CN1676484A - 玻璃陶瓷及其制备方法 - Google Patents

玻璃陶瓷及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1676484A
CN1676484A CNA200410083344XA CN200410083344A CN1676484A CN 1676484 A CN1676484 A CN 1676484A CN A200410083344X A CNA200410083344X A CN A200410083344XA CN 200410083344 A CN200410083344 A CN 200410083344A CN 1676484 A CN1676484 A CN 1676484A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass
ceramic
sub
mgo
sno
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA200410083344XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN1676484B (zh
Inventor
蒂洛·察豪
赖纳·利巴尔德
迪尔克·施普伦格
迈克·施耐德
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schott Diamondview Armor Products LLC
Original Assignee
Schott Diamondview Armor Products LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott Diamondview Armor Products LLC filed Critical Schott Diamondview Armor Products LLC
Publication of CN1676484A publication Critical patent/CN1676484A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1676484B publication Critical patent/CN1676484B/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
    • C03C10/0045—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3 and MgO as main constituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

本发明公开了一种玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷包括(基于氧化物的重量百分比)：SiO235－60，B2O3>4－10，P2O50－10，Al2O316.5－40，TiO21－10，Ta2O50－8，Y2O30－6，ZrO21－10，MgO6－20，CaO0－10，SrO0－4，BaO0－8，ZnO0－4，SnO2+CeO20－4，SO4 2－+Cl－0－4，其中(SnO2+CeO2+SO4 2－+Cl－)的总含量为0.01wt.％－4wt.％。该玻璃陶瓷可以用浮法玻璃法加工，可以是透明的，尤其适用为薄膜半导体用衬底，具体是用于显示器应用、太阳能电池等。

