CN1854145A - 有机基氢硅烷的制造方法 - Google Patents
有机基氢硅烷的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1854145A CN1854145A CNA2006100777114A CN200610077711A CN1854145A CN 1854145 A CN1854145 A CN 1854145A CN A2006100777114 A CNA2006100777114 A CN A2006100777114A CN 200610077711 A CN200610077711 A CN 200610077711A CN 1854145 A CN1854145 A CN 1854145A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- salt
- year
- general formula
- reaction
- sub
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 claims description 10
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 claims description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 7
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 6
- 150000003863 ammonium salts Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 8
- 238000009472 formulation Methods 0.000 abstract 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 32
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 18
- -1 isobutyl- Chemical group 0.000 description 11
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 10
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 7
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 5
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DESGIDRJCLIWRS-UHFFFAOYSA-N [SiH]Cl Chemical compound [SiH]Cl DESGIDRJCLIWRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- KAIPKTYOBMEXRR-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methyl-2h-imidazole Chemical compound CCCCN1CN(C)C=C1 KAIPKTYOBMEXRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- NHOWDZOIZKMVAI-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)(4-chlorophenyl)pyrimidin-5-ylmethanol Chemical compound C=1N=CN=CC=1C(C=1C(=CC=CC=1)Cl)(O)C1=CC=C(Cl)C=C1 NHOWDZOIZKMVAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHDQNOXQSTVAIC-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-3-methylimidazol-3-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCN1C=C[N+](C)=C1 FHDQNOXQSTVAIC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DADKKHHMGSWSPH-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC(C)=C1 DADKKHHMGSWSPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REACWASHYHDPSQ-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC=C1 REACWASHYHDPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBZJNLWLRUHZIX-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-methyl-2h-imidazole