の図１等に示されるように、吐出ヘッドは基板に接近した状態から引き上げられるように移動し、減速する。この移動の間に、吐出ヘッドが、基板上に不均一な厚みの塗布層を形成することがあり、問題となっている。

　塗布層の厚みを制御する従来技術としては、前記特許文献１に示されるように、塗布層の厚みを制御するために、塗布装置に流量計を設け、この流量計を利用して吐出ヘッドへの塗料供給量を監視（モニタリング）することが行われている。特許文献１では、このように塗料供給量を監視し、それを調節することによって、塗布層の厚みを制御している。また、特許文献３には、塗料の粘度及び吐出ヘッドの吐出口の形状を調節することによって、塗布層の厚みを制御することが示されている。

　しかしながら、前記従来技術であっても、塗布開始地点及び塗布終了地点における塗布層の厚みを均一に制御することは難しく、問題となっている。近年、基板の大型化等に伴って、前記吐出ヘッドの移動速度を上げて、基板上に塗布層を形成することが求められている。吐出ヘッドの移動速度を上げると、従来の場合と比べて、更に塗布層の厚み制御が難しくなり、問題となる。

　また、特許文献１等に示されるように、生産効率を上げる等の目的で、吐出ヘッドを基板の一端側から他端側へ移動させて、基板の略全面に塗布層を形成することが行われている。例えば、矩形状のガラス基板上にレジスト層を形成する場合に、このようなことが行われる。このようにすると、従来、基板上に複数個の塗布層を形成する必要があった場合と比べて、これらを１つの塗布層にまとめることで、塗布層の塗布開始地点及び塗布終了地点の数を少なくできる。しかしながら、このような方法であっても、必ず塗布層には塗布開始地点及び塗布終了地点が形成されるため、これらの個所における塗布層の厚み制御が問題となっている。

　本発明の目的は、基板上に塗布層を形成するに際して少なくとも塗布開始時における不均一な厚みの塗布層の形成が抑制された塗布システムを提供することである。

　本発明に係る塗布システムは、以下の通りである。
　＜１＞　基板上に塗布層を形成するべく該基板上を平行移動する吐出ヘッドを有し、該吐出ヘッドはその移動方向に対して交差する方向に長手のスリット状の吐出口を有する塗布装置と、該塗布装置により基板上に塗布層を形成する前の前記吐出ヘッドが前記基板上に進入する前に該吐出ヘッドより吐出される塗料を受けるため該基板の前記吐出ヘッドが進入する側に配置される進入側塗料受け板を有する塗料受け装置とを備える塗布システム。

　前記＜１＞に係る塗布システムにおいて、吐出ヘッドが基板上方に進入する前に、塗料の吐出が開始されるため、少なくとも塗布開始時における不均一な厚みの塗布層（塗布開始地点）が、基板の外側に配置される。
　また、前記塗布システムにおいて、基板の吐出ヘッドが進入する側に配置された、進入側塗料受け板が、前記基板上方に進入する前に吐出ヘッドが吐出した塗料を受ける。

　＜２＞　前記塗料受け装置は、前記進入側塗料受け板が前記基板の前記吐出ヘッドが進入する側に配置させるために静止され、かつ静止した前記進入側塗料受け板が前記基板に対して仰ぐ向き又は俯く向きに回転できるように、前記進入側塗料受け板の端部が軸部に支持されている前記＜１＞に記載の塗布システム。

