KR100843571B1 - 푸말산디에스테르 공중합체 - Google Patents

푸말산디에스테르 공중합체 Download PDF

Info

Publication number
KR100843571B1
KR100843571B1 KR1020060003457A KR20060003457A KR100843571B1 KR 100843571 B1 KR100843571 B1 KR 100843571B1 KR 1020060003457 A KR1020060003457 A KR 1020060003457A KR 20060003457 A KR20060003457 A KR 20060003457A KR 100843571 B1 KR100843571 B1 KR 100843571B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
fumaric acid
residue
acrylic acid
group
Prior art date
Application number
KR1020060003457A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060082814A (ko
Inventor
켄이치 마키타
토루 도이
Original Assignee
도소 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2005006535A external-priority patent/JP4529696B2/ja
Priority claimed from JP2005069359A external-priority patent/JP2006249318A/ja
Application filed by 도소 가부시키가이샤 filed Critical 도소 가부시키가이샤
Publication of KR20060082814A publication Critical patent/KR20060082814A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100843571B1 publication Critical patent/KR100843571B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
    • E04—BUILDING
    • E04G—SCAFFOLDING; FORMS; SHUTTERING; BUILDING IMPLEMENTS OR AIDS, OR THEIR USE; HANDLING BUILDING MATERIALS ON THE SITE; REPAIRING, BREAKING-UP OR OTHER WORK ON EXISTING BUILDINGS
    • E04G17/00—Connecting or other auxiliary members for forms, falsework structures, or shutterings
    • E04G17/004—Strips for creating a chamfered edge
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/04—Anhydrides, e.g. cyclic anhydrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/281—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing only one oxygen, e.g. furfuryl (meth)acrylate or 2-methoxyethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2335/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2335/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of esters
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/261—In terms of molecular thickness or light wave length
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

본 발명은 뛰어난 내열성, 투명성을 갖는 광학재료에 바람직한 신규 푸말산디에스테르 공중합체를 제공한다. 특정의 푸말산디에스테르 잔기 단위와 특정의 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 특정의 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로 이루어지고, 수평균 분자량이 1,000~500,000의 범위인 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체.