Chemical compound CCN1CN(C)C=C1 IBZJNLWLRUHZIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910016467 AlCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZZYQPZGQPZBDN-UHFFFAOYSA-N aluminium silicate Chemical compound O=[Al]O[Si](=O)O[Al]=O PZZYQPZGQPZBDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N anhydrous methyl chloride Natural products ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000037237 body shape Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical group C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Substances C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/126—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-Y linkages, where Y is not a carbon or halogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
本发明涉及制造有机基氢硅烷的方法,其中在含有至少一个完全有机取代的铵单元或鏻单元的催化剂存在的情况下,实施方程式(1)的同比反应Z RaSiCl4-a+SiHbCl4-b→Z RaSiHCl3-a+SiHb-yCl4-b+y (1),其中R代表任选被卤素取代的烷基、芳基或烷芳基,a等于1、2或3,y及Z等于1、2、3或4,及b等于2、3或4。
Description
技术领域
本发明涉及经同比反应制造有机基氢硅烷的方法。
背景技术
有机基氢硅烷,尤其是甲基二氯硅烷及二甲基氯硅烷的需求量远超过Müller-Rochow法直接合成副产品的产量。
WO 99/31111描述了用Lewis酸作为催化剂使有机基氯硅烷与氢氯硅烷实施同比反应以生成有机基氢氯硅烷。该方法的选择性低,并生成许多副产品。优选的AlCl3易挥发且升华。因为引发剂是必要的添加剂,所以在蒸馏循环过程中添加。
在DE 195 20 737 A中,使用以锆/铝的氧化物为主要成分的HCl饱和的催化剂实施同比反应以生成有机基氢氯硅烷。采用的反应温度高。这导致能源消耗量大,并且由于选择性较低而产生较多的废品。
DE 21 32 335 A描述了在叔胺的氢氯化物作为催化剂存在的情况下,由甲基三氯硅烷与二氯硅烷反应以生成甲基二氯硅烷。因为催化活性低且产品甲基二氯硅烷与存在于催化剂中的HCl的副反应生成甲基三氯硅烷及氢从而使产率下降。
DE 12 64 442 A描述了硅烷与季铵盐及季鏻盐的同比反应,但并未描述制造有机基氢氯硅烷的针对性方法。
US 4,605,543 A描述了由甲基二氯硅烷与季铵盐及季鏻盐起始的同比反应。
EP 776 698 A描述了一种方法,其中在同比反应内,氢转移至化合物上,该化合物的硅原子带有更多的有机取代基。“氢化剂”是甲基硅烷或甲基氯硅烷,其是通过甲基二氯硅烷的歧化反应而制得的。
发明内容
本发明的目的是提供制造有机基氢硅烷的改进方法。
本发明涉及制造有机基氢硅烷的方法,其中在含有至少一个完全有机取代的铵单元或鏻单元的催化剂存在的情况下,实施以下方程式(1)的同比反应
其中
R代表任选被卤素取代的烷基、芳基或烷芳基,
a等于1、2或3,
y及Z等于1、2、3或4,及
b等于2、3或4。
可惊人地使用SiHbCl4-b作为氢化剂。因为该方法中催化剂选择性地催化H/Cl的交换作用,所以不会因非期望的副反应而产生废品。
鉴于描述了逆反应的已知方法,产率高得惊人。
因为可保持低温,所以能源成本低。
R的实例是:烷基,如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基;己基,如正己基;庚基,如正庚基;辛基,如正辛基及异辛基,如2,2,4-三甲基戊基;壬基,如正壬基;癸基,如正癸基;十二烷基,如正十二烷基;十四烷基、十六烷基及十八烷基,如正十八烷基;环烷基,如环戊基、环己基、环庚基及甲基环己基;芳基,如苯基;烷芳基,如邻-、间-及对甲苯基、二甲苯基及乙苯基;及芳烷基,如苯甲基及α-及β-苯乙基;卤代烷基,如氯甲基、3-氯丙基及3-溴丙基;卤代芳基,如邻-、间-及对氯苯基及氯甲苯基。
基团R优选具有1至18个碳原子,更优选具有1至6个碳原子。基团R尤其是甲基或苯基。
优选实施同比反应(3)、(4)及(5):
更优选为同比反应(6)及(7):
优选在上游反应中,优选在催化剂存在的情况下,通过SiHCl3的歧化反应制得SiHbCl4-b。
所得的总方程式为:
特别优选在上游反应中,使SiHCl3发生歧化反应,而SiH2Cl2是依照以下方程式制得的
SiH3Cl是依照以下方程式制得的
所得总方程式是
在非本发明的硅烷RaSiCl4-a与SiHCl3的直接反应中,获得的预期单氢化硅烷RaSiHCl3-a的产率低(对于MeSiHCl2为3.4摩尔%;对于Me2SiHCl为<1.0摩尔%)。
