DE102013101732A1 - Sensorsystem - Google Patents

Sensorsystem Download PDF

Info

Publication number
DE102013101732A1
DE102013101732A1 DE102013101732.0A DE102013101732A DE102013101732A1 DE 102013101732 A1 DE102013101732 A1 DE 102013101732A1 DE 102013101732 A DE102013101732 A DE 102013101732A DE 102013101732 A1 DE102013101732 A1 DE 102013101732A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
sensor system
housing body
sensor
sensor chip
ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102013101732.0A
Other languages
English (en)
Inventor
Jan Ihle
Bernhard Ostrick
Wolfgang Schreiber-Prillwitz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Electronics AG
Original Assignee
Epcos AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Epcos AG filed Critical Epcos AG
Priority to DE102013101732.0A priority Critical patent/DE102013101732A1/de
Priority to US14/766,405 priority patent/US20160013112A1/en
Priority to EP13799504.9A priority patent/EP2959270A1/de
Priority to PCT/EP2013/074300 priority patent/WO2014127861A1/de
Priority to CN201380073579.8A priority patent/CN105008867A/zh
Priority to JP2015558362A priority patent/JP2016511401A/ja
Publication of DE102013101732A1 publication Critical patent/DE102013101732A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/291Oxides or nitrides or carbides, e.g. ceramics, glass
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D11/00Component parts of measuring arrangements not specially adapted for a specific variable
    • G01D11/24Housings ; Casings for instruments
    • G01D11/245Housings for sensors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0032Packages or encapsulation
    • B81B7/0045Packages or encapsulation for reducing stress inside of the package structure
    • B81B7/0048Packages or encapsulation for reducing stress inside of the package structure between the MEMS die and the substrate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00015Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
    • B81C1/00222Integrating an electronic processing unit with a micromechanical structure
    • B81C1/0023Packaging together an electronic processing unit die and a micromechanical structure die
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D11/00Component parts of measuring arrangements not specially adapted for a specific variable
    • G01D11/30Supports specially adapted for an instrument; Supports specially adapted for a set of instruments
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/01Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS
    • B81B2207/012Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS the micromechanical device and the control or processing electronics being separate parts in the same package
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/09Packages
    • B81B2207/091Arrangements for connecting external electrical signals to mechanical structures inside the package
    • B81B2207/097Interconnects arranged on the substrate or the lid, and covered by the package seal
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

Es wird ein Sensorsystem mit einem Sensorchip (1) angegeben, der auf einer Montageaufnahme (20) eines keramischen Gehäusekörpers (2) montiert ist, wobei der Gehäusekörper (2) dreidimensional ausgeformt und monolithisch ausgebildet ist und durch ein Keramikmaterial mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten gebildet wird, der in einem Temperaturbereich von größer oder gleich –40°C und kleiner oder gleich 150°C um weniger als 30% vom thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips (1) abweicht.