Description

玻璃陶瓷及其制备方法
本发明涉及一种在大多数不同应用中尤其可用作相对薄的衬底的玻璃陶瓷。在这些应用中包括作为薄膜半导体衬底的应用，尤其是用作薄膜硅和显示器应用的衬底(薄膜晶体管TFT显示器衬底、背板、透明前板等)，用作太阳能电池等，和用作硬盘衬底。
在本领域中已知碱性玻璃体系MgO-Al2O3-SiO2(MAS体系)和各种掺混物的无碱玻璃陶瓷，所述掺混物的形式为形成玻璃的组分、网络改性剂、中间体氧化物、成核剂和助熔剂，通过使相应的起始玻璃材料回火而制得它们，由此将它们转化为在残余玻璃相中具有均匀分布微晶的材料。
就此而言，尤其已知许多用作硬盘存储器衬底的MAS玻璃陶瓷。这方面可以提及的应用包括例如US-B-6583077、US-A-5968857、US-B-6569791、US-B-6458730、US-6458729、US-B-6495480、US-A-5491116、EP-A-106710、EP-A-0941973、EP-0939396和EP-0939395。
各种玻璃陶瓷衬底部分地含有给定量的用作结晶成核剂的TiO2、P2O5、ZrO2的掺混物。而且可以混入给定量的碱土氧化物。在此使用的精炼剂通常是Sb2O3、As2O3或SnO2。在某些场合加入高达4wt％氧化硼(B2O3)在此也是可以预计的(对照参考EP-A-0 939 396和EP-A-0939 395)。从EP-A-0 941 973也可以知道满足上述应用的具有给定组成范围的很多玻璃陶瓷材料。然而，这些玻璃陶瓷不含氧化硼。所用的精炼剂仍是CeO2、As2O3或Sb2O3。
进而，必须提及所用的各种与光学显示装置如LCD(对照参考例如US-B-6,197,429)有关的MAS玻璃陶瓷。众所周知，在此情况下，可以通过适当控制陶瓷化工艺以使微晶尺寸远小于相应光线的波长(即小于约300nm)，在此情形下在微晶上没有光漫射发生，从而得到在电磁波谱的可见光范围(380-780nm)内所必需的的透明性(对照参考Bealland Pinckney：“Nanophase Glass-Cerimics”J.Am.Ceram.Soc.，82(1)[1999]5-16)。通过相应的有目的的成核以及受控的晶体生长来保持微晶尺寸适度地小。
根据本领域的现状，在MAS体系的玻璃陶瓷中通常所分离的晶相是堇青石、尖晶石、假蓝宝石、富铝红柱石、顽辉石或镁橄榄石(或是在含硅的残余玻璃相中的相应的混合晶体)。可以理解，现有技术公开的玻璃陶瓷组成中与对应的分离晶相和残余玻璃相的组成都在很宽范围内变化。
为达到在所分离的晶相中微晶尺寸的均匀分布，需要优化的高数量的和优化的均匀分布的核，根据现有技术，通过在玻璃中热诱导分离，随后形成纳米微晶以制备上述核。为实现上述目的，向玻璃中单独地或以给定的混合比率引入所谓的成核氧化物(TiO2，ZrO2)。通常当加热上述玻璃至高于Tg的温度时，对于MAS体系中TiO2，由于形成钛酸镁纳米微晶而出现一种物质作为其他晶相的晶核(对照参考Golubkov等人：″On the phase separation and crystallization of glasses inthe MgO-Al2O3-SiO2-TiO2 system″，Glass Phys.Chem.，29/3[2003]254-266)。
当玻璃陶瓷用作自支撑衬底时，主要重点在于诸如高断裂强度和高弹性模量(比刚度：E/ρ)等性能。对这些性能的影响取决于残余玻璃相和分离晶相的组成以及晶相的比例。在大多数情况下，要求达到30-50MJ/kg的比刚度。目前本领域已知的MAS体系玻璃陶瓷在30-300℃的温度范围内通常具有约2-6×10-6/K热膨胀系数。
MAS玻璃陶瓷目前处于发展阶段，其还作为薄膜硅用衬底而用作集成电路中有源器件如二极管或薄膜晶体管(TFT)的基极。通过使用基于衬底的薄膜硅，就可能制造出平面屏幕显示器(如LCD)用元件以及产生电流的太阳能电池等。
目前，应用在衬底上的主要是无定形薄膜硅(a-Si)。在衬底上沉积无定形薄膜硅的方法所需的温度通常为约450℃。与a-Si元件相比，在相应元件中使用多晶薄膜硅(poly-Si)会显示某些绝对性优势，多晶薄膜硅具有明显更高的电子迁移率。例如，LCD的分辨率和反应速度会显著提高。进而，这开创了所安装的附加集成电路的板上(on-board)集成的新方法，如果是a-Si器件，则在LCD的边缘上安装，例如采用外加芯片的形式。在本领域中，多晶薄膜硅通过在衬底上的a-Si的再结晶而得到。原则上讲，这种方法通过加热硅层到使a-Si结晶的温度而得以实现。
就此而言，低温多晶薄膜硅与高温多晶薄膜硅之间的差别是低温多晶薄膜硅是通过局部加热硅层至600℃而获得，而高温多晶薄膜硅是在约900℃的工艺温度下形成的。为制造这种多晶薄膜硅制品，可以把整个元件加热至相应温度(HT多晶薄膜硅)，或者另外通过以相应的光栅图案移动准分子激光器穿过表面(表面层)而在局部产生所需的温度。由在后提及的方法制造的元件中的多晶薄膜硅通常是不均匀的。上述元件可能会表现出例如令人不满意的所谓的“针点缺陷”。为了达到在高温多晶薄膜硅情况下相同的集成度，低温多晶薄膜硅元件必须被长时间处理，通常要超过20小时。
鉴于为获得晶体管的高度集成而需要多种光刻工艺这一事实，多晶薄膜硅元件必须理所当然地要经受住再结晶循环的温度，同时其几何尺寸无显著变化(收缩)，以避免在叠加层之间以及与接触点之间的偏差(若有的话)。通常，收缩容许误差仅是所实施的最小电路单元的横向延伸的一部分；与整个衬底相比，通常限制其为50ppm。为避免在衬底和Si层之间的应力，两种材料的热膨胀系数必须相互配合，或必须相等。迄今为止，仅适用于多晶薄膜硅元件的多晶薄膜硅元件由无定形SiO2(石英玻璃)组成，并且是复杂的和造价昂贵的。另外，多晶薄膜硅和石英玻璃的热膨胀系数之间的差值为约Δα30-300≈3.2×10-7/K。
在这些情形下，按所需性能被特别设计的MAS玻璃陶瓷在一方面要提供技术改进，另一方面要显著节约成本。
在这一点是已知有例如US-A-5,968,857和US-B-6,197,429。
前述玻璃陶瓷中没有一种考虑例如要满足这样的特定需要：制造具有厚度尽可能最小的板形式的玻璃陶瓷。
因此，本发明的一个目的是提供玻璃陶瓷，其适用于光学和电子元件的衬底，即使其厚度很小也能以高精度和高均一性制造出来，即使在表面积很大的情形下，也能达到上述目的。另外，获得尽可能最高的比弹性模量和有利的机械性能。进而，若可能，应该可以以适当方式控制热膨胀系数以使该材料可用作多晶硅用衬底。优选地，对于某些应用，还要求玻璃陶瓷有透明性。
最后，提供了一种合适的用于制备这种玻璃陶瓷的方法。
按照本发明，该目的通过含有下述组分的玻璃陶瓷来实现。
    SiO2       35-60
    B2O3      ＞4-10
    P2O5      0-10
    Al2O3     16.5-40
    TiO2       1-10
    Ta2O5     0-8
    Y2O3         0-6
    ZrO2          1-10
    MgO            6-20
    CaO            0-10
    SrO            0-4
    BaO            0-8
    ZnO            0-4
    SnO2+CeO2   0-4
    SO4 2-+Cl-   0-4
其中，SnO2、CeO2、SO4 2-和Cl-的总和∑(SnO2、CeO2、SO4 2-、Cl-)为0.01wt.％至4wt.％。
