JP2000302960A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ラジカル反応性のメチレン基、メチン基を有
するポリカーボネート樹脂にビニル系モノマーをグラフ
ト反応して得られたグラフト化ポリカーボネート樹脂を
用いることにより、加工特性に優れ、かつ光弾性係数が
小さく応力による表示ムラが生じにくい光学フィルムを
提供する。 【解決手段】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
り、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグラフト化さ
れたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１０のシクロ
アルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基
である。）で表される繰り返し単位からなるグラフト化
ポリカーボネート樹脂から構成された光学フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、低光弾性係数、製
膜性に優れたポリカーボネート樹脂からなる光学フィル
ム、液晶表示装置に有用な位相差フィルムおよび液晶表
示装置用基板に関する。さらに詳しくは、本発明は、ラ
ジカル反応性のメチレン基、メチン基を有する芳香族ポ
リカーボネート樹脂とビニル系モノマーとをグラフト反
応させて得られる、透明性、低複屈折性、耐熱性、耐湿
性、製膜性に優れたポリカーボネート樹脂からなる光学
フィルム、位相差フィルムおよび液晶表示装置用基板に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置において、画像の視認性を
向上させるために液晶セルと偏光板との間に位相差フィ
ルムが積層されている。この位相差フィルムは液晶層を
透過した楕円偏光を直線偏光に変換する役目をしてい
る。その材質は主としてビスフェノールＡからなるポリ
カーボネート樹脂の一軸延伸フィルムが用いられ実用化
されている。その理由は（１）透明性が高い、（２）高
い屈折率異方性を示す、（３）耐熱性が比較的高い、な
ど位相差フィルムに要求される性質が優れているからで
ある。

【０００３】しかし、該フィルムを液晶セルに偏光板と
ともに貼り合わせた時の貼りムラ、バックライトや外部
環境からの熱を受けることによる構成材料間の熱膨張
差、偏光フィルムの収縮等により応力が発生する。その
結果、そのビスフェノールＡからなるポリカーボネート
フィルムは、光弾性係数が高いために、光弾性複屈折に
起因する位相差ムラが発生し、表示像のカラーバランス
やコントラストの低減を引き起こしやすいという問題を
抱えている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この問題を克服するた
めには、応力により位相差の変化しにくい、すなわち、
光弾性係数の小さなフィルム材料を使用することが考え
られる。光弾性係数の小さな材料として、特開平０７−
２８７１２２号公報等にみられるオレフィン系の材料
や、国際公開ＷＯ９５／２３３３５３にみられるような
特殊ポリカーボネート樹脂が知られている。しかし、オ
レフィン系の材料を用いた場合、フィルムを配向させて
も複屈折が発現しにくく、延伸して位相差フィルムとす
る場合、任意の位相差値を得ることが困難であり、ま
た、極端に大きな延伸倍率を必要とし、均一な位相差値
を有するフィルムを工業的に得ることが難しいという問
題を抱えている。

【０００５】また、特殊ポリカーボネート樹脂の場合、
光弾性係数も適度に小さく、また、配向による位相差の
付与も工業的実施上、特に問題とはならないが、一般に
は、フィルムの耐熱性が高くなり、従来用いられていた
延伸装置をそのまま用いることが出来なく、耐熱性の高
い特殊な延伸装置を必要とする他、延伸加工温度が高く
均一な延伸が困難となり、幅広い範囲での位相差バラツ
キが大きくなるという欠点を有する。

【０００６】本発明は、加工特性に優れ、かつ光弾性係
数が小さく応力による表示ムラが生じにくい光学フィル
ムを提供することを目的とする。

【０００７】本発明の他の目的は、透明性、低複屈折
性、耐熱性、耐湿性、製膜性に優れたポリカーボネート
樹脂からなる光学フィルム、位相差フィルムおよび液晶
表示装置用基板を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく鋭意検討した結果、ラジカル反応性のメ
チレン基、メチン基を有するポリカーボネート樹脂にビ
ニル系モノマーをグラフト反応して得られたグラフト化
ポリカーボネート樹脂を用いることにより、かかる問題
を解決することを見いだし本発明の完成に至った。

【０００９】すなわち本発明の第１は、下記一般式
（１）

【００１０】

【化９】

【００１１】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグ
ラフト化されたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１
０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラア
ルキレン基である。）で表される繰り返し単位からなる
グラフト化ポリカーボネート樹脂から構成された光学フ
ィルムを内容とする（請求項１）。

【００１２】本発明の第２は、下記一般式（１）

【００１３】

【化１０】

【００１４】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグ
ラフト化されたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１
０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラア
ルキレン基である。）で表される繰り返し単位と、下記
一般式（２）

【００１５】

【化１１】

【００１６】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは炭
素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１
５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単
位とからなるグラフト化ポリカーボネート樹脂から構成
された光学フィルムを内容とする（請求項２）。

【００１７】本発明の第３は、下記一般式（１）

【００１８】

【化１２】

【００１９】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグ
ラフト化されたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１
０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラア
ルキレン基である。）で表される繰り返し単位と、下記
一般式（３）

【００２０】

【化１３】

【００２１】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｚは炭
素数１〜５のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラ
アルキレン基である。）で表される繰り返し単位とから
なるグラフト化ポリカーボネート樹脂から構成された光
学フィルムを内容とする（請求項３）。

【００２２】本発明の第４は、下記一般式（１）

【００２３】

【化１４】

【００２４】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグ
ラフト化されたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１
０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラア
ルキレン基である。）で表される繰り返し単位と、下記
一般式（２）

【００２５】

【化１５】

【００２６】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは炭
素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１
５のアラアルキレン基である。）で表される繰り返し単
位と、下記一般式（３）

【００２７】

【化１６】

【００２８】（式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一も
しくは異なり、水素原子またはメチル基を表し、Ｚは炭
素数１〜５のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラ
アルキレン基である。）で表される繰り返し単位とから
なるグラフト化ポリカーボネート樹脂から構成された光
学フィルムを内容とする（請求項４）。

【００２９】本発明の第５は、該光学フィルムを延伸し
て得られることを特徴とする位相差フィルムを内容とす
る（請求項１０）。

【００３０】本発明の第６は、該光学フィルムの少なく
とも一方の表面に透明電極層を設けたことを特徴とする
透明導電フィルムを内容とする（請求項１１、請求項１
２）。