在直接合成甲基氯硅烷期间,添加HCl致使MeSiHCl2及非期望的MeSiCl3的产率增加。用本方法可将MeSiCl3转化成MeSiHCl2。
反应产物SiCl4可被加工成细碎的二氧化硅,或在常见的与H2的转化反应中被再次加工成起始原料SiHCl3。
合适催化剂的完全有机取代的铵单元或鏻单元优选为季铵盐及季鏻盐以及带正电荷的杂环,这些杂环具有一个或更多个完全有机取代的选自氮及磷原子的原子。优选的带正电荷的杂环是咪唑鎓盐及吡啶鎓盐。
作为催化剂优选使用:
(a)通式R1 4NX1的季铵盐,及
(b)通式R2 4PX2的季鏻盐,
其中
R1及R2代表任选含有杂原子、任选被卤素取代的烃基,及
X1及X2代表卤原子。
R1及R2例如可为分支、非分支或环状烷基及多键系统,如芳基、烷芳基及芳烷基。R1及R2的实例是R的任选被卤素取代的烷基、芳基或烷芳基以及诸如邻-、间-及对苯烷基的芳烷基的实例。
基团R1及R2优选具有1至18个碳原子,更优选具有1至10个碳原子,基团R1及R2尤其是具有2至8个碳原子的烷基。
卤原子X1及X2优选为氯、溴或碘,尤其是氯。
季鏻盐优选为(正丁基)3(正辛基)PCl。例如Houben-Weyl,GeorgThieme出版公司,第XII卷/1,第79至90页,1963中描述了通过叔膦与烷基卤化物的烷基化作用以制造此类均相催化剂。
此外,作为催化剂优选使用:
(c)以下通式的咪唑鎓盐
及
(d)以下通式的吡啶鎓盐
其中
R8代表氢及具有R1及R2的定义,
R7、R9及R10具有R1及R2的定义,及
X5及X6具有X1及X2的定义。
此外,作为催化剂优选使用:
(e)具有选自以下组中的基团的离子交换树脂:通式R3R4 3NX3的季铵盐基及通式R5R6 3PX4的季鏻盐基,这些基团经二价基团R3及R5键结在该离子交换树脂的骨架上,及咪唑鎓基及吡啶鎓基,
其中
R3及R5代表具有1至20个碳原子、可由-O-、-CO-或-OCO-O-基加以间隔的二价烷基,及
R4及R6具有R1及R2的定义,及
X3及X4具有X1及X2的定义。
R3及R5优选具有3至10个碳原子。
该离子交换树脂骨架可为任意的耐酸性有机树脂。优选的离子交换树脂骨架选自:环氧树脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯酸酯及聚酰胺。
该催化剂(e)可溶于或不溶于反应介质内。
此外,作为催化剂优选使用:
(f)包含无机多相载体的多相催化剂,该载体表面上固定着选自以下组中的盐:上述季铵盐(a)、季鏻盐(b)、咪唑鎓盐(c)及吡啶鎓盐(d)。这些盐优选以物理方式或经配位键固定在该多相载体的表面上。
此外,作为催化剂优选使用:
(g)包含无机多相载体的多相催化剂,该载体表面上固定着选自以下组中的基团:上述通式R3R4 3NX3的季铵盐基及通式R5R6 3PX4的季鏻盐基,这些基团经二价基团R3及R5连接于多相载体上,以及咪唑鎓基及吡啶鎓基,这些基团经二价基团连接于多相载体上。这些盐基经共价键连接于多相载体上。
优选的无机载体选自:沸石、粘土、多孔玻璃、多孔陶瓷、硅酸盐、多孔二氧化硅,如沉积及热解二氧化硅,多孔氧化铝及硅酸铝。
多相催化剂(f)及(g)不溶于反应介质内。多相催化剂(f)及(g)可为细碎的形式,如粉末状或作为模制件。所用的模制件可为圆盘状、管状、球形、棒状、蜂巢体状,优选为拉西(Raschig)环。
例如EP 286 074 A及EP 776 698 A描述了多相催化剂的制造方法。
此外,作为催化剂优选使用:
(h)离子液体,如季铵盐、季鏻盐、吡啶鎓盐及咪唑鎓盐的低熔点盐。对于本发明方法而言,在1巴的压力下,它们的熔点优选为最高150℃,更优选为最高100℃,特别优选为最高50℃。
该离子液体的阳离子基团优选对应于上述基团R1及R2。
优选使用该离子液体作为金属或过渡金属的卤化物。该金属或过渡金属的卤化物例如表示为MXe,其中M代表Ga、Fe、Cu、Zn、In、Ti、Cd、Hg、B、Sn、Pb、Bi而X代表卤素。但也可使用其他组合物。它们例如含有以下阴离子:AlCl4 -、Al2Cl7 -、Al3Cl10 -、AlEtCl3 -、Al2Et2Cl5 -、BCl4 -、BF4 -,BEt3Hex-、CuCl2 -、Cu2Cl3 -、Cu3Cl4 -、SnCl3 -、Sn2Cl5 -、PF6 -、H2PO4 -、SbF6 -、NO3 -、HSO4 -、CH3SO4 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)2N-。
该离子液体的特定实例是:
氯化1-乙基-3-甲基咪唑鎓/氯化铝(EMIMCL/AlCl3)、
氯化1-丁基-3-甲基咪唑鎓/氯化铝(BMIMCL/AlCl3)、
氯化3-甲基-N-丁基吡啶鎓/氯化铝(3-MBPYCL/AlCl3)、
氯化1-丁基吡啶鎓/氯化铝(BPYCL/AlCl3)、
氯化四正丁基鏻/氯化铝(TBPCL/AlCl3)。
特别优选为咪唑鎓盐。
例如DE 101 57 198 A描述了合适的离子液体及其制造方法。
可使用纯离子液体(h)或离子液体的混合物,或离子液体(h)与选自盐(a)、(b)、(c)及(d)的盐组成的混合物。该离子液体(h)还可同时发挥选自盐(a)、(b)、(c)及(d)的盐的溶剂或溶解助剂的作用。
在含有硅烷的反应混合物中,该离子液体的使用量优选为0.1至80重量%,更优选为1至10重量%。