由此本发明得以完美实现。
之所以得此结论，是因为按照本发明可以在最初熔融和精炼各组成的起始玻璃，然后通过浮法玻璃法把该玻璃制成为具有高表面精度和最小厚度误差的玻璃板。即使小于2mm的很薄的厚度也可以由这种方法无困难地实现。
就该方法而言，本发明的目的是通过一种制备玻璃陶瓷的方法而实现的，该方法包括初始熔融含有下述组分的起始玻璃(基于氧化物的重量百分比)的步骤：
    SiO2          35-60
    B2O3         ＞4-10
    P2O5         0-10
    Al2O3        16.5-40
    TiO2          1-10
    Y2O3         0-6
    ZrO2          1-10
    MgO             6-20
    CaO            0-10
    SrO            0-4
    BaO            0-8
    ZnO            0-4
    SnO2+CeO2    0-4
    SO4 2-+Cl-    0-4
其中，SnO2、CeO2、SO4 2-和Cl-的总和∑(SnO2、CeO2、SO4 2-、Cl-)为0.01wt.％至4wt.％。
在实施陶瓷化程序而使起始玻璃转化为玻璃陶瓷之前，按照本发明的玻璃陶瓷尤其可以通过浮法玻璃法制得。然而，应理解本发明也可与其它形成方法如拉伸法结合使用
根据本发明的其他优选开发，玻璃陶瓷含有下述组分(基于氧化物的重量百分比)：
    SiO2          39-55
    B2O3         ＞4-8
    P2O5         0-6
    Al2O3        16.5-32
    TiO2          1-＜7
    Ta2O5        0-5
    Y2O3         0-5
    ZrO2          1-6
    MgO            ＞8-20
    CaO            0-6
    SrO            0-2.5
    BaO            0-5
    ZnO            0-2
    SnO2+CeO2   0-4
    SO4 2-         0-2
    Cl-             0-2
本发明的其他特征由从属权利要求概括。
为实现高弹性模量以及低密度，氧化铝含量应为至少16.5wt％。而且，Y2O3的掺混物同样导致较高弹性模量，尤其当分离含有钇(如Y-磷钇矿-YPO4、焦硅酸钇-Y2Si2O7、或钇铀烧绿石(Yttropyrochlorite)Y2Ti2O7)时，弹性模量由此提高了约2Gpa/wt％Y2O3。
在30-300℃的温度范围内，热膨胀系数为α30-300＜5×10-6/K，优选α30-300＜4×10-6/K，最优选α30-300＜3.7×10-6/K，这是由在各个晶相之间和相对残余玻璃相的分离晶相的种类和比例决定的，并且可以受陶瓷化程序的影响，尤其可通过加热斜坡(ramps)、保温以及冷却斜坡的加热程序来影响。尤其在使尖晶石、假蓝宝石和堇青石晶相(或相应的混合晶体)分离的温度下，实施加热升温和保温。为确保恰好是那些晶相的优选分离，氧化物SiO2、MgO和Al2O3的比例是相当重要的。这些氧化物的比例优选为(以wt％计)：
SiO2/∑(SiO2，Al2O3，MgO)     0.48-0.62，更优选0.50-0.60
Al2O3/∑(SiO2，Al2O3，MgO)   0.185-0.355，更优选0.20-0.25
MgO/∑(SiO2，Al2O3，MgO3)     0.11-0.21，更优选0.16-0.21。
各晶相分离的温度以及相应的保温时间可由已知的分析方法(例如差热分析(DTA)或高温X-射线衍射(HT-XRD))确定。
根据本发明，在玻璃陶瓷中SiO2含量较低的情形下，通过所混入碱土的作用来促进起始玻璃的良好玻璃稳定性。在此情况下，优选以下述比例加入MgO、CaO、SrO和BaO：
MgO/(CaO+SrO+BaO)＞2-10，更优选＞3，最优选＞5。
B2O3以大于4wt％的比率加入，ZnO也属于助熔剂。碱土氧化物连同组分B2O3和ZnO(如果有的话)的比例产生如下效果：在玻璃陶瓷的残余玻璃相中，那些助熔剂中的至少一种(SrO)完全保留，而其余的至少保留一部分，从而用于稳定残余玻璃相以防止不需要的晶相如α-石英的分离。
ZnO含量优选为最大2wt％，因为更高比例的ZnO对于优选用于起始玻璃的形成工艺即在液体锡浴中的浮法工艺有负作用。已发现在此情况下，ZnO尤其倾向于蒸发并引起玻璃瑕疵，或在浮动单元的形成气氛中减少，从而与浮动浴的锡形成合金。基于相同原因，玻璃陶瓷中的起始玻璃优选应该不含氟化物、PbO、As2O3、Sb2O3和MoO3。尽管原则上可含有氧化钡，但优选不加入氧化钡，因为其对玻璃陶瓷的整体密度有很大影响，也因为由此它对于比弹性模量有相应的降低作用。
本发明玻璃陶瓷的耐高温范围为至少800℃、优选至少850℃、甚至更优选至少900℃，这依靠起始玻璃的组成和陶瓷化程序来实现。与产品相关的数值主要由晶相比例和在上述温度范围的残余玻璃的粘度决定。晶相比例可通过分离晶体的数量来控制，并因此取决于成核剂的含量。已发现，当成核剂(∑(P2O5、TiO2、ZrO2、SnO2、Ta2O5))的比例为0.01-20wt％、优选6-16.5wt％、更优选5-12wt％是有利的。TiO2含量不应超过7wt％，否则在陶瓷化工艺过程中会存在金红石晶相分离的风险。这是不希望发生的，因为这会损害玻璃陶瓷的透明性。另一方面，TiO2含量不应低于1wt％，否则核的数量不足以得到均一的紧密粒状结构，所需透明性需要大小优选为300nm的微晶。所用的另一种成核剂可以是Ta2O5，其提供了无染色效应的优点，即使它与其他元素(如Fe、Zn)结合也无染色效应。
SnO2除了作为成核剂之外，其自身还作为有用的尤其是浮动相容的精炼剂，由此SnO2含量可高达4wt％。另一种浮动相容的精炼剂是CeO2，其可替代SnO2或与SnO2一起使用。混合的硫酸盐/氯化物精炼剂同样是可行的，只要玻璃原材料分别以硫酸盐或氯化物部分地加入。总而言之，由此SnO2、CeO2、SO4 2-、Cl-的总和为0.01-4wt％。在一定程度上，SnO2、CeO2用作精炼剂，在此情形下，其总含量为优选0.1-1wt％、更优选0.2-0.5wt％。如果硫酸盐和氯化物用作精炼剂，硫酸根和氯离子加入比例分别高达2wt％。
实施例
实施例1-7汇总在表1和2中(数据涉及起始玻璃)。
玻璃陶瓷的各种起始玻璃材料在约1600℃下熔融(以超过约1h/kg配料混合物的速率引入对应于特定组成的各成分的氧化物、碳酸盐、硫酸盐、氯化物或氮化物的混合物)，然后在约2小时的沉淀和精炼时间后浇注。然后将该玻璃在Tg+10K温度下回火1小时，再以60K/h的速度慢慢冷却下来。
然后通过常规多段温度处理使起始玻璃转化为玻璃陶瓷。
例如，在实施例1中通过下述温度程序产生陶瓷化：
以5K/min加热至770℃，在770℃保温2小时，以5K/min加热至865℃，在865℃保温2小时，冷却至室温。
在此情况下分析出的晶相为：堇青石为主要相，TiZrO4和Mg/β-石英的混合晶体为次要相。
对于玻璃陶瓷，测定了以下性能：
    密度             2.693g/cm3
    弹性模量         98±3GPa
    E/ρ                            36.4MJ/kg
