CN1582094A - 图形的形成方法以及布线图形的形成方法、电光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够通过简易并且低成本的装置构成对薄膜进行图形化的图形的形成方法，在含有将光能变换为热能的光热变换材料的基材(1)上设置薄膜(2)，对基材(1)照射光，通过除去对应于光照射的照射区域的薄膜(2)，对该薄膜(2)进行图形化。

Description

图形的形成方法以及布线图形的形成方法、电光装置
技术领域
本发明涉及一种在基材上形成薄膜图形的图形形成方法以及使用该薄膜图形的布线图形的形成方法、电光装置以及电子机器。
背景技术
以前，多将光刻法用作半导体集成电路等具有细微布线图形的器件的制造方法，但使用液滴喷出法(喷墨法)的器件的制造方法被注目。提出了在使用液滴喷出法形成微细布线图形的时候，为了提高图形线宽的精度，预先在基材上图形化疏液区域和亲液区域，将液滴选择性地配置在亲液区域上的方法。在下述专利文献1中公开了利用化学气相蒸镀法对设置在基板上的单分子膜进行图形化的技术。
专利文献1：特开2000-282240号公报
但是，在上述以往技术中存在以下所述问题。上述专利文献1公开的技术，是通过照射紫外线或电子束从基板上除去单分子膜而进行图形化的技术，其需要高价并且大规模的装置。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种通过简易并且低成本的装置结构可以对薄膜进行图形化的图形形成方法。进而目的在于提供使用该薄膜形成布线图形的布线图形形成方法、具有该布线图形的电光装置以及电子机器。
为了解决上述问题，本发明的图形形成方法，其特征在于，在含有将光能转化为热能的光热变换材料的基材上设置薄膜，对前述基材照射光，除去对应于照射区域的前述基材上的前述薄膜，从而对该薄膜进行图形化。此处，前述薄膜可以由有机薄膜、单分子膜以及含有光引发剂的单体中任一种构成。根据本发明通过在基材上设置光热变换材料，可以有效地将照射的光的光能变换为热能，从而将该热能供给薄膜。因此，即使不用以往的电子束或紫外线也可以获得用于除去薄膜的充分的热能。因此，使用的光照射装置的选择范围变宽，即使不用高价大规模的光照射装置，可以很好地以充分的热能从基材上将薄膜除去，从而进行图形化。
在本发明的图形形成方法中，含有所述光热变换材料的光热变换层，也可以采用与前述基材和前述薄膜相互独立设置的构成，也可以采用在前述基材上混在前光热变换材料的构成，无论是哪一种构成，都能够将照射的光的光能变换为热能，并将该热能供给薄膜。在独立设置光热变换层时，前述光热变换层可以采用设置在前述基材的设置有前述薄膜的一面侧的构成，也可以采用设置在前述基材的没有设置前述薄膜的一面侧上的构成。在将前述的光热变换层设置在所述基材的设置有前述薄膜的一面侧时，尤其是通过将光热变换层设置在所述基材和所述薄膜之间使该薄膜对外部呈开放状态(露出状态)，可以在外部顺利地放出薄膜。
在本发明的图形形成方法中，可以采用从所述基材的设置有所述薄膜的一面侧照射所述光的构成，也可以采用从所述基材的没有设置所述薄膜的一面侧照射所述光的构成。在从一面侧照射光时，由于可以不夹持基材对薄膜或光热变换层照射光，因此可以避免基于夹持基材的光的折射或散射而引起的光照射位置的摇动等的发生，从而可以在所需的位置照射光并以所需的图形对薄膜进行图形化。另外，在从另一面侧照射光时，通过在基材与薄膜之间设置光热变换层，可以经由基材直接对光热变换层照射光，有效地将光能变换为热能，从而将该热能供给薄膜。此时，赋予热能的薄膜的部分可以顺利地放出外部。
另外，在本发明的图形形成方法中，可以根据所述薄膜确定从所述一面侧还是从另一面侧照射所述光。例如对于照射的光的波长薄膜是吸收该波长的光的材料时，在薄膜的下层侧设置有光热变换层的情况下，一旦从薄膜的上层侧直接对薄膜照射光，则该光被薄膜吸收有可能产生不能达到下层侧的光热变换层的情况。
因此在这种情况下可以决定从薄膜的下层侧(基材的背面侧)照射光。
在本发明的图形的形成方法中，其特征在于，所述光是激光，照射具有对应于所述光热变换材料的波长的光。由此，可以有效地将照射在光热变换材料上的光能变换为热能。尤其通过作为光而采用红外线激光，可以构成比较廉价的装置构成。
在本发明的图形的形成方法中，可以借助具有规定的图形的掩模对所述基材照射所述光。由此，可以形成照射的光的光束径以下的微细的薄膜图形。另一方面，可以相对于所述光边使所述基材相对移动边进行照射，即，可以使照射的光(激光)与基材相对移动进行薄膜图形的描绘，根据该构成可以省略制造掩模的工序。
本发明的布线图形形成方法，其特征在于，在具有通过上述的图形形成方法形成的薄膜图形的所述基材上配置含有布线图形形成用材料的液滴，形成布线图形。根据本发明，可以基于液滴喷出法一面抑制消耗的材料的浪费一面良好地形成微细的布线图形。
本发明的电光装置，其特征在于，具有通过上述的布线图形的形成方法形成的布线图形。另外，本发明的电子机器，其特征在于，具有上述的电光装置。根据本发明，可以提供具有基于液滴喷出法形成的微细布线图形并能够发挥所需性能的电光装置以及具有该电光装置的电子机器。此外，作为电光装置可以举出液晶显示装置、有机EL(电致发光)显示装置以及等离子体显示装置等。
另外，使用通过本发明的图形形成方法形成的薄膜图形，可以形成滤色器、液晶显示装置、有机EL装置、等离子体显示装置、微型透镜以及DNA芯片等的各构成要素。
上述的液滴喷出方法可以使用具有喷出头的液滴喷出装置来实现，该液滴喷出装置包括备有喷墨头的喷墨装置。喷墨装置的喷墨头可以通过喷墨法定量喷出含有功能液的液状材料的液滴，例如是在每一点断续定量喷出1～300ng的液状材料的装置。此外，作为液滴喷出装置也可以是分配器装置。
作为液状材料，是指具有能够从液滴喷出装置的喷出头的喷嘴喷出(能够滴下)的粘度的介质。可以是水性的也可以是油性的。只要具有能够从喷嘴等喷出的流动性(粘度)就可以，即使有固体物质混入，但是作为整体是流动体即可。另外，液状材料中所含的材料可以是加热到熔点以上而溶解的材料，也可以是在溶剂中作为微粒被搅拌的材料，也可以是除溶剂外还添加染料或颜料等其它的功能性材料的材料。