均相催化剂(a)、(b)、(c)及(d)均可溶解于该反应介质中。这些催化剂优选以纯物质的形式,溶于优选为高沸点的惰性有机溶剂内,优选为烃类,如1,2,3,4-四氢化萘或十氢化萘,或为溶于硅烷起始反应物RaSiCl4-a内的形式加以使用。
这些均相催化剂的优点是:它们可以纯物质或溶解的形式用泵进行输送。从而使该反应过程更简单,这是因为即使在运行的加工过程中也可按计量加入催化剂,即在需要时,可提高或降低催化剂的浓度,更新催化剂或在不停止该反应过程的情况下用其他均相催化剂加以替换。
在根据本发明的方法中,该鏻催化剂及咪唑鎓催化剂的特征在于,在不同有机基氯硅烷介质中的热稳定性非常优异,并且在本发明的同比反应中的催化活性高。
根据本发明的方法可以分批式、半连续式或完全连续式实施。优选以完全连续式实施。
优选的连续式过程是:使该硅烷成分在填充了多相催化剂的反应管中进行反应。在均相催化作用的情况下,使硅烷起始反应物与该催化剂一起通过该反应管,随后通过蒸馏作用将该催化剂分离出,并再次送回。
特别优选地,根据本发明的同比反应是在气泡塔内连续地实施。该气泡塔含有多相或均相催化剂,连续按计量加入硅烷起始反应物,并将生成的硅烷连续地蒸馏出。该均相催化作用方法的优点在于,随后无需将该催化剂加以分离并送回。
所用硅烷起始反应物是气态或液态的形式,或溶于惰性有机溶剂,尤其是烃类及卤代烃,如己烷、甲苯、二甲苯或氯苯。
在一个优选的均相过程中,用催化剂填充优选为热稳定化的垂直放置的反应管(气泡塔),优选在0.1至20巴,更优选为1至3巴的压力下,且优选在0至250℃,更优选为50至150℃的温度下通入通式RaSiCl4-a及SiHbCl4-b的硅烷。
起始反应物的摩尔比SiHbCl4-b/RaSiCl4-a优选为0.1至10,更优选为0.2至2.0。以所用硅烷的总量为基准,催化剂的浓度优选为0.1至80重量%,更优选为2至60重量%,特别优选为5至20重量%。
在含有SiH且沸点低的有机基氯硅烷,如Me2SiHCl或MeSiHCl2的优选的制造过程中,该硅烷由该反应管蒸馏出(料位保持恒定),使反应混合物冷凝,随后通过分馏作用加以分离。在具有更高沸点的有机基氯硅烷的情况下,该反应混合物优选在上部反应部件中的溢流口取出。从而将催化剂去除,优选通过蒸馏作用将其与硅烷混合物分离并将其送回。
在第二个优选的方法实施方案中,将固定床或流化床内或优选作为模制件的多相催化剂用于热稳定化的管内。若催化剂为模制件的形式,则优选在0.1至20巴,更优选为1至3巴的压力下,且优选在0至250℃,更优选为100至150℃的温度下通入通式RaSiCl4-a及SiHbCl4-b的硅烷。
起始反应物的摩尔比SiHbCl4-b/RaSiCl4-a优选为0.1至10,更优选为0.2至2.0。随后优选通过分馏作用将所得的反应混合物分离。
通过选择起始反应物的适当比例SiHbCl4-b/RaSiCl4-a,可以高产率制得预期的作为最终产品的单氢化硅烷RaSiHCl3-a。
通式RaSiHCl3-a的化合物,尤其是含有SiH的有机基氯硅烷,是用以制造官能硅烷或硅氧烷的重要起始化合物,这些官能硅烷或硅氧烷是经过与具有脂族双键或三键的有机化合物实施氢化硅烷化作用而制得的。例如二甲基氯硅烷的另一个用途是用于制造具有二甲基氢甲硅烷基的有机聚硅氧烷,其用于加成交联的硅氧橡胶组合物。
主要在三氯硅烷的歧化作用中产生的副产品四氯硅烷,还可以经济的方式加以利用,例如用于制造通过火焰水解作用制得的高度分散的二氧化硅。四氯硅烷还可用氢再次氢化成三氯硅烷,从而使该循环过程封闭:
所得的总方程式是:
上述通式中的所有符号的定义均相互独立。在所有通式中,硅原子均为四价。
具体实施方式
在本发明的范畴内,除非另有说明,所有的量及百分率均是基于重量,所有温度均为20℃,所有压力均为1.013巴(绝对)。所有粘度均是在25℃下测得的。
实施例1:
将V4A钢-Interpak-10填料装入内径为5厘米且总长度为250厘米、垂直放置的可加热V4A钢管中。在以下反应中所用的催化剂是MeOctyl3NCl在MeSiCl3中浓度为3%的溶液。
在总压为2.2巴(绝对)且内部温度为70℃的情况下,将1000克/小时的MeSiCl3/MeOctyl3NCl溶液及650克/小时的SiH2Cl2连续地按计量加入该反应塔的下端。
在塔高度约为200厘米处,以液体形式将产品混合物取出,依照1H-NMR谱测定其组成(SiCl4经GC法)。
MeSiH2Cl 0.6摩尔%
MeSiHCl2 26.6摩尔%
MeSiCl3 23.5摩尔%
SiH4 1.6摩尔%
SiH3Cl 2.4摩尔%
SiH2Cl2 17.1摩尔%
SiHCl3 21.9摩尔%
SiCl4 6.0摩尔%
所用MeSiCl3转化成MeSiHCl2的转化率为52%。通过蒸馏作用提纯该产品混合物。
实施例2:
将100克氯化1-丁基-3-甲基咪唑鎓预装入内径为5厘米且总长度为250厘米、垂直放置的可加热V4A钢管中,在其上半部装入V4A钢-Interpak-10填料,并将MeSiCl3泵入该反应器中直至填充高度为150厘米。在总压为2巴且内部温度为80℃的情况下,将150克/小时的SiH2Cl2及500克/小时的MeSiCl3连续地按计量加入该反应器的下端。通过调节内部温度使该气泡塔的填充高度保持恒定不变,使于反应器顶部产生的产品混合物冷凝,并依照1H-NMR谱测定其组成(SiCl4经GC法)。
MeSiH2Cl 0.1摩尔%
MeSiHCl2 20.3摩尔%
MeSiCl3 48.4摩尔%
SiH4 0.5摩尔%
SiH3Cl 2.0摩尔%