　前記＜２＞に係る塗布システムにおいて、軸部が所定の角度回転すると、進入側塗料受け板の配置個所が変更される。

　＜３＞　前記塗料受け装置において、前記進入側塗料受け板は複数枚からなり、前記軸部が該各進入側塗料受け板の各端部に固定されている前記＜２＞に記載の塗布システム。

　前記＜３＞に係る塗布システムにおいて、軸部が所定の角度回転すると、基板の吐出ヘッドが進入する側に配置されて、進入側塗料受け板が交換される。

　＜４＞　前記塗料受け装置が、前記進入側塗料受け板に付着した塗料を洗浄する洗浄装置を有する前記＜１＞～＜３＞の何れか１つに記載の塗布システム。

　前記＜４＞に係る塗布システムにおいて、洗浄装置によって、進入側塗料受け板に付着した塗料が洗浄される。

　＜５＞　前記塗布装置における吐出ヘッドが、前記基板上方から退去した後に吐出を終了し、前記塗料受け装置が、前記吐出ヘッドが前記基板上方から退去した後に吐出した塗料を受けるために、前記基板の前記吐出ヘッドが退去する側に配置される退去側塗料受け板を有する前記＜１＞～＜４＞の何れか１つに記載の塗布システム。

　前記＜５＞に係る塗布システムにおいて、吐出ヘッドが基板上方から退去した後に、塗料の吐出が終了されるため、塗布終了時における不均一な厚みの塗布層（塗布終了地点）が、基板の外側に配置される。
　また、前記塗布システムにおいて、基板の吐出ヘッドが退去する側に配置された、退去側塗料受け板が、前記基板上方から退去した後に吐出ヘッドが吐出した塗料を受ける。

　＜６＞　前記塗料受け装置が、前記退去側塗料受け板が、前記基板の前記吐出ヘッドが退去する側に配置させるために静止され、かつ静止した前記退去側塗料受け板が前記基板に対して仰ぐ向き又は俯く向きに回転できるように、前記退去側塗料受け板の端部が軸部に固定されている前記＜５＞に記載の塗布システム。

　前記＜６＞に係る塗布システムにおいて、軸部が所定の角度回転すると、退去側塗料受け板の配置個所が変更される。

　＜７＞　前記塗料受け装置において、前記退去側塗料受け板は複数枚からなり、前記軸部が該各退去側塗料受け板の各端部に固定されている前記＜６＞に記載の塗布システム。

　前記＜７＞に係る塗布システムにおいて、軸部が所定の角度回転すると、基板の吐出ヘッドが退去する側に配置されて、退去側塗料受け板が交換される。

　＜８＞　前記塗料受け装置が、前記退去側塗料受け板に付着した塗料を洗浄する洗浄装置を備える前記＜５＞～＜７＞の何れか１つに記載の塗布システム。

　前記＜８＞に係る塗布システムにおいて、洗浄装置によって、退去側塗料受け板に付着した塗料が洗浄される。

　本発明の塗布システムによれば、少なくとも塗布開始時における不均一な厚みの塗布層の形成を抑制できる。　

本発明の一実施形態に係る塗布システムの構成を模式的に表した説明図である。 図１に示した塗布システムにおける塗料受け装置の構成を模式的に表した説明図である。 ガラス基板上に塗布層を形成している最中の塗布システムの状態を模式的に表した説明図である。 塗布終了時における塗布システムの状態を模式的に表した説明図である。 塗料受け装置の受け板が交換される様子を模式的に表した説明図である。 塗料受け装置の進入側塗料受け板を洗浄する洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。 塗料受け装置の退去側塗料受け板を洗浄する洗浄装置の構成を模式的に表した説明図である。

　以下、図面を参照しつつ、本発明に係る塗布システムの実施形態を説明する。ただし、本発明は、本明細書に例示する実施形態に限定されるものではない。

　図１は、一実施形態に係る塗布システム１の構成を模式的に表した説明図である。図１に示される塗布システム１は、スリットコート式塗布装置２と、このスリットコート式塗布装置２を間において挟むように配置する２つの塗料受け装置３（３Ａ，３Ｂ）とを備える。この塗布システム１は、スリットコート式塗布装置２を利用して、ガラス基板４上に、均一な厚みのレジスト層を形成するためのものである。なお、図１には、塗布開始時における塗布システム１の状態が示されている。