另外，所谓上述功能液，是含有功能性材料的液状材料，通过在基材上配置可以发挥所定的功能。作为功能性材料，可以举出用于形成含有滤色器的液晶显示装置的液晶显示装置形成用材料、用于形成有机EL(电致发光)显示装置显示装置的有机EL显示装置形成用材料、用于形成等离子体显示装置的等离子体显示装置形成用材料、以及含有用于形成流通电流的布线图形的金属的布线图形形成用材料等。
附图说明
图1是表示本发明的图形形成方法中使用的图形形成装置的一实施方式的简要构成图。
图2是表示本发明的图形形成方法的一实施方式的模式图。
图3是表示本发明的图形形成方法的另一实施方式的模式图。
图4是表示本发明的图形形成方法的又一实施方式的模式图。
图5是表示本发明的一例薄膜的形成步骤的模式图。
图6是表示本发明的图形形成方法中使用的图形形成装置的另一实施方式的简要构成图。
图7是表示本发明的布线图形形成方法的一实施方式的模式图。
图8是表示本发明的布线图形形成方法中使用的喷出头的简要构成图。
图9是表示具有通过本发明的布线图形形成方法形成的布线图形的一例电光装置的等离子显示器的分解立体图。
图10是表示使用通过本发明的图形形成方法形成的薄膜制造的一例电光装置的图，是表示液晶显示装置的滤色器的制造工序的一例的图。
图11是表示使用通过本发明的图形形成方法形成的薄膜制造的一例电光装置的图，是表示有机EL显示装置的侧剖视图。
图12是表示具有本发明的电光装置的一例电子机器的图。
图13是表示使用本发明的薄膜图形形成微型透镜的步骤的模式图。
图14是表示使用本发明的薄膜图形形成的DNA芯片的一实施方式的模式图。
图中：1基材，2薄膜(单分子膜)，3除去区域，4光热变换层，11光源，15掩模，20喷出头。
具体实施方式
[薄膜图形的形成方法]
下面，参照附图来说明本发明的图形形成方法。图1是表示本发明的薄膜图形形成方法中所用的图形形成装置的一实施方式的示意构成图。在图1中，图形形成装置10备有射出具有所定波长的激光光束的激光光源11以及支撑作为处理对象的基材1的载物台12。在基材1的上面设置有光热变换层4，在该光热变换层4的上层设置有薄膜2。在本实施方式中，作为激光光源11使用近红外半导体激光器(波长830nm)。
此处，在以下的说明中，将水平面内的所定方向设为X轴方向，将水平面内的与X轴方向垂直的方向设为Y轴方向，与X轴以及Y轴都垂直的方向(铅直方向)设为Z轴方向。
载物台12设置为在支撑基材1的状态下能够向X轴方向以及Y轴方向移动，基材1能够通过载物台12的移动而相对于从光源11射出的光束移动。另外，载物台12在Z轴方向也可以移动。此处，在光源11与支撑在载物台12上的基材1之间配置未图示的光学系统。
通过使支撑基材1的载物台12向Z轴方向移动，可以调整相对于所述光学系统的焦点的基材1的位置。并且，从光源11射出的光束能够照射支撑在载物台12上的基材1(薄膜2以及光热变换层4)。
作为基材1例如可以使用玻璃基板或透明性高分子等。作为透明性高分子，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯式的聚酯、聚丙烯酸、聚环氧、聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜等。在由透明性高分子形成基材1时，其厚度优选为10～500μm。由此，例如可以将基材1形成为带状而卷曲成辊状，也可以以保持在转鼓中的状态下进行搬送(移动)。
另外，使基材1支撑在可以在XY方向并进移动的载物台12上，在使基材1保持在转鼓中时，转鼓可以在水平并进方向(扫描方向、X方向)、旋转方向(Y方向)、以及铅直方向(Z轴方向)移动。
光热变换层4与基材1以及薄膜2分别独立地设置，在本实施方式中，设置在基材1的设置有薄膜2的表面侧，具体地说设置在基材1与薄膜2之间。光热变换层4是含有将光能变换为热能的光热变换材料的层。作为构成光热变换层4的光热变换材料可以使用公知的材料，只要是可以有效地将激光变换为热的材料，就没有限定，例如可以举出由铝、其氧化物和/或其硫化物构成的金属层；由添加有碳黑、石墨或红外线吸收色素等的高分子构成的有机层等。作为红外线吸收色素可以举出蒽醌系、二硫代镍配位体系、花青系、偶氮钴配位化合物系、二铵系(diiminium)、squalirium系、酞箐系、萘菁系等。另外，也可以将环氧树脂等的合成树脂作为粘接剂，在该粘接剂树脂中溶解或分散所述光热变换材料，从而设置在基材1上。此外，当然也可以不溶解或分散在粘接剂中，而将所述光热变换材料设置在基材1上。
作为光热变换层4使用所述金属层时，可以利用真空蒸镀法、电子束蒸镀法或溅射法在基材1上形成。作为光热变换层4使用所述有机层时，可以通过普通的薄膜涂敷法例如挤压涂敷法、旋涂法、照相凹版涂敷法、逆转辊涂敷法、棒涂法、微照相凹版涂敷法、刮板涂敷法等在基材1上形成。
薄膜2由有机薄膜构成，在光热变换层4(基材1)上例如可以通过化学气相蒸镀法、浸渍法、蒸镀法、旋转浇铸法、化学吸附法、自组织膜形成法等形成。在本实施方式中，有机薄膜2通过由氟代烷基硅烷(FAS)构成的单分子膜构成。此外，作为形成单分子膜的材料，例如可以举出在表面活性剂中使用的十八烷基胺等。
此外，作为薄膜2的形成方法，例如可以通过普通的薄膜涂敷法例如挤压涂敷法、旋涂法、照相凹版涂敷法、逆转辊涂敷法、棒涂法、微照相凹版涂敷法等在光热变换层4(基材1)上形成。此时在薄膜2的涂敷方法中，优选除去基材1的表面上带有的静电而在基材1上均匀地形成薄膜形成用功能液，优选在各方法中使用的装置上安装除电装置。
下面，参照图2说明图形的形成步骤。如图2(a)所示，从基材1的设置有薄膜2的上面(表面)侧照射具有规定的光束径的激光束。通过照射激光束，与该照射位置对应的基材1以及基材1上的光热变换层4被加热。光热变换层4吸收照射的激光光束，将该光能转换为热能。在光热变换层4上产生的热能对与该光热变换层4邻接的薄膜2的一部分进行气化或分解，从而从基材1上选择性地去除。由此，如图2(b)所示，对应于光照射的照射区域(照射位置)的薄膜2的一部分被从基材1上除去，从而薄膜2被图形化。
通过照射光，在除去了薄膜2的除去区域3上露出光热变换层4(在后述的图4的实施方式中为基材1)。此处，在光热变换层4(基材1)上形成薄膜2之前，通过对光热变换层4(基材1)实施亲液化处理，进行光照射，可以使具有亲液性的光热变换层4(基材1)露出。