SiH2Cl2 8.1摩尔%
SiHCl3 18.2摩尔%
SiCl4 2.5摩尔%
通过蒸馏作用进一步提纯该硅烷混合物。该反应器可工作3个月,未发现催化活性的下降。
实施例3:
将V4A-Pall环(1英寸=2.54厘米)装入内径为40厘米且总长度为500厘米、垂直放置的可加热V4A钢反应器内,直至高度为200厘米。
将100千克Bu4PCl在MeSiCl3中浓度为30%的混合物作为催化剂预装入该反应器内。在总压力为1.9巴且内部温度为78℃的情况下,将40千克/小时的二氯硅烷混合物(组成为:94.6%SiH2Cl2、2.0%SiHCl3、2.9%SiH3Cl;通过三氯硅烷的歧化作用制得)及150千克/小时的MeSiCl3连续地按计量加入该反应器的下端。通过调节温度使该气泡塔的填充高度保持恒定不变,将于该反应器顶部产生的产品混合物送入连续工作的蒸馏塔内。于该塔的顶部将气态SiH4、SiH3Cl、MeSiH2Cl及SiH2Cl2取出,并送回该反应器以进一步反应。在塔的下端连续取出190千克/小时的液态硅烷混合物,其具有以下组成:
MeSiHCl2 25.2摩尔%
MeSiCl3 46.4摩尔%
SiH2Cl2 1.5摩尔%
SiHCl3 22.2摩尔%
SiCl4 4.5摩尔%
通过蒸馏作用进一步提纯该硅烷混合物,其中所得MeSiHCl2的纯度超过95%。
Claims (8)
1、制造有机基氢硅烷的方法,其中在含有至少一个完全有机取代的铵单元或鏻单元的催化剂存在的情况下,实施方程式(1)的同比反应
其中
R代表任选被卤素取代的烷基、芳基或烷芳基,
a等于1、2或3,
y及Z等于1、2、3或4,及
b等于2、3或4。
2、根据权利要求1所述的方法,其中在上游反应中,通过SiHCl3的歧化反应制得SiHbCl4-b,所得的总方程式为:
3、根据权利要求1或2所述的方法,其中实施同比反应(3)
4、根据权利要求1至3之一所述的方法,其中实施同比反应(4)
5、根据权利要求1至4之一所述的方法,其中实施同比反应(5)
6、根据权利要求1至5之一所述的方法,其中所述基团R为甲基。
7、根据权利要求1至6之一所述的方法,其中所述催化剂选自:
(a)通式R1 4NX1的季铵盐,
(b)通式R2 4PX2的季鏻盐,
(c)以下通式的咪唑鎓盐
(d)以下通式的吡啶鎓盐
X6-,
其中
R1、R2、R7、R9及R10代表任选含有杂原子、任选被卤素取代的烃基,
R8代表氢及具有R1、R2、R7、R9及R10的定义,
X1、X2、X5及X6代表卤原子;
(e)具有选自以下组中的基团的离子交换树脂:通式R3R4 3NX3的季铵盐基及通式R5R6 3PX4的季鏻盐基,这些基团经二价基团R3及R5键结在该离子交换树脂的骨架上,及咪唑鎓盐基,
其中
R3及R5代表具有1至20个碳原子、可由-O-、-CO-或-OCO-O-基加以间隔的二价烷基,及
R4及R6具有R1及R2的定义,及
X3及X4具有X1及X2的定义;
(f)包含无机多相载体的多相催化剂,该载体表面上固定着选自以下组中的盐:上述季铵盐(a)、季鏻盐(b)、咪唑鎓盐(c)及吡啶鎓盐(d);
(g)包含无机多相载体的多相催化剂,该载体表面上固定着选自以下组中的基团:上述通式R3R4 3NX3的季铵盐基及通式R5R6 3PX4的季鏻盐基,这些基团经二价基团R3及R5连接于该多相载体上,以及经二价基团连接于该多相载体上的咪唑鎓基及吡啶鎓基;
(h)离子液体,该离子液体是季铵盐、季鏻盐、吡啶鎓盐及咪唑鎓盐的低熔点盐。
8、根据权利要求1至7之一所述的方法,其中所述同比反应在管式反应器或气泡塔内连续地实施。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005019252A DE102005019252A1 (de) | 2005-04-26 | 2005-04-26 | Verfahren zur Herstellung von Organylhydrogensilanen |
DE102005019252.1 | 2005-04-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1854145A true CN1854145A (zh) | 2006-11-01 |
CN100478346C CN100478346C (zh) | 2009-04-15 |
Family
ID=36609569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2006100777114A Expired - Fee Related CN100478346C (zh) | 2005-04-26 | 2006-04-26 | 有机基氢硅烷的制造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7511166B2 (zh) |
EP (1) | EP1717241B1 (zh) |
JP (1) | JP4418803B2 (zh) |
KR (1) | KR100781643B1 (zh) |
CN (1) | CN100478346C (zh) |
DE (2) | DE102005019252A1 (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102140107A (zh) * | 2011-01-05 | 2011-08-03 | 江苏大学 | 一种甲基氯硅烷歧化的方法 |