【００３１】本発明の第７は、該透明導電フィルムを電
極基板として用いた液晶表示装置を内容とする（請求項
１３）。

【００３２】本発明の第８は、該透明導電フィルムを電
極基板として用いたタッチパネルを内容とする（請求項
１４）。

【００３３】

【発明の実施の形態】本発明における第１のグラフト化
ポリカーボネート樹脂は、前記式（１）で示される繰り
返し単位を必須成分とするものである。式中、Ｒ₁〜Ｒ₄
は水素原子またはメチル基で、同一であっても異なって
いてもよい。式中、Ｘはグラフト化されたビニル系ポリ
マーを有する炭素数５〜１０のシクロアルキレン基また
は炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。

【００３４】シクロアルキレン基としては、１，１−シ
クロペンチレン、１，１−シクロヘキシレン、１，１−
（３，３，５−トリメチル）シクロヘキシレン、ノルボ
ルナン−２，２−ジイル、トリシクロ[５．２．１．０
^2,6]デカン−８，８‘−ジイルなどが挙げられ、価格の
点、原料の入手のし易さから、１，１−シクロヘキシレ
ン、１，１−（３，３，５−トリメチル）シクロヘキシ
レンが好適に用いられる。

【００３５】またアラアルキレン基としては、フェニル
メチレン、１，１−（１−フェニル）エチレンなどがあ
げられる。

【００３６】Ｘにグラフト化された枝ポリマーとして
は、ビニル芳香族化合物、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、マレイン酸エステル、Ｎ−置換マレイ
ミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのビ
ニルモノマーから選ばれる１種または２種以上のビニル
モノマーからなるポリマーである。

【００３７】ビニルモノマーの使用量は、ポリカーボネ
ート樹脂１００重量部に対して５〜２００重量部、好ま
しくは１０〜１００重量部である。５重量部未満ではグ
ラフト量が不足し、一方、２００重量部を越えるとグラ
フト量が飽和するとともにビニルモノマーのホモポリマ
ーが増大し不経済である。

【００３８】該ポリカーボネート樹脂としては、例え
ば、式（２）、式（３）で示されるものを使用すること
ができる。詳しくは後述する。

【００３９】本発明においては、ビニルモノマーの分子
量調節剤を用いることができる。

【００４０】好適な分子量調節剤としては、有機硫黄化
合物が挙げられ、例えば、ｎ−オクチルメルカプタン、
ｎ−ドデシルメルカプタンなどの脂肪族メルカプタン、
芳香族メルカプタン、チオグリコール酸とそのエステ
ル、エチレンチオグリコール酸とそのエステル、エチレ
ンチオグリコール等をあげることができる。これらは単
独または２種以上組み合わせて用いられる。分子量調節
剤の使用量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対
して０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜１重
量部である。

【００４１】ラジカル重合開始剤は、１０時間半減期を
得るための分解温度が４０〜１７０℃、好ましくは６０
〜１３０℃のものである。

【００４２】前記１０時間半減期を得るための分解温度
とは、１Ｌ中にラジカル重合開始剤の０．０５または
０．１ｍｏｌ／Ｌ濃度のトルエンまたはベンゼン溶液を
加熱し、１０時間経過した時の分解率が５０％となる温
度である。

【００４３】ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロ
ピルパーオキシジカーボネート、ジミリスチルパーオキ
シジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキ
シジカーボネート、ジ（メトキシイソプロピル）パーオ
キシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシル）パーオ
キシジカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカ
ノエート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パー
オキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカ
ノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエー
ト、ｔ−ブチルパーオキシネオヘキサノエート、２，４
−ジクロロベンゾイルパーオキシド、ｔ−ヘキシルパー
オキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、
３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキシド、オ
クタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ク
ミルパーオキシオクトエート、アセチルパーオキシド、
ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｍ
−トルオイルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、
ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、１，１−ビス
（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，５，５−トリメチルシ
クロヘキサンなどをあげることができる。

【００４４】ラジカル重合開始剤の使用量は、ビニルモ
ノマーに対して通常０．０１〜５重量％、好ましくは
０．０５〜１重量％である。０．０１重量％未満ではグ
ラフト量が低くなり、一方、５重量％を越えるとゲル分
（架橋生成物）が増大し好ましくない。

【００４５】本発明における第２のグラフト化ポリカー
ボネート樹脂は、前記一般式（１）で示される繰り返し
単位と前記一般式（２）で示される繰り返し単位とを必
須成分とするものである。

【００４６】一般式（２）中、Ｒ₁〜Ｒ₄は水素原子また
はメチル基で、同一であっても異なっていてもよい。式
中、Ｙは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基または炭
素数７〜１５のアラアルキレン基である。

【００４７】シクロアルキレン基およびアラアルキレン
基としては、一般式（１）で挙げたものと同じものが挙
げられる。

【００４８】本発明における第３のグラフト化ポリカー
ボネート樹脂は、前記一般式（１）で示される繰り返し
単位と前記一般式（３）で示される繰り返し単位とを必
須成分とするものである。

【００４９】一般式（３）中、Ｒ₁〜Ｒ₄は水素原子また
はメチル基で、同一であっても異なっていてもよい。式
中、Ｚは炭素数１〜５のアルキレン基または炭素数７〜
１５のアラアルキレン基である。

【００５０】アルキレン基としては、メチレン、１，１
−エチレン、２，２−プロピレン、２，２−ブチレン、
２，２−（４−メチル）ペンチレンなどが挙げられる。
またアラアルキレン基としては、一般式（１）で挙げた
物と同じものが挙げられる。

【００５１】本発明における第４のグラフト化ポリカー
ボネート樹脂は、前記一般式（１）で示される繰り返し
単位と前記一般式（２）で示される繰り返し単位と前記
一般式（３）で示される繰り返し単位とを必須成分とす
るものである。

【００５２】本発明の第２のグラフト化ポリカーボネー
ト樹脂において、前記一般式（１）で示される繰り返し
単位と、前記一般式（２）で示される繰り返し単位との
割合は特に制限されないが、例えば前者を２０モル％以
上とし後者を８０モル％以下とするポリカーボネート樹
脂は優れた低複屈折性と高い耐熱性を有する点で優れて
いる。例えば前者が２０モル％〜９９モル％、後者が１
モル％から８０モル％である。