另外，作为亲液化处理可以举出紫外线(UV)照射处理、氧等离子处理等。另外，由于由FAS构成的薄膜(单分子膜)2具有疏液性，因此通过对薄膜2进行图形化，可以在基材1上形成疏液性区域和亲液性区域。
此时，通过相对于照射的激光束使载物台12沿着XY平面移动，描绘对应于该载物台12的移动轨迹的除去区域3。由此在基材1上形成薄膜图形。
如以上所述，通过在基材1上设置含有光热变换材料的光热变换层4，可以有效地将照射的光的光能变换为热能，并将该热能供给薄膜2。因此，即使不用以往的电子束或紫外线，也可以将用于除去薄膜2的充分的热能供给薄膜2。
因此，使用的光照射装置的选择范围变宽，即使不用高价并且大规模的光照射装置，也可以以充分的热能很好地将薄膜2从基材1上除去，从而进行图形化。
另外，薄膜2也可以通过含有光引发剂的单体形成。单体能够通过激光束的照射而从基材1上除去。因此，可以通过在基材1上涂敷含有光引发剂和单体的涂敷液(功能液)，通过激光照射形成薄膜图形后，通过对应于光引发剂的光照射进行聚合(光固化)，从而形成被图形化的薄膜2。此外，含有光引发剂和单体的涂敷液，可以通过上述的普通的薄膜涂敷法(旋涂法、照相凹版涂敷法、逆转辊涂敷法、棒涂法、微照相凹版涂敷法等)在光热变换层4(基材1)上涂敷。
此外，形成有机薄膜2的化合物，优选具有在一部分上与基材1(光热变换层4)产生化学相互作用(氢键、静电相互作用、酸碱相互作用、疏水性相互作用、共价键等)的官能基。作为官能基可以举出羧基、氨基、羟基、硫基、异氰酸酯基、醛基、酮基、酰胺基、酰亚胺基等。此外，也可以是具有烷氧基、卤基、烷基、氨基的硅基。另外也可以是铵基、吡啶鎓基等的离子性基。
此外，在有机薄膜2与基材1(光热变换层4)之间的相互作用中，优选能够以热容易切断的氢键或酸碱相互作用等的比较弱的相互作用。另外，对于形成有机薄膜2的面，为了形成相互作用，优选进行如上所述的紫外线(UV)照射处理、氧等离子处理、酸处理、碱处理等的亲液化处理。
另外，在本实施方式中，通过移动支撑基材1的载物台12而在基材1上描绘除去区域3，但是，也可以在停止基材1的状态下移动照射的光束，也可以同时移动基材1和光束双方。另外，在移动基材1的情况下，除了在载物台12上在XY面内移动的构成，也可以是以如上述保持在转鼓的状态下移动的构成。
如图3所示，在将光热变换层4设置在基材1与薄膜2之间的情况下，也可以从基材1的没有设置薄膜2的背面侧对基材1照射光束。此时，基材1由能够透过光束的透明材料形成。由此，可以夹持基材1对光热变换层4直接照射光，光热变换层4顺利地将照射的光的光能转换为热能，从而除去对应于邻接的薄膜2的照射区域(照射位置)的一部分，而形成图形。另外，通过将光热变换层4设置在基材1与薄膜2之间并使薄膜2相对于外部呈开放状态(露出状态)，对应于光照射区域的薄膜2的一部分顺利地放出外部。
此外，在是从基材1的背面侧夹持基材1对光热变换层4照射光的情况下，由于光透过基材1时可能发生散射(衍射)，因此优选对该散射状态进行预测，根据所述计测结果边调整照射条件边从基材1的背面侧照射光，以便在光热变换层4的所需位置处照射光。另外，可以是从基材1的表面侧以及背面侧双方照射光的构成。
此外，也可以根据薄膜2的特性(材料特性)来决定是从基材1的背面侧还是表面侧照射光。例如，对于照射的光的波长，薄膜2是吸收该波长的光的材料的情况下，如图2所示，若从表面侧照射光，则可能产生该光被薄膜2吸收而达不到下层侧的光热变换层4上的不良现象。因此，在这种情况下，可以决定从基材1的背面侧照射光。
如图4所示，也可以采用将光热变换层4设置在基材1的没有设置薄膜2的背面侧的构成。此时，优选光从基材1的背面侧(设置光热变换层4的一面侧)照射。此时，由于可以良好地将光热变换层4产生的热能传递给设置于表面侧上的薄膜2，因此可以对基材1选择最适宜的厚度和材料。此外，可以将光热变换层4设置在基材1的表面侧以及背面侧双方。
此外，在上述各实施方式中，例如在参照图3说明的实施方式中，作为基材1使用透明的材料，但是在参照图2或4说明的实施方式中，基材1也可是不透明的，在参照图4说明的实施方式中，即使基材1不透明，只要具有良好的导热性即可。
另外，在参照图1～4说明的实施方式中，光热变换材料设置为与基材1和薄膜2独立的层(光热变换层4)，但是，也可以是在基材1上混在光热变换材料的构成，也可是在薄膜2中混在光热变换材料的构成。即使是这种构成，也可以将照射的激光的光能变换为热能，并将该热能供给薄膜2。此外，也可以在混有光热变换材料的基材1上另外再设置光热变换层4。
另一方面，在分别设置含有光热变换材料的光热变换层4和薄膜2的情况下，有时在照射光后光热变换层4残存在基材1上，但是，例如在光热变换层4残存的除去区域3上配置含有基于热处理或光处理而显示导电性的材料的功能液，通过从基材1的背面侧对光热变换层4照射光，可以通过光热变换层4产生的热使所述材料显示导电性。此处，作为基于热处理或光处理而显示导电性的材料，可以举出后述的有机银化合物等。
在设置光热变换层4时，优选照射具有对应于光热变换材料的波长的光。即，由于根据使用的光热变换材料不同，良好地吸收的光的波长区域不同，因此通过照射具有对应于光热变换材料的波长的光，可以有效地将光能变换为热能。换言之，根据照射的光选择使用的光热变换材料。在本实施方式中，由于作为激光光源使用近红外半导体激光器(波长830nm)，因此作为光热变换材料优选使用具有吸收红外线～可见光线区域的光的性质的材料。
此外，在将光热变换层4设置在基材1和薄膜2之间时，可以在光热变换层4与薄膜2之间，在基材1上形成薄膜2时，可以在基材1与薄膜2之间，设置含有通过照射光或进行加热而产生气体的气体发生材料的气体发生层。气体发生材料，是一种一旦吸收光或吸收由光能变换的热能时，则引起分解反应而放出氮气或氢气等的材料，具有提供通过发生的气体除去薄膜2的功能。作为这种气体发生材料可以举出从季戊四醇四硝酸盐(pentaerythritol tetranitrate：PETN)以及三硝基甲苯(trinitrotoluene：TNT)构成的一组中选择的至少一种物质等。