CN102250133A (zh) * | 2011-06-07 | 2011-11-23 | 江苏大学 | 一种歧化法制备二甲基二氯硅烷的方法 |
CN102498117A (zh) * | 2009-07-13 | 2012-06-13 | 三星精密化学株式会社 | 有机氢氯硅烷及其制备方法 |
CN104936965A (zh) * | 2013-01-17 | 2015-09-23 | 瓦克化学股份公司 | 一种通过重排反应制备烷基氯硅烷的方法 |
CN111108110A (zh) * | 2017-09-20 | 2020-05-05 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 有机氢氯硅烷生产工艺 |
CN111132985A (zh) * | 2017-09-20 | 2020-05-08 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 用于制造甲基氯氢单硅烷的集成工艺 |
CN113651844A (zh) * | 2021-08-20 | 2021-11-16 | 唐山偶联硅业有限公司 | 连续法制备二甲基氢氯硅烷的工艺 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007028254A1 (de) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von SiH-haltigen Silanen |
DE102007030948A1 (de) * | 2007-07-04 | 2009-01-08 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Umwandlung von Si-H-Verbindungen in Si-Halogen-Verbindungen |
DE102008002731A1 (de) | 2008-06-27 | 2009-12-31 | Wacker Chemie Ag | Katalysierte Umwandlung von Silanen in der Gasphase |
DE102009027257A1 (de) | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxyhydrogensilanen |
US8697901B2 (en) * | 2011-12-30 | 2014-04-15 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of organohalosilane monomers via enhanced cleavage of direct process residue |
US8637695B2 (en) * | 2011-12-30 | 2014-01-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of organohalosilane monomers from conventionally uncleavable Direct Process Residue |
WO2024110270A1 (en) | 2022-11-22 | 2024-05-30 | Momentive Performance Materials Gmbh | Process for the production of hydridosilanes |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2834648A (en) * | 1953-03-25 | 1958-05-13 | Union Carbide Corp | Disproportionation of chlorosilanes employing amine-type catalysts |
FR1457139A (fr) | 1965-01-29 | 1966-10-28 | Dow Corning | Substitutions réciproques de l'hydrogène et du chlore dans les silanes |
DE2132335A1 (de) * | 1970-06-30 | 1972-01-05 | Union Carbide Corp | Verfahren zur Herstellung von Umverteilungsprodukten (Disproportionierungsprodukten)von Halogensilanverbindungen |
US3793357A (en) * | 1972-10-20 | 1974-02-19 | Gen Electric | Process for the redistribution of alkylsilanes and alkylhydrosilanes |
FR2552436B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution |
FR2552434B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de fabrication de silane a partir de methyldichlorosilane et de chlorosilanes |