【００５３】本発明の第３のグラフト化ポリカーボネー
ト樹脂において、前記一般式（１）で示される繰り返し
単位と、前記一般式（３）で示される繰り返し単位との
割合は特に制限されないが、例えば前者を２０モル％以
上とし後者を８０モル％以下とするポリカーボネート樹
脂は優れた低複屈折性と高い耐熱性を有する点で優れて
いる。例えば前者が２０モル％〜９９モル％、後者が１
モル％から８０モル％である。

【００５４】本発明の第４のグラフト化ポリカーボネー
ト樹脂において、前記一般式（１）で示される繰り返し
単位と、前記一般式（２）で示される繰り返し単位と、
前記一般式（３）で示される繰り返し単位との割合は特
に制限されないが、例えば前２者の合計を２０モル％以
上とし（前者を１９モル％以上、特に１９〜９８モル％
とし）、最後者を８０モル％以下（特に１〜８０モル
％）とするポリカーボネート樹脂は優れた低複屈折性と
高い耐熱性を有する点で優れている。

【００５５】本発明に用いられる一般式（２）〜（３）
で表されるポリカーボネート樹脂の数平均分子量は１
０,０００〜１００,０００、好ましくは１５,０００〜
７０,０００であり、本発明のグラフト化ポリカーボネ
ート樹脂の数平均分子量は１２,０００〜１１０,００
０、好ましくは１７,０００〜８０,０００である。

【００５６】次に、本発明のグラフト重合反応の操作に
ついて説明する。グラフト重合反応としては、溶液重合
法、含浸重合法、溶融混練重合法が用いられる。第１ま
たは第２のグラフト化ポリカーボネート樹脂について述
べると、溶液重合法の操作としては、前記一般式（２）
で表されるポリカーボネート樹脂の溶液に、窒素ガスな
どの不活性ガスを溶液雰囲気下、重合開始剤を添加し、
１０分から２時間、好ましくは１０分から１時間攪拌し
た後、ビニルモノマーと重合開始剤の混合物、必要に応
じてこれを溶剤に溶かしたものを３０分〜５時間で、好
ましくは１時間〜３時間で添加して、さらに３時間〜１
２時間、好ましくは５時間〜１０時間反応させる。モノ
マーの残留量に応じて重合開始剤を追加することもでき
る。

【００５７】前記一般式（２）中、Ｒ₁〜Ｒ₄は、水素原
子またはメチル基で、同一であっても異なっていてもよ
い。式中、Ｙは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基ま
たは炭素数７〜１５のアラアルキレン基である。これら
は一般式（１）で挙げたものと同一のものが挙げられ
る。

【００５８】溶剤としては、クロロベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどポリカーボネート樹脂とモノマーを溶
解し、さらにラジカル反応を妨げない溶剤が用いられ、
これらは単独または２種以上組み合わせて用いられる。

【００５９】反応濃度としては、ポリカーボネート樹脂
の溶媒に対する濃度が５〜３０（ｗ／ｖ）％、好ましく
は１０〜２０（ｗ／ｖ）％である。５（ｗ／ｖ）％未満
では反応速度が低下し、一方、３０（ｗ／ｖ）％を越え
ると副生成物のホモポリマーが増大する。

【００６０】反応温度は、重合開始剤の１０時間半減期
を得るための分解温度より５〜４０℃高い温度、好まし
くは１０〜３０℃高い温度である。本反応の後、反応液
を濃縮あるいはメタノール、ヘキサン、シクロヘキサン
などの貧溶媒に投入後、ろ過することで目的の樹脂を固
体として取得できる。この樹脂は必要に応じて、室温あ
るいは加温条件下、シクロヘキサン、メタノール、アセ
トンなどにより洗浄することで未反応モノマーやビニル
系モノマーのホモポリマーを除去することができる。

【００６１】含浸重合法による操作としては、窒素など
の不活性ガス雰囲気下、一般式（３）で表されるポリカ
ーボネート樹脂の水懸濁液に、ビニルモノマーと、該ビ
ニルモノマーに対しラジカル開始剤を加えて、水性懸濁
液を生成させ、これをラジカル重合開始剤の分解が実質
的に起こらない条件で加熱してビニルモノマーおよびラ
ジカル重合開始剤をポリカーボネート樹脂に含浸させ、
次いでラジカル重合開始剤の分解が開始する温度まで上
昇させてグラフト反応させる。水媒体には懸濁剤とし
て、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、メチルセルロースなどの水溶性ポリマー、リン酸カ
ルシウム、酸化マグネシウムなどの難水溶性無機塩を適
宜使用できる。水性懸濁液中のポリカーボネート樹脂な
どの反応性成分の濃度は、水１００重量部に対して５〜
２００重量部、好ましくは１０〜１００重量部である。
５重量部未満では反応速度が低下するか又は生産効率が
低下し、２００重量部を越えると攪拌不良となる。

【００６２】溶融混練重合法による操作としては、一般
式（２）で示されるポリカーボネート樹脂に、ビニルモ
ノマーとラジカル開始剤を加えて、ラジカル重合開始剤
の分解が進行しない温度において、あらかじめ混合して
おいた後、ラジカル重合開始剤の分解が進行する温度に
おいて溶融混練する。

【００６３】水中で安定なモノマーを用いる場合は、前
記の含浸操作の後、溶融混練重合してもよい。前記の含
浸重合法の後、溶融混練重合法を併用してもよいし、前
記の溶液重合法の後、溶融混練重合法を併用してもよ
い。

【００６４】本発明の第３または第４のグラフト化ポリ
カーボネート樹脂を製造するには、一般式（２）で表さ
れる繰り返し単位と一般式（３）で表される繰り返し単
位を含有するポリカーボネート樹脂を出発物質として用
い、上記と同様の操作を行えばよい。

【００６５】前記のようにして得られたグラフト化ポリ
カーボネート樹脂は、一般に溶液からのキャスト法や溶
融押し出し法によりフィルムに加工される。しかし、光
学フィルムは高度な均一性を要求されるため溶液からの
キャスト法が好ましく用いられる。溶剤としては、ジク
ロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンな
どのハロアルカン類、テトラヒドロフラン、１，３−ジ
オキソラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル
類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、クロロベンゼンなどの
芳香族溶剤が用いられる。このうち、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン、１，３−ジオキソラン、１，
４−ジオキサン、シクロヘキサノン、クロロベンゼンな
どが溶解性とドープ安定性の面から特に好ましい。これ
らは、単独溶剤でもよいし、二種以上の混合溶剤でもよ
い。樹脂の濃度としては、本発明の光学フィルムのため
に１５重量％から３５重量％が用いられる。