另外，在光热变换层4与薄膜2之间，可以设置用于将光热变换层4的光热变换作用均匀化的中间层。作为这种中间层形成材料可以举出能够满足上述要件的树脂材料。这种中间层可以通过将具有一定组成的树脂组合物例如基于旋涂法、照相凹版涂敷法、金属型涂敷法等公知的涂敷法涂布在光热变换层4上，使其干燥而形成。一旦照射激光光束，通过光热变换层4的作用，光能变换为热能，进而该热能通过中间层的作用被均匀化。因此，在对应于该光照射区域的部分的薄膜2被均匀地供给热能。
下面，作为薄膜(单分子膜)2的形成方法一个例子，对自组织化薄膜形成方法进行说明。在自组织化薄膜形成方法中，在基材1的表面上形成由有机分子膜等构成的自组织化膜。有机分子膜具备可与基材1耦合的官能团、在其相反侧亲液基或疏液基等将基材1的表面性改质(控制表面能量)的官能团、和连结这些官能团的碳的直链或局部分支的碳链，耦合在基材1上后，进行自组织化，形成分子膜、例如单分子膜。
这里，所谓自组织化膜(自组织化单分子膜：SAM(Self AssembledMonolayer))，由可与基材的衬底层等的构成原子反应的耦合性官能基和其外的直链分子构成，是通过直链分子的相互作用而使具有极高取向性的化合物取向后所形成的膜。由于该自组织化膜使单分子取向后形成，所以可将膜厚变得极薄，并且可形成分子级的均匀膜。即，因为相同分子位于膜表面，所以可向膜表面赋予均匀且好的疏液性或亲液性。
作为上述具有高取向性的化合物，通过使用例如氟代烷基硅烷(FAS)，取向各化合物，使氟代烷基位于膜表面上，形成自组织化膜，向膜表面赋予均匀的疏液性。作为形成自组织化膜的化合物，可以举出十七氟-1，1，2，2-四氢癸基三乙氧基硅烷、十七氟-1，1，2，2-四氢癸基三甲氧基硅烷、十七氟-1，1，2，2-四氢癸基三氯硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氢辛基三乙氧基硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氢辛基三甲氧基硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氢辛基三氯基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷等的氟代烷基硅烷。这些化合物可单独使用，也可组合两种以上来使用。另外，通过使用FAS，可得到与基板的紧贴性和良好的疏液性。
FAS一般以结构式RnSiX(4-n)来表示。这里，n表示1以上3以下的整数，X是甲氧基、乙氧基、卤原子等水解基团。另外，R是氟代烷基基，具有(CF3)(CF2)x(CH2)y的(这里x表示0以上10以下的整数，y表示0以上4以下的整数)结构，在多个R或X与Si耦合的情况下，R或X既可彼此相同，也可不同。由X表示的水解基团通过水解形成硅醇，与基板(玻璃、硅)的基底羟基反应后，通过硅氧烷键与基板耦合。
另一方面，由于R在表面具有(CF3)等氟代基，所以将基板的底表面改质成不浸湿(表面能量低)的表面。
图5是表示在基材1(光热变换层4)上形成由FAS构成的自组织化膜(FAS膜)的FAS处理装置40的简要构成图。FAS处理装置40在基材1(光热变换层4)上形成由FAS构成的自组织化膜。如图5所示，FAS处理装置40，备有箱体41、设置于箱体41内并且保持基材1的保持架42、收容液相状态的FAS(液体FAS)的容器43。并且，在室温环境下，通过在箱体41中放置收容基材1和液体FAS的容器43，容器43内的液体FAS变为气相从容器43的开口部43a向箱体41放出，例如在2～3天左右，在基材1(光热变换层4)上成膜由FAS构成的自组织化膜。另外，通过将整个箱体41维持在100℃左右，3小时左右在基材1(光热变换层4)上成膜自组织化膜。此外，此处说明了由气相的形成方法，但是也可以由液相形成组织化膜。例如通过在含有原料化合物的溶液中浸渍基材1，进而清洗干燥，从而在基材1上形成自组织化膜。
另外，作为疏液性膜也可以是基于等离子处理法形成的氟化聚合膜。
在等离子处理法中，可以在常压或真空中对极板进行等离子照射。等离子处理中所用的气体种类，可以考虑应形成布线图形的基材1的表面材质等进行种种选择。作为处理气体，例如可以示例出4-氟甲烷、全氟己烷、全氟癸烷等。
图6是表示对实施FAS处理后的基材1借助具有规定图形的掩模15照射红外线激光的情况的图。如图6所示，也可以在形成薄膜图形时，对于具有对应于要形成的薄膜图形的图形的掩模15照射光束，经由掩模15的光照射在具有光热变换层4的基材1上。在图6中，掩模15以密接在支撑于载物台12上的基材1的薄膜2上的方式配置。由光源11射出的光束对掩模15进行照明。通过掩模15的光照射支撑于载物台12上的基材1。通过基于该照射的光而产生的热除去薄膜2的一部分，从而形成薄膜图形。通过利用掩模15可以形成比从激光源11射出的光束径细的微细薄膜图形。另一方面，如参照图1所述那样，通过边相对移动光束和基材1边描绘薄膜图形(除去区域3)，可以省略制造掩模15的工序。
另外，在图6所示例中，以掩模15和基材1密接的状态对掩模15照射光，但是也可以以掩模15和基材1分离的状态对掩模15照射光，将通过该掩模15的光照射在基材1上。
[实施例]
作为基材1，准备了分散有粒径20nm的炭黑的聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)制的片材，在该片材上照射紫外光(波长172nm)进行光清洗的同时赋予亲液性。紫外光在片材表面附近被吸收，仅光照射的一侧面被亲液化，因此片材自身的物性并没有变化。作为形成单分子膜的材料，准备了具有疏液性的十八烷基胺。在室温下将十八烷基胺浸渍在十六烷溶液(0.1wt％)中两分钟，形成单分子膜。在聚四氟乙烯制的容器中配置加入了上述化合物的料箱和片材并进行减压，将整个容器的温度上升到80度，保持一小时。其结果十八烷基胺蒸发，在片材上化学气相蒸镀，形成有机薄膜2。接着，使该片材保持在转鼓上，边以50rpm旋转转鼓边从输出为11W的近红外半导体激光装置对片材照射波长830nm的激光。接着通过测定相对于水的接触角来确定对应于该光照射区域的区域的有机薄膜2是否被除去。在光照射前片材相对于水的接触角为90度，但是，光照射后的接触角为10度，由此可以确认通过激光照射除去了部分具有疏液性的有机薄膜2的一部分。
[布线图形的形成方法]