    CTE(30-300)      4.0×10-6/K
在实施例6和7中，按如下实施陶瓷化：
以5K/min加热至成核温度，保温4h；
以3K/h加热至900℃的晶体生长温度，保温1h；
以15K/h(0.25K/min)冷却至850℃；
以60K/h(1K/min)冷却至750℃；
冷却至室温。
对于玻璃陶瓷，测定了以下性能：
                    实施例6      实施例7
         密度       2.68g/cm3   2.68g/cm3
         弹性模量   120±3GPa    118±3GPa
         E/ρ                44.8MJ/kg    44MJ/kg
测定的晶相为：堇青石和Mg/β-石英的混合晶体为主要相，尖晶石为次要相。
剩余样品按如下陶瓷化：
在约Tg+(30至70K)的温度下成核；
保温60-240min；
在相应的结晶峰温度下生长晶体；
保温30-240min。
加热速率通常为1-15K/min、优选3-10K/min。
如前所述，成核和晶体生长的各自保持温度可以由已知方法如DTA曲线测定。
表1
    实施例编号             1             2             3
    mol％     wt％     mol％    wt％     mol％     wt％
    SiO2B2O3P2O5Al2O3TiO2Y2O3ZrO2MgOCaOSrOBaOZnOSnO2+CeO2     49.784.882.6312.674.252.7618.551.800.981.250.45     44.005.005.5019.005.005.0011.001.501.501.501.00     49.397.162.0512.571.53O.511.5320.923.071.020.25    44.937.554.4019.401.861.752.8612.772.641.260.58     53.196.1313.391.001.0022.361.920.790.22     49.286.5821.061.231.9013.904.550.990.51
    ∑     100.00     100.00     100.00    100.00     100.00     100.00
    Al2O3/(SiO2+Al2O3+MgO)SiO2/(SiO2+Al2O3+MgO)MgO/(SiO2+Al2O3+MgO)     0.25680.59460.1486    0.25160.58270.1656     0.25000.58500.1650
    MgO/(CaO+SrO+BaO)P2O5+TiO2+ZrO2+CeO2+SnO2                           3.666716.5000                          4.83719.7000                           3.05493.6400
    Tg(DTA)               725±3℃玻璃态密度            2.69g/cm3玻璃态E               102±3GPa玻璃态E/ρ                          37.9MJ/kgCTE(30-300)           3.98ppm/K     Tg(DTA)              718±3℃玻璃态密度           2.753g/cm3玻璃态E              104±3GPa玻璃态E/ρ                         37.8MJ/kgCTE(30-300)          4.64ppm/KK1C                 1±0.03Mpa1/2     Tg(DTA)               740±3℃玻璃态密度            2.652g/cm3玻璃态E               103±3GPa玻璃态E/ρ                          38.8MJ/kgCTE(30-300)           4.2ppm/K
表2
    实施例编号             4             5             6              7
    mol％     Wt％     mol％     Wt％     mol％     Wt％     mol％     Wt％
    SiO2B2O3P2O5Al2O3TiO2Y2O3ZrO2MgOCaOSrOBaOZnOSnO2+CeO2     54.904.2313.821.001.0023.080.970.780.22     51.714.6122.091.251.9214.582.331.000.51     55.104.230.4513.871.001.0023.160.9750.22     51.714.611.0022.091.251.9214.582.330.51     53.824.219.991.000.9928.030.970.770.22     52.824.7916.641.302.0018.462.421.040.53     54.854.2l0.4513.801.000.9923.051.430.22     51.714.611.OO22.091.251.9214.582.330.51
    ∑     100.00     100.00     100.00     100.00     100.00     100.00     100.00     100.00
    Al2O3/(SiO2+Al2O3+MgO)SiO2/(SiO2+Al2O3+MgO)MgO/(SiO2+Al2O3+MgO)     0.24990.58510.1650     0.24990.58510.1650     0.18930.60080.2100     O.2499O.5851O.1650
    MgO/(CaO+SrO+BaO)P2O5+TiO2+ZrO2+CeO2+SnO2                   6.25753.6800                   6.25754.6800                   7.62813.8300                   6.25754.6800
    Tg(DTA)       758±3℃玻璃态密度    2.635g/cm3玻璃态E       106±3GPa玻璃态E/ρ          40.2MJ/kgCTE(30-300)   ppm/K     Tg(DTA)       752±3℃玻璃态密度    2.651g/cm3玻璃态E       104±3GPa玻璃态E/ρ          39.2MJ/kgCTE(30-300)   ppm/K     Tg(DTA)       745±3℃玻璃态密度    2.615g/cm3玻璃态E       111±3GPa玻璃态E/ρ          42.4MJ/kgCTE(30-300)   ppm/K     Tg(DTA)       755±3℃玻璃态密度    2.614g/cm3玻璃态E       100±3GPa玻璃态E/ρ          38.2MJ/kgCTE(30-300)   ppm/K