【００６６】本発明グラフト化ポリカーボネート樹脂を
用いてフィルムを作成する場合、その、光弾性係数が小
さいため応力により位相差が発生しにくく、生産性良く
高品位のフィルムを製造することが可能となる。

【００６７】本発明のフィルムの膜厚は用途に応じて選
択すればよいが、一般的には、１０〜５００μｍ、好ま
しくは、３０〜３００μｍ、より好ましくは５０〜１０
０μｍの範囲が用いられる。

【００６８】本発明フィルムの分子を配向させ位相差フ
ィルムとする事が出来る。一般的には、一軸あるいは二
軸に加熱延伸することにより分子を配向する事が出来
る。

【００６９】一軸延伸法としては、テンター法による横
一軸延伸、ロール間による縦一軸延伸、ロール間圧延法
などの任意の方法が用いられる。その他、必要により湿
式延伸法を採用することもできる。

【００７０】また、フィルムの三次元屈折率を制御する
ために、特開平２−１６０２０４号公報、特開平４−２
３０７０４号公報、特開平５−１５７９１１号公報など
にみられるような特殊な延伸方法も好適に用いることが
出来る。

【００７１】延伸温度は、使用する樹脂のガラス転移温
度（Ｔｇ）に依存し、（Ｔｇ−３０）℃〜（Ｔｇ＋３
０）℃、好ましくは、（Ｔｇ−２０）℃〜（Ｔｇ＋２
０）℃の範囲が用いられる。温度がこの範囲より低いと
均一配向が困難になり、この範囲より高いと配向の緩和
が起こり期待された配向度が得られないうえに配向制御
が困難になるため好ましくない。

【００７２】好ましい位相差の範囲は、用途により適宜
選択することが出来る。一般には、λ／４位相差フィル
ムとして用いる場合は１００ｎｍから２００ｎｍの範囲
が選択され、λ／２位相差フィルムとして用いる場合
は、２００ｎｍから３５０ｎｍの範囲が選択される。ま
た、ＳＴＮ型液晶表示装置の色補償用として用いる場合
は、液晶表示装置の方式により、４００ｎｍから２００
０ｎｍの範囲で選択される。必要とされる位相差は、延
伸温度や延伸倍率を調節する事により得ることが出来
る。

【００７３】本発明のフィルムには加工温度や用途など
の必要に応じてＴｇを調節するための可塑剤が含まれて
いても良い。可塑剤の添加量はグラフト化ポリカーボネ
ート樹脂の０．１〜３０重量％、好ましくは１〜２０重
量％である。可塑剤の例としては、フタル酸系可塑剤と
してはフタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジ−ｎ−ブチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸
ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチル、フ
タル酸ｎ−オクチル、フタル酸ジ−ｎ−デシル、フタル
酸ジイソデシル、フタル酸ジ−ｎ−ドデシル、フタル酸
ジイソトリドデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタ
ル酸ブチルベンジル、イソフタル酸ジ−２−エチルヘキ
シル、脂肪族二塩基酸の例としては、アジピン酸−２−
エチルヘキシル、アジピン酸ジ−ｎ−デシル、アジピン
酸ジイソデシル、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシ
ル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘ
キシル、リン酸エステル系の例としては、リン酸トリブ
チル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸−２−
エチルヘキシル、リン酸トリクレジール、エポキシ系可
塑剤としてはエポキシ化大豆油、エポキシ化トール油脂
肪酸−２−エチルヘキシル、脂肪酸エステルの例として
はステアリン酸ブチル、オレイン酸ブチル、高分子可塑
剤としては、エステル基を含有する高分子可塑剤（アジ
ピン酸、セバシン酸、フタル酸等二塩基酸と１,２−プ
ロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール等の
グリコールとの重縮合物）、エーテル基を含有する高分
子可塑剤（ポリエチレングリコールジメチルエーテル、
ポリエチレングリコールジ安息香酸エステル）の他、数
平均分子量３００〜１００００の低分子量ポリスチレ
ン、低分子量ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、低
分子量ポリ（スチレン−α−メチルスチレン）等があげ
られ、これらは単独あるいは２種以上を混合して使用し
てもよい。

【００７４】また、本発明フィルムは液晶表示装置用基
板としても好適に用いることが出来る。本発明フィルム
を用いた液晶表示装置は、使用環境下での偏光板の収縮
により該基板に応力がかかっても、位相差を生じること
がないため、表示品位を損なうことが無いという特徴を
有する。該基板として用いる場合、フィルムの位相差
は、２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下であ
り、その位相差バラツキは１０％以下が好ましく、ま
た、その吸収軸の方向バラツキは±５°の範囲にあるこ
とが望ましい。また、表示像が視野角度により変化する
ことを防ぐため、フィルムの二軸性は小さく保つ方が好
ましい。フィルムの面方向から測定した位相差Ｒ（０）
と、光軸に対して直交方向へ４５°傾けて測定した位相
差（Ｒ（４５））の比（Ｒ（４５）／Ｒ（０））で、フ
ィルムの二軸性を表すことが出来る。Ｒ（４５）／Ｒ
（０）は、好ましくは、５以下、より好ましくは３以
下、更に好ましくは１．５以下である。また、液晶表示
装置がＳＴＮ型の液晶表示装置の場合、前記位相差フィ
ルムを該液晶表示装置用基板として用いることも可能で
ある。

【００７５】液晶表示装置用基板として用いる場合、一
般には、該フィルムの少なくとも一方の表面に酸素や水
蒸気に対するバリヤー性を付与するため単層または複数
層からなるガスバリヤー層や、透明電極層が形成され
る。

【００７６】ガスバリヤー層としては、各種ガスバリヤ
ー層を用いることができる。ガスバリヤー層を形成する
前に、フィルムとの密着性を上げるため、アンカーコー
ティングを施す場合もある。有機材料系のガスバリヤー
層としては、ポリビニールアルコール、ビニールアルコ
ールーエチレン共重合体等のビニールアルコール系重合
体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルーアクリ
ル酸メチル共重合体やアクリロニトリルースチレン共重
合体のアクリロニトリル系重合体、あるいはポリ塩化ビ
ニリデン等の有機高分子材料からなる層を用いることが
できる。これらの材料は、本発明フィルム上にグラビア
コーターやリバースコーターを用いて湿式コーティング
法により成膜を行いガスバリヤー層とする事ができる。
ポリビニルアルコール系のバリヤー層を用いる場合、吸
湿により酸素バリヤー特性が急激に低下するため、別
途、水蒸気バリヤー層を形成させることが好ましい。