FR2616363B1 (fr) | 1987-06-11 | 1991-04-19 | Cegedur | Procede et dispositif de moulage en sable de pieces composites a matrice en alliage leger et insert fibreux |
DE19520737C2 (de) | 1995-06-07 | 2003-04-24 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Alkylhydrogenchlorsilanen |
US5550269A (en) * | 1995-11-17 | 1996-08-27 | North Dakota State University Research Foundation | Method for redistribution of trichlorosilane |
DE19544730A1 (de) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von SiH-haltigen Organylchlorsilanen |
FR2772380B1 (fr) | 1997-12-12 | 2000-03-10 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'alkylmonohydrogenohalogenosilanes (ahhs) par redistribution puis distillation, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede |
US6534614B2 (en) * | 2001-04-04 | 2003-03-18 | General Electric Company | Process for the production of linear organohydrogensiloxanes |
DE10157198C2 (de) | 2001-11-22 | 2002-11-14 | Wacker Chemie Gmbh | Ligandentausch an Organochlorsilanen in ionischen Flüssigkeiten |
US7148370B1 (en) * | 2005-07-20 | 2006-12-12 | General Electric Company | Process for synthesis of diorganosilanes by disproportionation of hydridosiloxanes |
-
2005
- 2005-04-26 DE DE102005019252A patent/DE102005019252A1/de not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-03-30 EP EP06006798A patent/EP1717241B1/de not_active Ceased
- 2006-03-30 DE DE502006000932T patent/DE502006000932D1/de active Active
- 2006-04-25 US US11/410,484 patent/US7511166B2/en active Active
- 2006-04-26 CN CNB2006100777114A patent/CN100478346C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-04-26 JP JP2006121997A patent/JP4418803B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-04-26 KR KR1020060037579A patent/KR100781643B1/ko active IP Right Grant
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102498117A (zh) * | 2009-07-13 | 2012-06-13 | 三星精密化学株式会社 | 有机氢氯硅烷及其制备方法 |
CN102140107A (zh) * | 2011-01-05 | 2011-08-03 | 江苏大学 | 一种甲基氯硅烷歧化的方法 |
CN102140107B (zh) * | 2011-01-05 | 2014-03-12 | 江苏大学 | 一种甲基氯硅烷歧化的方法 |
CN102250133A (zh) * | 2011-06-07 | 2011-11-23 | 江苏大学 | 一种歧化法制备二甲基二氯硅烷的方法 |
CN102250133B (zh) * | 2011-06-07 | 2013-11-20 | 江苏大学 | 一种歧化法制备二甲基二氯硅烷的方法 |
CN104936965A (zh) * | 2013-01-17 | 2015-09-23 | 瓦克化学股份公司 | 一种通过重排反应制备烷基氯硅烷的方法 |