Claims (40)

1.一种玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷包括下述组分(基于氧化物的重量百分比)：
            SiO2             35-60
            B2O3            ＞4-10
            P2O5            0-10
            Al2O3           16.5-40
            TiO2             1-10
            Ta2O5           0-8
            Y2O3            0-6
            ZrO2             1-10
            MgO                6-20
            CaO                0-10
            SrO                0-4
            BaO                0-8
            ZnO                0-4
            SnO2+CeO2       0-4
            SO4 2-+Cl-       0-4
其中，SnO2、CeO2、SO42-和Cl-的总含量∑(SnO2、CeO2、SO4 2-、Cl-)为0.01wt.％至4wt.％。
2.如权利要求1所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷包括下述组分(基于氧化物的重量百分比)：
            SiO2             39-55
            B2O3            ＞4-8
            P2O5            0-6
            Al2O3           16.5-32
            TiO2             1-＜7
            Ta2O5           0-5
            Y2O3            0-5
            ZrO2             1-6
            MgO               ＞8-20
            CaO               0-6
            SrO               0-2.5
            BaO               0-5
            ZnO               0-2
            SnO2+CeO2       0-4
            SO4 2-            0-2
            Cl-              0-2
3.如权利要求1或2所述的玻璃陶瓷，其中总含量∑(P2O5、TiO2、ZrO2、SnO2，Ta2O5)为0.01wt％至20wt％。
4.如权利要求3所述的玻璃陶瓷，其中总含量∑(P2O5、TiO2、ZrO2、CeO2、SnO2，Ta2O5)为3wt％至16.5wt％。
5.如权利要求4所述的玻璃陶瓷，其中总含量∑(P2O5、TiO2、ZrO2、CeO2、SnO2，Ta2O5)为5wt％至12wt％。
6.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率SiO2/∑(SiO2，Al2O3，MgO)为0.48-0.62。
7.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率SiO2/∑(SiO2，Al2O3，MgO)为0.50-0.60。
8.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率Al2O3/∑(SiO2，Al2O3，MgO)为0.185-0.355。
9.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率Al2O3/∑(SiO2，Al2O3，MgO)为0.20-0.25。
10.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率MgO/∑(SiO2，Al2O3，MgO)为0.11-0.21。
11.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率MgO/∑(SiO2，Al2O3，MgO)为0.16-0.21。
12.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率MgO/∑(CaO，SrO，BaO)为大于2且至多10。
13.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率MgO/∑(CaO，SrO，BaO)为大于3。
14.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中比率MgO/∑(CaO，SrO，BaO)为大于5。
15.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷基本上不包括碱金属氧化物。
16.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中碱金属氧化物的总含量∑(Li2O，Na2O，K2O，Rb2O，Cs2O)为至多0.5wt％。
17.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，除了偶然的杂质之外，该玻璃陶瓷不包含任何的Fe2O3、Cr2O3，Co2O3、CuO、NiO、V2O5、Ag2O、MoO3。
18.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，除了偶然的杂质之外，该玻璃陶瓷不包括任何的氟化物、PbO、As2O3和Sb2O3。
19.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，其中SnO2和CeO2的总含量∑(SnO2，CeO2)为至少0.1wt％且至多1.0wt％。
20.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷基本上不包括氧化钡。
21.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷通过对起始玻璃热处理而陶瓷化，并且该玻璃陶瓷包含作为主晶相的尖晶石、和/或假蓝宝石、和/或堇青石、和/或它们的混合晶体。
22.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷通过对起始玻璃热处理而陶瓷化，并且该玻璃陶瓷包括含有钇的晶相。
23.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷的比弹性模量为大于30MJ/kg、优选大于35MJ/kg、最优选大于42MJ/kg。
24.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷的弹性模量为大于100Gpa、优选大于110Gpa。
25.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷在30-300℃的温度范围内的热膨胀系数(CTE)为最大6×10-6/K、优选2-6×10-6/K。
26.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷在30-300℃的温度范围内的热膨胀系数(CTE)为小于等于4×10-6/K，优选小于等于3.7×10-6/K。
27.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷的耐热温度高达为最小700℃、优选高达为至少800℃。
28.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷具有包括碱土金属氧化物的残余玻璃相。
29.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷是光学透明的。
30.如前述权利要求中任一项所述的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷的起始玻璃由浮法形成。
31.一种半导体衬底，该衬底由前述权利要求中任一项的玻璃陶瓷组成。
32.一种硬盘存储器衬底，该衬底由权利要求1-30中任一项的玻璃陶瓷组成。
33.一种光学显示器，该光学显示器具有由权利要求1-30中任一项的玻璃陶瓷组成的透明衬底。
34.一种半导体器件，尤其是二极管或薄膜晶体管，其包括至少一种由权利要求1-30中任一项的玻璃陶瓷组成的衬底。
35.一种平面屏幕显示器，该显示器包括至少一种含有权利要求1-30中任一项的玻璃陶瓷的衬底。
36.一种光激半导体器件，具体是太阳能电池，其包括含有权利要求1-30中任一项的玻璃陶瓷的衬底。
37.一种制造玻璃陶瓷的方法，该方法包括在最初熔融起始玻璃的步骤，所述起始玻璃包括下列组分(基于氧化物的重量百分比)：
            SiO2          35-60
            B2O3         ＞4-10
            P2O5         0-10
            Al2O3        16.5-40
            TiO2          1-10
            Y2O3         0-6
            ZrO2          1-10
            MgO            6-20
            CaO            0-10
            SrO            0-4
            BaO            0-8
            ZnO            0-4
            SnO2+CeO2    0-4
            SO4 2-+Cl-    0-4
其中，SnO2、CeO2、SO4 2-和Cl-的总含量∑(SnO2、CeO2、SO4 2-、Cl-)为0.01wt.％至4wt.％，且其中随后对起始玻璃实施陶瓷化工艺。
38.如权利要求37所述的方法，其中起始玻璃被熔融并精炼，然后通过浮法玻璃法制成为板，此后对其实施陶瓷化工艺。
39.如权利要求37或38所述的方法，其中在陶瓷化过程中以如下方式控制温度处理，以形成尖晶石、和/或假蓝宝石、和/或堇青石、或它们的混合晶体的主要相。
40.如权利要求37-39中任一项所述的方法，其中在陶瓷化过程以如下方式控制温度处理，以形成含有钇的晶相。
CN200410083344XA 2003-09-30 2004-09-30 玻璃陶瓷及其制备方法 Expired - Fee Related CN1676484B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10346197.3 2003-09-30
DE10346197A DE10346197B4 (de) 2003-09-30 2003-09-30 Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1676484A true CN1676484A (zh) 2005-10-05
CN1676484B CN1676484B (zh) 2011-02-16

Family

ID=34306268

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200410083344XA Expired - Fee Related CN1676484B (zh) 2003-09-30 2004-09-30 玻璃陶瓷及其制备方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7300896B2 (zh)
EP (1) EP1520841A1 (zh)
JP (1) JP2005145813A (zh)
KR (1) KR100915286B1 (zh)
CN (1) CN1676484B (zh)
DE (1) DE10346197B4 (zh)
SG (1) SG110158A1 (zh)
TW (1) TW200530140A (zh)