Description

  • Es wird ein Sensorsystem mit einem Sensorchip angegeben.
  • Ständig steigende Anforderungen an Sensorsysteme wie beispielsweise Beschleunigungssensoren, Drehratensensoren, Magnetsensoren und Drucksensoren hinsichtlich der Genauigkeit und Driftfreiheit sowie hinsichtlich der mechanischen Robustheit in Bezug auf Vibrationen und Schock erfordern eine besondere Abstimmung der sensitiven Elemente, der Signalverarbeitung und der Gehäusekomponenten, wobei letztere im Folgenden auch als „Packaging“ bezeichnet werden können. Gleichzeitig ist es erforderlich, dass solche Systeme durch eine kostengünstige Fertigung herstellbar sind und eine reduzierte Systemkomplexität aufweisen. Insbesondere stellt der thermomechanische Stress zwischen den Komponenten eine besondere Herausforderung dar.
  • Im Stand der Technik werden stresssensitive Sensorelemente üblicherweise nur einseitig mit dem Packaging fest verbunden und in einer Kavität verschlossen montiert. Die Befestigung erfolgt dabei üblicherweise durch einseitiges Verkleben oder Verlöten.
  • Für eine ausreichende mechanische Stabilität und zum Schutz des eigentlichen Sensors gegen äußere Einflüsse sowie zur Vermeidung von Korrosion durch aggressive Medien erfolgt der Einbau in einem Gehäuse, das üblicherweise aus Kunststoff oder aus einem Materialverbund mit Kunststoff, Keramik, Glas und/oder Metall besteht. Das Gehäuse kann beispielsweise als sogenanntes Cavity-Package ausgebildet sein, also als Gehäuse, das eine Montageplatte mit einer am Rand umlaufenden Seitenwand aufweist, die eine Kavität bilden. Für den elektrischen Anschluss sind Lötkontakte, Steckkontakte und/oder Leitungszuführungen in das Gehäuse integriert. Geeignete Abdichtungen solcher Systeme erfolgen unter Verwendung von Verschweißungen, Loten, Dichtungen, Vergussmaterialien und/oder Klebstoffen.
  • Stand der Technik sind übliche Gehäuse wie
    • – kunststoffumspritzte Stanzgittergehäuse mit mittels eines weichen Klebstoffs eingeklebten sensitiven Elementen und Bonddrahtkontaktierung,
    • – HTCC-Cavity-Packages (HTCC: „high temperature cofired ceramics“, Hochtemperatur-Mehrlagenkeramik) beispielsweise auf Basis von Aluminiumoxid mit weich eingeklebten sensitiven Elementen und Bonddrahtkontaktierung,
    • – HTCC-Cavity-Packages beispielsweise auf Basis von Aluminiumoxid mit auf den elektrischen Zuleitungen fest verbundenen sensitiven Elementen (Flip-Chip-Bump-Technologie),
    • – flache keramische Träger beispielsweise aus Aluminiumoxid mit oben aufliegenden sensitiven Elementen, wobei eine Kavität durch einen Deckel gebildet wird.
  • Es kann jedoch vorkommen, dass organische Klebeverbindungen zwischen den Sensorelementen und dem Packaging eine Schwachstelle in Bezug auf die Langzeitstabilität darstellen. Kunststoffgehäuse sind darüber hinaus inkompatibel zu alternativen Fügetechnologien wie beispielsweise Verschweißungen und Lötverbindungen. Deshalb bestehen die meisten Sensorsysteme im Stand der Technik aus Materialkombinationen, die wiederum zusätzliche Verbindungen erfordern und die Systeme sehr komplex gestalten.
  • Zumindest eine Aufgabe von bestimmten Ausführungsformen ist es, ein Sensorsystem mit einem Sensorchip in einem Gehäuse anzugeben.
  • Diese Aufgabe wird durch einen Gegenstand gemäß dem unabhängigen Patentanspruch gelöst. Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen des Gegenstands sind in den abhängigen Ansprüchen gekennzeichnet und gehen weiterhin aus der nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen hervor.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform wird ein Sensorsystem, insbesondere ein keramisches gekapseltes Sensorsystemen, bereitgestellt.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist ein Sensorsystem einen Sensorchip auf, der auf einer Montageaufnahme eines keramischen Gehäusekörpers montiert ist. Der Gehäusekörper ist aus einem Keramikmaterial hergestellt, das dreidimensional ausgeformt und monolithisch ausgebildet ist. Dreidimensional ausgeformt bedeutet hier und im Folgenden, dass der Gehäusekörper nicht durch einen flachen keramischen Träger gebildet wird, also beispielsweise durch ein Keramiksubstrat in Form einer Keramikplatte, sondern eine nicht-ebene dreidimensionale Oberflächentopographie auf der Montageseite aufweist, auf der der Sensorchip montiert ist. Insbesondere weist der Keramikkörper auf der Seite, auf der der Sensorchip aufgebracht ist, also auf der Seite mit der Montageaufnahme, eine dreidimensionale Oberflächenstruktur auf, in der beispielsweise die Montageaufnahme als Erhebung oder Vertiefung in einer Montagefläche ausgebildet ist. Monolithisch ausgebildet bedeutet hier und im Folgenden, dass der Gehäusekörper nicht aus einem Verbund mehrerer vorgefertigter Keramikteile hergestellt ist, sondern durch einen einzelnen einstückig ausgebildeten Keramikkörper gebildet wird, der in seiner dreidimensionalen Form an die Anforderungen des Sensorsystems angepasst ist. Das kann insbesondere auch bedeuten, dass der Gehäusekörper nicht nur mit einer Montageaufnahme für den Sensorchip, sondern auch mit einer oder mehreren weiteren Montageaufnahmen für weitere Sensorchips und/oder für andere elektronische Bauteile wie beispielsweise Signalverarbeitungschips und/oder mit mechanischen Befestigungsteilen, wie beispielsweise Erhebungen oder Vertiefungen in Form von Rastnasen oder Verankerungsstrukturen, ausgebildet ist.
  • Insbesondere ist der Gehäusekörper dasjenige Bauteil des Sensorsystems, auf dem der Sensorchip sowie gegebenenfalls weitere elektronische Komponenten wie beispielsweise eine Signalverarbeitungselektronik montiert sind. Montiert bedeutet hier und im Folgenden, dass der Sensorchip sowie gegebenenfalls weitere elektronische Komponenten direkt, das bedeutet jeweils mittels einem Verbindungsmaterial, auf entsprechend dafür vorgesehenen Montageaufnahmen des Gehäusekörpers befestigt sind. Der Gehäusekörper kann weiterhin das einzige Bauteil und insbesondere das einzige keramische Bauteil des Sensorsystems sein, auf dem die elektronischen und elektrischen Komponenten, also beispielsweise Chips, Schaltkreise und elektrische Anschlüsse, montiert bzw. aufgebracht sind.
  • Mit Hilfe geeigneter, weiter unten ausführlicher beschriebener Herstellverfahren für den Gehäusekörper wie beispielsweise der keramischen Spritzgusstechnologie oder der HTCC-Mehrlagentechnik können auch sehr komplexe, an Sensoranforderungen angepasste keramische Gehäusebauformen präzise und reproduzierbar mit einer hohen mechanischen Festigkeit hergestellt werden. Dadurch, dass der Gehäusekörper mit seiner dreidimensionalen Form monolithisch ausgebildet ist, kann weiterhin die Komplexität des Sensorsystems reduziert werden. Die Reduzierung der Systemkomplexität aufgrund der monolithischen Ausführung des Gehäusekörpers insbesondere auch durch eine Vereinigung mehrer Systemkomponenten in einem einzigen Bauteil, die im Stand der Technik üblicherweise zu einem Verbund zusammengefügt werden müssen, führt zusätzlich auch zu einer Material- und Kosteneinsparung.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Keramikmaterial des Gehäusekörpers einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf, der in einem Temperaturbereich von größer oder gleich –40°C und kleiner oder gleich 150°C um weniger als 30 % vom thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips abweicht. Mit anderen Worten ist der thermische Ausdehnungskoeffizient des keramischen Gehäusekörpers an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips angepasst. Insbesondere können die thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Gehäusekörpers und des Sensorchips auch in einem Temperaturbereich von größer oder gleich -50°C und kleiner oder gleich 200°C aneinander angepasst sein und um weniger als 30 % voneinander abweichen. Je kleiner der Unterschied zwischen den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Gehäusekörpers und des Sensorchips ist, desto geringere thermomechanische Spannungen können im Sensorsystem zwischen dem Sensorchip und dem keramischen Gehäusekörper auftreten. Darum kann es besonders vorteilhaft sein, wenn in einem der genannten Temperaturbereiche die thermischen Ausdehnungskoeffizienten um weniger als 20 % und bevorzugt um weniger als 10 % voneinander abweichen.