CN104936965B (zh) * | 2013-01-17 | 2017-10-31 | 瓦克化学股份公司 | 一种通过重排反应制备烷基氯硅烷的方法 |
CN111108110A (zh) * | 2017-09-20 | 2020-05-05 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 有机氢氯硅烷生产工艺 |
CN111132985A (zh) * | 2017-09-20 | 2020-05-08 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 用于制造甲基氯氢单硅烷的集成工艺 |
CN111132985B (zh) * | 2017-09-20 | 2024-01-02 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 用于制造甲基氯氢单硅烷的集成工艺 |
CN113651844A (zh) * | 2021-08-20 | 2021-11-16 | 唐山偶联硅业有限公司 | 连续法制备二甲基氢氯硅烷的工艺 |
CN113651844B (zh) * | 2021-08-20 | 2023-09-12 | 唐山偶联硅业有限公司 | 连续法制备二甲基氢氯硅烷的工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060241272A1 (en) | 2006-10-26 |
JP4418803B2 (ja) | 2010-02-24 |
KR20060112237A (ko) | 2006-10-31 |
KR100781643B1 (ko) | 2007-12-03 |
DE502006000932D1 (de) | 2008-07-31 |
CN100478346C (zh) | 2009-04-15 |
EP1717241A1 (de) | 2006-11-02 |
EP1717241B1 (de) | 2008-06-18 |
JP2006306874A (ja) | 2006-11-09 |
US7511166B2 (en) | 2009-03-31 |
DE102005019252A1 (de) | 2006-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1854145A (zh) | 有机基氢硅烷的制造方法 | |
KR100987480B1 (ko) | SiH-함유 실란의 제조 방법 | |
US20070060765A1 (en) | Organochlorosilane and dipodal silane compounds | |
CN1781870A (zh) | 二醇官能硅氧烷混合物 | |
JP4996002B2 (ja) | アルコキシシランの製法 | |
CN102844322A (zh) | 制备二有机二卤代硅烷的方法 | |
JP2012515704A (ja) | 高沸点廃棄物の再生プロセス | |
JP5808646B2 (ja) | 環状シラン中間体の製造方法および環状水素化シランもしくは環状有機シランの製造方法 | |
CN1101048A (zh) | 有机硅化合物的缩合和/或平衡的方法 | |
CN1878780A (zh) | 制造带有氨基的硅化合物的方法 | |
KR101435926B1 (ko) | 클로로실란의 하이드로젠 실란으로의 탈염소수소화를 위한 촉매 및 그 촉매를 사용한 하이드로젠실란의 제조 방법 | |
JP5141897B2 (ja) | クロロシリル基含有エチルノルボルネン化合物の製造方法 | |
JP6044361B2 (ja) | ジクロロモノヒドロシラン化合物の製造方法 | |
JP4411077B2 (ja) | トリオルガノ−モノアルコキシシランの製造方法とトリオルガノ−モノクロロシランの製造方法 | |
CN1890251A (zh) | 烷基卤代硅烷的直接合成方法 | |
EP2876111B1 (en) | Composition containing nitrogen-containing organoxysilane compound and method for making the same | |
CN1117494A (zh) | 制备烷基或芳基二氯硅烷的方法 | |
CN1671719A (zh) | 制备有机基二烷基烷氧基硅烷的方法 | |
JP7229817B2 (ja) | 環状水素化シラン化合物の製造方法 | |
KR102618387B1 (ko) | 할로실란 함유 조성물내 보론 화합물의 함량을 감소시키는 방법 | |
JP4891536B2 (ja) | アミノアリール基含有有機ケイ素化合物の製造方法、並びに、その中間体の製造方法 | |
CN1735623A (zh) | 用于直接合成烷基卤代硅烷的催化体系和方法 | |
JPH0576349B2 (zh) | ||
KR20150027905A (ko) | 메틸클로로실란의 직접합성법에서 부산물로 생성되는 고비점 잔류물의 연속적 재분배 방법 | |
JP2009173637A (ja) | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20090415 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |