CN1568346A - 用于制备具有折射率梯度的薄膜的纳米复合材料 - Google Patents

用于制备具有折射率梯度的薄膜的纳米复合材料 Download PDF

Info

Publication number
CN1568346A
CN1568346A CNA038012944A CN03801294A CN1568346A CN 1568346 A CN1568346 A CN 1568346A CN A038012944 A CNA038012944 A CN A038012944A CN 03801294 A CN03801294 A CN 03801294A CN 1568346 A CN1568346 A CN 1568346A
Authority
CN
China
Prior art keywords
composite material
nano composite
silane
gram
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA038012944A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1253500C (zh
Inventor
原田隆正
北文雄
A·奇默曼
U·戴罗
M·曼尼格
P·W·奥利维拉
H·舒密特
H·史奇奈德
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Clariant GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Clariant GmbH filed Critical Clariant GmbH
Publication of CN1568346A publication Critical patent/CN1568346A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1253500C publication Critical patent/CN1253500C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00—Recording materials or recording processes
    • G03H2260/12—Photopolymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

一种固态或凝胶态的可聚合的纳米复合材料，其含有a)4.9至95.9wt％可溶性聚合物；b)4至95wt％的部分或完全缩合的硅烷，其选自：丙烯酰基硅烷，环氧基硅烷，丙烯烷氧基硅烷，丙烯环氧基硅烷，环氧基烷氧基硅烷，烷氧基硅烷和烷基烷氧基硅烷，其中该硅烷具有33至100％的无机缩合度和0至95％的有机转化度；c)0至60wt％的丙烯酸酯；d)0.1至50wt％的经表面改性的纳米级粒子，其选自：氧化物，硫化物，硒化物，碲化物，卤化物，碳化物，砷化物，锑化物，氮化物，磷化物，碳酸盐，羧酸盐，磷酸盐，硫酸盐，硅酸盐，钛酸盐，锆酸盐，铝酸盐，锡酸盐，高铅酸盐及其混合的氧化物；e)0至50wt％增塑剂；f)0至5wt％热或光化学交联引发剂，敏化剂，润湿剂，粘合促进剂，流变添加剂，抗氧化剂，稳定剂，着色剂，光致变色和热致变色物质，或其组合，在每一种情况下基于纳米复合材料的总重量(干重量)计。