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102060441A (zh) * 2010-11-12 2011-05-18 中国科学院理化技术研究所 Y3Al5O12荧光玻璃陶瓷及其制备方法
CN101356128B (zh) * 2005-12-07 2012-01-04 欧罗克拉公司 玻璃，玻璃-陶瓷，制品及制造方法
CN102372418A (zh) * 2010-07-08 2012-03-14 肖特公开股份有限公司 对表面损伤具有优异耐受性的玻璃及其生产方法
CN101421199B (zh) * 2006-04-11 2012-04-04 康宁股份有限公司 高热膨胀环硅酸盐玻璃-陶瓷
CN102775070A (zh) * 2012-08-21 2012-11-14 何德开 用铜锡金属尾矿制造微晶玻璃板材及其制备方法
CN102786765A (zh) * 2011-05-18 2012-11-21 阿德旺国际公司 医疗显示器用抗菌外壳
CN103298760A (zh) * 2010-11-04 2013-09-11 康宁股份有限公司 具有高可见光透射率的不含砷的尖晶石玻璃-陶瓷
CN104108955A (zh) * 2014-07-25 2014-10-22 冯翠兰 一种晶花陶瓷及其生产工艺
CN104445952A (zh) * 2014-11-14 2015-03-25 武汉理工大学 一种高硬度透明微晶玻璃及其制备方法
CN105236749A (zh) * 2015-09-15 2016-01-13 苏州亿馨源光电科技有限公司 一种微晶玻璃及其制备方法
CN101117270B (zh) * 2007-06-07 2016-03-02 河南安彩高科股份有限公司 高弹性模量的铝硼硅酸盐玻璃及其应用
CN106336120A (zh) * 2016-08-18 2017-01-18 温书强 一种钧瓷青蓝釉
CN106746693A (zh) * 2016-12-21 2017-05-31 江苏省冶金设计院有限公司 碳化硅纤维增韧堇青石微晶玻璃复相材料及其制备方法
CN106986546A (zh) * 2017-05-11 2017-07-28 长春理工大学 一种含Na3.6Y1.8(PO4)3晶相透明磷酸盐玻璃陶瓷及其制备方法
CN107777890A (zh) * 2017-10-26 2018-03-09 桂林加宏汽车修理有限公司 一种玻璃陶瓷
CN107840576A (zh) * 2017-10-26 2018-03-27 桂林加宏汽车修理有限公司 一种高弹性模量玻璃陶瓷
CN107935397A (zh) * 2016-10-13 2018-04-20 肖特股份有限公司 堇青石玻璃‑陶瓷、其生产方法及用途
CN108503214A (zh) * 2018-04-02 2018-09-07 武汉理工大学 一种高应变点无碱铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法
CN109796135A (zh) * 2019-04-04 2019-05-24 长春理工大学 一种透明双钼酸盐玻璃陶瓷及其制备方法
CN112851113A (zh) * 2019-11-27 2021-05-28 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物
CN114258387A (zh) * 2019-06-27 2022-03-29 康宁股份有限公司 玻璃陶瓷及其制造方法
CN114890676A (zh) * 2021-06-21 2022-08-12 桂林电子科技大学 一种高介电高储能微晶玻璃介质材料及其制备方法
CN117800606A (zh) * 2022-02-14 2024-04-02 康宁股份有限公司 包含具有Jeffbenite结晶结构的结晶相的前体玻璃和玻璃-陶瓷

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007517753A (ja) * 2004-01-05 2007-07-05 ショット アクチエンゲゼルシャフト ガラスセラミックの使用方法
DE202005004487U1 (de) * 2004-07-12 2005-11-24 Schott Ag System zur Hintergrundbeleuchtung von Displays oder Bildschirmen
CN101094816B (zh) 2004-12-30 2012-02-29 康宁股份有限公司 耐火材料
DE102005026269A1 (de) 2005-06-08 2006-12-14 Ivoclar Vivadent Ag Dentalglaskeramiken
KR20070005126A (ko) * 2005-07-05 2007-01-10 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
US7799713B2 (en) * 2005-11-04 2010-09-21 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
DE102005058759B4 (de) * 2005-12-05 2009-11-05 Schott Ag Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik und deren Verwendung
FR2902421B1 (fr) * 2005-12-07 2008-11-07 Snc Eurokera Soc En Nom Collec Vitroceramiques de b quartz et/ou de b spodumene, verres precurseurs, articles en lesdites vitroceramiques, elaboration desdits vitroceramiques et articles
EP1855324A1 (de) * 2006-05-12 2007-11-14 Applied Materials GmbH & Co. KG Substratträger aus glaskeramischen Material
JP4976058B2 (ja) * 2006-06-06 2012-07-18 株式会社オハラ 結晶化ガラスおよび結晶化ガラスの製造方法
US9434642B2 (en) * 2007-05-21 2016-09-06 Corning Incorporated Mechanically flexible and durable substrates
DE102007033338B4 (de) * 2007-07-16 2010-06-02 Schott Ag Hartstoffbeschichteter Glas- oder Glaskeramik-Artikel und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Glas- oder Glaskeramik-Artikels
EP2257989A2 (en) * 2008-03-25 2010-12-08 Corning Incorporated Substrates for photovoltaics
JP4559523B2 (ja) * 2009-02-24 2010-10-06 株式会社オハラ 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法
JP5757451B2 (ja) * 2009-03-18 2015-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
US20110048530A1 (en) * 2009-08-31 2011-03-03 Sasha Marjanovic Surface nucleated glasses for photovoltaic devices
WO2011106597A1 (en) 2010-02-25 2011-09-01 Corning Incorporated Making xenotime ceramics by reactive ceramming
DE102010023407B4 (de) 2010-06-11 2017-02-02 Schott Ag Glaskeramik-Gegenstand für die Herstellung von Photovoltaik-Elementen
DE102012202696B4 (de) 2012-02-22 2015-10-15 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Gläsern und Glaskeramiken, Glas und Glaskeramik und deren Verwendung
DE102012202695B4 (de) 2012-02-22 2015-10-22 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Gläsern und Glaskeramiken, LAS-Glas und LAS-Glaskeramiken und deren Verwendung
RU2498953C1 (ru) * 2012-04-11 2013-11-20 Общество с ограниченной ответственностью "Центр обслуживания и информации" Стеклокристаллический материал для свч-техники
JP2014008432A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Ngk Spark Plug Co Ltd セラミック多孔質膜並びにセラミックフィルタ及びその製造方法
CN104703939A (zh) * 2012-06-29 2015-06-10 康宁股份有限公司 用于半导体加工的玻璃陶瓷基材
US9604871B2 (en) 2012-11-08 2017-03-28 Corning Incorporated Durable glass ceramic cover glass for electronic devices
DE102013101731A1 (de) 2013-02-21 2014-09-04 Epcos Ag Drucksensorsystem
DE102013101732A1 (de) * 2013-02-21 2014-08-21 Epcos Ag Sensorsystem
DE102013108216B3 (de) * 2013-04-02 2014-08-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verwendung hochfester, transluzenter Mg-Hochquarzmischkristall-Glaskeramik für dentale Zwecke
CN104743887B (zh) 2014-09-22 2016-03-23 巨石集团有限公司 一种玻璃纤维组合物及其玻璃纤维和复合材料
DE102014219442A1 (de) 2014-09-25 2016-03-31 Schott Ag Porenfreie Keramikkomponente
ES2840674T3 (es) 2014-10-08 2021-07-07 Corning Inc Vitrocerámicas de alta resistencia que tienen estructuras de petalita y silicato de litio
CN111348835A (zh) * 2014-11-19 2020-06-30 成都光明光电股份有限公司 高硬度透明微晶玻璃及其制备方法
KR101686605B1 (ko) * 2014-12-29 2016-12-15 한국세라믹기술원 박막 태양전지용 세라믹 기판 조성물 및 기판의 제조방법
JP6675577B2 (ja) * 2015-02-04 2020-04-01 日本電気硝子株式会社 半導体ウエハ支持基板
US11192818B2 (en) 2017-11-30 2021-12-07 Corning Incorporated Ion exchangeable, transparent gahnite-spinel glass ceramics with high hardness and modulus
KR102104318B1 (ko) * 2018-04-24 2020-04-24 엘지전자 주식회사 항균 글라스 조성물 및 이의 제조방법
KR102657561B1 (ko) 2018-09-03 2024-04-16 삼성디스플레이 주식회사 유리 기판 및 유리 기판의 제조 방법
CN109265011A (zh) * 2018-10-29 2019-01-25 中南大学 一种镁铝硅体系玻璃和高结晶度透明微晶玻璃的制备方法
EP3887327A1 (en) 2018-11-30 2021-10-06 Corning Incorporated Ion exchangeable, opaque gahnite-spinel glass ceramics with high hardness and modulus
KR20210118434A (ko) 2019-01-28 2021-09-30 코닝 인코포레이티드 유리-세라믹 물품, 조성물, 및 이의 제조 방법
KR102256945B1 (ko) * 2020-05-14 2021-05-27 코닝 인코포레이티드 신규한 유리 및 유리-세라믹 조성물
US11731907B2 (en) 2020-08-04 2023-08-22 Applied Materials, Inc. Ceramic material with high thermal shock resistance and high erosion resistance
CN113735450B (zh) * 2021-09-09 2022-12-20 温州市康尔微晶器皿有限公司 透明高硬镁铝硅微晶玻璃及其制备方法
CN115925262A (zh) * 2022-12-30 2023-04-07 中国电子科技集团公司第十二研究所 玻璃陶瓷及其制备方法与静电卡盘

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL256854A (zh) * 1959-10-15
US3485644A (en) * 1965-11-12 1969-12-23 Anchor Hocking Corp High strength ceramic-like article containing alpha quartz as the major crystal phase
FR2529687B1 (fr) 1982-07-02 1985-09-13 Thomson Csf Mat Tel Dispositif de commutation optique
US5491116A (en) * 1995-04-03 1996-02-13 Corning Incorporated Fine-grained glass-ceramics
JPH09263424A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Nippon Electric Glass Co Ltd 結晶化ガラス及びその製造方法
US5968857A (en) * 1997-03-31 1999-10-19 Corning Incorporated Glass-ceramics
US6197429B1 (en) * 1998-02-26 2001-03-06 Corning Incorporated Method for making transparent glass-ceramics with high temperature dimensional stability
JP3022524B1 (ja) * 1998-02-26 2000-03-21 株式会社オハラ 情報磁気記憶媒体用高剛性ガラスセラミックス基板
US6344423B2 (en) * 1998-02-26 2002-02-05 Kabushiki Kaisha Ohara High rigidity glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium
EP0941973B1 (en) * 1998-03-13 2005-11-30 Hoya Corporation Crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
JP2000203880A (ja) * 1998-09-11 2000-07-25 Ohara Inc 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板及びその製造方法、並びに情報記憶媒体ディスク
DE19916296C1 (de) * 1999-04-12 2001-01-18 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
DE19917921C1 (de) * 1999-04-20 2000-06-29 Schott Glas Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung
SG97155A1 (en) 1999-07-07 2003-07-18 Hoya Corp Substrate for information recording medium and magnetic recording medium composed of crystallized glass
SG98415A1 (en) * 1999-07-07 2003-09-19 Hoya Corp Process for preparation of crystallized glass for information recording disk
JP2001026454A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP2001026456A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP4207316B2 (ja) * 1999-07-14 2009-01-14 コニカミノルタオプト株式会社 結晶化ガラス組成物
JP4265036B2 (ja) * 1999-07-14 2009-05-20 コニカミノルタオプト株式会社 結晶化ガラス組成物
JP2001076336A (ja) * 1999-09-08 2001-03-23 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板およびそれを用いた情報記録媒体

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101356128B (zh) * 2005-12-07 2012-01-04 欧罗克拉公司 玻璃，玻璃-陶瓷，制品及制造方法
CN101421199B (zh) * 2006-04-11 2012-04-04 康宁股份有限公司 高热膨胀环硅酸盐玻璃-陶瓷
CN101117270B (zh) * 2007-06-07 2016-03-02 河南安彩高科股份有限公司 高弹性模量的铝硼硅酸盐玻璃及其应用
CN102372418A (zh) * 2010-07-08 2012-03-14 肖特公开股份有限公司 对表面损伤具有优异耐受性的玻璃及其生产方法
CN103298760A (zh) * 2010-11-04 2013-09-11 康宁股份有限公司 具有高可见光透射率的不含砷的尖晶石玻璃-陶瓷
CN103298760B (zh) * 2010-11-04 2015-09-30 康宁股份有限公司 具有高可见光透射率的不含砷的尖晶石玻璃-陶瓷
CN102060441A (zh) * 2010-11-12 2011-05-18 中国科学院理化技术研究所 Y3Al5O12荧光玻璃陶瓷及其制备方法
CN102786765A (zh) * 2011-05-18 2012-11-21 阿德旺国际公司 医疗显示器用抗菌外壳
CN102786765B (zh) * 2011-05-18 2015-07-29 阿德旺国际公司 医疗显示器用抗菌外壳
CN102775070B (zh) * 2012-08-21 2015-09-02 何德开 用铜锡金属尾矿制造微晶玻璃板材及其制备方法
CN102775070A (zh) * 2012-08-21 2012-11-14 何德开 用铜锡金属尾矿制造微晶玻璃板材及其制备方法
CN104108955A (zh) * 2014-07-25 2014-10-22 冯翠兰 一种晶花陶瓷及其生产工艺
CN104445952B (zh) * 2014-11-14 2017-03-08 武汉理工大学 一种高硬度透明微晶玻璃及其制备方法
CN104445952A (zh) * 2014-11-14 2015-03-25 武汉理工大学 一种高硬度透明微晶玻璃及其制备方法
CN105236749A (zh) * 2015-09-15 2016-01-13 苏州亿馨源光电科技有限公司 一种微晶玻璃及其制备方法
CN106336120A (zh) * 2016-08-18 2017-01-18 温书强 一种钧瓷青蓝釉
CN107935397A (zh) * 2016-10-13 2018-04-20 肖特股份有限公司 堇青石玻璃‑陶瓷、其生产方法及用途
CN106746693A (zh) * 2016-12-21 2017-05-31 江苏省冶金设计院有限公司 碳化硅纤维增韧堇青石微晶玻璃复相材料及其制备方法
CN106986546A (zh) * 2017-05-11 2017-07-28 长春理工大学 一种含Na3.6Y1.8(PO4)3晶相透明磷酸盐玻璃陶瓷及其制备方法
CN106986546B (zh) * 2017-05-11 2019-05-07 长春理工大学 一种含Na3.6Y1.8(PO4)3晶相透明磷酸盐玻璃陶瓷及其制备方法
CN107840576A (zh) * 2017-10-26 2018-03-27 桂林加宏汽车修理有限公司 一种高弹性模量玻璃陶瓷
CN107777890A (zh) * 2017-10-26 2018-03-09 桂林加宏汽车修理有限公司 一种玻璃陶瓷
CN108503214A (zh) * 2018-04-02 2018-09-07 武汉理工大学 一种高应变点无碱铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法
CN109796135A (zh) * 2019-04-04 2019-05-24 长春理工大学 一种透明双钼酸盐玻璃陶瓷及其制备方法
CN114258387A (zh) * 2019-06-27 2022-03-29 康宁股份有限公司 玻璃陶瓷及其制造方法
CN112851113A (zh) * 2019-11-27 2021-05-28 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物
CN112851113B (zh) * 2019-11-27 2022-04-15 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物
CN114890676A (zh) * 2021-06-21 2022-08-12 桂林电子科技大学 一种高介电高储能微晶玻璃介质材料及其制备方法
CN114890676B (zh) * 2021-06-21 2023-07-07 桂林电子科技大学 一种高介电高储能微晶玻璃介质材料及其制备方法
CN117800606A (zh) * 2022-02-14 2024-04-02 康宁股份有限公司 包含具有Jeffbenite结晶结构的结晶相的前体玻璃和玻璃-陶瓷

Also Published As

Publication number Publication date
SG110158A1 (en) 2005-04-28
DE10346197B4 (de) 2006-02-16
TW200530140A (en) 2005-09-16
US20050096208A1 (en) 2005-05-05
US7300896B2 (en) 2007-11-27
KR20050031975A (ko) 2005-04-06
CN1676484B (zh) 2011-02-16
DE10346197A1 (de) 2005-04-28
EP1520841A1 (de) 2005-04-06
KR100915286B1 (ko) 2009-09-03
JP2005145813A (ja) 2005-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1676484A (zh) 玻璃陶瓷及其制备方法
US9061938B2 (en) Alkali-free glass
CN1294096C (zh) 低膨胀率的透明玻璃陶瓷,玻璃陶瓷基片和光波导元件
WO2013099855A1 (ja) 無アルカリガラス
JP4737709B2 (ja) ディスプレイ基板用ガラスの製造方法
JP5751439B2 (ja) 無アルカリガラス
JP5874316B2 (ja) 無アルカリガラス
KR101409707B1 (ko) 평판 디스플레이용 유리 기판 및 그의 제조 방법
JPH11335139A (ja) 高温寸法安定度を有する透明ガラスセラミックの製造方法
WO2020080163A1 (ja) 無アルカリガラス板
JP7389400B2 (ja) 無アルカリガラス板
JP5201519B2 (ja) ディスプレイ基板
CN1283574C (zh) 平面显示器用的基板玻璃
TWI853844B (zh) 無鹼玻璃板
JP5201542B2 (ja) ディスプレイ基板
JP5804846B2 (ja) カバーガラスの製造方法
WO2021256466A1 (ja) 無アルカリガラス板
WO2021261445A1 (ja) 無アルカリガラス板
JP2015051918A (ja) 無アルカリガラス

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110216