  • Das hier beschriebene Sensorsystem zeichnet sich somit insbesondere dadurch aus, dass der thermische Ausdehnungskoeffizient des Gehäusekörpers an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips angepasst ist. Durch eine geeignete Wahl des keramischen Werkstoffs für den das Packaging bildenden Gehäusekörper ist es möglich, durch Temperaturänderungen auftretenden thermomechanischen Stress zwischen dem Sensorchip und dem Gehäusekörper zu reduzieren.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Sensorchip ein auf Silizium basierender Sensorchip. Das bedeutet insbesondere, dass der Sensorchip als Grundmaterial Silizium aufweist, in und/oder auf dem funktionale Bereiche ausgebildet und/oder aufgebracht sind.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das Sensorsystem als sogenanntes MEMS-Sensorsystem (MEMS: „micro-electro-mechanical system“, mikroelektromechanisches System) ausgebildet. Beispielsweise ist das Sensorssystem als Beschleunigungssensor, Drehratensensor, Magnetsensor oder Drucksensor ausgebildet und weist einen hierfür eingerichteten Sensorchip auf, also beispielsweise einen Beschleunigungssensorchip, Drehratenchip, Drucksensorchip oder Magnetsensorchip. Ist das Sensorssystem als Magnetsensor ausgebildet, kann der Sensorchip insbesondere beispielsweise nach dem Prinzip des AMR-Effekts (AMR: „anisotropic magnetoresistance“, anisotroper magnetoresistiver Effekt), des GMR-Effekts (GMR: „giant magnetoresistance“, Riesenmagnetowiderstand) oder des TMR-Effekts („tunnel magnetoresistance“, magnetischer Tunnelwiderstand) arbeiten und hierzu eingerichtet sein.
  • Durch eine geeignete Wahl des keramischen Materials des Gehäusekörpers mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten, der im Bereich des Materials des Sensorchips, also insbesondere Silizium, liegt, lassen sich vorteilhafterweise thermisch induzierte mechanische Spannungen, die zu einer Verfälschung des Sensorsignals führen können, stark reduzieren oder sogar ganz vermeiden.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Keramikmaterial Mullit, also Aluminiumsilikat, auf. Weiterhin kann es auch möglich sein, dass das Keramikmaterial des Gehäusekörpers Aluminiumnitrid, Siliziumcarbid oder Siliziumnitrid aufweist. Der keramische Gehäusekörper kann auch eine Kombination der genannten Materialien aufweisen. Weiterhin kann der keramische Gehäusekörper auch aus einem oder mehreren der genannten Keramikmaterialien bestehen. Der Vorteil des hier beschriebenen Sensorsystems liegt in der monolithischen Ausführung des Gehäusekörpers mit einem geeigneten keramischen Material wie dem vorgenannten. Somit ist im Vergleich zum Stand der Technik eine wesentlich verbesserte thermomechanische Anpassung des Gehäusekörpers an den Sensorchip möglich.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist auf einer weiteren Montageaufnahme des Gehäusekörpers ein Signalverarbeitungschip montiert. Jede der Montageaufnahmen des keramischen Gehäusekörpers kann vertieft oder alternativ auch erhöht ausgeführt sein. Der Signalverarbeitungschip kann insbesondere dazu vorgesehen und derart ausgeführt sein, ein elektrisches Signal des Sensorchips zu detektieren und weiter zu verarbeiten, sodass über elektrische Anschlüsse des Sensorsystems ein Messsignal ausgegeben werden kann. Der Signalverarbeitungschip kann beispielsweise als integrierter Schaltkreis in Form eines einzelnen Chips oder auch in Form von mehreren elektronischen Komponenten, die beispielsweise in Dickschichttechnologie montiert sind, ausgebildet sein. Eine elektrische Verbindung zwischen dem Sensorchip und dem Signalverarbeitungschip kann durch Leiterbahnen auf dem und/oder in dem Gehäusekörper und/oder durch Bonddrahtverbindungen gegeben sein.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Sensorchip mittels eines flexiblen Verbindungsmaterials ganzflächig oder partiell direkt auf der Montageaufnahme des keramischen Gehäusekörpers montiert. Das flexible Verbindungsmaterial kann insbesondere durch einen Silikonklebstoff oder durch einen Klebefilm ohne Träger oder durch eine doppelseitige Klebefolie mit einem innen liegenden, also zwischen zwei Klebefilmen liegenden Träger gebildet werden.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der Sensorchip mittels eines starren Verbindungsmaterials direkt auf der Montageaufnahme des keramischen Gehäusekörpers montiert. Das starre Verbindungsmaterial kann beispielsweise durch einen Epoxidharzklebstoff oder besonders bevorzugt durch ein Glaslot oder ein metallisches Lot gebildet werden.
  • Besonders vorteilhaft erfolgt die Verbindung des Sensorchips zum keramischen Gehäusekörper über ein Glaslot oder ein Metalllot. Dadurch können Veränderungen des Sensorsignals und der mechanischen Verbindung zwischen dem Sensorchip und dem Gehäusekörper, wie sie durch das Alterungsverhalten von Polymeren hervorgerufen werden, vermieden werden. Eine Lotverbindung, insbesondere eine Glaslotverbindung, kann nur eingesetzt werden, wenn für den Sensorchip und den keramischen Gehäusekörper Materialien mit ähnlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten verwendet werden, im Falle eines Silizium basierten Sensorchips also für den Gehäusekörper Materialien wie bevorzugt Mullit oder auch Aluminiumnitrid, Siliziumnitrid oder Siliziumcarbid. Nur mit den dadurch erreichbaren sehr ähnlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Materialien lassen sich bei einer festen Verbindung wie einer Glaslotverbindung thermisch induzierte Verspannungen im Sensorchip, die sich auf das Sensorsignal auswirken könnten, vermeiden.
  • Zur Herstellung des keramischen Gehäusekörpers kann dessen dreidimensionale und monolithische Ausbildung mittels der keramischen Spritzgusstechnologie erfolgen. Mit dieser sind frei gestaltbare Geometrien des keramischen Gehäusekörpers möglich, beispielsweise zur Ausformung der integrierten einen oder mehreren Montageaufnahmen für den Sensorchip und gegebenenfalls für den Signalverarbeitungschip. Durch die anpassbare Gehäuseform mit den Kavitäten oder Erhebungen zur Aufnahme der Sensor- sowie Auswertechips können unterschiedliche Chips eingesetzt werden. Weiterhin ist auch eine Miniaturisierung des Sensorsystems möglich.
  • Bei der keramischen Spritzgusstechnologie wird ein keramisches Rohmaterial, ein sogenannter keramischer Feedstock, das ein strukturkeramisches Pulver, vorteilhafterweise Mullitpulver, Aluminiumnitridpulver, Siliziumnitridpulver oder Siliziumcarbidpulver, und ein organischen Bindemittel, aufweist oder daraus besteht, in eine entsprechende Form gespritzt. Ein derart hergestellter Grünkörper wird anschließend in einem Entbinderungsprozess, der zweistufig (wässrig, thermisch bzw. katalytisch) oder einstufig (nur thermisch) sein kann, weitgehend vom organischen Anteil befreit. Nachfolgend werden die entbinderten Körper gesintert.
  • Der Vorteil von keramischen Spritzgusskörpern liegt insbesondere in der sehr präzisen Ausführung der Gehäusedimensionen, die eine einfache und standardisierte Montage ohne zusätzliche Systemelemente bei gleichzeitig geringer Wärmedehnung, einer sehr hohen mechanischen und chemischen Robustheit sowie einer extremen Langzeitstabilität ermöglichen.
  • Alternativ kann die Herstellung des keramischen Gehäusekörpers in der dreidimensionalen und monolithischen Ausbildung über HTCC-Mehrlagentechnologie erfolgen. Die Strukturierung des Gehäuses beispielsweise für die Montageaufnahmen erfolgt dabei durch Stanzen von keramischen Folien, die zu einem keramischen Grünkörper zusammengefügt werden.
  • Ein über keramische Spritzgusstechnologie oder HTCC-Mehrlagentechnologie hergestellter keramischer Körper wird zur Ausbildung des fertigen keramischen Gehäusekörpers bei einem geeigneten Temperaturprofil und in einer geeigneten Atmosphäre gesintert, im Falle von Mullit je nach Reinheit bzw. Sinteradditivanteil beispielsweise bei 1500°C bis 1750°C und bevorzugt bei 1600°C bis 1750°C in Luft.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Sensorsystem elektrische Anschlüsse zum elektrischen Anschluss zumindest des Sensorchips auf. Weiterhin können die elektrischen Anschlüsse den externen Anschluss des Sensorsystems bilden.
  • Die elektrischen Anschlüsse können auf und/oder im keramischen Gehäusekörper ausgebildet sein und eines oder mehrere der folgenden Elemente aufweisen: Leiterbahnen, Verdrahtungsträger, metallische Vias, Bonddrähte.
  • Die elektrischen Anschlüsse können beispielsweise Leiterbahnen aufweisen oder daraus bestehen, die direkt auf dem keramischen Gehäusekörper mittels Metallisierungsverfahren wie beispielsweise Dick- oder Dünnschichttechnik aufgebracht sind. Vorteilhafterweise ist die Montageseite des Gehäusekörpers, auf der sich die Montageaufnahme für den Sensorchip befindet, bereichsweise ebenflächig ausgeführt, so dass mittels kostengünstiger Siebdrucktechnik oder Sputtertechnologie Leiterbahnen abgeschieden werden können. Weiterhin ist auch eine dreidimensionale Ausführung der Leiterbahnen beispielsweise mittels Tampondruck oder Dispensen möglich.
  • Weiterhin können Teile der elektrischen Anschlüsse durch das keramische Gehäuse in Form von Vias hindurchgeführt sein, um beidseitig angebrachte Leiterbahnen miteinander elektrisch zu verbinden.
  • Weiterhin können die elektrischen Anschlüsse einen Verdrahtungsträger aufweisen oder als ein solcher ausgeführt sein oder eine Kombination einer direkt aufgebrachten Dick- oder Dünnschichtmetallisierung mit einem Verdrahtungsträger aufweisen oder daraus bestehen. Der Verdrahtungsträger kann beispielsweise über Lötverbindungen von extern elektrisch kontaktiert werden.
  • Der Verdrahtungsträger kann eine starre oder flexible Leiterplatte, ein Stanzgitter („lead frame“) oder ein zumindest teilweise mit Kunststoff umhülltes Stanzgitter sein. Eine direkte Montage des Verdrahtungsträgers am keramischen Grundkörper kann beispielsweise durch Einrasten, Verpressen oder Klemmen in entsprechende Strukturen im Grundkörper erfolgen. Weiterhin kann auch eine Befestigung des Verdrahtungsträgers über direktes Löten, beispielsweise Weichlöten, Hartlöten, Glaslöten, Aktivlöten, oder Kleben auf den Grundkörper und/oder auf Leiterbahnen erfolgen.
  • Der Sensorchip kann an den elektrischen Anschlüssen und/oder an einem Signalverarbeitungschip beispielsweise mittels Bonddrähten oder durch eine direkte Montage auf Leiterbahnen elektrisch angeschlossen sein.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Sensorsystem einen Deckel auf, der auf dem Gehäusekörper über dem Sensorchip befestigt ist. Durch den Deckel kann die Montageseite des Gehäusekörpers, also die Seite mit dem Sensorchip, verschlossen bzw. verkapselt werden. Der Deckel kann beispielsweise Kunststoff, Metall oder ein Keramikmaterial aufweisen oder daraus sein.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist ein Verdrahtungsträger, der zumindest einen Teil der elektrischen Anschlüsse bilden kann, Aussparungen auf, durch die Teile des Gehäusekörpers und/oder des Deckels eingreifen oder hindurch greifen, um den Verdrahtungsträger zu arretieren bzw. zu befestigen.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist der Gehäusekörper Aussparungen auf, in die entsprechende Teile des Deckels und/oder eines Verdrahtungsträgers, der zumindest einen Teil der elektrischen Anschlüsse bildet, eingreifen oder hindurch greifen, so dass eine mechanische Arretierung zur Befestigung des Deckels und/oder des Verdrahtungsträgers gebildet wird.
  • Der Deckel kann alternativ auch auf dem Gehäusekörper aufgeklebt oder aufgelötet sein. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Sensorchip und/oder ein Signalverarbeitungschip zumindest teilweise mit einem Polymerverguss bedeckt. Insbesondere kann der Sensorchip mittels Bonddrahtverbindungen elektrisch kontaktiert sein, die mit dem Polymerverguss bedeckt sind. Insbesondere kann der Polymerverguss einen Schutz der bedeckten Teile und Komponenten gegenüber der Umgebung bilden. Hierzu kann der Polymerverguss eine Abdeckung bilden, die zumindest einen Teil einer Außenseite des Drucksensorsystems bildet. Alternativ hierzu kann der Polymerverguss auch unter einem Deckel angeordnet sein. Der Polymerverguss kann dabei zusätzlich oder alternativ auch Teile des Gehäusekörpers oder der elektrischen Anschlüsse bedecken. Der Polymerverguss kann weiterhin vom Deckel beabstandet angeordnet sein. Beispielsweise kann der Deckel eine Vertiefung aufweisen, in der der Sensorchip angeordnet ist, wobei der Polymerverguss in diesem Fall die Vertiefung des Deckels nicht ganz ausfüllt.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Sensorsystem eine Mehrzahl von Sensorchips auf Montageaufnahmen des keramischen Gehäusekörpers auf. Alternativ oder zusätzlich können auch mehrere Signalverarbeitungschips vorgesehen sein.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist das Sensorsystem die folgenden Komponenten auf:
    • – mindestens ein siliziumbasierter Sensorchip,
    • – ein keramischer Gehäusekörper, der in monolithischer Ausführung ausgebildet ist und der mindestens eine Montageaufnahme für den mindestens einen Sensorchip aufweist, wobei der mindestens eine Sensorchip direkt mit dem keramischen Gehäusekörper verbunden ist, und
    • – elektrische Anschlüsse.
  • In weiteren bevorzugten Ausführungsformen weist das Sensorsystem zusätzlich eines oder mehrere der folgenden Komponenten auf:
    • – mindestens ein Signalverarbeitungschip, der auf mindestens einer Montageaufnahme des Gehäusekörpers angeordnet ist und der bevorzugt direkt mit dem Gehäusekörper verbunden ist, und
    • – ein Deckel.
  • Weitere Vorteile, vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit den Figuren beschriebenen Ausführungsbeispielen.
  • Es zeigen:
  • 1 eine schematische Darstellung eines Sensorsystems gemäß einem Ausführungsbeispiel,
  • 2A bis 2G schematische Darstellungen von verschiedenen Ansichten eines Sensorsystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel und
  • 3A bis 3F schematische Darstellungen von verschiedenen Ansichten eines Sensorsystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel.
  • In den Ausführungsbeispielen und Figuren können gleiche, gleichartige oder gleich wirkende Elemente jeweils mit denselben Bezugszeichen versehen sein. Die dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente, wie zum Beispiel Schichten, Bauteile, Bauelemente und Bereiche, zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.
  • In 1 ist ein Sensorsystem gemäß einem Ausführungsbeispiel gezeigt, das einen Sensorchip 1 aufweist, der auf einer Montageaufnahme 20 eines keramischen Gehäusekörpers 2 montiert ist. Die Montageaufnahme 20 ist durch eine Vertiefung des Gehäusekörpers 2 auf einer Montageseite des Gehäusekörpers 2 gebildet. Alternativ dazu kann die Montageaufnahme 20 beispielsweise auch als Erhebung anstelle einer Vertiefung ausgebildet sein. Die Montage des Sensorchips 1 auf der Montageaufnahme 20 des keramischen Gehäusekörpers 2 erfolgt durch ein Verbindungsmaterial 3, sodass der Sensorchip 1 direkt auf dem Gehäusekörper 2 montiert ist.
  • Der Sensorchip 1 ist als siliziumbasierter Sensorchip ausgebildet, der beispielsweise zur Messung einer Beschleunigung, einer Drehrate, eines Drucks oder eines Magnetfelds vorgesehen und ausgebildet ist.
  • Der Gehäusekörper 2 ist dreidimensional ausgeformt und ist monolithisch ausgebildet. Insbesondere wird zur Herstellung des keramischen Gehäusekörpers 2 ein Grünkörper hergestellt, der bereits die Form des endgültigen Gehäusekörpers 2 aufweist und der in dieser Form je nach Material getrocknet und/oder entbindert sowie gesintert wird.
  • Die Herstellung des Gehäusekörpers 2 erfolgt besonders bevorzugt mittels keramischer Spritzgusstechnologie, wie im allgemeinen Teil beschrieben ist, wodurch frei gestaltbare Geometrien und beispielsweise eine gezielte Ausbildung der integrierten Montageaufnahme 20 für den Sensorchip 1 möglich ist. Die Form des Gehäusekörpers 2 gemäß der Darstellung in 1 ist rein exemplarisch zu verstehen und kann weitere geometrische Merkmale und Oberflächenstrukturen oder Formen aufweisen, die beispielsweise zur Aufnahme weiterer elektronischer Bauteile, elektrischer Kontakte, eines Deckels oder zur Montage des Sensorsystems vorgesehen sein können.
  • Alternativ zur keramischen Spritzgusstechnologie kann der keramische Gehäusekörper 2 beispielsweise auch mittels HTCC-Mehrlagentechnologie hergestellt werden. Eine Strukturierung des Gehäusekörpers, beispielsweise zur Herstellung der Montageaufnahme 20, erfolgt hierbei durch Stanzen von keramischen Folien, die anschließend zur Herstellung eines Grünkörpers verpresst und zur Fertigstellung des Gehäusekörpers 2 versintert werden.
  • Wird beispielsweise Mullit als Keramikmaterial für den keramischen Gehäusekörper 2 verwendet, kann der mittels Spritzgusstechnologie oder HTCC-Mehrlagentechnologie hergestellte Grünkörper je nach Reinheit und je nach Sinteradditivanteil beispielsweise in einem Temperaturbereich von 1500°C bis 1750°C in Luft gesintert werden.
  • Insbesondere weist der keramische Gehäusekörper 2 ein Keramikmaterial auf, das einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, der an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips 1 angepasst ist. Das bedeutet insbesondere, dass die thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips 1 und des Gehäusekörpers 2 um weniger als 30 %, bevorzugt um weniger als 20 % und besonders bevorzugt um weniger als 10 % voneinander abweichen. Insbesondere können die Ausdehnungskoeffizienten in einem Temperaturbereich von größer oder gleich -40°C und kleiner oder gleich 150°C und bevorzugt in einem Temperaturbereich von größer oder gleich –50°C und kleiner oder gleich 200°C aneinander angepasst sein. Hierdurch kann sichergestellt werden, dass bei typischen Betriebstemperaturen des Sensorsystems die thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips 1 und des Gehäusekörpers 2 möglichst wenig voneinander abweichen.
  • Als besonders vorteilhaft hat sich als Keramikmaterial für den keramischen Gehäusekörper 2 Mullit, also Aluminiumsilikat, erwiesen. Alternativ hierzu kann das Keramikmaterial des Gehäusekörpers 2 auch Aluminiumnitrid, Siliziumcarbid oder Siliziumnitrid aufweisen oder aus einem oder mehreren der genannten Keramikmaterialien bestehen. Durch eine geeignete Wahl des Keramikmaterials mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten, der im Bereich des Siliziums liegt, das als grundlegendes Chipmaterial des Sensorchips 1 verwendet wird, lassen sich vorteilhafterweise thermisch induzierte mechanische Spannungen, die zu einer Verfälschung des Sensorsignals führen könnten, deutlich reduzieren oder sogar ganz vermeiden. Durch die monolithische Ausführung des Gehäusekörpers 2, der im Vergleich zum Stand der Technik eine Vereinigung mehrerer Systemkomponenten in einem einzigen Bauteil darstellt, kann die Systemkomplexität des Sensorsystems deutlich reduziert werden, was im Vergleich zum Stand der Technik zu einer Material- und Kosteneinsparung führt.
  • Durch die Anpassung der thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips 1 und des Gehäusekörpers 2 aneinander kann besonders bevorzugt ein starres Verbindungsmaterial 3, beispielsweise ein Epoxidharzklebstoff, ein Glaslot oder ein metallisches Lot, verwendet werden. Besonders vorteilhaft ist die Verbindung des Sensorchips 1 zum keramischen Gehäusekörper 2 mittels eines Glaslots oder eines metallischen Lots. Derartige Verbindungsmaterialien weisen im Gegensatz zu Polymeren kein für diese typisches Alterungsverhalten auf, wodurch Veränderungen des Sensorsignals und der mechanischen Verbindung vermieden werden können. Da die thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips 1 und des Gehäusekörpers 2 aneinander angepasst sind, kann trotz einer festen direkten Verbindung zwischen dem Sensorchip 1 und dem Gehäusekörper 2 durch das Verbindungsmaterial 3 die Ausbildung thermisch induzierter Verspannungen im Sensorchip 1, die sich auf das Sensorsignal auswirken könnten, vermieden werden.
  • Insbesondere im Falle von einem keramischen Gehäusekörper 2, der mittels keramischer Spritzgusstechnologie hergestellt wird, kann eine sehr präzise Ausführung der Gehäusedimensionen erreicht werden. Hierdurch ist eine einfache und standardisierte Montage des Sensorchips 1 ohne zusätzliche Systemelemente möglich, während gleichzeitig eine geringe Wärmedehnung, eine sehr hohe mechanische und chemische Robustheit sowie eine extreme Langzeitstabilität erreicht werden kann.
  • In den folgenden Figuren sind weitere Ausführungsbeispiele für Sensorsysteme gezeigt, die Weiterbildungen und Modifikationen des Sensorsystems gemäß dem Ausführungsbeispiel in 1 zeigen. Die nachfolgende Beschreibung beschränkt sich daher hauptsächlich auf die Unterschiede zum bisher beschriebenen Ausführungsbeispiel.
  • In Verbindung mit den 2A bis 2G sind verschiedene Ansichten eines weiteren Ausführungsbeispiels für ein Sensorsystem gezeigt, das zusätzlich zum Sensorchip 1 auf dem Gehäusekörper 2 einen Signalverarbeitungschip 7 auf einer weiteren Montageaufnahme 20 des keramischen Gehäusekörpers 2 aufweist, wobei die Montageaufnahme 20 für den Sensorchip 1 und den Signalverarbeitungschip 7 jeweils durch Vertiefungen gebildet sind. Alternativ hierzu kann das Sensorsystem auch eine Mehrzahl von Sensorchips 1 und/oder von Signalverarbeitungschips 7 aufweisen. Der Sensorchip 1 und der Signalverarbeitungschip 7 sind jeweils mittels eines in den nachfolgenden Figuren der Übersichtlichkeit halber nicht gezeigten Verbindungsmaterials, wie in Verbindung mit der 1 und im allgemeinen Teil beschrieben ist, direkt auf dem Gehäusekörper 2 montiert.
  • Weiterhin weist das in Verbindung mit den 2A bis 2G gezeigte Sensorsystem elektrische Anschlüsse 4, einen Polymerverguss 5 sowie einen Deckel 6 auf.
  • Die 2A und 2B zeigen das Sensorsystem in einem mittels des Deckels 6 verschlossenen Zustand von der Ober- und der Unterseite, während die 2C eine Schnittdarstellung durch das Sensorsystem zeigt. In den 2D und 2E ist das Sensorsystem zur besseren Veranschaulichung mit geöffnetem Deckel 6 dargestellt, wobei in 2E zusätzlich der Polymerverguss 5 abgehoben ist. Die 2F zeigt eine Detailansicht eines derartig geöffneten Sensorsystems, während in 2G eine Explosionsdarstellung des Sensorsystems dargestellt ist.
  • Als elektrische Anschlüsse 4 weist das Sensorsystem Teile eines Verdrahtungsträgers 41, Leiterbahnen 42, Lotverbindungen 43 und Bonddrähte 44 auf. Über die elektrischen Anschlüsse 4 kann der Sensorchip 1 mit dem Signalverarbeitungschip 7 elektrisch leitend verbunden werden und es kann weiterhin ein externer elektrischer Anschluss des Sensorsystems bereitgestellt werden. Die Leiterbahnen 42 können beispielsweise auf dem keramischen Gehäusekörper 2 mittels Metallisierungsverfahren wie beispielsweise Dick- oder Dünnschichttechnik aufgebracht werden. Vorteilhafterweise ist die Montageseite des Gehäusekörpers 2 hierzu zumindest bereichsweise ebenflächig ausgeführt, sodass die Leiterbahnen 42 mittels kostengünstiger Siebdrucktechnik oder Sputtertechnologie abgeschieden werden können. Alternativ hierzu kann bei einer entsprechenden Oberflächentopographie des Gehäusekörpers 2 auch eine dreidimensionale Ausbildung von Leiterbahnen beispielsweise mittels Tampondruck oder Dispensen erfolgen.
  • Mittels den Bonddrähten 44 sind der Sensorchip 1 und der Signalverarbeitungschip 7 an Leiterbahnen 42 elektrisch angeschlossen. Zur externen Kontaktierung des Sensorsystems ist der Verdrahtungsträger 41 vorgesehen, dessen Teile mittels Lotverbindungen 43 auf entsprechenden Kontaktstellen der Leiterbahnen 42 aufgelötet sind und der aus dem mittels des Deckels 6 verschlossenen Gehäusekörpers 2 herausragt, sodass das Sensorsystem durch Verlöten der Verdrahtungsträgers 41 elektrisch angeschlossen werden kann. Der Verdrahtungsträger 41 kann beispielsweise eine starre oder flexible Leiterplatte, ein Stanzgitter, also ein so genanntes Leadframe, oder ein zumindest teilweise mit Kunststoff umhülltes Stanzgitter sein.
  • Alternativ zu einem Löten, beispielsweise Weichlöten, Hartlöten, Glaslöten oder Aktivlöten, mittels dem der Verdrahtungsträger 41 auf den Leiterbahnen 42 und weiterhin beispielsweise auch auf Teilen des Gehäusekörpers 2 befestigt werden kann, kann der Verdrahtungsträger 41 auch mittels Kleben befestigt werden. Weiterhin kann eine direkte Montage des Verdrahtungsträgers 41 am keramischen Gehäusekörper 2 mittels Einrasten, Verpressen oder Klemmen in entsprechende Strukturen des Keramikkörpers 2 erfolgen. Solche Strukturen können mit dem oben beschriebenen Verfahren zusammen mit den anderen dreidimensionalen Gehäusemerkmalen des Gehäusekörpers hergestellt werden. Beispielsweise ist es auch möglich, dass der Verdrahtungsträger 41 Aussparungen aufweist, durch die Teile des Keramikkörpers 2 und/oder des Deckels 6 hindurch greifen, um den Verdrahtungsträger 41 zu arretieren beziehungsweise zu befestigen.
  • Der Deckel 6 dient zum Verschluss der Montageseite des keramischen Grundkörpers 2, auf der der Sensorchip 1 angeordnet ist. Der Deckel 6 kann beispielsweise aus Kunststoff, Metall oder einer Keramik bestehen oder zumindest eines oder mehrere der genannten Materialien aufweisen. Im gezeigten Ausführungsbeispiel ist der Deckel 6 insbesondere aus einem Kunststoffmaterial hergestellt. Zur Befestigung des Deckels 6 auf dem Gehäusekörper 2 kann der Gehäusekörper 2 Aussparungen aufweisen, in die Teile des Deckels 6 eingreifen oder hindurch greifen, sodass eine mechanische Arretierung 71 des Deckels 6 auf dem Gehäusekörper 2 gebildet wird.
  • Der Deckel 6 weist eine Vertiefung auf, die sich über die Montageseite des Gehäusekörpers 2 erstreckt. In der Vertiefung des Deckels 6 ist zumindest auf Teilen des Sensorchips 1 und/oder der elektrischen Anschlüsse 4 und/oder des Signalverarbeitungschips 7 und/oder des Gehäusekörpers 2 ein Polymerverguss 5 angeordnet, der zum Schutz oder zur Stabilisierung der bedeckten Flächen oder Elemente dienen kann. Wie in 2C gezeigt ist, kann der Polymerverguss 5 dabei vom Deckel 6 beabstandet angeordnet sein, sodass die Vertiefung des Deckels 6 nicht gänzlich mit dem Polymer gefüllt ist. Insbesondere die Bonddrahtverbindungen können mit einem Polymer zur Stabilisierung dieser bedeckt sein.
  • Alternativ zum gezeigten Ausführungsbeispiel kann das Drucksensorsystem auch nur einen Polymerverguss 5 und keinen Deckel aufweisen. In diesem Fall kann der Polymerverguss 5 einen Schutz der bedeckten Teile und Komponenten gegenüber der Umgebung bilden. Hierzu kann der Polymerverguss 5 eine Abdeckung bilden, die zumindest einen Teil einer Außenseite des Drucksensorsystems bildet.
  • In Verbindung mit den 3A bis 3F ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für ein Sensorsystem gezeigt, das eine Modifikation des vorherigen Ausführungsbeispiels darstellt. In den 3A und 3B sind wiederum Ansichten der Ober- und der Unterseite des Sensorsystems gezeigt, während die 3C eine Schnittdarstellung durch das Sensorsystem ist. In 3D ist das Sensorsystem mit geöffnetem Deckel 6 gezeigt, während in 3E eine Detailansicht des geöffneten Sensorsystems mit entferntem Polymerverguss 5 gezeigt ist. 3F zeigt eine Explosionsdarstellung des Sensorsystems.
  • Im Vergleich zum vorherigen Ausführungsbeispiel weist das Sensorsystem gemäß dem Ausführungsbeispiel der 3A bis 3F einen Gehäusekörper 2 mit Montageaufnahmen 20 auf, die als Erhebungen ausgebildet sind. Auf den Montageaufnahmen 20 sind jeweils ein Sensorchip 1 und ein Signalverarbeitungschip 7 angeordnet, die über Bonddrähte 44 elektrisch miteinander kontaktiert sind. Zum Schutz der Bondverbindungen auf den Chips 1, 7 sind diese jeweils mit einem eigenen Polymerverguss 5 bedeckt. Die elektrischen Anschlüsse 4 weisen im Vergleich zum vorherigen Ausführungsbeispiel Teile eines Verdrahtungsträgers 41 sowie Leiterbahnen 42 auf der der Montageseite abgewandten Unterseite des Gehäusekörpers 2 auf. Eine elektrische Kontaktierung mit den Chips 1, 7 erfolgt über metallische Vias 45, die durch den Gehäusekörper 2 von der Unterseite zu den Montageaufnahmen 20 hindurch reichen.
  • Zur Befestigung des Deckels 6 auf dem Gehäusekörper 2 ist eine Dickschichtmetallisierung 72 auf dem Gehäusekörper 2 vorgesehen, die zum Verlöten des Deckels 6 mit dem Gehäusekörper 2 dient. Alternativ hierzu kann der Deckel 6 beispielsweise auch mittels eines Klebstoffs auf dem Gehäusekörper 2 befestigt werden.
  • Die in den Figuren gezeigten Ausführungsbeispiele des Sensorsystems sind nicht auf die gezeigten Merkmale beschränkt und können weitere oder alternative Merkmale gemäß den Ausführungsformen im allgemeinen Teil aufweisen.
  • Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Sensorchip
    2
    Gehäusekörper
    3
    Verbindungsmaterial
    4
    elektrischer Anschluss
    5
    Polymerverguss
    6
    Deckel
    7
    Signalverarbeitungschip
    20
    Montageaufnahme
    41
    Verdrahtungsträger
    42
    Leiterbahn
    43
    Lotverbindung
    44
    Bonddraht
    45
    Via
    71
    mechanische Arretierung
    72
    Dickschichtmetallisierung

Claims (15)

  1. Sensorsystem mit einem Sensorchip (1), der auf einer Montageaufnahme (20) eines keramischen Gehäusekörpers (2) montiert ist, wobei der Gehäusekörper (2) dreidimensional ausgeformt und monolithisch ausgebildet ist und durch ein Keramikmaterial mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten gebildet wird, der in einem Temperaturbereich von größer oder gleich –40°C und kleiner oder gleich 150°C um weniger als 30% vom thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Sensorchips (1) abweicht.
  2. Sensorsystem nach Anspruch 1, wobei der Sensorchip (1) auf Silizium basiert.
  3. Sensorsystem nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Keramikmaterial Mullit aufweist.
  4. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei das Keramikmaterial Aluminiumnitrid, Siliziumcarbid und/oder Siliziumnitrid aufweist.
  5. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Gehäusekörpers (2) und des Sensorchips (1) in einem Temperaturbereich von größer oder gleich –50°C und kleiner oder gleich 200°C um weniger als 30% voneinander abweichen.
  6. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die thermischen Ausdehnungskoeffizienten um weniger als 20% und bevorzugt um weniger als 10% voneinander abweichen.
  7. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die Montageaufnahme (20) durch eine Erhöhung oder eine Vertiefung des Gehäusekörpers (2) gebildet wird.
  8. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei auf einer weiteren Montageaufnahme (20) des Gehäusekörpers (2) ein Signalverarbeitungschip (7) montiert ist.
  9. Sensorsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Sensorchip (1) mittels eines starren Verbindungsmaterials (3) direkt auf der Montageaufnahme (20) montiert ist, das durch ein Glaslot, ein metallisches Lot oder einen Epoxidharzklebstoff gebildet wird.
  10. Sensorsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Sensorchip (1) mittels eines flexiblen Verbindungsmaterials (3) direkt auf der Montageaufnahme (20) montiert ist, das durch einen Silikonklebstoff gebildet wird.
  11. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der Gehäusekörper (2) mittels eines keramischen Spritzgussverfahrens oder mittels eines HTCC-Mehrlagenverfahrens dreidimensional ausgeformt und monolithisch ausgebildet ist.
  12. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei das Sensorsystem elektrische Anschlüsse (4) auf und/oder im Gehäusekörper (2) zum elektrischen Anschluss zumindest des Sensorchips (1) aufweist, die eines oder mehrere der folgenden Elemente aufweisen: Verdrahtungsträger (41), Leiterbahnen (42), Bonddrähte (44), metallische Vias (45).
  13. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der Sensorchip (1) mittels Bonddrahtverbindungen (44) elektrisch kontaktiert ist, die mit einem Polymerverguss (5) bedeckt sind.
  14. Sensorsystem nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei das Sensorsystem einen Deckel (6) aufweist, der auf dem Gehäusekörper (2) über dem Sensorchip (1) befestigt ist.
  15. Sensorsystem nach Anspruch 14, wobei der Deckel (6) auf dem Gehäusekörper (2) aufgeklebt, aufgelötet oder durch eine mechanische Arretierung (71) befestigt ist.
DE102013101732.0A 2013-02-21 2013-02-21 Sensorsystem Ceased DE102013101732A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013101732.0A DE102013101732A1 (de) 2013-02-21 2013-02-21 Sensorsystem
US14/766,405 US20160013112A1 (en) 2013-02-21 2013-11-20 Sensor System Comprising a Ceramic Housing
EP13799504.9A EP2959270A1 (de) 2013-02-21 2013-11-20 Sensorsystem mit keramischem gehäuse
PCT/EP2013/074300 WO2014127861A1 (de) 2013-02-21 2013-11-20 Sensorsystem mit keramischem gehäuse
CN201380073579.8A CN105008867A (zh) 2013-02-21 2013-11-20 具有陶瓷的壳体的传感器系统
JP2015558362A JP2016511401A (ja) 2013-02-21 2013-11-20 センサシステム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013101732.0A DE102013101732A1 (de) 2013-02-21 2013-02-21 Sensorsystem

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102013101732A1 true DE102013101732A1 (de) 2014-08-21

Family

ID=49713062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102013101732.0A Ceased DE102013101732A1 (de) 2013-02-21 2013-02-21 Sensorsystem

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20160013112A1 (de)
EP (1) EP2959270A1 (de)
JP (1) JP2016511401A (de)
CN (1) CN105008867A (de)
DE (1) DE102013101732A1 (de)
WO (1) WO2014127861A1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016120272A1 (de) * 2015-01-28 2016-08-04 Continental Teves Ag & Co. Ohg Sensor mit symmetrisch eingebetteten sensorelementen
CN107925166A (zh) * 2015-09-02 2018-04-17 高通股份有限公司 仰角辐射短接式半贴片天线
US10247585B2 (en) 2015-01-28 2019-04-02 Continental Teves Ag & Ohg Adapter with embedded filter components for sensors

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10534013B2 (en) * 2015-01-15 2020-01-14 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Sensor
US10529651B2 (en) * 2015-03-26 2020-01-07 Great Wall Semiconductor Corporation Co-packaged die on leadframe with common contact
WO2017104103A1 (ja) * 2015-12-17 2017-06-22 パナソニックIpマネジメント株式会社 接続構造体
US10119940B2 (en) * 2016-08-25 2018-11-06 The Boeing Company Acoustic emission sensor holder
CN107285274B (zh) * 2017-05-10 2019-03-01 中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所 一种微机械惯性传感器的三维封装方法
CN108364913A (zh) * 2018-04-25 2018-08-03 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 一种用于碳化硅功率器件的无引线封装结构和制备方法
IT201800020959A1 (it) * 2018-12-21 2020-06-21 Safecertifiedstructure Tecnologia S P A Dispositivo sensore per il monitoraggio di elementi strutturali, sistema di aggraffaggio, unità di indagine e metodo di produzione associato
JP7209254B2 (ja) * 2019-03-22 2023-01-20 パナソニックIpマネジメント株式会社 センサ装置
CN110466106A (zh) * 2019-08-08 2019-11-19 中国商用飞机有限责任公司北京民用飞机技术研究中心 一种传感器安装结构及传感器安装方法
CN111003683B (zh) * 2019-10-29 2023-07-25 武汉大学 一种SiC高温压力传感器及其封装方法
CN111115552B (zh) * 2019-12-13 2023-04-14 北京航天控制仪器研究所 一种mems传感器混合集成封装结构及封装方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5524423A (en) * 1978-08-10 1980-02-21 Nissan Motor Co Ltd Semiconductor pressure sensor
JPS5773980A (en) * 1980-10-28 1982-05-08 Toshiba Corp Semiconductor pressure converter
JPH05254923A (ja) * 1992-03-10 1993-10-05 Hitachi Ltd セラミック組成物及びセラミック回路基板
JPH06263531A (ja) * 1993-03-11 1994-09-20 Kyocera Corp ムライト−コージライト複合焼結体およびこれを用いた半導体装置用部材
JPH08233848A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体センサ
JP2000162067A (ja) * 1998-11-25 2000-06-16 Nippon Seiki Co Ltd 圧力検出器
JP2004101207A (ja) * 2002-09-04 2004-04-02 Kyocera Corp 圧力検出装置用パッケージ
US6768196B2 (en) * 2002-09-04 2004-07-27 Analog Devices, Inc. Packaged microchip with isolation
DE10346197B4 (de) * 2003-09-30 2006-02-16 Schott Ag Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung
DE10351196B4 (de) * 2003-10-28 2016-08-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verwendung einer anodisch mit Silizium bondbaren Glas-Keramik (LTCC)
US7164572B1 (en) * 2005-09-15 2007-01-16 Medtronic, Inc. Multi-path, mono-polar co-fired hermetic electrical feedthroughs and methods of fabrication therfor
EP1837303A1 (de) * 2006-03-24 2007-09-26 Infineon Technologies SensoNor AS Integrierter Sockel für eine MEMS-Struktur
EP2056087A4 (de) * 2006-10-02 2011-11-30 Panasonic Elec Works Co Ltd Drucksensor
JP2008089412A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Matsushita Electric Works Ltd 圧力センサ
US7836764B2 (en) * 2007-04-02 2010-11-23 Infineon Technologies Ag Electrical device with covering
JP2009031005A (ja) * 2007-07-24 2009-02-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 半導体圧力センサ
JP5175650B2 (ja) * 2008-08-06 2013-04-03 ニッコー株式会社 陽極接合可能な磁器及び前記磁器用組成物
HUE035758T2 (en) * 2009-04-03 2018-05-28 Sumitomo Metal Smi Electronics Devices Inc Sintered ceramic and substrate containing semiconductor material
JPWO2011018973A1 (ja) * 2009-08-11 2013-01-17 アルプス電気株式会社 Memsセンサパッケージ
JP5525227B2 (ja) * 2009-10-13 2014-06-18 ホシデン株式会社 基板モジュール
WO2011104860A1 (ja) * 2010-02-26 2011-09-01 ナブテスコ株式会社 圧力センサモジュールおよび圧力検出装置
JP2012047451A (ja) * 2010-08-24 2012-03-08 Alps Electric Co Ltd 物理量センサ装置
DE102011003481A1 (de) * 2011-02-02 2012-08-02 Robert Bosch Gmbh Elektronisches Bauteil umfassend einen keramischen träger und Verwendung eines keramischen Trägers
JP5665197B2 (ja) * 2012-03-12 2015-02-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 圧力センサ

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016120272A1 (de) * 2015-01-28 2016-08-04 Continental Teves Ag & Co. Ohg Sensor mit symmetrisch eingebetteten sensorelementen
CN107209033A (zh) * 2015-01-28 2017-09-26 大陆-特韦斯股份有限公司 具有对称掩埋的传感器元件的传感器
US10247585B2 (en) 2015-01-28 2019-04-02 Continental Teves Ag & Ohg Adapter with embedded filter components for sensors
US10451646B2 (en) 2015-01-28 2019-10-22 Continental Teves Ag & Co. Ohg Sensor with symmetrically embedded sensor elements
CN107209033B (zh) * 2015-01-28 2019-11-12 大陆-特韦斯股份有限公司 具有对称掩埋的传感器元件的传感器
CN107925166A (zh) * 2015-09-02 2018-04-17 高通股份有限公司 仰角辐射短接式半贴片天线
CN107925166B (zh) * 2015-09-02 2020-09-25 高通股份有限公司 仰角辐射短接式半贴片天线

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016511401A (ja) 2016-04-14
EP2959270A1 (de) 2015-12-30
US20160013112A1 (en) 2016-01-14
CN105008867A (zh) 2015-10-28
WO2014127861A1 (de) 2014-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102013101732A1 (de) Sensorsystem
DE102013101731A1 (de) Drucksensorsystem
DE102005053765B4 (de) MEMS-Package und Verfahren zur Herstellung
DE102010006132B4 (de) Miniaturisiertes elektrisches Bauelement mit einem Stapel aus einem MEMS und einem ASIC
US20120181639A1 (en) Component and method for the manufacture thereof
DE10246283B3 (de) Verfahren zur Herstellung von Kanälen und Kavitäten in Halbleitergehäusen und elektronisches Bauteil mit derartigen Kanälen und Kavitäten
WO2007020132A1 (de) Sensoranordnung mit einem substrat und mit einem gehäuse und verfahren zur herstellung einer sensoranordnung
DE102009038706A1 (de) Sensorbauelement
US9885626B2 (en) Micromechanical sensor system and corresponding manufacturing method
EP3140245B1 (de) Sensorbauelement mit zwei sensorfunktionen
WO2013117772A1 (de) Zweistufig gemoldeter sensor
WO2019016320A1 (de) Drucksensoranordnung und verfahren zu deren herstellung
DE19948613A1 (de) Elektromechanisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung desselben
WO2008034663A1 (de) Sensoranordnung mit einem substrat und mit einem gehäuse und verfahren zur herstellung einer sensoranordnung
DE102017218893A1 (de) Sensoranordnung zur Bestimmung wenigstens eines Parameters eines durch einen Messkanal strömenden fluiden Mediums
DE102005063640B3 (de) MEMS-Package und Verfahren zur Herstellung
DE19826426C2 (de) Miniaturisiertes elektronisches System und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102007057902A1 (de) Sensormodul und Verfahren zu seiner Herstellung
EP2886510B1 (de) Verfahren zum Herstellen eines elektronischen Bauteils, bei dem ein Sensor-Element von dem Grundmaterial schwingungs- und thermomechanisch entkoppelt ist, sowie elektronisches Bauteil
WO2013178379A1 (de) Elektronikmodul sowie verfahren zur herstellung eines solchen elektronikmoduls, sowie elektronisches steuergerät mit einem solchen elektronikmodul
DE102016205793A1 (de) Mikromechanisches System
DE102020108242A1 (de) Montageträger für MEMS Baugruppen
DE102012200648B4 (de) Sensorvorrichtung
WO2021032878A1 (de) Sensorbauteil, halbzeug, verfahren zur anbringung und zur herstellung eines sensorbauteils
WO2017220319A1 (de) Anordnung mit einem träger und einem gehäusekörper, und verfahren zum herstellen einer anordnung mit einem bauelement

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: H01L0023500000

Ipc: H01L0023150000

R083 Amendment of/additions to inventor(s)
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: TDK ELECTRONICS AG, DE

Free format text: FORMER OWNER: EPCOS AG, 81669 MUENCHEN, DE

R082 Change of representative

Representative=s name: EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHA, DE

R016 Response to examination communication
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final