Description

用于制备具有折射率 梯度的薄膜的纳米复合材料
技术领域
本发明涉及一种用于制备折射率梯度材料的纳米复合材料，其具有因纳米级粒子所引起的材料梯度，以及涉及这种折射率梯度材料用于制备具有折射率梯度的薄膜方面的用途，特别是供全息照像和屏蔽照明应用，以及供成像光学中的梯度折射率镜片应用。
背景技术
已知可以利用具有相对于周围液态基体提高或降低的折射率的单体的扩散来形成折射率梯度(US 5,552,261；US 5,529,473)。在感光聚合物方面已知的用于定向扩散伴随随后在加热或照明区中聚合的“Colburn-Haines效应”导致密度的增加，并由此导致折射率的提高或降低。然而，对于有机单体而言，这种改变很小，因为出现的密度改变对摩尔折射只有很小的贡献。然后，折射率梯度分布通过随后的交联，例如经过光致聚合而固定。这些材料的缺点是相当低的折射率提高幅度、长的过程时间和高的散射损失。
由WO97/38333已知：折射率梯度也可通过具有较高或较低折射率的纳米粒子在液态(溶胶)可光聚合的基体中的迁移而形成，并可以通过随后的交联(聚合、缩合)来固定。此方法的主要缺点是受限于液态基体相，由此当应用全息照像术及屏蔽照明技术时会产生处理问题。
因此，本发明的任务是要发展一种材料，其能通过施加电势差、电子照射、全息照像术、石印术，或通过照明，而形成足够高的折射率梯度，且其能克服上述缺点。
已发现，此任务可通过如下定义的固态或凝胶态基体而令人惊讶地得以解决。
发明内容
本发明提供一种可聚合的纳米复合材料，其含有
a)4.9至95.9wt％，优选10至80wt％，特别地20至40wt％的可溶性聚合物；
b)4至95wt％，优选10至80wt％，特别地20至60wt％的至少一种部分或完全缩合的选自如下的硅烷：丙烯酰基硅烷，环氧基硅烷，丙烯酰基烷氧基硅烷，丙烯酰基环氧基硅烷，环氧基烷氧基硅烷，烷氧基硅烷及烷基烷氧基硅烷，其中这种硅烷具有33至100％的无机缩合度，和0至95％，优选5至60％的有机转化度；
c)0至60wt％，优选0.1至40wt％，例如0.1至4.9wt％，特别地0.5至4wt％丙烯酸酯；
d)0.1至50wt％，优选1至40wt％，特别地5至30wt％的选自以下的经表面改性的纳米级粒子：氧化物，卤化物，硅酸盐，钛酸盐，锆酸盐，铝酸盐，锡酸盐，高铅酸盐，和其混合的氧化物；
e)0至50wt％，优选0.1至30wt％，特别地1至20wt％增塑剂；
f)0至5wt％，优选0.01至1wt％的热或光化学交联引发剂，敏化剂，润湿剂，粘合促进剂，抗氧化剂，流变添加剂，稳定剂，着色剂，光致变色及热致变色物质，或其组合，在每一种情况下都基于纳米复合材料的总重量(干重量)计。
按本发明的纳米复合材料的动态粘度在25℃下是2至1000Pas，优选5至500Pas，特别地10至100Pas，由转动粘度计来测量。
具体实施方式
可溶性聚合物a)优选是可溶于有机溶剂中的聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚环氧化物、聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯或聚乙烯醇缩丁醛。作为有机溶剂优选考虑醇如乙醇、异丙醇或丁醇，酮如丙酮，酯如乙酸乙酯，醚如四氢呋喃，及脂族、芳族和卤化烃如己烷、苯、甲苯和氯仿。
合适的硅烷b)是具有1、2、3或4个，优选2或3个可水解基团的那些，及其混合物。可水解基团例如有氢，或卤素如F、Cl、Br或I；烷氧基，优选C1-6烷氧基，如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基和丁氧基；芳氧基，优选C6-10芳氧基，如苯氧基；酰氧基，如乙酰氧基或丙酰氧基；烷基羰基，优选C2-7烷基羰基，如乙酰基；氨基，优选在烷基中有1至12个，特别地1至6个碳原子的单烷基氨基或二烷基氨基。
特别优选的硅烷例如有甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基-丙基三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基-丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷。
硅烷的部分缩合可以用亚化学量，如0.3至0.9倍的化学量的水解剂，如水，含水HCl，含水HNO3或含水氨来实施。水解剂的量在此情况中计量为使得达到33至100％的无机缩合度。33％的无机缩合度意指例如硅烷的平均三分之一的可水解基团被缩合形成-Si-O-Si桥。对于100％的缩合度而言，所涉及的硅烷分子的所有可水解基团都被缩合。
有机转化度指明在硅烷侧链中存在的C＝C双键或环氧基的聚加成反应的程度。95％的有机转化度意指例如所有C＝C双键或环氧基中的95％已反应。在C＝C双键的情况下，如在丙烯酸酯残余物中，有机转化度可以通过IR光谱中C＝C振动谱带的减弱而测得。聚加成反应可以通过常规方法，如在环氧基的情况下的酸或碱水解，或在C＝C双键的情况下的UV照射而引发。
丙烯酸酯c)优选为甲基丙烯酸甲酯，或二丙烯酸二醇酯，或二甲基丙烯酸二醇酯，如二甲基丙烯酸己二醇酯，二丙烯酸己二醇酯，二丙烯酸十二烷二醇酯，或二甲基丙烯酸十二烷二醇酯。
经表面改性的纳米粒子d)优选包括氧化物ZnO、CdO、SiO2、TiO2、ZrO2、CeO2、SnO2、Al2O3、In2O3、La2O3、Fe2O3、Ta2O5、Cu2O、V2O5、MoO3和WO3，以及卤化物AgCl、AgBr、AgI、CuI、CuBr、CdI2和PbI2。表面基团可以是可用于自由基、阳离子或阴离子型热或光化学加成聚合或热或光化学缩聚的有机的可加成聚合和/或可缩聚的基团。按本发明优选具有(甲基)丙烯酰基、烯丙基、乙烯基或环氧基的表面基团，其中特别优选(甲基)丙烯酰基和环氧基。特别可提及的可缩聚的基团是羟基、羧基和氨基，借助于它们，可能在纳米级粒子之间和其与硅烷之间得到醚、酯和酰胺键。
在纳米级粒子表面上存在的包括可加成聚合和/或可缩聚的基团的有机基团优选具有低于300，特别地低于200的分子量。
为制备表面改性的纳米粒子，可以考虑所有常用的制备方法，如DE-A-197 19 948中所描述的。纳米粒子优选具有不大于100nm，特别地不大于50nm的直径。关于下限并无特别限制，虽然就实际而言下限通常是0.5nm，特别地1nm且经常是4nm。
作为增塑剂e)原则上可以考虑所有按照DIN55945(1988年12月)为具有弹性化或塑化性能的化合物，且主要是酯类特征的那些。优选选自如下的增塑剂：无环的脂族二元羧酸的酯，例如己二酸的酯，如己二酸二正辛酯，己二酸双(2-乙基己基)酯，己二酸二异癸酯，癸二酸二丁酯，癸二酸二辛酯和癸二酸双(2-乙基己基)酯；C6-C12二元羧酸与聚烷撑二醇的酯，如双(正庚酸)三甘醇酯，双(2-乙基己酸)三甘醇酯，双(异壬酸)三甘醇酯；C6-C12羧酸与聚烷撑二醇的酯，如双(2-乙基丁酸)三甘醇酯；(甲基)丙烯酸与聚烷撑二醇的二酯，如二丙烯酸或二甲基丙烯酸聚丙二醇酯，二丙烯酸或二甲基丙烯酸聚乙二醇酯，例如二(甲基)丙烯酸四甘醇酯。
纳米复合材料按目的含有加成聚合、聚加成和/或缩聚催化剂f)，其可热和/或光化学引发交联和固化(统称为“交联引发剂”)。
作为光引发剂可以使用例如在市场上可得到的引发剂。其例子有Irgacure184(1-羟基环己基苯基酮)，Irgacure500(1-羟基环己基苯基酮，二苯甲酮)和Irgacure型的其它光引发剂；Darocur1173、1116、1398、1174和1020，2-氯噻吨酮，2-甲基噻吨酮，2-异丙基噻吨酮，苯偶姻，4，4’-二甲氧基-苯偶姻，苯偶姻乙基醚，苯偶姻异丙基醚，苄基二甲醛缩苯乙酮，1，1，1-三氯苯乙酮，二乙氧基苯乙酮和二苯并环庚酮。
作为热引发剂优选考虑二酰基过氧化物，过氧化二碳酸酯，烷基过酸酯，二烷基过氧化物，过缩酮，酮过氧化物和烷基氢过氧化物形式的有机过氧化物。这种热引发剂的例子有过氧化二苯甲酰，过苯甲酸叔丁酯，和偶氮二异丁腈。阳离子型热引发剂的例子有1-甲基咪唑。
流变添加剂的例子有经聚醚改性的二甲基聚硅氧烷，如Byk306。敏化剂的例子有经胺改性的低聚醚丙烯酸酯，如Crodamere。
本发明还提供一种上述纳米复合材料的制备方法，其特征为，将硅烷b)通过添加水解剂而部分或完全地缩合并非必要地通过UV照射而聚合，并与成份a)，c)至f)中的一种或多种混合，或将硅烷b)首先与成份a)，c)至f)中的一种或多种混合，然后缩合并非必要地聚合，并随后非必要地除去有机溶剂。用水解剂的缩合优选在5至40℃的温度下实施。
改变折射率所需的纳米粒子可以按不同方式引入体系中：一方面，商业上可取得的纳米粒子作为在溶剂(与聚合物的溶剂相容)中的悬浮液形式使用。纳米粒子表面首先通过与含有可聚合基团的化合物，如与不饱和羧酸，特别是甲基丙烯酸，丙烯酸，丙烯酰基硅烷和/或不饱和β-二酮的反应而加以改性。然后将悬浮液与硅烷聚合物溶液混合。另一方面，纳米粒子也可以原位通过相应的前体(优选醇化物)在基体的部分缩合和预缩合的有机硅烷成份中或在预缩合的有机硅烷与被溶解的聚合物的混合物中的水解和缩合来制备。
本发明进一步提供上述纳米复合材料用于制备具有折射率梯度的平面材料，特别地薄膜的用途。
为了制备具有折射率梯度的材料，将按本发明的可光聚合的纳米复合材料涂覆到合适的衬底，如玻璃，陶瓷，硅，金属，半导体材料，或(优选透明的)塑料薄膜，特别是PET、PE、PP上。可光聚合的纳米复合材料的涂覆可以按照常规方法来实施，如通过浸渍涂覆，流涂，刮涂，浇铸，旋转涂覆，喷射，刮胶，窄口涂覆，弯液面涂覆，薄膜浇铸，纺丝或喷雾。在每一种情况下所需的粘度可以通过所用溶剂的添加或去除来调节。优选的层厚度(在固化态)是0.2至100μm。
本发明进一步提供一种具有折射率梯度的薄膜，其基本上由一个或二个涂有按本发明的纳米复合材料的透明塑料薄膜所组成，其中折射率梯度通过施加电势差，电子照射，全息照像术，石印术，或通过局部照明而形成。
本发明进一步提供一种制备具有折射率梯度的薄膜的方法，其特征为，将按本发明的纳米复合材料涂覆到透明塑料薄膜上，非必要地将存在的有机溶剂蒸发掉，按目的地蒸发至残余含量为0至15wt％，特别地2至12wt％，基于具有折射率梯度的薄膜的总重计，并非必要地将透明覆盖薄膜层合到纳米复合材料层上以起保护作用。以此形式，薄膜材料可被卷起并避光且在受调控的环境中(15-30℃)临时存放。通过施加电势差，电子照射，全息照像术，石印术，或通过局部照明，而在纳米复合材料层中形成折射率梯度并通过纳米复合材料的完全的热和/或光引发的交联而将其固定。优选用UV光照射。
通过相对强烈的局部照明，纳米粒子与凝胶化基体中的部分缩合的硅烷成份之间和/或彼此之间交联，使得具有C＝C的纳米粒子在其表面上形成相对于未照明的邻近区的化学电势梯度。其它纳米粒子由此邻近区扩散入被照明的区域。此过程可能在照明之前和之后进行，且通常视照明条件和温度而持续数秒至数分钟。由纳米粒子和基体间的折射率差，而以此方式形成局部折射率梯度。此过程后通过光聚合和/或热引发的聚合而进行基体的完全交联(在本文中所用的表达“聚合”不仅应包括其本义的加成聚合，还包括聚加成和缩聚)。在此，除去可能存在的残余溶剂。
令人惊讶的是，在按本发明的基体中发生粒子迁移，尽管该基体是固态或凝胶态。
按本发明的折射率梯度材料可用于例如制备用于显示器的被动光导元件和照明元件，用于安全全息照像，照片全息照像，用于信息存储的数字全息照像，用于带有加工光的波阵面的元件的系统，用于作为平面波导体的应用，用于影响光的偏振的应用，用于作为射束分裂器和作为镜片的应用。
在以下实施例中，“视角”作为用于达到的折射率调制的量度而测量。在此，在粒子迁移和基体完全固化后，用发光计，在1°逐渐变至60°(α)时(60°相对于中心轴)测量涂覆在衬底上的纳米复合材料的发光。“视角”对应于涂覆强度I[％]对角度α(-30至+30°)作图的半峰宽(I/2)。“视角”越高，材料的散射力越强。力求超过10°的值。
实施例1：用于全息照像的光纳米复合材料的制备
a)Zr(OPr)4/MAS(1∶1)的制备：
将65.4克(0.20摩尔)的Zr(OPr)4置于250毫升三颈烧瓶中，并在冰浴中冷却。搅拌下向其中缓慢(15分钟)滴加17.2克(0.20摩尔)甲基丙烯酸(MAS)。在完全添加后，在10分钟后从冰浴中取出反应混合物并随后在25℃下搅拌。
b)硅烷-PVB混合物的制备
将24克(0.20摩尔)二甲基二甲氧基硅烷(DMDS)添加至49.6克(0.20摩尔)甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(MPTS)中，并在25℃下搅拌5分钟。在添加9.05克的0.1N的HCl后，在25℃下继续搅拌10分钟，直到反应混合物变为澄清。随后向其中添加49.92聚乙烯醇缩丁醛(30wt％的2-PrOH溶液)并在25℃下搅拌5分钟。
c)基体的制备
在搅拌下将22.27克在a)中制备的Zr(OPr)4/MAS纳米粒子缓慢地添加至混合物b)中。在完全添加后，在25℃下搅拌4小时且滴加1.08克(0.06摩尔)水。在25℃下搅拌过夜后，添加6.2克二甲基丙烯酸十二烷二醇酯(DDDMA)和1.6克光引发剂Irgacure 184。
实施例2至4：
如实施例1中所述制备1∶1比例的Zr(OPr)4/MAS。
将MPTS置于第二个容器中，并向其中加入按表1所示的所需量的DMDES，PVB溶液(30wt％乙醇溶液)和TEG二(2-乙基己酸酯)并在25℃下搅拌15分钟。然后添加0.1N HCl并在室温下搅拌约10分钟，直至原来混浊的反应混合物变澄清。随后在搅拌下借助于滴液漏斗缓慢添加Zr(OPr)4/MAS。在完全添加后，在室温下搅拌4小时。随后滴加所需量的水并在室温下搅拌过夜。然后添加Crodamer UVA 421。在另外的15分钟后，添加Irgacure 819。随后将此批料用异丙醇稀释并添加Byk 306。搅拌直至完全混均。
表1
 实施例2 实施例3 实施例4
MPTS  18.6克 0.075摩尔 24.8克 0.1摩尔 31.0克 0.125摩尔
PVB溶液  133.6克 133.6克 133.6克
TEG二(2-乙基己酸酯)  105.1克 110.6克 116.1克
DMDES  11.1克 0.075摩尔 14.8克 0.1摩尔 18.5克 0.125摩尔
0.1N HCl  3.375克 0.1875摩尔 4.50克 0.25摩尔 5.6克 0.3125摩尔
Zr(OnPr)4/(MAS)  41.6克 41.6克 41.6克
H2O  1.9克 0.11摩尔 1.9克 0.11摩尔 1.9克 0.11摩尔
Crodamer UVA421  6.41克 6.75克 7.08克
Irgacure 819  6.41克 6.75克 7.08克
Byk 306  6.15克 6.5克 6.8克
异丙醇  82.0克 86.3克 90.6克
视角  12° 12° 13°
TEG＝三甘醇
DMDES＝二甲基二乙氧基硅烷
实施例5至14：
如实施例1中所述制备Zr(OPr)4/MAS：
将MPTS置于第二个容器中，向其中加入所要量的DMDES，PVB溶液(30wt％乙醇溶液)和异丙醇并在25℃下搅拌15分钟。然后，向其中加入0.1N HCl并在室温下搅拌约10分钟，直至原来混浊的反应混合物变澄清。随后借助于滴液漏斗在搅拌下缓慢地添加所需量的Zr(OPr)4/MAS。在完全添加后，在室温下搅拌4小时。然后滴加所需量的水并在室温下搅拌过夜。再添加Irgacure 819和Byk 306。搅拌直至完全混均(底漆)。随后添加按表2的增塑剂和敏化剂。
底漆
MPTS  139克 0.56摩尔
PVB溶液  601.2克
异丙醇  365.7克
DMDES  82.9克 0.56摩尔
0.1N HCl  25.2克 1.41摩尔
Zr(OnPr)4/(MAS)  187.2克
H2O  8.46克 0.47摩尔
Irgacure 819  15.8克
Byk 306  23.7克
PVB：Mowital 30HH和60HH(1∶1)
表2：增塑剂和敏化剂的变化(每10克批料的变化)：
实施例  CrodamerUVA 421 聚烷撑二醇丙烯酸酯 TEG二(2-乙基己酸酯) 视角
5  0.7776克 - 3.1104克 16°
6  1.1664克 - 3.1104克 16°
7  1.5552克 - 1.5552克 12°
8  0.7776克 2.3328克PPGDMA(570) - 12°
9  0.7776克 1.5552克PEGDMA(330) - 13°
10  0.7776克 1.5552克PEGDMA(330) 0.7776克 13°
11  0.7776克 2.3328克PPGDA(540) - 10°
12  0.7776克 1.5552克PEGDA(258) 0.7776克 13°
13  - 1.5552克PEGDMA(330) 1.5552克 14°
14  - 0.7776克PEGDMA(330) 2.3328克 16°
PPGDMA(570)：聚丙二醇二甲基丙烯酸酯(平均分子量：570克/摩尔)
PEGDMA(330)：聚乙二醇二甲基丙烯酸酯(平均分子量：330克/摩尔)
PPGDA(540)：聚丙二醇二丙烯酸酯(平均分子量：540克/摩尔)
PEGDA(258)：聚乙二醇二丙烯酸酯(平均分子量：258克/摩尔)
实施例15：用于石印术的光纳米复合材料的制备
将592.2克(1.81摩尔)Zr(OPr)4置于2升三颈烧瓶中并在冰浴中冷却至10℃。在搅拌下向其中缓慢滴加155.7克(1.81摩尔)MAS。在完全添加后，将反应混合物在10分钟后从冰浴中取出并随后在25℃下搅拌。
将2312.1克PVB(30wt％2-丙醇溶液)置于10升反应器中。然后缓慢地向其中首先加入2241.9克(9.04摩尔)MPTS，再加入1338克(9.04摩尔)二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)并在25℃下均化45分钟。随后添加407克0.1N的HCl。反应器中的温度借助恒温器保持恒定在40℃。在反应混合物澄清之后，在40℃下在强搅拌下滴加748克以上所制备的Zr(OPr)4/MAS。在完全滴加后，将反应混合物在25℃下搅拌4小时。再加入48.78克(2.71摩尔)的水并在25℃下继续搅拌16小时。随后添加260克二甲基丙烯酸己二醇酯(HDDMA)并在25℃下搅拌30分钟，最后添加99克Crodamer UVA421。在25℃下继续搅拌30分钟后，添加99.5克Irgacure 819。
全息实验
借助二波混合，以透射和反射全息照像两者的形式形成经相位调制的立体全息照像。在此使用氩离子激光作为相干光源。激光束(20mW/cm2)聚焦在约0.5mm直径上并通过射束分裂器分成相同强度的两道分光束。这两道光束的干涉导致光强度在空间上周期改变。实施例1的材料用作全息材料。为制备层，将光纳米复合材料层合到玻璃衬底(10cm×10cm×0.25cm)上，用聚酯薄膜覆盖并用这些强度调制来照明。形成一种光栅结构，其与强度调制具有相同的周期性。通过挡住实验中所用的书写光束之一而冻结折射率曲线，以使用保留的光束供随后聚合用。以此方式，形成具有90％衍射效率(波长＝633nm)的立体全息照像。
石印实验
在实施例15中所制备的纳米复合材料通过窄口涂覆法层合到聚酯(优选PET)上并在炉中在65℃下固化5分钟。为了保护此涂层，层合上一个可剥离薄膜。以此方式制备的薄膜是200m长且36cm宽，其干薄膜厚度是20至80μm，优选40至60μm。
为了制备扩散物，将保护性薄膜除去并将光敏侧涂到一个石印掩模上。在一种连续过程(频带速度：315mm/min)中，光纳米复合材料层通过具有0.8至1.8，优选1.0至1.3的光密度的掩模，用UV光(高压汞灯，功率：1200W)来照明。折射率梯度通过在100℃下的炉中热处理5分钟而固定。

Claims (11)

1.一种固态或凝胶态的可聚合的纳米复合材料，其含有
a)4.9至95.9wt％的可溶性聚合物；
b)4至95wt％的部分或完全缩合的硅烷，其选自：丙烯酰基硅烷，环氧基硅烷，丙烯酰基烷氧基硅烷，丙烯酰基环氧基硅烷，环氧基烷氧基硅烷，烷氧基硅烷和烷基烷氧基硅烷，其中该硅烷具有33至100％的无机缩合度和0至95％的有机转化度；
c)0至60wt％的丙烯酸酯；
d)0.1至50wt％的经表面改性的纳米级粒子，其选自：氧化物，硫化物，硒化物，碲化物，卤化物，碳化物，砷化物，锑化物，氮化物，磷化物，碳酸盐，羧酸盐，磷酸盐，硫酸盐，硅酸盐，钛酸盐，锆酸盐，铝酸盐，锡酸盐，高铅酸盐及其混合的氧化物；
e)0至50wt％的增塑剂；
f)0至5wt％的热或光化学交联引发剂，敏化剂，润湿剂，粘合促进剂，流变添加剂，抗氧化剂，稳定剂，着色剂，光致变色和热致变色物质，或其组合，在每一种情况下基于纳米复合材料的总重量(干重量)计。
2.根据权利要求1的纳米复合材料，其特征为，可溶性聚合物a)是可溶于有机溶剂中的聚丙烯酸酯，聚甲基丙烯酸酯，聚环氧化物，聚乙烯醇，聚乙酸乙烯酯或聚乙烯醇缩丁醛。
3.根据权利要求1或2的纳米复合材料，其特征为，硅烷b)是甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，二甲基二甲氧基硅烷，二甲基二乙氧基硅烷，3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷，乙烯基三乙氧基硅烷，甲基三乙氧基硅烷，或其组合。
4.根据权利要求1至3中至少一项的纳米复合材料，其特征为，丙烯酸酯c)是甲基丙烯酸甲酯或二丙烯酸二醇酯或二甲基丙烯酸二醇酯。
5.根据权利要求1至4中至少一项的纳米复合材料，其特征为，纳米级粒子d)用含有(甲基)丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、环氧基、羟基、羧基或氨基或其组合的化合物进行表面改性。
6.根据权利要求1至5中至少一项的纳米复合材料，其特征为，纳米级粒子是经表面改性的SiO2、TiO2、ZrO2或Ta2O5粒子。
7.根据权利要求1-6至中至少一项的纳米复合材料，其含有0.1至30wt％的增塑剂。
8.一种制备根据权利要求1至7中一项或多项的纳米复合材料的方法，其特征为，硅烷b)通过添加水解剂而部分或完全缩合，并非必要地通过UV照射而聚合，并且与成份a)，c)至f)中的一种或多种混合，或硅烷b)首先与成份a)，c)至f)中的一种或多种混合，然后缩合并非必要地聚合，且非必要地随后将有机溶剂除去。
9.一种根据权利要求1至7中一项或多项的纳米复合材料用于制备具有折射率梯度的平面材料的用途。
10.一种具有折射率梯度的薄膜，其基本上由一个或二个涂覆有根据权利要求1至7中一项或多项的纳米复合材料的透明塑料薄膜组成，其中折射率梯度通过施加电势差，电子照射，全息照像术，石印术，或通过局部照明而形成。
11.一种制备根据权利要求10的具有折射率梯度的薄膜的方法，其特征为，将根据如权利要求1至7中一项或多项的纳米复合材料涂覆到透明塑料薄膜上，使有机溶剂蒸发掉，非必要地将透明覆盖薄膜层合到纳米复合材料层上，通过施加电势差，电子照射，全息照像术，石印术，或通过局部照明而在纳米复合材料层中形成折射率梯度，并且随后通过完全的热和/或光引发纳米复合材料的交联而固定该折射率梯度。
CNB038012944A 2002-01-10 2003-01-03 用于制备具有折射率梯度的薄膜的纳米复合材料 Expired - Fee Related CN1253500C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10200760A DE10200760A1 (de) 2002-01-10 2002-01-10 Nanokompositmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenfolien
DE10200760.8 2002-01-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1568346A true CN1568346A (zh) 2005-01-19
CN1253500C CN1253500C (zh) 2006-04-26

Family

ID=7711867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB038012944A Expired - Fee Related CN1253500C (zh) 2002-01-10 2003-01-03 用于制备具有折射率梯度的薄膜的纳米复合材料

Country Status (9)

Country Link
US (1) US7473721B2 (zh)
EP (1) EP1465946B1 (zh)
JP (2) JP4423040B2 (zh)
KR (1) KR20040081119A (zh)
CN (1) CN1253500C (zh)
AT (1) ATE368706T1 (zh)
DE (2) DE10200760A1 (zh)
TW (1) TWI276657B (zh)
WO (1) WO2003057773A1 (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101985531A (zh) * 2010-03-17 2011-03-16 上海宏盾防伪材料有限公司 光涂料与其制备方法以及利用该涂料制得的感光膜
CN102866439A (zh) * 2012-09-21 2013-01-09 蚌埠玻璃工业设计研究院 一种基于高分子聚合物的cpv技术用梯度折射率透镜及其制备方法
CN102869604A (zh) * 2010-01-27 2013-01-09 伦斯勒理工学院 具有可调折射率的纳米填充的聚合物纳米复合材料
CN102880004A (zh) * 2012-09-27 2013-01-16 武汉华工图像技术开发有限公司 一种光致聚合物全息记录材料及其制备方法
CN102906162A (zh) * 2010-05-10 2013-01-30 学校法人关西大学 固化性组合物、使用其的环氧树脂-无机高分子复合材料的制造方法及环氧树脂-无机高分子复合材料
CN104812570A (zh) * 2013-07-01 2015-07-29 积水化学工业株式会社 无机膜及层积体
CN107709430A (zh) * 2015-03-18 2018-02-16 科勒克斯有限责任公司 包含基体和散射成分的复合材料系统及其制备方法和用途
CN110431197A (zh) * 2017-03-17 2019-11-08 老虎涂料有限责任及两合公司 层压油墨
CN113183550A (zh) * 2021-04-26 2021-07-30 芜湖长信科技股份有限公司 一种光学补偿可折叠玻璃复合盖板及其制备方法和应用

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10200760A1 (de) * 2002-01-10 2003-07-24 Clariant Gmbh Nanokompositmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenfolien
DE10213036A1 (de) * 2002-03-22 2003-10-02 Clariant Gmbh Kunststofffolie mit Mehrschicht-Interferenzbeschichtung
DE10259460A1 (de) 2002-12-19 2004-07-01 Tesa Ag Transparente Acrylathaftklebemasse mit einem Füllstoff
WO2004092250A1 (en) * 2003-04-15 2004-10-28 Biogenon Ltd. Biocompatible material
US20050036179A1 (en) * 2003-08-13 2005-02-17 General Electric Company Holographic storage medium comprising metal-containing high refractive index region, and storage article containing same
EP1733077B1 (en) * 2004-01-15 2018-04-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Nanocrystal doped matrixes
US7645397B2 (en) 2004-01-15 2010-01-12 Nanosys, Inc. Nanocrystal doped matrixes
CN1298783C (zh) * 2004-12-14 2007-02-07 天津市燕化新材料有限公司 光致变色纳米复合材料的聚乙烯醇缩丁醛胶片的制备方法
DE102004061323A1 (de) * 2004-12-20 2006-06-22 Epg (Engineered Nanoproducts Germany)Gmbh Optische Komponente aus einem anorganisch-organischen Hybridmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenschichten mit hoher lateraler Auflösung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102004061324A1 (de) * 2004-12-20 2006-06-22 Epg (Engineered Nanoproducts Germany)Gmbh Optische Komponente aus einem anorganisch-organischen Hybridmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenschichten mit schneller Kinetik und Verfahren zu ihrer Herstellung
CN1333302C (zh) * 2005-05-26 2007-08-22 马莒生 无源纳米型投影显示屏的制备方法
KR100761799B1 (ko) * 2005-08-24 2007-10-05 제일모직주식회사 나노복합체 및 이를 이용한 열가소성 나노복합재 수지조성물
JP2007119635A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Ito Kogaku Kogyo Kk 塗料組成物
KR100717514B1 (ko) * 2005-12-30 2007-05-11 제일모직주식회사 유기/무기 혼성 나노복합체 및 이를 이용한 열가소성나노복합재 수지 조성물
DE102006011949A1 (de) 2006-03-15 2007-09-20 Epg (Engineered Nanoproducts Germany) Ag Verfahren zur Herstellung von defektfreien mikrooptischen Lichtlenkelementen grosser Breite
DE102006044312A1 (de) * 2006-09-18 2008-03-27 Nano-X Gmbh Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen und Verwendung des Verfahrens
US8322754B2 (en) * 2006-12-01 2012-12-04 Tenaris Connections Limited Nanocomposite coatings for threaded connections
KR100762298B1 (ko) * 2006-12-29 2007-10-04 제일모직주식회사 내스크래치성이 향상된 열가소성 나노복합체 수지 조성물
WO2008084046A1 (de) * 2007-01-08 2008-07-17 Basf Se Weichmacher für polyvinylacetale und polysulfide
WO2009023169A1 (en) * 2007-08-10 2009-02-19 Nano Terra Inc. Structured smudge-resistant coatings and methods of making and using the same
CN101235284B (zh) * 2008-02-04 2011-11-09 厦门大学 溶胶-凝胶固定水溶性量子点的方法
DE102008009332A1 (de) * 2008-02-14 2009-08-20 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Optische Elemente mit Gradientenstruktur
JP5315344B2 (ja) * 2008-07-10 2013-10-16 三井化学株式会社 屈折率変調を記録したフィルム
DE102008052586A1 (de) * 2008-10-21 2010-04-22 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Zusammensetzung zur Herstellung optischer Elemente mit Gradientenstruktur
JP2012510554A (ja) * 2008-12-03 2012-05-10 ソレク ヌークリア リサーチ センター Ｕｖ硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂及びその調製方法
US20110032587A1 (en) * 2009-03-20 2011-02-10 Absolute Imaging LLC System and Method for Autostereoscopic Imaging
US20110058240A1 (en) 2009-03-20 2011-03-10 Absolute Imaging LLC System and Method for Autostereoscopic Imaging Using Holographic Optical Element
JP2010256458A (ja) * 2009-04-22 2010-11-11 Fujifilm Corp 光取出し部材用微粒子分散物、コーティング組成物、光取出し部材、及び有機電界発光表示装置
TWI386370B (zh) * 2009-05-05 2013-02-21 Ind Tech Res Inst 具梯度折射率之奈米複合材料及其製造方法
DE102009035673B4 (de) * 2009-07-30 2021-02-18 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Verfahren zur Herstellung dünner Filme und deren Verwendung
CN103534079B (zh) 2011-01-12 2016-02-03 剑桥企业有限公司 复合光学材料的制造
JP5670601B2 (ja) 2012-11-29 2015-02-18 株式会社巴川製紙所 異方性光学フィルム
FR3004720B1 (fr) * 2013-04-19 2015-09-25 Commissariat Energie Atomique Vernis reticulable et son procede d'application
WO2015010304A1 (en) 2013-07-25 2015-01-29 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Hybrid epoxy-acrylic with zirconium oxide nanocomposite for curable coatings
WO2015111523A1 (ja) 2014-01-21 2015-07-30 株式会社巴川製紙所 異方性光学フィルム
AR100953A1 (es) 2014-02-19 2016-11-16 Tenaris Connections Bv Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo
JP6288672B2 (ja) 2014-03-28 2018-03-07 株式会社巴川製紙所 異方性光学フィルム
WO2015152069A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 大日本印刷株式会社 ガスバリア性フィルム及びその製造方法
US9579829B2 (en) 2014-06-02 2017-02-28 Vadient Optics, Llc Method for manufacturing an optical element
US9507182B2 (en) 2014-06-02 2016-11-29 Vadient Optics. LLC. Nanocomposite electro-optic modulator
US9644107B2 (en) 2014-06-02 2017-05-09 Vadient Optics, LLC. Achromatic optical-dispersion corrected gradient refractive index optical-element
US10310146B2 (en) 2014-06-09 2019-06-04 Vadient Optics, Llc Nanocomposite gradient refractive-index Fresnel optical-element
US9442344B2 (en) 2014-06-02 2016-09-13 Vadient Optics, Llc Nanocomposite high order nonlinear optical-element
US9903984B1 (en) 2014-06-02 2018-02-27 Vadient Optics, Llc Achromatic optical-dispersion corrected refractive-gradient index optical-element for imaging applications
JP2016088941A (ja) * 2014-10-29 2016-05-23 国立大学法人 名古屋工業大学 硬化性樹脂組成物、硬化物、及びハードコートフィルム
US10292914B2 (en) * 2015-09-28 2019-05-21 Rohm And Haas Company Skin care formulations containing copolymers and inorganic metal oxide particles
WO2017079274A1 (en) 2015-11-02 2017-05-11 Metashield Llc Nanosilica based compositions, structures and apparatus incorporating same and related methods
US11465375B2 (en) * 2015-12-15 2022-10-11 Vadient Optics, Llc Nanocomposite refractive index gradient variable focus optic
US20200026120A1 (en) 2017-03-31 2020-01-23 Tomoegawa Co., Ltd. Anti-glare film and display device
TWI759451B (zh) 2017-03-31 2022-04-01 日商巴川製紙所股份有限公司 使用各向異性光學膜之導光積層體及使用該導光積層體的面狀光源裝置
KR102156872B1 (ko) 2017-09-27 2020-09-16 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
US11739413B2 (en) * 2019-06-05 2023-08-29 Goodrich Corporation Oxidation protection systems and methods
EP4303649A4 (en) 2021-03-05 2024-08-14 Toppan Inc OPTICAL ELEMENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3787378A (en) * 1973-01-24 1974-01-22 Hydrophilics Int Inc Optical contact lenses and related devices
JPH0218048A (ja) 1988-07-07 1990-01-22 Toray Ind Inc 防曇性被膜
US5134021A (en) * 1990-01-04 1992-07-28 Toray Industries, Inc. Anti-fogging film
US5158858A (en) * 1990-07-05 1992-10-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging system using differential tension elastomeric film
DE4133621A1 (de) * 1991-10-10 1993-04-22 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanoskalige teilchen enthaltende kompositmaterialien, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung fuer optische elemente
DE4232188C2 (de) * 1992-09-25 1995-05-18 Du Pont Deutschland Wiederverwertung der Aufzeichnungsschicht von Flexodruckplatten
DE69420290T2 (de) 1993-06-15 1999-12-09 Nashua Corp., Nashua Verfahren zur Herstellung einer Maske mit zufallsverteilten Oeffnungen zur Herstellung eines Streuschirms
DE4338361A1 (de) 1993-11-10 1995-05-11 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung von Zusammensetzungen auf der Basis von Epoxidgruppen-haltigen Silanen
GB2287553A (en) 1994-03-10 1995-09-20 Sharp Kk A method of manufacturing a diffuser
US5654090A (en) * 1994-04-08 1997-08-05 Nippon Arc Co., Ltd. Coating composition capable of yielding a cured product having a high refractive index and coated articles obtained therefrom
JP3559805B2 (ja) * 1994-04-08 2004-09-02 日本エーアールシー株式会社 高屈折率コーティング組成物と該組成物から得られる被覆物品
JPH09222504A (ja) 1996-02-16 1997-08-26 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フイルム
DE19613645A1 (de) * 1996-04-04 1997-10-09 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Optische Bauteile mit Gradientenstruktur und Verfahren zu deren Herstellung
MY122234A (en) * 1997-05-13 2006-04-29 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanostructured moulded bodies and layers and method for producing same
DE19719948A1 (de) 1997-05-13 1998-11-19 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanostrukturierte Formkörper und Schichten sowie Verfahren zu deren Herstellung
EP0989443A3 (en) * 1998-09-22 2004-03-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and process for the preparation of the same
JP2000302960A (ja) * 1999-04-19 2000-10-31 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 光学フィルム
JP2001054987A (ja) * 1999-06-07 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 直描型平版印刷用原版
EP1214613A1 (en) 1999-09-20 2002-06-19 3M Innovative Properties Company Optical films having at least one particle-containing layer
AU2515200A (en) * 1999-09-20 2001-04-24 3M Innovative Properties Company Optical films having at least one particle-containing layer
WO2003005072A1 (en) 2001-06-30 2003-01-16 Skc Co., Ltd. Light diffusing film
DE10200760A1 (de) * 2002-01-10 2003-07-24 Clariant Gmbh Nanokompositmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenfolien
DE10213036A1 (de) * 2002-03-22 2003-10-02 Clariant Gmbh Kunststofffolie mit Mehrschicht-Interferenzbeschichtung

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102869604A (zh) * 2010-01-27 2013-01-09 伦斯勒理工学院 具有可调折射率的纳米填充的聚合物纳米复合材料
CN101985531A (zh) * 2010-03-17 2011-03-16 上海宏盾防伪材料有限公司 光涂料与其制备方法以及利用该涂料制得的感光膜
CN102906162A (zh) * 2010-05-10 2013-01-30 学校法人关西大学 固化性组合物、使用其的环氧树脂-无机高分子复合材料的制造方法及环氧树脂-无机高分子复合材料
CN102906162B (zh) * 2010-05-10 2014-12-10 学校法人关西大学 固化性组合物、使用其的环氧树脂-无机高分子复合材料的制造方法及环氧树脂-无机高分子复合材料
CN102866439A (zh) * 2012-09-21 2013-01-09 蚌埠玻璃工业设计研究院 一种基于高分子聚合物的cpv技术用梯度折射率透镜及其制备方法
CN102880004A (zh) * 2012-09-27 2013-01-16 武汉华工图像技术开发有限公司 一种光致聚合物全息记录材料及其制备方法
CN104812570A (zh) * 2013-07-01 2015-07-29 积水化学工业株式会社 无机膜及层积体
US9844926B2 (en) 2013-07-01 2017-12-19 Sekisui Chemical Co., Ltd. Inorganic film and laminate
CN107709430A (zh) * 2015-03-18 2018-02-16 科勒克斯有限责任公司 包含基体和散射成分的复合材料系统及其制备方法和用途
CN107709430B (zh) * 2015-03-18 2019-11-01 科勒克斯有限责任公司 包含基体和散射成分的复合材料系统及其制备方法和用途
CN110431197A (zh) * 2017-03-17 2019-11-08 老虎涂料有限责任及两合公司 层压油墨
CN113183550A (zh) * 2021-04-26 2021-07-30 芜湖长信科技股份有限公司 一种光学补偿可折叠玻璃复合盖板及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
US20050101698A1 (en) 2005-05-12
ATE368706T1 (de) 2007-08-15
CN1253500C (zh) 2006-04-26
US7473721B2 (en) 2009-01-06
JP4740894B2 (ja) 2011-08-03
EP1465946B1 (de) 2007-08-01
EP1465946A1 (de) 2004-10-13
JP4423040B2 (ja) 2010-03-03
DE10200760A1 (de) 2003-07-24
DE50307809D1 (de) 2007-09-13
TWI276657B (en) 2007-03-21
KR20040081119A (ko) 2004-09-20
JP2007291395A (ja) 2007-11-08
TW200301770A (en) 2003-07-16
WO2003057773A1 (de) 2003-07-17
JP2005514487A (ja) 2005-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1253500C (zh) 用于制备具有折射率梯度的薄膜的纳米复合材料
CN1221324C (zh) 包括耐磨扩散阻挡层体系的基材
US6228921B1 (en) Process for the production of compounds based on silanes containing epoxy groups
CN1145659C (zh) 纳米模具和纳米薄膜及使用水溶性前体制备纳米模具和纳米薄膜的方法
KR101021045B1 (ko) 고에너지 방사선에 의해 경화 가능한 아크릴옥시 작용성실리콘 조성물
JP4913129B2 (ja) 低屈折率膜形成用コーティング組成物及びこれから製造された膜
JP3222386B2 (ja) コーティング剤組成物及びそのコーティング組成物で処理してなる物品
CN101069108A (zh) 由用于产生横向分辨率高的折射梯度层的有机－无机混合材料制成的光学元件及其制造方法
TW200301827A (en) Method of producing optical elements having a gradient structure
CN101069109A (zh) 由用于以快速动力学产生折射率梯度层的有机－无机混合材料制成的光学元件及其制造方法
EP3157986A1 (en) Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core and silsesquioxane polymer outer layer and methods
JP2001281475A (ja) 光導波路用有機・無機複合材料及びそれを用いた光導波路の製造方法
KR20170063735A (ko) 실세스퀴옥산 중합체 코어와 실세스퀴옥산 중합체 외층, 및 반응성 기를 포함하는 경화성 중합체
CN1298792C (zh) 含可水解有机硅化合物的组合物和由该组合物得到的涂层
JPH0674398B2 (ja) 光硬化型シリコン被覆組成物
JP2013185043A (ja) 光触媒塗工液、太陽光発電システム用カバー、及びその製造方法
CN1068617C (zh) 涂覆的聚碳酸酯模制品
JPWO2011099505A1 (ja) 屋外設置用デバイスおよび屋外設置用デバイス用反射防止層
JP2734320B2 (ja) ポリカーボネート物品被覆用組成物並びにポリカーボネート物品及びその製造方法
JP2008120961A (ja) 光触媒を含有するコーティング剤
JPWO2020105405A1 (ja) 反応性シリコーン組成物およびその硬化物
FR3004720A1 (fr) Vernis reticulable et son procede d'application
KR101771140B1 (ko) 자외선 경화형 코팅 조성물 및 이를 포함하는 고경도 코팅막
JP2023110439A (ja) 感光性樹脂組成物
JPWO2009019921A1 (ja) 樹脂組成物およびこれを用いた膜状光学部材

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: CLARIANT GMBH

Free format text: FORMER NAME OR ADDRESS: CLARIANT CO., LTD.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Frankfurt, Germany

Patentee after: Clariant Produkte (Deutschland) GmbH

Address before: Frankfurt, Germany

Patentee before: Kellaen Aktiengesellschaft

ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: AZ ELECTRONIC MATERIALS GERMAN COMPANY

Free format text: FORMER OWNER: CLARIANT GMBH

Effective date: 20060421

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20060421

Address after: Wiesbaden

Patentee after: AZ Electronic Materials (Germany) GmbH

Address before: Frankfurt, Germany

Patentee before: Clariant Produkte (Deutschland) GmbH

ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: TOMOEGAWA CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: AZ ELECTRONIC MATERIALS GERMAN COMPANY

Effective date: 20061110

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20061110

Address after: Tokyo, Japan

Patentee after: Hakawa Paper-making Co., Ltd.

Address before: Wiesbaden

Patentee before: AZ Electronic Materials (Germany) GmbH

C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20060426

Termination date: 20100203