【００７７】また、無機系のガスバリヤー層としては、
二酸化珪素あるいはこれを主成分として含み、一酸化珪
素、酸化アルミニウムなどの金属酸化物の１種以上を含
む化合物、及び／または、窒化珪素、あるいはこれを主
成分として含み、窒化アルミニウムなどの金属窒化物の
１種以上を含む化合物を用いることができ、この化合物
の具体例としては、例えばＳｉＯｘ、ＳｉＡｌＮなどが
あげられる。前記無機系バリヤー薄膜、すなわち珪素酸
化物を主体とした金属酸化物、及び／または、珪素窒化
物を主体とした金属窒化物のうちでもＳｉＯｘ、特にｘ
の値が１．３〜１．８、好ましくは１．５となるもの
が、酸素ガスおよび水蒸気バリヤー性の点から好まし
い。これら無機系バリヤー層は、スパッタや電子ビーム
蒸着法のような物理的気相堆積法（ＰＶＤ）の他、化学
的気相堆積法（ＣＶＤ）によって成膜することもでき
る。また、ポリシラザンなどの有機金属化合物層を本発
明フィルム上に形成させた後熱分解することにより形成
させることもできる。

【００７８】これらバリヤー層は、単独で用いても良
く、また、複数以上を併用しても構わない。特に、有機
系バリヤー層と無機系バリヤー層を併用した場合、バリ
ヤー層のクラックピンホールに対する有機系バリヤー層
の優れた耐性と、特に水蒸気に対する無機バリヤー層の
優れた耐性が相乗効果を成すため、特に好ましい組み合
わせである。なかでも、ポリビニルアルコール系のバリ
ヤー層と、電子ビーム蒸着法により成膜したシリカまた
はアルミナのバリヤー層との組み合わせが特性上最も好
ましい。この時、各層の密着性を向上する目的でそれぞ
れの層の間に、アンカーコート層を設けることができ
る。アンカーコート層として、ポリジメチルシロキサン
等のシロキサン系硬化物や、ウレタン系・エポキシ系の
硬化物層が好適に用いられる。これら硬化物層を形成さ
せる方法は特に限定されず、熱硬化法や紫外線硬化法・
電子ビーム硬化法を用いることができる。有機バリヤー
層上に硬化物層上を形成させ更に無機系バリヤー層を形
成することが、有機バリヤー層を外界から保護するとい
う意味で好ましい。そのため、硬化物上に無機バリヤー
が形成されるが、無機バリヤー層は、成膜中に該層を形
成させる基材からの低分子量物が揮発すると形成される
膜質が好ましくない変化を受け、所望する特性が得られ
ない場合がある。硬化物を硬化させる方法として、電子
ビーム硬化法は、高温に加熱することなく未硬化物を少
なくすることができるという特徴を有しており、好まし
い硬化方法である。

【００７９】また、透明電極層は、各種加工の最上層に
設けられ、インジウム酸化物を主体とする金属酸化物が
好ましい。該層は、目的により、本発明フィルムに直接
形成されることもあれば、前記バリヤー層上に形成され
ることもあり、また、バリヤー層上に密着性改善のため
の中間層を設けその上に形成されることもある。該透明
導電層は、液晶表示装置の電極として用いる場合、厚さ
２０〜４００ｎｍ程度、好ましくは５０〜２００ｎｍ程
度、さらに好ましくは８０〜１５０ｎｍ、光線透過率８
０％以上、好ましくは８５％以上、シート抵抗１００Ω
／□以下、好ましくは５０Ω／□以下の透明導電性薄膜
である。前記透明導電性薄膜の厚さが６０〜１５０ｎｍ
程度の範囲内の場合には、シート抵抗および光線透過率
の双方を目的の範囲にしやすい。また、前記透明導電性
薄膜の光線透過率が８５％程度以上の場合には、透明導
電性フィルムの透明性も良好にしうる。前記インジウム
酸化物を主体とする金属酸化物とは、酸化インジウムま
たはこれを主成分、具体的には８０％（重量％、以下同
様）以上、さらには９０〜９５％含み、酸化スズ、酸化
カドミウムなどの他の金属酸化物の１種以上を２０％以
下、さらには５〜１０％含む化合物であり、この化合物
の具体例としては、例えばＩＴＯ、ＣｄＩｎ ₂Ｏ₄などが
あげられる。前記インジウム酸化物を主体とした金属酸
化物のうちでもＩＴＯ、とくに金属換算でスズが１０％
以下、好ましくは５〜１０％のものが、高い透明性を維
持しつつシート抵抗を下げる点から好ましい。

【００８０】これら透明電極層は、無機系ガスバリヤー
と同じく、ＰＶＤやＣＶＤの他、有機金属の熱分解法に
よっても形成させることができる。

【００８１】また、上記、ガスバリヤー層や透明導電層
に加えて、液晶表示装置のカラー化を目的として、色素
などを用いたカラーフィルター層を設けることもでき
る。

【００８２】このようにして得られた透明導電フィルム
を液晶表示装置用の電極基板として用い、公知の方法に
より、液晶表示装置を組み立てることができる。

【００８３】更に、本発明フィルムは抵抗膜式タッチパ
ネル用基板としても、好適に用いることが出来る。特開
平３−１２１５２３号公報や、月刊ディスプレィ１９９
９年１月号６７頁（（株）テクノタイムズ社刊）にみら
れるような、インナータイプ型のタッチパネルには、光
学的特性の制御されたフィルムが必要とされ、ビスフェ
ノールＡタイプのポリカーボネートを用いることが試み
られている。この様なタッチパネルの場合、偏光板とタ
ッチパネル用基板が貼合されて用いられるが、偏光板の
収縮による応力で基板の光学的特性が変化し、表示像に
好ましくない影響を与えるが、本発明光学フィルムを用
いることにより、光学的特性の安定したタッチパネル用
基板を得ることが出来る。また、特開平１０−４８６２
５号公報などにみられるように、位相差フィルムとタッ
チパネルを組み合わせて用いる事が知られている。この
様なタッチパネルに於いて、本発明フィルムを用い、特
に、位相差フィルムをタッチパネル用基板として用いる
ことも有用である。

【００８４】タッチパネル用基板用途においても、本発
明フィルムは液晶表示装置用基板と同様に透明導電層を
表面に形成する。タッチパネル用基板は、必要により、
液晶表示装置用と同様の水蒸気バリヤー層を形成するこ
とも、タッチパネル内での好ましくない結露を防止する
ためには有効である。透明導電層のシート抵抗値は、２
００〜２０００Ω／□、より好ましくは、３００〜１０
００Ω／□である。対向する表面との接触による好まし
くない光干渉模様（ニュートンリング）を防止する目的
で、透明導電層を形成させる表面は、フィラーを含有す
るコーティング処理や磨耗処理により予め粗面化してお
くことも可能である。タッチパネル用基板の光線透過率
を向上するため、透明導電層での光反射を防止する目的
で、透明導電層の下に屈折率の異なる層を多層設けて反
射率を低減することもできる。酸化インジウムを主体と
した透明導電層の下層に、シリコンの酸化物を主体とし
た低屈折率の層を形成させ、更に、その下層に、チタン
やジルコニウムの酸化物を主体とした高屈折率層を設け
た三層からなる薄膜は、好ましい組み合わせである。

【００８５】

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明はこの実施例に限定されるものではない。

【００８６】フィルムの各物性値は以下のようにして測
定した。

【００８７】厚み フィルムから１０mm×１５０mmのサイズでＭＤ方向（縦
方向）、ＴＤ方向（横方向）それぞれ５枚の試験片を切
り出した。温度２０℃±２℃、湿度６０％±５％におい
て、各試験片の５ヶ所をミツトヨ製デジマティックイン
ジケーターを用いて測定し、その平均値をフィルムの厚
みとした。

【００８８】位相差 フィルムから５０mm×１５０mmのサイズでＭＤの試験片
を切り出した。温度２０℃±２℃、湿度６０％±５％に
おいて、王子計測製ＫＯＢＲＡ ２１−ＳＤＨを用い
て、各試験片について無加重における位相差値Ｒ(0)を
測定した。

【００８９】光弾性係数 上記における各試験片について、温度２０℃±２℃、
湿度６０％±５％において、王子計測製ＫＯＢＲＡ ２
１−ＳＤＨを用いて、各試験片について0.5Ｋｇの加重
を架けて位相差値Ｒ(w)を測定した。次式より光弾性係
数を算出した。Ｒ(0)はで測定した無加重における位
相差、Ｄはで測定したフィルムの厚みである。 光弾性係数（ｃｍ²/ｄｙｎｅ）＝（Ｒ(w)−Ｒ(0)／Ｄ）
÷（0.5×9.8×10⁵／（50×10^-1×Ｄ）

【００９０】ガラス転移温度（Ｔｇ） フィルムから試験片を約７ｍｇに切り出し、セイコー製
ＤＳＣを用いて、３００℃まで２０℃／ｍｉｎの昇温速
度で測定した。ＤＳＣプロファイルの変化点からガラス
転移温度を求めた。

【００９１】全光線透過率とヘイズ フィルムから５０mm×５０mmのサイズで試験片を切り出
し、日本電色工業製濁度計３００Ａを用いて、温度２０
℃±２℃、湿度６０％±５％において測定した。

【００９２】比較例１ ビスフェノールＡタイプのポリカーボネート樹脂を用い
て塩化メチレン溶液（２０重量％）を調製し、溶液流延
法によりフィルムを作製した。この未延伸フィルムのＴ
ｇは１５０℃であった。このフィルムを延伸機を用いて
１６５℃で１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。光
弾性係数は９０×１０^-13 cm²/ｄｙｎｅであった。この
フィルムの位相差は２０４ｎｍであった。フィルムの物
性値を表１に示す。

【００９３】比較例２ １，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５
−トリメチルシクロヘキサンとビスフェノールＡ（モル
比６：４）、ホスゲンからなるポリカーボネート樹脂
〔分子量は、ηSP／Ｃ＝０．８５（３２℃、クロロホル
ム中０．３２ｇ／dl）、ガラス転移温度は２１０℃（Ｄ
ＳＣ）〕塩化メチレン溶液（２５重量％）を調製し、溶
液流延法によりフィルムを作製した。この未延伸フィル
ムのＴｇは２１０℃であった。このフィルムを延伸機を
用いて２２５℃で１０％一軸延伸して延伸フィルムを得
た。光弾性係数は６３×１０^-13 cm²/ｄｙｎｅであり、
ポリカーボネート樹脂に対し７０％に低下していること
が確認された。このフィルムの位相差は１９５ｎｍであ
った。

【００９４】実施例１ メカニカルスターラー、冷却管、窒素ガス導入管を装着
した５００ｍｌ反応フラスコに、クロロベンゼン（和光
純薬製、事前に窒素ガスを１０分間バブルした）２９０
ｇを入れ、窒素ガスをバブリングしながら１１５℃に加
熱した。これに１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとビスフ
ェノールＡ（モル比４：３）、ホスゲンからなるポリカ
ーボネート樹脂〔分子量は、ηSP／Ｃ＝０．８５（３２
℃、クロロホルム中０．３２ｇ／dl）、ガラス転移温度
は２１０℃（ＤＳＣ）〕３０ｇを加え、完全に溶解させ
た。１１５℃においてこの溶液に、クロロベンゼン１０
ｇに溶解させた１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）
−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日本油脂
製、パーヘキサ３Ｍ）２２５ｍｇを１０分で添加し、さ
らに１０分攪拌した。スチレンモノマー（和光純薬製、
事前に窒素ガスを１０分間バブルした）４５ｇとパーヘ
キサ３Ｍ２２５ｍｇの混合物を１時間かけて滴下し、３
時間攪拌した。ついで、パーヘキサ３Ｍを１０５ｍｇ直
接添加し、さらに３時間攪拌した。反応溶液をロータリ
ーエバポレーター（１ｍｍＨｇ以下、８０℃）で濃縮
し、粗樹脂固体を得た。ポリスチレンを除去するため
に、前記濃縮品をシクロヘキサンを溶媒としてソックス
レー抽出して精製樹脂３５．４ｇを得た。これのプロト
ンＮＭＲ（重クロロホルム溶媒）を測定し、ポリスチレ
ンのベンゼンプロトン（２プロトン分）に対し、ポリカ
ーボネート樹脂とポリスチレンのベンゼンプロトン（８
プロトンおよび３プロトン分、合計１１プロトン分）か
らポリスチレンのグラフト量を算出したところ１８％で
あった。

【００９５】この樹脂の塩化メチレン溶液（２５重量
％）を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。
この未延伸フィルムのＴｇは１６６℃であった。このフ
ィルムの位相差は９ｎｍであった。また、遅相軸のバラ
ツキ±５°であった。

【００９６】このフィルムを延伸機を用いて１８０℃で
１０％一軸延伸して延伸フィルムを得た。光弾性係数は
３６×１０^-13cm²/ｄｙｎｅであり、ポリカーボネート
樹脂に対し４０％に低下していることが確認された。こ
のフィルムの位相差は１９２ｎｍであり、３０ｃｍ×３
０ｃｍの範囲での位相差バラツキは５ｎｍであった。目
的とする低光弾性でありながら複屈折性を示すフィルム
を得た。得られたフィルムの物性値を表１に示す。

【００９７】実施例２ 実施例１で得られた樹脂およびフタル酸ジエチル（樹脂
に対し２重量％）の塩化メチレン溶液（２５重量％）を
調製し、流延法によりフィルムを作製した。この未延伸
フィルムのＴｇは１４６℃であった。このフィルムを延
伸機を用いて１６０℃で１０％一軸延伸して延伸フィル
ムを得た。光弾性係数は３８×１０^-13cm²/ｄｙｎｅで
あり、ポリカーボネート樹脂に対し４０％に低下してい
ることが確認された。このフィルムの位相差は１８７ｎ
ｍであった。得られたフィルムの物性値を表１に示す。

【００９８】実施例３ 実施例１で得られた樹脂およびリン酸トリフェニル（樹
脂に対し２重量％）の塩化メチレン溶液（２５重量％）
を調製し、溶液流延法によりフィルムを作製した。この
未延伸フィルムのＴｇは１４５℃であった。このフィル
ムを延伸機を用いて１６０℃で１０％一軸延伸して延伸
フィルムを得た。光弾性係数は３４×１０^-13 cm²/ｄｙ
ｎｅであり、ポリカーボネート樹脂に対し４０％に低下
していることが確認された。このフィルムの位相差は１
８６ｎｍであった。得られたフィルムの物性値を表１に
示す。

【００９９】実施例４ 実施例１で得られた樹脂および低分子量ポリスチレンＳ
Ｂ−７５（数平均分子量２０００、三洋化成製、樹脂に
対し１．５重量％）の塩化メチレン溶液（２５重量％）
を調製し、流延法によりフィルムを作製した。この未延
伸フィルムのＴｇは１４３℃であった。このフィルムを
延伸機を用いて１６０℃で１０％一軸延伸して延伸フィ
ルムを得た。光弾性係数は３４×１０^-13 cm²/ｄｙｎｅ
であり、ポリカーボネート樹脂に対し４０％に低下して
いることが確認された。このフィルムの位相差は１８２
ｎｍであった。得られたフィルムの物性値を表１に示
す。

【０１００】実施例５ メカニカルスターラーを装着した１０００ｍｌ耐圧反応
器に、クロロベンゼン（和光純薬製、事前に窒素ガスを
１０分間バブルした）２９０ｇ、実施例１で用いたポリ
カーボネート樹脂〔分子量は、ηSP／Ｃ＝０．８５（３
２℃、クロロホルム中０．３２ｇ／dl）、ガラス転移温
度は２１０℃（ＤＳＣ）〕３０ｇ、スチレンモノマー
（和光純薬製、事前に窒素ガスを１０分間バブルした）
４５ｇおよび１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日本油脂製、
パーヘキサ３Ｍ）６００ｍｇを入れ、室温で完全に溶解
させた。内温を２００℃まで上げ、３時間攪拌した。反
応溶液をロータリーエバポレーター（１ｍｍＨｇ以下、
８０℃）で濃縮し、粗樹脂固体を得た。ポリスチレンを
除去するために、前記濃縮品をシクロヘキサンを溶媒と
してソックスレー抽出して精製樹脂３８．５ｇを得た。
これのプロトンＮＭＲ（重クロロホルム溶媒）を測定
し、ポリスチレンのベンゼンプロトン（２プロトン分）
に対し、ポリカーボネート樹脂とポリスチレンのベンゼ
ンプロトン（８プロトンおよび３プロトン分、合計１１
プロトン分）からポリスチレンのグラフト量を算出した
ところ３０％であった。

【０１０１】この樹脂の塩化メチレン溶液（２５重量
％）を調製し、流延法によりフィルムを作製した。この
未延伸フィルムのＴｇは１３６℃であった。このフィル
ムを延伸機を用いて１５０℃で１０％一軸延伸して延伸
フィルムを得た。光弾性係数は１１×１０^-13cm²/ｄｙ
ｎｅであり、ポリカーボネート樹脂に対し１０％に低下
していることが確認された。このフィルムの位相差は１
７９ｎｍであり、目的とする低光弾性でありながら複屈
折性を示すフィルムを得た。得られたフィルムの物性値
を表１に示す。

【０１０２】

【表１】

【０１０３】実施例６ 実施例１で得られた樹脂を用いて連続的な溶剤キャステ
ィング法により位相差９ｎｍ、遅相軸のバラツキが±５
°以下のロールフィルムを作成した。更に、フィルム上
にアクリル系ＵＶ硬化型ハードコートをコーティングし
たのち、２００×６６０ｍｍのターゲットを３台備えた
マグネトロンスパッタ装置を用いて、始めにフィルムの
片面にガスバリヤー層を成膜し、更に、フィルムの他方
の面にガスバリヤー膜、透明導電膜を順次形成した。

【０１０４】バリヤー膜用ターゲットとしてＳｉＯ₂ 、
透明導電薄膜用ターゲットとして酸化スズ比１０％のＩ
ＴＯ、スパッタガスとしてバリヤー薄膜はアルゴン流量
１００ｓｃｃｍ、酸素１ｓｃｃｍで総ガス圧２.０ｍＴ
ｏｒｒ、ＩＴＯではアルゴン３５０ｓｃｃｍ、酸素３.
５ｓｃｃｍ、総ガス圧５ｍＴｏｒｒ、パワー条件として
バリヤー薄膜はＲＦ３ｋＷ（２.２７Ｗ／ｃｍ²）、ＩＴ
ＯはＤＣ５.０Ａ２５０Ｖ（０.９６Ｗ／ｃｍ²）となる
ようにして成膜を行った。バリヤー薄膜は３分処理し、
４５ｎｍ、ＩＴＯは３分処理し、１００ｎｍとなる透明
導電フィルムを得た。

【０１０５】得られたフィルムは、シート抵抗５０Ω／
□、光線透過率８０％、酸素ガスバリヤー性０.５ｃｃ
／ｍ²／ｄａｙ、水蒸気バリヤー性０.１ｇ／ｍ²／ｄａ
ｙ、である透明導電フィルムが得られた。更に、この透
明導電フィルムを用いて、透明電極層を対向させるよう
に配置し、公知の方法にて液晶表示装置を組み立てた。

【０１０６】実施例７ 実施例１で得られた未延伸フィルムを用いて、フィルム
上にアクリル系ＵＶ硬化型ハードコートをコーティング
したのち、ＤＣマグネトロンスパッター法により、ＩＴ
Ｏの成膜を行った。ＩＴＯの膜厚は約２０ｎｍ、シート
抵抗は４５０±１０Ω／□であった。この透明導電膜付
き位相差板に電極として端部に銀電極を印刷し、別に用
意した５ｍｍピッチのスペーサーと、銀電極を印刷した
透明導電ガラスを導電膜が向かい合うように両基板の周
囲に絶縁性接着材を塗布して接着し透明タッチパネルを
作成した。

【０１０７】バックライト付のＴＦＴカラーＴＮ液晶表
示装置のバックライトと反対側（観察側）の偏光板と液
晶セルのあいだに、タッチパネルを配置し、ペンによる
押圧が液晶セルに伝搬しないようタッチパネルと液晶表
示装置のあいだは０．５ｍｍ程度空隙が開くように周囲
にギャップ剤入りの粘着剤を塗布し接着し、透明タッチ
パネル付液晶表示装置を作製した。

【０１０８】

【発明の効果】本発明により、応力により位相差の変化
が少なく、かつ、適度な配向性と耐熱性を有する光学フ
ィルムを得ることが出来る。該光学フィルムを用いるこ
とにより、応力に対して表示特性が低下しにくい、位相
差フィルム、透明導電フィルム、液晶表示装置やタッチ
パネルを得ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０６Ｆ 3/033 ３５０ Ｇ０６Ｆ 3/033 ３５０Ａ ５Ｂ０８７ // Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＦＤ Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＦＤ Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BB44 BC03 BC22 2H091 FA11X FA11Z FB02 FC07 GA01 GA03 LA12 4F071 AA22X AA28X AA33X AA34X AA36X AA50 AA77 AA86 AE04 AF29 AF30 BB07 BC01 4J002 BC032 BC062 BC092 BN171 CD162 CF032 CH052 EH036 EH096 EH146 EW046 FD022 FD026 GP00 4J029 AA09 AB01 AB04 AC05 AD09 AE03 AE04 BB13A BD09C HA01 HC01 JE052 JE082 JE092 JE102 KH01 5B087 AA04 CC14

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグラフト化さ
   れたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１０のシクロ
   アルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基
   である。）で表される繰り返し単位からなるグラフト化
   ポリカーボネート樹脂から構成された光学フィルム。
2. 【請求項２】下記一般式（１） 【化２】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグラフト化さ
   れたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１０のシクロ
   アルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基
   である。）で表される繰り返し単位と、下記一般式
   （２） 【化３】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは炭素数５〜１
   ０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラア
   ルキレン基である。）で表される繰り返し単位とからな
   るグラフト化ポリカーボネート樹脂から構成された光学
   フィルム。
3. 【請求項３】下記一般式（１） 【化４】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグラフト化さ
   れたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１０のシクロ
   アルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基
   である。）で表される繰り返し単位と、下記一般式
   （３） 【化５】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｚは炭素数１〜５
   のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン
   基である。）で表される繰り返し単位とからなるグラフ
   ト化ポリカーボネート樹脂から構成された光学フィル
   ム。
4. 【請求項４】下記一般式（１） 【化６】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｘはグラフト化さ
   れたビニル系ポリマーを有する炭素数５〜１０のシクロ
   アルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン基
   である。）で表される繰り返し単位と、下記一般式
   （２） 【化７】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは炭素数５〜１
   ０のシクロアルキレン基または炭素数７〜１５のアラア
   ルキレン基である。）で表される繰り返し単位と、下記
   一般式（３） 【化８】 （式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は同一もしくは異な
   り、水素原子またはメチル基を表し、Ｚは炭素数１〜５
   のアルキレン基または炭素数７〜１５のアラアルキレン
   基である。）で表される繰り返し単位とからなるグラフ
   ト化ポリカーボネート樹脂から構成された光学フィル
   ム。
5. 【請求項５】グラフト化されたビニル系ポリマーが、ビ
   ニル芳香族化合物、アクリル酸エステル、メタクリル酸
   エステル、マレイン酸エステル、Ｎ−置換マレイミド、
   アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエステ
   ルからなる群から選ばれる一種または二種以上のビニル
   モノマーからなるポリマーであることを特徴とする、請
   求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
6. 【請求項６】グラフト化されたビニル系ポリマーが、ス
   チレン及び／または置換スチレンからなるポリマーであ
   ることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光
   学フィルム。
7. 【請求項７】グラフト化ポリカーボネート樹脂に対して
   可塑剤を０．１〜３０重量％含むことを特徴とする請求
   項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 【請求項８】光弾性係数が７０×１０^-13 cm²/ｄｙｎｅ
   以下であり、ガラス転移温度が１００〜１９０℃である
   請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
9. 【請求項９】位相差が２０ｎｍ以下であることを特徴と
   する請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルム。
10. 【請求項１０】請求項１〜９記載の光学フィルムを延伸
    して得られることを特徴とする位相差フィルム。
11. 【請求項１１】請求項１〜９記載の光学フィルムの少な
    くとも一方の表面に透明電極層を設けたことを特徴とす
    る透明導電フィルム。
12. 【請求項１２】請求項１０記載の位相差フィルムの少な
    くとも一方の表面に透明電極層を設けたことを特徴とす
    る透明導電フィルム。
13. 【請求項１３】請求項１１または１２記載の透明導電フ
    ィルムを電極基板として用いた液晶表示装置。
14. 【請求項１４】請求項１１または１２記載の透明導電フ
    ィルムを電極基板として用いたタッチパネル。