以下对于在具有基于上述说明的方法形成的薄膜图形的基材1上形成薄膜图形的方法进行说明。图7是表示在形成有薄膜图形2的基材1上形成布线图形的方法的示意图。在本实施方式中，为了在基材1上配置布线图形形成用材料，利用液滴喷出法(喷墨法)喷出含有布线图形形成用材料的功能液的液滴(喷墨法)。在液滴喷出法中，以使喷出头20与基材1对置的状态，利用液滴喷出头20对薄膜2的除去区域3喷出含有布线图形形成用材料的功能液的液滴。此处，薄膜(单分子膜)2具有疏液性，除去区域3除去薄膜2而具有亲液性。此外，在本实施方式中，如图7所示，在基材1的表面侧设置有薄膜2，在背面侧设置有光热变换层4。
此处作为液滴喷出法的喷出技术，可以举出带电控制式、加压振动式、电热变换式、静电吸引式、电机械变换式等。带电控制式是以带电电极对材料赋予电荷，以偏向电极控制材料的飞翔方向而使之从喷嘴喷出的方式。另外，加压振动式是对材料外加30kg/cm2左右的超高压，使从喷嘴前端侧喷出的方式，在不加控制电压时，材料直进并从喷嘴喷出，在施加控制电压时，在材料之间引起静电对抗，材料分散而不从喷嘴喷出。另外，电热变换式是通过在贮存材料的空间内设置的加热器，使材料急速气化产生气泡，通过气泡的压力使空间内的材料喷出的方式。静电吸引式是在贮存材料的空间内施加微小的压力，在喷嘴上形成材料的弯液面，在该状态下施加静电引力，之后引出材料的方式。电机械变换式是利用压电元件接受脉冲的电信号而变形的性质，通过压电元件变形而在贮存材料的空间内借助柔性物质施加压力，从而从该空间挤出材料并从喷嘴喷出的方式。除此之外，也可以使用利用基于电场而使流体的粘性变化的方式或以电火花飞出的方式等的技术。对于液滴喷出法，具有材料的使用中浪费少并且可以在规定的位置准确地配置所需量的材料的优点。此外，基于液滴喷出法喷出的一滴液滴的量例如为1～300ng。在本实施方式中采用电机械变换方式(压电方式)。
图8是用于说明基于压电方式喷出功能液(液状材料)的原理的图。
在图8中，喷出头20备有收容功能液(含有布线图形形成用材料的液状材料)的液体室21以及邻接于该液体室21而配置的压电元件22。在液体室21中借助含有收容功能液的材料容器的供给系统23而供给功能液。压电元件22连接在驱动电路24上，借助该驱动电路24对压电元件22施加电压，通过使该压电元件22变形，液体室21变形，从而使功能液从喷嘴25喷出。此时，通过改变外加电压的值来控制压电元件22的变形量。另外，通过改变外加电压的频率来控制压电元件22的变形速度。由于在基于压电方式的液滴喷出材料中不施加热，因此具有对材料的组成没有影响的优点。
以下对形成布线图形的顺序进行说明。在利用规定的溶剂等对基材1进行清洗后，通过上述的方法在基材1上设置光热变换层4。然后，通过对该基材1实施紫外线(UV)照射处理或氧等离子处理而赋予亲液性。接着通过上述的方法形成薄膜2并对其照射光而形成薄膜图形。由此，在基材1上具有疏液性的薄膜2的一部分上形成具有亲液性的除去区域3。
接着利用喷出头20在基材1的除去区域3上进行配置含有布线图形形成用材料的功能液的液滴的材料配置工序。此处，作为构成布线图形形成用材料的导电性材料使用有机银化合物，作为溶剂(分散剂)使用二乙二醇二乙醚，喷出含有该有机银化合物的功能液。在材料配置工序中，如图7所示，由喷出头20以液滴状喷出含有布线图形形成用材料的功能液。被喷出的液滴被配置在基材1上的除去区域3上。此时，具有亲液性的除去区域3的周围被具有疏液性的薄膜2包围，因此可以阻止液滴向规定位置以外扩展。此外，通过薄膜2的疏液性，即使喷出的液滴的一部分溅在薄膜2上也会流入除去区域3上。另外，基材1露出的除去区域3由于被赋予亲液性，因此喷出的液滴在除去区域3上变得更容易扩展，由此，功能液可以在规定的位置均匀配置。
另外，作为功能液也可以使用将导电性微粒分散在分散剂中的分散液。作为导电性微粒例如除了含有金、银、铜、铝、钯以及镍中的至少任一种的金属微粒之外，也可以使用它们的氧化物、以及导电性聚合物或超导电体微粒等。作为分散剂，只要可分散上述导电性微粒，难以引起凝聚，则不特别限定。例如，除水外，可示例甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇类、正庚烷、正辛完、癸烷、十二烷、十四烷、甲苯、二甲苯、异丙基甲苯、均四甲苯、茚、二戊烯、四氢萘、十氢萘、环己基苯等烃类化合物；或乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、聚乙二醇甲基乙基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇甲基乙基醚、1，2-二甲氧基乙烷、双(2-甲氧基乙基)醚、p-二噁烷等的醚类化合物；以及碳酸丙烯酯、γ-丁内酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、环己酮等极性化合物。其中，从微粒的分散性与分散液的稳定性、或对液滴喷出法的适用难易性出发，最好是水、醇类、烃类化合物、醚类化合物，作为更优选的分散剂，可举出水、烃类化合物。
在材料配置工序(液滴喷出工序)后，进行烧结工序。通过对于含有导电性材料的功能液进行烧结处理可以获得导电性。尤其是在有机银化合物时，通过进行烧结处理除去其有机成分而使银粒子残留，从而显示导电性。因此，对于材料配置工序后的基材1，作为烧结处理而实施热处理和光处理中的至少一方。热处理和光处理通常在大气中进行，但是也可以根据需要而在氮气、氩气、氦气等的惰性气体气氛中进行。热处理和光处理的温度可以考虑溶剂的沸点(蒸汽压)、气氛气体的种类或压力、微粒的分散性或有机银化合物、氧化性等的热性能、涂布材的有无或量、基材的耐热温度等进行适宜确定。例如，为了除去有机银化合物的有机成分，需要在大致200℃的温度下进行烧结。另外，在使用塑料等的基板的情况下，优选在室温以上100℃以下进行。通过以上的工序，喷出工序后的导电性材料(有机银化合物)由于银粒子的残留而变换为具有导电性的布线图形。
另外，在材料配置工序后进行中间干燥工序(或烧结工序)，通过交替反复多次进行这些材料配置工序和中间干燥工序(烧结工序)，可以在除去区域3叠层布线图形形成用材料。
另外，在烧结工序后或在用于形成薄膜图形(除去区域3)的光照射工序之后等的规定时刻，可以除去设置于基材1的背面的光热变换层4。例如通过利用规定的溶剂清洗，可以从基材1上除去光热变换层4。另外，在材料配置工序(液滴喷出工序)后或烧结工序后等的规定时刻可以除去基材1上的整个薄膜2。例如通过照射激光可以从基材1上除去整个薄膜2。
此外，在本实施方式中，为了形成布线图形利用液滴喷出法，但是也可以根据镀膜法对除去区域3配置布线图形形成用材料。
[等离子显示装置]
下面参照图9对作为具有根据本发明的布线图形形成方法而形成的布线图形的电光装置的一例即等离子显示器(等离子显示装置)进行说明。图9是表示制造有地址电极511和母线电极512a的等离子显示器500的分解立体图。该等离子显示器500大致由相互对置配置的玻璃基板501和玻璃基板502以及形成于它们之间的放电显示部510构成。
放电显示部510集合多个放电室516，在多个放电室516中，红色放电室516(R)、绿色放电室516(G)、蓝色放电室516(B)的三个放电室516构成一对形成一个象素。在所述(玻璃)基板501上面以规定的间隔形成有带状地址电极511，以覆盖这些地址电极511和基板501的上面的方式形成电介质层519，进而在该电介质层519上在地址电极511、511之间沿着各地址电极511形成隔壁515。另外，在隔壁515中，在其长度方向的规定位置，在与地址电极511垂直相交的方向上也以规定的间隔被隔开(未图示)，基本上形成由与地址电极511的宽度方向左右两侧邻接的隔壁以及与地址电极511垂直相交的方向上延伸设置的隔壁隔开的长方形区域，以对应于这些长方形区域的方式形成放电室516，这些长方形区域三个构成一对而形成一个象素。此外，在以隔壁515区划出的长方形区域的内侧配置荧光体517。荧光体517是发出红、绿、篮中任一荧光的物质，在红色放电室516(R)的底部配置红色荧光体517(R)，在绿色放电室516(G)的底部配置绿色荧光体517(G)，在绿色放电室516(B)的底部配置蓝色荧光体517(B)。
然后，在所述玻璃基板502侧沿着与前面的地址电极511垂直相交的方向以规定的间隔带状形成多个由ITO构成的透明电极512，同时，为了补偿高电阻的ITO而形成由金属构成的母线电极512a。此外，覆盖它们形成电介质层513，进而形成由MgO等构成的保护膜514。然后，所述基板501与玻璃基板502的基板2，以使所述地址电极511···与显示电极512···相互垂直相交的方式对置并相互贴合，对由基板501、隔壁515以及形成于玻璃基板502侧的保护膜514包围的空间部分进行排气，通过封入惰性气体而形成放电室516。此外，形成于玻璃基板502侧的显示电极512对于各放电室516分别配置2个。所述地址电极511与显示电极512连接在图示省略的交流电源上，通过对各电极通电使荧光体517在必要位置的放电显示部510中激励发光，从而能够进行彩色显示。
另外，在本例中，尤其是所述地址电极511和母线电极512a通过本发明的布线图形形成方法形成。即，对于这些地址电极511或母线电极512a，尤其从对其图形化有利方面来看，可以通过喷出使金属胶体材料(例如金胶体或银胶体)或导电性微粒(例如金属微粒)分散而构成的功能液，进而干燥、烧结而形成。另外，对于荧光体517，也可以通过喷出头20喷出使荧光体材料溶解在溶剂中或分散在分散剂中的功能液，进而干燥、烧结而形成。
[滤色器]
下面参照图10对本发明的使用薄膜制造液晶显示装置的滤色器的步骤进行说明。此外，本实施方式中的薄膜不是单分子膜，而由具有一定高度(厚度)的有机薄膜构成，构成区划基材上的规定区域的围堰(黑矩阵)。首先，如图10(a)所示，在透明基板(基材)P的一方的面形成黑矩阵(围堰)52。该黑矩阵52是区划滤色器形成区域的构件，通过本发明的图形形成方法形成。在形成黑矩阵(围堰)时，通过与光引发剂和单体一起使用黑色的升华性材料，可以在后述的光照射工序中对黑矩阵进行固化。
然后，如图10(b)所示，由所述喷出头20喷出滤色器用功能液的液滴54，使其弹落在滤芯53上。对于喷出的功能液54的量设为考虑了加热工序(干燥、烧结工序)中的功能液的体积减少后的充足的量。
通过这种方式在基板P上的整个滤芯53上填充液滴54后，利用加热器进行加热处理，以便使基板P达到一定的温度(例如70℃左右)。通过该加热处理，功能液的溶剂蒸发，功能液的体积减少。在该体积减少剧烈时，反复进行液滴喷出工序和加热工序直至作为滤色器而获得足够的膜厚度。通过该处理，功能液中所含的溶剂蒸发，最终仅有功能液中所含的固形成分(功能性材料)残留，从而进行膜化而如图10(c)所示形成滤色器55。
然后，为了对基板P进行平坦化并保护滤色器55，如图10(d)所示，覆盖滤色器55或黑矩阵53而在基板P上形成保护膜56。在形成该保护膜56时，可以采用旋涂法、辊涂法、剥层成膜法等方法，但是也可以与滤色器55的情况一样，采用所述喷出装置进行。然后，如图10(e)所示，在该整个保护膜56的面上通过溅射法或真空蒸镀法形成透明的导电膜57。之后，对透明的导电膜57进行图形化，如图10(f)所示，与所述滤芯53对应而对象素电极58进行图形化。此外，在液晶显示装置的驱动中使用TFT(Thin Film Transistor)时，不需要该图形化。在制造这种滤色器时，由于利用所述喷出头20，因此可以无阻碍地连续喷出滤色器材料，因此，可以形成良好的滤色器，同时可以提高生产性。
[有机EL显示装置]
下面参照图11对使用本发明的围堰制造有机EL显示装置的步骤进行说明。此外，本实施方式中的薄膜也不是单分子膜，通过具有一定高度(厚度)的有机薄膜构成，构成区划基材上的一定区域的围堰。图11是通过所述喷出头20制造了部分构成要素的有机EL显示装置的侧剖面图，首先，对该有机EL显示装置的简要构成进行说明。此外，此处形成的有机EL显示装置是本发明的电光装置中的一实施方式。如图11所示，该有机EL显示装置301是在由基板(基材)311、电路元件部321、象素电极331、围堰部341、发光元件351、阴极361(对置电极)以及密封基板构成的有机EL元件302上连接柔性基板(未图示)的布线以及驱动IC(未图示)的装置。电路元件部321形成在基板311上，多个象素电极331排列在电路元件部321上。另外在各象素电极331之间格子状形成围堰部341，在通过围堰部341产生的凹部开口344上形成发光元件351。阴极361在围堰部341以及发光元件351的整个上部面上形成，在阴极361上叠层密封用基板371。
围堰部341由第一围堰部342和叠层在其上的第二围堰部343构成。另外，在形成该围堰部341时，可以使用本发明的薄膜图形的形成方法。
含有有机EL元件的有机EL显示装置301的制造工艺，具有形成围堰部341的围堰部形成工序、用于适宜地形成发光元件351的等离子处理工序、形成发光元件351的发光元件形成工序、形成阴极361的对置电极形成工序、在阴极361上叠层密封用基板371而进行密封的密封工序。
发光元件形成工序是通过在凹部开口344即象素电极331上形成空穴注入层352以及发光层353而形成发光元件351的工序，具备空穴注入层形成工序和发光层形成工序。另外，空穴注入层形成工序具有将用于形成空穴注入层352的第一功能液喷出在各象素电极331上的第一喷出工序以及使喷出的第一功能液干燥而形成空穴注入层352的第一干燥工序，发光层形成工序具有在空穴注入层上喷出用于形成发光层353的第二功能液的第二喷出工序以及使喷出的功能液干燥而形成发光层353的第二干燥工序。
在该发光元件形成工序中，在空穴注入层形成工序中的第一喷出工序和在发光层形成工序中的第二喷出工序使用所述喷出头20。
[电子机器]
以下对备有上述电光装置(液晶显示装置、有机EL显示装置、等离子显示装置等)的电子机器的适用例进行说明。图12(a)为表示携带电话的一例的立体图。在图12(a)中，符号1000表示携带电话主体，符号1101表示使用上述电光装置的显示部。图12(b)是表示手表型电子机器的一例的立体图。在图12(b)中，符号1100表示手表主体，符号1101表示使用上述电光装置的显示部。图12(c)是表示文字处理机、电脑等携带型信息处理装置的一例的立体图。在图12(c)中，符号1200表示信息处理装置，符号1202表示键盘等输入部，符号1204表示信息处理装置的主体，符号1206表示使用了上述电光装置的显示部。图12(a)～(c)表示的电子机器由于备有上述实施方式的电光装置，因此可以实现显示质量优良并且具有明亮的画面的显示部的电子机器。
此外，除了上述例子外，作为其它的例子可以举出液晶电视、取景器型或监视器直视型的摄像机、车辆导航装置、寻呼机、电子笔记本、台式电脑、文字处理机、工作站、电视电话、POS终端、电子纸、具有触摸面板的机器等。本发明的电光装置也可以作为这种电子机器的显示部使用。
[微型透镜]
图13是表示使用本发明的薄膜图形形成微型透镜的工序的一例的图。本实施方式的薄膜例如通过由FAS膜等构成的具有疏液性的单分子膜构成。
在本例中，首先如图13(a)所示，由喷出头20向基板(基材)P上喷出由透光性树脂构成的液滴622a，对其进行涂布。另外，在从各喷出头20喷出液滴622a时，在其喷出之前，在基板P上形成本发明的薄膜图形，液滴622a配置在具有亲液性的除去区域3上。
作为基板P，在将所得的微型透镜例如应用于屏幕用的光学膜时，可以使用由醋酸纤维素或丙基纤维素等的纤维素系树脂、聚氯乙稀、聚乙烯、聚丙烯、聚酯等的透明性树脂(透光性树脂)构成的透光性片材或透光性薄膜。另外，作为基板也可以使用由玻璃、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚砜、无定形聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲基酯等的透明材料(透光性材料)构成的基板。
作为透光性树脂可以举出聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸羟乙酯、聚甲基丙烯酸环己酯等的丙烯酸系树脂、聚二甘醇双烯丙基碳酸酯、聚碳酸酯等的烯丙基系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚醋酸乙烯酯系树脂、纤维素系树脂、聚酰胺系树脂、氟系树脂、聚丙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂等热塑性或热固化性树脂，可以使用它们中的一种也可以多种混合使用。
但是，在本例中，尤其是作为透光性树脂而使用放射线照射固化型树脂。该放射线照射固化型树脂是在所述透光性树脂中配合二咪唑系化合物等的光聚合引发剂而形成的树脂，通过配合这种光聚合引发剂，可以赋予放射线照射固化性。所谓放射线是指可见光线、紫外线、远紫外线、X线、电子射线等的总称，通常一般使用紫外线。
根据所需的单一的微型透镜的大小而在基板P上喷出1个或多个这种放射线照射固化型的透光性树脂的液滴622a。若这样，则由该液滴622构成的透光性树脂623通过其表面张力形成如图13(a)所示的凸形状(大致半球状)。由此，若对于应形成的单一微型透镜喷出涂布规定量的透光性树脂，进而按照所需的微型透镜的个数分别进行该涂布处理，对这些透光性树脂623照射紫外线等放射线，则如图13(b)所示，使其固化而形成固化体623a。另外，相当于由喷出头20喷出的液滴622a的一滴的容量，由于喷出头20或喷出油墨材料不同而不同，通常为1pL～20pL左右。
然后，如图13(c)所示，由喷出头20向这些固化体623a上喷出所需滴数的液滴622b，所述液滴622b是分散有多个光扩散性微粒626的液滴，使其在固化体623a的表面上附着。作为光扩散性微粒626可以举出二氧化硅、氧化铝、氧化钛、碳酸钙、氢氧化铝、丙烯酸树脂、有机硅酮树脂、聚苯乙烯、尿素树脂、甲醛缩聚物等的微粒，可以使用它们的一种也可以混合它们中的多种使用。但是，光扩散性微粒626为了发挥足够的光扩散性，在该微粒是透光性时，必须使其折射率与所述透光性树脂的折射率有足够大的差。因此，在光扩散性微粒626为透光性时，为了满足这些条件可以根据使用的透光性树脂适宜地选择使用。
这种光扩散性微粒626通过预先分散在适宜的溶剂(例如透光性树脂中使用的溶剂)中，而在能够从喷出头20喷出的油墨中调整。此时，通过用表面活性剂对光扩散性微粒626的表面进行被覆处理或以熔融树脂进行被覆处理，可以提高光扩散性微粒626向溶剂中的分散性，因此是理想的，通过这种处理，可以给光扩散性微粒赋予能够从喷出头20喷出的良好的流动性。此外，作为用于表面处理的表面活性剂可以根据光扩散性微粒624的种类适宜地选择使用阳离子系、阴离子系、非离子系、两性、硅酮系、氟系树脂等的表面活性剂。
另外，作为这种光扩散性微粒626优选使用其粒径在200nm以上500nm以下的微粒。若在该范围内，通过使粒径在200nm以上，可以很好地确保其光扩散性，另外，通过使粒径在500nm以下可以确保能够从喷出头1的喷嘴很好地喷出。
对于使光扩散性微粒626分散后的液滴622b的喷出，可以使用与喷出透光性树脂的液滴622a的喷出头20相同的喷出头，也可以使用别的喷出头。在使用相同的喷出头的情况下，可以简化含有喷出头20的装置构成。另一方面，在使用别的喷出头的情况下，由于可以设置为对应于每一各功能液(由透光性树脂构成的功能液与由光扩散性微粒24构成的功能液)专用的喷出头，因此无需在切换涂布的功能液时清洗喷出头，可以提高生产效率。
之后，通过进行加热处理、减压处理或加热减压处理，使分散有光扩散性微粒624的液滴622b中的溶剂蒸发。这样，固化体623a的表面由于液滴622b的溶剂而软化，在该处附着光扩散性微粒626，从而溶剂蒸发固化体623a的表面进一步固化，随之光扩散性微粒624被固定在透光性树脂的固化体623a的表面。另外，通过这种方式将光扩散性微粒624固定在固化体623a的表面上，如图13(d)所示，可以获得在其表面部使光扩散性微粒624分散而形成的本发明的微型透镜625。
由于利用喷墨法形成由透光性树脂623和光扩散性微粒624构成的凸形状(大致半球状)的微型透镜625，因此无需在象使用金属模成形法或射出成形法时所需要的成形模具，另外也几乎没有材料的损失。
因此可以降低制造成本。另外，由于所得的微型透镜625成为凸形状(大致半球状)，因此在360度的较宽的角度范围(方向)内可以使该微型透镜均匀地进行光散射，并且通过对该光扩散性微粒626进行复合化，可以对所得的微型透镜赋予高的扩散性能。
[DNA芯片]
图14是用于说明使用本发明的薄膜图形而形成作为检查机的DNA芯片的实施方式的图，(a)是俯视图，(b)以及(c)是A-A剖面图。另外，关于DNA芯片的技术记载在例如特开平10-168386号公报、特开2000-232883号公报等中。
在图14(a)以及(b)中，本例的DNA芯片的构成为在基材900上设置有反应膜902。在本实施方式中，在反应膜902的周围设置有具有疏液性的薄膜903。薄膜903由具有疏液性的单分子膜构成。作为形成DNA芯片用的反应膜902的反应剂，例如可以使用DNA片段。
预先使溶液中含有基因序列明确的数十至数百种DNA片段，然后固定在基材900上。进而本例中的DNA芯片，如图13(c)所示，由基材900的背面侧入射光，透过反射膜902而被取出。在使用本例的DNA芯片时，制作液状基因样品905，然后将其配置在芯片上。在具有适合于样品的基因时，通过捕捉反应而在反应膜902上反应，从而鉴定碱基序列，通过合成的荧光染料而发光。
在制造上述DNA芯片时，首先在基材900上形成薄膜903，然后，根据本发明的薄膜图形的形成方法形成具有除去区域3的薄膜图形。之后，通过喷出头20从喷出头20向除去区域3喷出反应剂，在基材900上形成反应膜902。由此制造DNA芯片。
另外，也可以预先在具有光热变换层的基材900上的整个面上设置反应膜902，然后对该反应膜902照射光，通过除去对应于光照射的照射区域的反应膜902，进行图形化，从而在基材900上离散性地形成反应膜902。接着，可以在离散性配置的反应膜902上配置基因样品905。

Claims (17)

1.一种图形的形成方法，其特征在于，在含有将光能变换为热能的光热变换材料的基材上设置薄膜，通过对该基材照射光，除去对应于照射区域的所述基材上的所述薄膜，对该薄膜进行图形化。
2.根据权利要求1所述的图形的形成方法，其特征在于，所述薄膜是有机薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的图形的形成方法，其特征在于，所述薄膜是单分子膜。
4.根据权利要求1或2所述的图形的形成方法，其特征在于，所述薄膜是含有光引发剂的单体。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，含有所述光热变换材料的光热变换层与所述基材以及所述薄膜相互独立地设置。
6.根据权利要求5所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热变换层设置在所述基材的设置有所述薄膜的一面侧。
7.根据权利要求5或6所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热变换层设置在所述基材与所述薄膜之间。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，所述光热变换层设置在所述基材的没有设置所述薄膜的另一面侧。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，在所述基材上混合存在所述光热变换材料。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，从所述基材的设置有所述薄膜的一面侧照射所述光。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，从所述基材的没有设置所述薄膜的另一面侧照射所述光。
12.根据权利要求10或11所述的图形的形成方法，其特征在于，根据所述薄膜确定从所述一面侧照射所述光还是从所述另一面侧照射所述光。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，经由具有规定图形的掩模对所述基材照射所述光。
14.根据1～13中任一项所述的图形的形成方法，其特征在于，边使所述基材相对于所述光相对移动边进行照射。
15.一种布线图形的形成方法，其特征在于，在具有根据权利要求1～14中任一项所述的形成方法形成的薄膜图形的所述基材上，配置含有布线图形形成用材料的液滴，形成布线图形。
16.一种电光装置，其特征在于，具有根据权利要求15所述的形成方法形成的布线图形。
17.一种电子机器，其特征在于，具有权利要求16所述的电光装置。
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