KR20060001657A - 포토레지스트 도포장치 - Google Patents

포토레지스트 도포장치 Download PDF

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KR20060001657A
KR20060001657A KR1020040050810A KR20040050810A KR20060001657A KR 20060001657 A KR20060001657 A KR 20060001657A KR 1020040050810 A KR1020040050810 A KR 1020040050810A KR 20040050810 A KR20040050810 A KR 20040050810A KR 20060001657 A KR20060001657 A KR 20060001657A
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신동기
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
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    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34

Abstract

본 발명은 포토레지스트(photoresist)막을 균일한 두께로 도포할 수 있는 포토레지스트 도포기에 관한 것으로, 포토레지스트를 형성하고자 하는 기판이 로딩되는 스테이지(stage)와, 상기 스테이지 상부에 위치하여, 상기 기판 상에 포토레지스트를 형성하고, 그 측면에 포토레지스트 제거기가 구비하는 포토레지스트 도포기 및 상기 기판 상에 포토레지스트를 형성한 후, 이송 되어온 포토레지스트 도포기에 남아 있는 포토레지스트를 세정해 주는 세정부를 포함하여 구성된 포토레지스트 도포장치를 제공한다.

Description

포토레지스트 도포장치{APPARATUS FOR DEPOSITING PHOTORESIST}
도1은 액티브 매트릭스방식의 액정표시소자를 나타내는 도면.
도2는 박막트랜지스터(thin film transistor)의 단면구조를 나타내는 도면.
도3은 본 발명에 의한 포토레지스트(photo resist) 도포장치를 나타내는 도면.
도4는 본 발명에 의한 포토레지스트 도포기를 개략적으로 나타낸 도면.
도5는 본 발명의 일실시예 의한 포토레지스트 도포기를 이용한 포토레지스트 형성방법을 나타낸 도면.
도6 및 도7은 본 발명에 의한 포토레지스트 도포기의 다른예를 나타낸 도면.
도8은 포토레지스트 도포기와 대향하는 포토레지스트 제거기의 대향면을 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 스테이지 110: 기판
120: 포토레지스트 150,250: 포토레지스트 도포기
252: 상판 253: 본체
255: 저장부 257: 노즐부
270: 볼트 280: 포토레지스트 제거기
290: 연동축 295: 연결부재
본 발명은 비회전방식에 의한 포토레지스트(photoresist) 도포장치에 관한 것으로, 특히, 포토레지스트을 균일한 두께로 도포할 수 있는 포토레지스트 도포장치의 노즐에 관한 것이다.
표시소자들, 특히 액정표시소자(Liquid Crystal Display Device)와 같은 평판표시장치(Flat Panel Display)에서는 각각의 화소에 박막트랜지스터와 같은 능동소자가 구비되어 표시소자를 구동하는데, 이러한 방식의 표시소자의 구동방식을 흔히 액티브 매트릭스(Active Matrix) 구동방식이라 한다. 이러한 액티브 매트릭스방식에서는 상기한 능동소자가 매트릭스형식으로 배열된 각각의 화소에 배치되어 해당 화소를 구동하게 된다.
도 1은 액티브 매트릭스방식의 액정표시소자를 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 구조의 액정표시소자는 능동소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)를 사용하는 TFT-LCD이다. 도면에 도시된 바와 같이, 종횡으로 N×M개의 화소가 배치된 TFT-LCD의 각 화소에는 외부의 구동회로로부터 주사신호가 인가되는 게이트라인(4)과 화상신호가 인가되는 데이터라인(6)의 교차영역에 형성된 TFT를 포함하고 있다. TFT는 상기 게이트라인(4)과 연결된 게이트전극(3)과, 상기 게이트전극(3) 위에 형성되어 게이트전극(3)에 주사신호가 인가됨에 따라 활성화되 는 반도체층(8)과, 상기 반도체층(8) 위에 형성된 소스/드레인전극(5)으로 구성된다. 상기 화소(1)의 표시영역에는 상기 소스/드레인전극(5)과 연결되어 반도체층(8)이 활성화됨에 따라 상기 소스/드레인전극(5)을 통해 화상신호가 인가되어 액정(도면표시하지 않음)을 동작시키는 화소전극(10)이 형성되어 있다.
도 2는 각 화소내에 배치되는 TFT의 구조를 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 바와 같이, 상기 TFT는 유리와 같은 투명한 절연물질로 이루어진 기판(20)과, 상기 기판(20) 위에 형성된 게이트전극(3)과, 게이트전극(3)이 형성된 기판(20) 전체에 걸쳐 적층된 게이트절연층(22)과, 상기 게이트절연층(22) 위에 형성되어 게이트전극(3)에 신호가 인가됨에 따라 활성화되는 반도체층(6)과, 상기 반도체층(6) 위에 형성된 소스/드레인전극(5)과, 상기 소스/드레인전극(5) 위에 형성되어 소자를 보호하는 보호층(passivation layer;25)으로 구성된다.
상기와 같은 TFT의 소스/드레인전극(5)은 화소내에 형성된 화소전극과 전기적으로 접속되어, 상기 소스/드레인전극(5)을 통해 화소전극에 신호가 인가됨에 따라 액정을 구동하여 화상을 표시하게 된다.
상기한 바와 같은 액정표시소자 등의 액티브 매트릭스형 표시소자에서는 각 화소의 크기가 수십㎛의 크기이며, 따라서 화소내에 배치되는 TFT와 같은 능동소자는 수㎛의 미세한 크기로 형성되어야만 한다. 더욱이, 근래에 고화질TV(HDTV)와 같은 고화질 표시소자의 욕구가 커짐에 따라 동일 면적의 화면에 더 많은 화소를 배치해야만 하기 때문에, 화소내에 배치되는 능동소자 패턴(게이트라인과 데이터라인 패턴을 포함) 역시 더욱 미세하게 형성되어야만 한다.
상기와 같은 미세패턴을 형성하는 공정은 크게 박막공정 및 식각공정으로 구분된다. 상기 사진공정은 포토레지스트 도포공정, 노광공정 및 현상공정등의 일련의 공정으로 이루어진다. 상기 포토레지스트의 도포공정은 미세패턴을 형성하는데 있어서 매우 중요한 공정으로, 특히, 포토레지스트의 균일한 도포는 미세패턴을 정확하게 형성할 수 있도록 한다.
종래 포토레지스트 도포방법은 스핀코팅방법이 주로 사용되어 왔는데, 상기 스핀코팅방법은 기판 전체에 포토레지스트액이 퍼지게 하기 위하여 상기 기판을 수평으로 고속 회전시켜 회전중심 근방에 포토레지스트액을 적하하고 회전하는 기판의 원심력에 의해 포토레지스트액이 기판 전체에 걸쳐 도포하는 것으로, 불필요한 포토레지스트액은 원심력에 의해 떨어트려 제거함과 동시에 포토레지스트액은 기판에 박막(thin film)화된다.
그러나, 이와 같은 스핀코팅방법은 기판 전체에 포토레지스트액이 퍼지게 하기 위하여 불필요한 부분까지 포토레지스트을 도포해야하기 때문에 포토레지스트액이 필요 이상으로 낭비되는 문제점이 있었다.
또한, 기판이 회전하면서 기판에 적하된 포토레지스트액에 작용하는 원심력이 기판 가장자리로 갈수로 커지기 때문에 기판의 중심부에 비하여 가장자리에 도포된 포토레지스트막의 두께가 더 두꺼워지게 된다. 이와 같이, 기판에 도포된 포토레지스트막의 두께가 불균일하게 되면 미세한 패턴을 형성하는데 있어서 적합하지 않은 문제점이 있었다.
노즐을 이용한 포토레지스트 도포방법은 기판과 동일한 폭을 가지는 막대모 양의 슬릿이 기판 위를 지나면서, 슬릿이 지나간 자리에 포토레지스트막을 형성하는 방법으로, 스핀방법에 비하여 기판 전체에 걸쳐서 포토레지스트을 균일하게 도포할 수 있으며, 필요한 양만큼의 포토레지스트액만을 도포하기 때문에 포토레지스트의 낭비를 막을 수 있는 장점 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 노즐부가 형성된 포토레지스트 도포기를 사용하여 기판 위에 포토레지스트막을 형성함으로써, 기판 전체에 걸쳐서 균일한 포토레지스트을 형성하고 재료비 낭비를 줄일 수 있는 포토레지스트 도포장치를 제공하는데 있다.
기타, 본 기타 본 발명의 목적 및 특징은 이하의 발명의 구성 및 특허청구범위에서 상세히 기술될 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 포토레지스트를 형성하고자 하는 기판이 로딩되는 스테이지(stage)와, 상기 스테이지 상부에 위치하여, 상기 기판 상에 포토레지스트를 형성하고, 그 측면에 포토레지스트 제거기가 구비하는 포토레지스트 도포기 및 상기 기판 상에 포토레지스트를 형성한 후, 이송 되어온 포토레지스트 도포기에 남아 있는 포토레지스트를 세정해 주는 세정부를 포함하여 구성된다.
이때, 상기 포토레지스트 도포기는 본체와, 상기 본체에 형성되어 포토레지스트가 저장되는 저장부 및 상기 본체 하부에 형성되어 저장부에 저장된 포토레지 스트가 방출되는 노즐부를 포함하여 구성되며, 상기 세정부는 상기 노즐부의 세정을 담당하게 된다.
그리고, 상기 포토레지스트 제거기는 본체의 측면과 상부의 이동이 가능하다.
상기 본체의 양쪽 측면에 회동축이 형성되고, 상기 포토레지스트 제거기는 연결부재에 의해 상기 회동축에 체결되어 있다.
한편, 상기 포토레지스트 도포기는 상기 본체 상부를 덮는 상판을 더 포함하여 구성되며, 상기 상판의 양쪽 측면에 회동축이 형성되고, 상기 포토레지스트 제거기는 연결부재에 의해 상판의 회동축에 체결될 수도 있다.
상기 본체와 대향하는 포토레지스트 제거기의 대향면에는 세정제분사구가 형성되어 있어서, 필요시, 상기 본체의 표면에 달라붙은 포토레지스트 찌꺼기를 제거하게 된다.
한편, 상기 포토레지스트 제거기는 상기 포토레지스트 도포기로부터 분리가 가능하도록 할 수도 있다.
또한, 상기한 바와 같이 구성된 포토레지스트 도포장치를 이용한 본 발명의 포토레지스트 형성방법은 본체와, 상기 본체에 형성되어 포토레지스트가 저장되는 저장부 및 상기 본체 하부에 형성되어 저장부에 저장된 포토레지스트가 방출되는 노즐부를 포함하여 구성된 포토레지스트 도포기에 포토레지스트를 공급하는 단계와, 상기 포토레지스트 도포기에 체결된 포토레지스트 제거기를 본체의 상면에 위치시키는 단계와, 상기 노즐부가 상부로 향하도록 상기 포토레지스트 도포기를 회 전시킨 후, 상기 노즐부에 생긴 기포를 제거하는 단계와, 상기 노즐부가 하부로 향하도록 포토레지스트 도포기를 회전시키는 단계와, 상기 본체 상면에 위치하는 포토레지스트 제거기를 회동시켜 본체의 측면에 위치시키는 단계와, 상기 포토레지스트 제거기를 구동시켜 상기 포토레지스트 제거기로부터 분출되는 세정제로부터 상기 본체의 측면에 붙어있는 포토레지스트를 제거하는 단계와, 스테이지 상에 포토레지스트를 형성하고자 기판을 로딩하는 단계와, 상기 기판 상에 상기 포토레지스트 도포기를 통해 포토레지스트를 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트 도포기의 노즐부에 남아있는 포토레지스트를 세정하는 단계를 포함하여 이루어진다.
상기한 바와 같이, 본 발명은 기판과 동일한 폭을 가지는 노즐부가 형성된 포토레지스트 도포기를 사용하여 원하는 위치에 PR막을 형성함으로써, 기판 전체에 걸쳐서 균일한 두께의 PR막을 형성할 수 있으며, 필요한 양만큼의 포토레지스트를 소비하기 때문에 재료비 낭비를 줄일 수 가 있다.
또한, 본 발명에서는 포토레지스트 도포기의 본체에 붙어있는 포토레지스트 찌꺼기를 제거하는 포토레지스트 도포기를 별도로 구성함으로써, 상기 본체에 붙어있는 포토레지스트에 의한 포토레지스트의 형성불량을 해결할 수 있도록 한다.
이하, 참조한 도면을 통하여 상기와 같은 본 발명의 포토레지스트 도포장치에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도3은 본 발명에 의한 포토레지스트 도포장치를 나타내는 것으로, 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 포토레지스트 도포장치는 기판(110)이 위치하는 스테이지(100)와, 상기 스테이지(100) 하부에 배치되어 기판(110) 위에 포토레지스 트막(120)을 형성하는 포토레지스트 도포기(150)와, 상기 스테이지(100)와 나란하게 위치하여 포토레지스트 도포를 마친 후, 포토레지스트 도포기(150)의 표면에 남아있는 포토레지스트을 제거하는 세정부(130)로 구성되어 있다.
또한, 도면에 도시하진 않았지만, 상기 포토레지스트 도포기(150)는 포토레지스트 공급관(미도시)을 통하여 포토레지스트 저장부(미도시)와 연결되어 포토레지스트 저장부로부터 포토레지스트을 공급받아 기판(110)에 도포하게 된다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 포토레지스트 도포장치는 다음과 같은 과정을 통하여 기판(110) 위에 포토레지스트막(120)을 형성하게 된다.
먼저, 상기 포토레지스트 도포기(150)가 기판(110)의 가장자리 즉, ①위치에 놓이게 되면, 이 위치가 포토레지스트가 형성되는 시작점이다. 상기 ①위치에서부터 시작된 포토레지스트 도포기(150)는 ②→③을 지나면서 기판(110) 위에 균일한 두께의 포토레지스트막(120)을 형성하게 된다. 이때, 상기 포토레지스트 도포기(150)에는 막대모양의 슬릿이 형성되어 있으며, 이 슬릿을 통하여 포토레지스트이 기판 위에 공급된다. 상기와 같이 포토레지스트 도포기(150)는 ①→②→③ 이동에 의해서 기판(110) 전체에 걸쳐서 포토레지스트막(120)을 형성한 후, 스테이지(100)와 나란하게 위치하는 세정부(160;④)로 이동하게 된다. 포토레지스트 도포기(150)가 세정부(130) 위치④에 들어오게 되면, 상기 세정부(130)에서는 포토레지스트 도포기(150)의 표면에 남아있는 포토레지스트이 경화되어 포토레지스트 도포기(150)의 노즐부가 막히는 것을 방지하기 위해 포토레지스트 도포기 특히, 상기 노즐부의 표면에 남아있는 포토레지스트을 세정하게 된다.
도4는 본 발명에 의한 포토레지스트 도포기의 상세도면으로, 도면에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 도포기(150)는 상판(152)과, 상기 상판(152)의 하부에 설치된 본체(153) 및 상기 본체(153) 하부에 형성된 노즐부(157)로 구성된다. 상기 본체(153)의 내부에는 저장부(155)가 형성된다. 상기 저장부(155)는 포토레지스트 공급관(151)을 통해 공급되는 포토레지스트가 저장되는 곳으로, 이곳에 저장된 포토레지스트가 도면표시하지 않은 펌프가 작동함에 따라 노즐부(157)를 통해 방출되어 기판상에 도포된다. 도면에서, 도면부호 170은 노즐부(157)의 간격을 조절하는 볼트이다. 포토레지스트이 두껍게 형성되는 영역에는 볼트(170)를 조임으로써, 포토레지스트이 공급되는 노즐부(157)의 간격을 줄여주고, 포토레지스트이 얇게 형성되는 영역에는 볼트(170)를 풀어줌으로써 노줄부(157)의 간격을 늘여주어 부분적으로 불균일하게 공급되는 포토레지스트의 양을 균일하게 조절할 수 있도록 한다.
상기와 같이 구성된 포토레지스트 도포기(150)를 이용한 포토레지스트의 도포방법이 도 5a 및 도5b에 도시되어 있다.
먼저, 도5a에 도시된 바와 같이, 노즐부(157)가 상부로 향하도록 포토레지스트 도포기(150)를 회전시킨다. 이때, 노즐부(157)가 상부로 향하도록 포토레지스트 도포기(150)를 회전시키는 것은 노즐부(157) 내부에 존재하는 기포를 제거하여 포토레지스트불량을 방지하기 위한 것이다.
실질적으로, 상기 포토레지스트 도포기(150)의 양측에는 회전축과 고정축이 각각 구성되어 있으며, 도면에는 포토레지스트 도포기(150)의 단면만이 도시되어 회전축 및 고정축이 생략되었다.
도5b에 도시된 바와 같이, 노즐부(157) 내부이 기포가 제거된 포토레지스트 도포기(150)는 기판(110) 위에 위치한다. 이때, 상기 포토레지스트 도포기(150)의 폭은 기판(110)의 폭과 대략 유사하기 때문에, 노즐부(157)를 통해 포토레지스트(120)가 적하되는 상태에서 화살표로 표시된 방향을 따라 일정한 속도로 상기 포토레지스트 도포기(150)를 진행하면 기판(110) 전체에 걸쳐 포토레지스트(120)가 균일하게 도포된다.
상기한 바와 같은 본 발명의 포토레지스트 도포장치는 노즐이 구비된 포토레지스트 도포기를 사용하여 포토레지스트막을 형성함으로써, 필요한 양 만큼의 포토레지스트을 사용하여 재료비 낭비를 막을 수 있으며, 비회전 방식에 의해서 포토레지스트이 도포되기 때문에 기판 전체에 걸쳐서 균일한 두께를 가지는 포토레지스트막을 형성할 수 있는 잇점이 있다.
그러나, 포토레지스트 도포기를 회전시켜 노즐부에 존재하는 기포를 제거하는 단계에서 포토레지스트이 흘러나와 포토레지스트 도포기의 본체에 포토레지스트이 뭍게되는 문제가 발생하게 된다. 상기 포토레지스트 도포기의 본체에 뭍어있는 포토레지스트 찌꺼기는 세정부에서 세정이 이루어지지 않으며, 포토레지스트막 형성시 파티클 발생시켜 포토레지스트막이 정상적으로 도포되는 것을 방해한다.
따라서, 본 발명은 특히 이러한 문제점을 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 본 발명의 다른 실시예에서는 포토레지스트 도포기에 기포 제거단계에서 포토레지스트 도포기의 본체로 흘러내린 포토레지스트을 제거할 수 있는 포토레지스트제거기를 별도로 구성하여 포토레지스트찌꺼기에 의한 포토레지스트형성불량을 해결한 다.
도6 및 도7은 은 본 발명의 다른 실시예에 의한 포토레지스트 도포기를 나타낸 것으로, 도6은 포토레지스트 제거기가 포토레지스트 도포기의 상면에 위치한 것을 보여주며, 도7은 포토레지스트 제거기가 포토레지스트 도포기의 상면에 위치한 것을 보여준다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 포토레지스트 도포기(250)는 본체(253)와 상기 본체(253) 하부에 형성된 노즐부(257)로 구성된다. 그리고, 상기 본체(253)의 내부에는 저장부(255)가 형성된다. 상기 저장부(255)는 포토레지스트 공급관(251)을 통해 공급되는 포토레지스트가 저장되는 곳으로, 이곳에 저장된 포토레지스트가 도면표시하지 않은 펌프가 작동함에 따라 노즐부(257)를 통해 방출되어 기판 상에 도포된다. 도면에서, 도면부호 270은 노즐부(257)의 간격을 조절하는 볼트이다. 포토레지스트이 두껍게 형성되는 영역에는 볼트(270)를 조임으로써, 포토레지스트이 공급되는 노즐부(257)의 간격을 줄여주고, 포토레지스트이 얇게 형성되는 영역에는 볼트(270)를 풀어줌으로써 노줄부(257)의 간격을 늘여주어 부분적으로 불균일하게 공급되는 포토레지스트의 양을 균일하게 조절할 수 있도록 한다.
한편, 상기 본체(253)의 상부에는 상기 본체(253)는 상부를 덮는 상판(252)이 구성되어 있으며, 상기 상판(252)의 상부에는 포토레지스트 제거기(280)가 설치된다.
상기 포토레지스트 제거기(280)는 연결부재(295)에 의해 상기 본체(253)의 양측에 형성된 회동축(290)에 체결되어 있으며, 상기 회동축(290)에 의해 상기 포 토레지스트 제거기(280)는 화살방향으로의 이동할 수 있다.
한편, 도면에 나타내진 않았지만, 상기 회동축(290)은 상기 상판(252)의 양측에 형성될 수도 있으며, 이때에도, 상기 포토레지스트 제거기(280)는 본체(253)측면으로의 이동이 가능하다.
상기 포토레지스트 제거기(280)의 위치(예를들어, 상판의 상면 또는 본체의 측면)는 필요에 의해 변경할 수 있으며, 이때, 포토레지스트 제거기(280)의 위치이동은 수동 또는 자동에 의해서 이루어질 수 있다.
또한, 상기 포토레지스트 제거기(280)는 상기 포토레지스트 도포기(250)로부터 분리될 수도 있다. 상기 연결부체(290)를 상기 회동축(290)으로부터 해체시킴에 따라, 상기 포토레지스트 제거기(280)의 분리가 가능해진다.
상기 본체(253)와 대향하는 포토레지스트 제거기(280)의 대향면에는 도8에 도시된 바와 같이, 세정제분사구(285)가 형성되어 있으며, 상기 세정제분사구(285)에서는 CDA(Clean Dry Air)와 같은 기체와 시너(thinner)와 같은 세정액이 분사되어 상기 포토레지스트의 본체(253)에 흘러내린 포토레지스트를 제거한다.
이와 같이, 포토레지스트 제거기(280)는 기계적인 1차 세정과 화학적인 2차 세정을 실행함으로써 포토레지스트 도포기(250)에 발생하는 PR 찌꺼기를 완전히 제거할 수 있게 된다.
이를 좀더 상세하세 설명하면, 이전실시예에서 포토레지스트 도포기의 노즐부 내부에 발생하는 기포를 제거하기 위해 상기 노즐부가 상부를 향하도록 포토레지스트 도포기를 회전시키게 된다. 기포를 제거하는 단계에서 포토레지스트가 흘러 나와 본체에 달라붙게 되며, 상기 본체 표면에 달라붙은 포토레지스트는 기판 상에 포토레지스트 형성시 파티클의 요인이되어 포토레지스트 형성불량이 발생된다.
따라서, 본 실시예에서는 이러한 문제를 해결하기 위해 상기 포토레지스트 도포기(250)에 기포 제거단계에서 본체에 달라붙은 포토레지스트를 제거할 수 있는 포토레지스트 제거기(280)를 별도로 구성한 것이다.
도6 및 도7에 설명된 바와 같이, 상기 포토레지스트 제거기(280)는 회동이 가능하기 하기 때문에, 상황에 따라, 상기 포토레지스트 제거기(280)의 위치를 바꿜줄 수가 있다. 예를 들러, 기판 상에 포토레지스트 도포 및 기포 제거단계에서는 도6에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트 제거기(280)를 상판(252)의 상면에 위치시키며, 기포 제거 후에, 본체에 흘러내린 포토레지스트를 제거할 때에는 세정제분사구(285;도8참조)가 본체(253)와 대향하도록 위치시킬 수 있다.
그리고, 본체(253)의 세정을 모두 마친후에, 상기 포토레지스트 제거기(280)는 다시 상판(252)의 상면으로 이동시키게 된다. 특히, 기포 제거단계에서 상기 포토레지스트 제거기(280)를 상판(252)의 상면으로 이동시킴으로써, 상기 노즐부(257)를 통해 본체의 표면에 흘러내린 포토레지스트로부터 포토레지스트 제거기가 오염되는 것을 방지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 포토레지스트 도포기의 본체에 흘러내린 포토레지스트를 제거할 수 있는 포토레지스트 제거기를 별도로 구성함으로써, 상기 본체에 달라붙은 포토레지스트 찌꺼지로 포토레지스트의 형성불량을 방지할 수 있다.
이와 같이, 포토레지스트의 형성불량을 방지함으로써, 정확한 패턴을 형성하여 패턴불량을 줄일 수 있으며, 이에따라, 생산성을 더욱 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (10)

  1. 포토레지스트를 형성하고자 하는 기판이 로딩되는 스테이지(stage);
    상기 스테이지 상부에 위치하여, 상기 기판 상에 포토레지스트를 형성하고, 그 측면에 포토레지스트 제거기가 구비하는 포토레지스트 도포기; 및
    상기 기판 상에 포토레지스트를 형성한 후, 이송 되어온 포토레지스트 도포기에 남아 있는 포토레지스트를 세정해 주는 세정부를 포함하여 구성된 포토레지스트 도포장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 포토레지스트 도포기는,
    본체;
    상기 본체에 형성되어 포토레지스트가 저장되는 저장부; 및
    상기 본체 하부에 형성되어 저장부에 저장된 포토레지스트가 방출되는 노즐부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 세정부는 상기 노즐부의 세정을 담당하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 포토레지스트 제거기는 본체의 측면과 상부의 이동이 가능한 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 본체의 양쪽 측면에 회동축이 형성되고, 상기 포토레지스트 제거기는 연결부재에 의해 상기 회동축에 체결되어 있는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 포토레지스트 도포기는 상기 본체 상부를 덮는 상판을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 상판의 양쪽 측면에 회동축이 형성되고, 상기 포토레지스트 제거기는 연결부재에 의해 회동축에 체결되어 있는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  8. 제2항에 있어서, 상기 본체와 대향하는 포토레지스트 제거기의 대향면에 상기 본체의 표면에 달라붙은 PR찌꺼기를 제거하는 세정제분사구가 형성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 포토레지스트 제거기는 상기 포토레지스트 도포기로부터 분리가 가능한 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포장치.
  10. 본체와, 상기 본체에 형성되어 포토레지스트가 저장되는 저장부 및 상기 본 체 하부에 형성되어 저장부에 저장된 포토레지스트가 방출되는 노즐부를 포함하여 구성된 포토레지스트 도포기에 포토레지스트를 공급하는 단계;
    상기 포토레지스트 도포기에 체결된 포토레지스트 제거기를 본체의 상면에 위치시키는 단계;
    상기 노즐부가 상부로 향하도록 상기 포토레지스트 도포기를 회전시킨 후, 상기 노즐부에 생긴 기포를 제거하는 단계;
    상기 노즐부가 하부로 향하도록 포토레지스트 도포기를 회전시키는 단계;
    상기 본체 상면에 위치하는 포토레지스트 제거기를 회동시켜 본체의 측면에 위치시키는 단계;
    상기 포토레지스트 제거기를 구동시켜 상기 포토레지스트 제거기로부터 분출되는 세정제로부터 상기 본체의 측면에 붙어있는 포토레지스트를 제거하는 단계;
    스테이지 상에 포토레지스트를 형성하고자 기판을 로딩하는 단계;
    상기 기판 상에 상기 포토레지스트 도포기를 통해 포토레지스트를 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 도포기의 노즐부에 남아있는 포토레지스트를 세정하는 단계를 포함하여 이루어지는 포토레지스트 형성방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101222972B1 (ko) * 2006-05-26 2013-01-17 엘지디스플레이 주식회사 인쇄장비, 패턴형성방법 및 이를 이용한 액정표시소자제조방법

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