　スリットコート式塗布装置２は、図１に示されるように、基板４を載せるためのステージ２１と、基板４上にレジスト塗料を吐出するための吐出ヘッド２２とを備える。

　ステージ２１は、従来の塗布装置で利用されているものと同種であり、その上面が水平（平坦）であり、またその外形は平面略矩形状である。このステージ２１の上面には、ガラス基板４を吸着するための吸着手段（不図示）が設けられている。この吸着手段は、多数の吸着孔（不図示）からなり、各吸着孔から基板４に対して負圧が加えられる。この吸着手段によって、基板４をステージ２１上に、下面側から支えるように固定できる。

　吐出ヘッド２２は、従来の塗布装置で利用されているものと同種であり、レジスト塗料を吐出するための吐出口２３を有する。この吐出口２３は、移動方向の面内でその移動方向と直交する方向に長いスリット状の開口部を有し、レジスト塗料がシート状に押し出されるように構成されている。この吐出口２３は、後述する配管２４と接続している。

　この吐出ヘッド２２は、ステージ２１上に固定された基板４表面（平面）に対して、その上方を、平行（水平方向）に移動するように構成されている。また、吐出ヘッド２３は、前記基板４表面に対して、垂直方向に昇降移動できるように構成されている。このような吐出ヘッド２２の駆動機構としては、従来のスリットコート式塗布装置で利用されている公知の往復機構及び昇降機構を適用できる。

　前記塗布装置２は、レジスト塗料を貯蔵するタンク（不図示）を備え、このタンクから吐出ヘッド２２にレジスト塗料が供給される。タンク内でレジスト塗料を貯蔵することにより、レジスト塗料の粘度変化を抑制している。このタンクと吐出ヘッド２２との間には、レジスト塗料を吐出ヘッド２２へ供給するための配管２４が設けられ、この配管２４の途中に、吐出ヘッド２２へレジスト塗料を送り出すポンプ（不図示）が備えられている。また、吐出ヘッド２２にレジスト塗料を供給する配管２４には、レジスト塗料の流量（供給量）を調節するための電磁弁２５が備えられており、この電磁弁２５の開閉制御により、吐出口２３からのレジスト塗料の吐出量が調節される。

　前記塗布装置２は、ステージ２１上に固定された、矩形状のガラス基板４上にレジスト塗料を塗布する際、吐出ヘッド２２がガラス基板４の一端４１側から、その上方へ進入するように構成されている。基板４上方に進入した後、更に、吐出ヘッド２２が、ガラス基板４の他端４２側から退去するように前記塗布装置２は、構成されている。つまり、前記塗布装置２は、ガラス基板４の一端４１側からレジスト塗料の塗布を開始し、その他端４２側でレジスト塗料の塗布を終了するように構成されている。なお吐出ヘッド２２は、一端４１側から他端４２側へガラス基板４上方を横切る際、レジスト塗料を一定量吐出しながら一定の速度で、ガラス基板４に対して、水平方向に移動できるように構成されている。

　前記塗布装置２におけるその他の構成（不図示）は、従来のスリットコート式塗布装置と同様のものが適用される。

　塗料受け装置３は、図１に示されるように、前記塗布装置２の塗布開始側に配置されるもの（３Ａ）と、塗布終了側に配置されるもの（３Ｂ）とからなる。塗料受け装置３Ａは、前記吐出ヘッド２２が前記ガラス基板４上方に進入する前に、吐出したレジスト塗料を受けるための受け板（進入側受け板）３１Ａを備える。この受け板３１Ａは、矩形状の金属製、プラスチック製等の板材からなり、その一端が円柱状の支持体３３Ａに固定されている。また、塗料受け装置３Ａは、前記受け板３１Ａ以外に、他の受け板３２Ａを備える。この受け板３２Ａも、前記受け板３１Ａと同種のものからなり、支持体３３Ａに固定されている。これらの受け板３１Ａ，３２Ａは、それらの表面が１つの平面をなすように支持体３３Ａに固定されている。支持体３３Ａは、その中心部に回転軸３４Ａを有し、この回転軸３４Ａに固定されている。なお回転軸３４Ａは、回転自在及び停止自在に構成されており、基台３５Ａに立設された支柱３６Ａによって軸支されいる。

　塗料受け装置３Ｂは、前記吐出ヘッド２２が前記ガラス基板４上方から退去した後（つまり、吐出ヘッド２２がガラス基板４上方を通り過ぎた後）に、吐出したレジスト塗料を受けるための受け板（退去側受け板）３１Ｂを備える。この受け板３１Ｂは、前記受け板３１Ａと同種のものからなり、その一端が円柱状の支持体３３Ｂに固定されている。また、塗料受け装置３Ｂは、前記受け板３１Ｂ以外に、他の受け板３２Ｂを備える。この受け板３２Ｂも、前記受け板３１Ｂ（３１Ａ）と同種のものからなり、支持体３３Ｂに同様にして固定されている。支持体３３Ｂは、その中心部に回転軸３４Ｂを有し、この回転軸３４Ｂに固定されている。回転軸３４Ｂは、回転自在及び停止自在に構成されており、基台３５Ｂに立設された支柱３６Ｂに軸支されている。つまり、塗料受け装置３Ｂの基本的な構成は、前記塗料受け装置３Ａと同様である。

　次いで、図２を参照しつつ、塗料受け装置３の構成を詳細に説明する。図２は、塗料受け装置３Ａの構成を模式的に表した説明図である。図２に示される塗料受け装置３Ａは、図１に示される塗料受け装置３Ａを、塗布装置２側から見た状態にある。図２に示されるように、塗料受け装置３Ａは、上面が水平な基台３５Ａを有し、この基台３５Ａ上に、２本の支柱３６Ａ，３７Ａが、間隔を置いて向かい合うように立設されている。これらの支柱３６Ａ，３７Ａの上端側において、これらの間を差し渡すように、回転軸３４Ａが設けられている。

　回転軸３４Ａの一端側は、支柱３６Ａの上端側内部に設けられた軸受け３８Ａで支持されている。また、回転軸３４Ａの他端側は、支柱３７Ａの上端側内部に設けられた軸受け３９Ａで支持され、かつ先端が支柱３７Ａ内から露出するように構成されている。支柱３６Ａと支柱３７Ａとで挟まれた部分の回転軸３４Ａには、円柱状の支持体３３Ａが取り付けられている。この支持体３３Ａの表面に、その軸線方向に沿うように、受け板３１Ａの端部が取り付けられている。また、図２に示されていない他の受け板３２Ａも、この支持体３３Ａに固定されている。

　支柱３７Ａ側に配置する回転軸３４Ａの先端には、第１回転体３３１Ａが取り付けられている。この第１回転体３３１Ａの下方には、基台３５Ａ上に設けられたモータ（電動機）３３２Ａが配置している。このモータ３３２Ａの出力軸３３３Ａの先端には、第２回転体３３４Ａが取り付けられている。この第２回転体３３４Ａの真上に、前記第１回転体３３１Ａが配置するように構成されている。第１回転体３３１Ａ及び第２回転体３３４Ａには、伝達ベルト３３５Ａが掛けられている。モータ３３２Ａは、制御装置（マイクロコンピュータ）（不図示）と電気的に接続されており、この制御装置からの指示に従って、回転動作及び停止動作を行う。このモータ３３２Ａの動作に連動して、受け板３１Ａが俯く向き（下向き）又は仰ぐ向き（上向き）に回転移動する。同様にして、受け板３２Ａも回転移動する。

　例えば、前記指示を受けて、モータ３３２Ａの出力軸３３３Ａが時計回り（塗料受け装置３Ａを図１の方向から見た場合）に回転すると、その回転に伴って第２回転体３３４Ａも回転し、この回転が伝達ベルト３３５Ａを介して、第１回転体３３１Ａに伝達される。すると、第１回転体３３１Ａが回転し、更にこの第１回転体３３１Ａが取り付けられている回転軸３４Ａも回転して、この回転軸３４Ａに取り付けられている支持体３３Ａ上の受け板３１Ａが、前記回転軸３４Ａを中心として前記時計回りに所定の角度、移動することになる。

　続いて、図１、図３及び図４を参照しつつ、塗布システム１を利用した塗布方法を説明する。図１には、上述したように、塗布開始時における塗布システム１の状態が示されている。図３は、ガラス基板４上に塗布層（レジスト層）５を形成している最中の塗布システムの状態を模式的に表した説明図である。図４は、塗布終了時における塗布システムの状態を模式的に表した説明図である。この塗布システム１は、矩形状のガラス基板４の表面上に、所定の粘度で調製されたレジスト塗料からなるレジスト層を、均一な厚みで形成するものである。この塗布システム１では、ガラス基板４の一端４１から他端４２にかけて、その表面上に、全面的に前記レジスト層を形成するものである。

＜待機工程＞
　先ず、ガラス基板４が、搬送装置（不図示）によって塗布装置２のステージ２１上に載せられる。次いで、そのステージ２１上で、吸着手段（不図示）によって位置決めされ、固定される（図１参照）。ステージ２１上で固定されたガラス基板４の一端４１側に、塗料受け装置３Ａが配置され、その他端４２側に、塗料受け装置３Ｂが配置される。塗料受け装置３Ａ，３Ｂの受け板３１Ａ，３１Ｂは、それら表面の位置（高さ）が、ガラス基板４の表面の位置（高さ）と同じ状態で静止するように、設定されている。

　塗布開始前の吐出ヘッド２２は、塗料受け装置３Ａの受け板３１Ａの上方で、待機（静止）している。待機時における吐出ヘッド２２は、吐出口２３からレジスト塗料が吐出されないように電磁弁２５が閉じられている。なお、この待機時に、吐出ヘッド２２の先端（吐出口２３）と、ガラス基板４（受け板３１Ａ）との距離が調整される。

＜塗布開始工程＞
　塗布を開始するために、受け板３１Ａの上方で静止し、待機している吐出ヘッド２２を、ガラス基板４側へ向けて移動させる。それと共に、電磁弁２５を開けて吐出ヘッド２２の吐出口２３からレジスト塗料の吐出を開始する。そして、吐出ヘッド２２が受け板３１Ａの上方を移動する間に、吐出ヘッド２２の移動速度及び吐出量がそれぞれ一定になるように調節される。移動速度及び吐出量が一定に調節されると、受け板３１Ａ上に均一な厚みのレジスト層が形成されるようになる。つまり、この塗布システム１では、ガラス基板４上に目的とするレジスト層を形成する前に、受け板３１Ａ上に予備的なレジスト層５１を形成しながら、吐出ヘッド２２の移動速度及び吐出量の調節を予め行っている。その為、塗布開始時に厚みが不均一となるレジスト層の部分（塗布開始地点）は、ガラス基板４上に形成されなくなる。このようにして、この塗布システム１では、吐出ヘッド２２が、ガラス基板４上方に進入する前にレジスト塗料の吐出を開始する。なお、吐出ヘッド２２を予め走行させるために必要な距離（つまり、受け板３１Ａの長さ）等は、目的に応じて適宜設定される。

＜塗布層形成工程＞
　上記のように、移動速度及び吐出量が一定となるように調節された吐出ヘッド２２を、そのままの状態で、受け板３１Ａの上方からガラス基板４の上方へ進入させる。すると、ガラス基板４上には、均一な厚みのレジスト層５が形成されることになる（図３及び図４参照）。つまり、この塗布システム１は、吐出ヘッド２２が少なくともガラス基板４の上方を通過する間は、その移動速度及び吐出量をそれぞれ一定に保つことによって、ガラス基板４上に均一な厚みのレジスト層５を形成するものである。なお、ガラス基板４上の前記レジスト層５は、受け板３１Ａ上の予備的なレジスト層５１と繋がるように形成されることになる。

＜塗布終了工程＞
　吐出ヘッド２２は、上記のように移動速度及び吐出量を一定に保ったまま、ガラス基板４の他端４２へ向けて移動し、更に、他端４２を通過して塗料受け装置３Ｂの受け板３１Ｂの上方に進入する。つまり、吐出ヘッド２２は、ガラス基板４の上方から退去した後も、速度を保ったままレジスト塗料を吐出し続けながら、受け板３１Ｂの上方に進入することになる。その為、その受け板３１Ｂ上には、ガラス基板４上のレジスト層５と繋がった、残余的なレジスト層５２が形成される（図４参照）。

　受け板３１Ｂの上方に進入後の吐出ヘッド２２は、受け板３１Ｂの上方において、電磁弁２５が閉じられ、レジスト塗料の吐出を終了する。それと共に吐出ヘッド２２は、受け板３１Ｂから離れるように徐々に上昇して、受け板３１Ｂの上方で停止する。このような、吐出ヘッド２２の塗布終了動作を受け板３１Ｂの上方で行うことで、ガラス基板４上に、塗布終了動作に伴う厚みが不均一なレジスト層５２の部分（塗布終了地点）が形成されなくなる。

　塗布終了後、レジスト層５が形成されたガラス基板４は、ステージ２１上から取り外されて、レジスト層５をベーク処理するためのベーク処理装置（不図示）に搬送される。また、塗布終了後の吐出ヘッド２２は、次の塗布処理に備えるために受け板３１Ａの上方へ戻り、待機する。

＜交換工程＞
　塗布システム１において、塗布動作が繰り返されると、塗料受け装置３（３Ａ，３Ｂ）の受け板３１（３１Ａ，３１Ｂ）上に、レジスト塗料が堆積する。その為、この塗布システム１では、塗布動作が所定回数繰り返された後に、塗料受け装置３（３Ａ，３Ｂ）の受け板３１（３１Ａ，３１Ｂ）が、他の受け板３２（３２Ａ，３２Ｂ）に交換されるように構成されている。

　図５は、塗料受け装置３Ａの受け板３１Ａ，３２Ａが交換される様子を模式的に表した説明図である。図５に示されるように、塗料受け装置３Ａの回転軸３４Ａを反時計回りに１８０°回転させると、受け板３１Ａ及び受け板３２Ａも、同じように回転して、回転前の受け板３１Ａの位置と、他の受け板３２Ａの位置とが入れ替わる。その後、交換された受け板３２Ａの上方で、前記吐出ヘッド２２が次の塗布工程に備えて、待機することになる。

＜洗浄工程＞
　図６は、塗料受け装置３Ａの受け板３１Ａを洗浄する洗浄装置６Ａの構成を模式的に表した説明図である。図６に示されるように、洗浄装置６（６Ａ）は、受け板３１Ａの上面に向けてシンナー等からなる洗浄液を吹き付ける上側洗浄器６１（６１Ａ）と、その下面に向けて前記洗浄液を吹き付ける下側洗浄器６２（６２Ａ）とを備える。上側洗浄器６１（６１Ａ）は、受け板３１Ａの上面に洗浄液を吹き付ける（吹き下ろす）ための複数個の孔（不図示）を有し、各孔が、洗浄液が供給されてくる外部の配管（不図示）と接続されている。同様に、下側洗浄器６２（６２Ａ）は、受け板３１Ａの下面に洗浄液を吹き付ける（吹き上げる）ための複数個の孔（不図示）を有し、各孔が、洗浄液が供給されてくる外部の配管（不図示）と接続されている。上側洗浄器６１（６１Ａ）及び下側洗浄器６２（６２Ａ）は、上記のように、塗料受け装置３Ａが受け板３１Ａ，３２Ａの交換動作を行った後、受け板３１Ａを上下方向から挟むように、配置される。上側洗浄器６１（６１Ａ）及び下側洗浄器６２（６２Ａ）は、例えば、ガイドレール（不図示）に沿って往復移動できるように構成される。洗浄後の洗浄装置６（６Ａ）は、洗浄液の吹き付けを停止し、前記ガイドレールに沿って受け板３１Ａの上方及び下方から退避する。このような洗浄装置６（６Ａ）を利用すれば、効率よく塗料が付着した受け板３１Ａ，３２Ａを洗浄でき、塗料受け装置３Ａの受け板３１Ａ，３２Ａを交互に利用し易くなる。

　図７は、塗料受け装置３Ｂの受け板３１Ｂを洗浄する洗浄装置６Ｂの構成を模式的に表した説明図である。図７に示される洗浄装置６Ｂの各構成は、図６に示される洗浄装置６Ａと同じである。このように、洗浄装置６Ｂを利用して、塗料受け装置３Ｂの各受け板３１Ｂ，３２Ｂを洗浄してもよい。

　前記実施形態の塗布システム１では、塗料受け装置３の受け板３１及び３２は、２枚であったが、他の実施形態においては、１枚又は３枚以上であってもよい。

　前記実施形態の塗布システム１では、基板としてガラス基板を使用し、塗料としてレジスト塗料を使用しているが、他の実施形態においては、これに限られず、例えば、塗料として、絶縁材料、はんだレジスト、保護層材料等を使用し、それらに対応させた種々の基板を使用してもよい。

Claims (8)

1. 　基板上に塗布層を形成するべく該基板上を平行移動する吐出ヘッドを有し、該吐出ヘッドはその移動方向に対して交差する方向に長手のスリット状の吐出口を有する塗布装置と、
   　該塗布装置により基板上に塗布層を形成する前の前記吐出ヘッドが前記基板上に進入する前に該吐出ヘッドより吐出される塗料を受けるため該基板の前記吐出ヘッドが進入する側に配置される進入側塗料受け板を有する塗料受け装置と、を備える塗布システム。
2. 　前記塗料受け装置は、前記進入側塗料受け板が前記基板の前記吐出ヘッドが進入する側に配置させるために静止され、かつ静止した前記進入側塗料受け板が前記基板に対して仰ぐ向き又は俯く向きに回転できるように、前記進入側塗料受け板の端部が軸部に支持されている請求項１に記載の塗布システム。
3. 　前記塗料受け装置において、前記進入側塗料受け板は複数枚からなり、前記軸部が該各進入側塗料受け板の各端部に固定されている請求項２に記載の塗布システム。
4. 　前記塗料受け装置が、前記進入側塗料受け板に付着した塗料を洗浄する洗浄装置を有する請求項１～３の何れか１項に記載の塗布システム。
5. 　前記塗布装置における吐出ヘッドが、前記基板上方から退去した後に吐出を終了し、
   　前記塗料受け装置が、前記吐出ヘッドが前記基板上方から退去した後に吐出した塗料を受けるために、前記基板の前記吐出ヘッドが退去する側に配置される退去側塗料受け板を有する請求項１～４の何れか１項に記載の塗布システム。
6. 　前記塗料受け装置が、前記退去側塗料受け板が、前記基板の前記吐出ヘッドが退去する側に配置させるために静止され、かつ静止した前記退去側塗料受け板が前記基板に対して仰ぐ向き又は俯く向きに回転できるように、前記退去側塗料受け板の端部が軸部に固定されている請求項５に記載の塗布システム。
7. 　前記塗料受け装置において、前記退去側塗料受け板は複数枚からなり、前記軸部が該各退去側塗料受け板の各端部に固定されている請求項６に記載の塗布システム。
8. 　前記塗料受け装置が、前記退去側塗料受け板に付着した塗料を洗浄する洗浄装置を備える請求項５～７の何れか１項に記載の塗布システム。

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