Description

푸말산디에스테르 공중합체{FUMARIC DIESTER COPOLYMER}
도 1은, 실시예1에서 얻어진 푸말산디에스테르 공중합체의 CDCl3 중에서의 1H-NMR 스펙트럼이다.
도 2는, 실시예3에서 얻어진 푸말산디에스테르 공중합체의 CDCl3 중에서의 1H-NMR 스펙트럼이다.
본 발명은 신규 푸말산디에스테르 공중합체에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 뛰어난 내열성, 투명성을 갖는 신규 푸말산디에스테르 공중합체에 관한 것이다.
푸말산디에스테르로부터 얻어지는 단독중합체 또는 공중합체는, 일반적인 열가소성 비닐중합체에 비해서 높은 내열성을 나타내고, 또한 투명성이 뛰어난 수지로 되는 것이 알려져 있다. 예를 들면, 푸말산디이소프로필이나 푸말산디시클로헥실로부터 얻어지는 단독중합체는 200℃이상에서도 연화점 및 유리전이온도를 나타내지 않고, 광학분야에 있어서 여러 가지 용도로 사용가능한 투명수지로서 유망한 재료이다.(예를 들면, 특허문헌1 또는 비특허문헌1 참조).
[특허문헌1] JP-B-5-40281호 공보(The term "JP-B" as used herein means an "examined Japanese patent publication".)
[비특허문헌1] 오오츠 타카유키 저, 미래재료, 2002년, Vol.2, No.12 발행, (제 70~74페이지)
그러나, 특허문헌1 또는 비특허문헌1에는 푸말산디에스테르 잔기 단위와, 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및/또는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로 이루어지는 공중합체에 대해서는 기재되어 있지 않다.
그래서 본 발명은 뛰어난 내열성, 투명성을 갖는 신규 푸말산디에스테르 공중합체를 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의검토를 행한 결과, 신규 푸말산디에스테르 공중합체를 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 요지는 하기 (1)~(14)에 존재한다.
(1) 하기 일반식(1)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위와, 하기 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로 이루어 지고, 수평균 분자량이 1,000~500,000인 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체에 관한 것이다.
Figure 112006002225012-pat00001
(여기서 R1 및 R2는 각각 독립해서 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, 혹은 탄소수 3~6의 환상 알킬기를 나타낸다.)
Figure 112006002225012-pat00002
(여기서 R3은 수소, 메틸기, R4는 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, n=1 또는 2를 나타낸다.)
Figure 112006002225012-pat00003
(여기서 R5는 수소, 메틸기, R6은 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기 상 알킬기를 나타낸다.)
(2) 푸말산디에스테르 잔기 단위가 푸말산디이소프로필 잔기 단위인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 푸말산디에스테르 공중합체.
(3) (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위가 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 푸말산디에스테르 공중합체.
(4) 상기 (1)~(3)에 기재된 푸말산디에스테르 공중합체를 가교해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체.
(5) 상기 (4)에 기재된 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체로 이루어지는 필름.
(6) 상기 (5)에 기재된 필름으로 이루어지고, 두께가 10~700㎛, 테트라히드로푸란 불용분으로부터 측정되는 겔분률이 10%이상인 가교 필름인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 광학필름.
(7) 전체 광선투과율이 85%이상, 400㎚에 있어서의 광선투과율이 80%이상, 헤이즈가 2%이하인 것을 특징으로 하는 상기 (6)에 기재된 디스플레이용 광학필름.
(8) 두께 편차가 10㎛이하, 필름의 정면으로부터 측정한 위상차가 10㎚이하, 면 내의 위상차 편차가 5㎚이하인 것을 특징으로 하는 상기 (6) 또는 (7)에 기재된 디스플레이용 광학필름.
(9) 적어도 1층이상의 가스 배리어층을 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 (6)~(8)에 기재된 디스플레이용 광학필름.
(10) 적어도 1층이상의 하드코트층을 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 (6)~(9)에 기재된 디스플레이용 광학필름.
(11) 상기 (6)~(10)의 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 편광판 보호필름.
(12) 상기 (6)~(10)의 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
(13) 상기 (6)~(10)의 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널 필름.
(14) 상기 (6)~(10)의 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플랫패널 디스플레이용 필름기판.
(15) 상기 (6)~(10)의 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 플라스틱 필름기판.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체는, 특정의 일반식(1)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위와, 특정의 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 특정의 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로 이루어지는 공중합체이다. 여기서, 일반식(1) 로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위 중의 R1 및 R2는 각각 독립해서 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, 혹은 탄소수 3~6의 환상 알킬기를 나타내고, 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기로서는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, 펜틸기, 헥실기 등이 예시되며, 탄소수 1~6의 분기상 알킬기로서는 예를 들면 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등이 예시되고, 탄소수 3~6의 환상 알킬기로서는 예를 들면 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로헥실기 등이 예시된다. 이들 중에서도, 얻어지는 푸말산디에스테르 공중합체가 내열성이 뛰어난 것으로 되므로 이소프로필기, tert-부틸기, 시클로헥실기 등이 바람직하고, 특히 이소프로필기가 바람직하다.
그리고, 구체적인 일반식(1)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위로서는, 예를 들면 푸말산디메틸 잔기, 푸말산디에틸 잔기, 푸말산디프로필 잔기, 푸말산디-n-부틸 잔기, 푸말산디펜틸 잔기, 푸말산디헥실 잔기, 푸말산디이소프로필 잔기, 푸말산디이소부틸 잔기, 푸말산디-sec-부틸 잔기, 푸말산디-tert-부틸 잔기, 푸말산디시클로프로필 잔기, 푸말산디시클로부틸 잔기, 푸말산디시클로헥실 잔기 등이 예시된다. 이들 중에서도, 푸말산디이소프로필 잔기, 푸말산디-tert-부틸 잔기, 푸말산디시클로헥실 잔기 등이 바람직하고, 특히 푸말산디이소프로필 잔기가 바람직하다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체에 있어서의, 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중의 R3은 수소, 메틸기이 고, R4는 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기이며, n은 1 또는 2이다. R4에 있어서의 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기 등이 예시되고, 탄소수 1~4의 분기상 알킬기로서는, 예를 들면 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등이 예시된다.
그리고, 구체적인 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로서는, 예를 들면 아크릴산-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-메틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-프로필-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-메틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-프로필-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 아크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-메틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-프로필-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산- 3-tert-부틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-메틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산3-프로필-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐에틸 잔기, 메타크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐에틸 잔기 등이 예시된다.
또한, 본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체에 있어서의 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위의 R5는 수소, 메틸기이며, R6은 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기이다. R6에 있어서의 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기 등이 예시되고, 탄소수 1~4의 분기상 알킬기로서는, 예를 들면 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등이 예시된다.
그리고, 구체적인 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로서는, 예를 들면 아크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-메틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-에틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-프로필테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-n-부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-이소프로필테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-이소부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-sec-부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 아크릴산-2-tert-부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산 테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-메틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-에틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-프로필테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-n-부틸테트라히드로푸르푸릴잔기, 메타크릴산-2-이소프로필테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-이소부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-sec-부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산-2-tert-부틸테트라히드로푸르푸릴 잔기 등이 예시된다.
그리고, 이들 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중에서도 내열성, 투명성이 뛰어난 푸말산디에스테르 공중합체가 얻어지므로 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기가 바람직하게 사용된다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체에 있어서의 일반식(1)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위와, 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위의 혼합비율은, 본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체가 얻어지는 한 어떤 혼합비율이어도 가능하고, 그 중에서도 내열성, 투명성이 뛰어난 푸말산디에스테르 공중합체가 얻어지므로 푸말산디에스테르 잔기 단위 50~99몰%, 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 50~1몰%인 것이 바람직하며, 특히 푸말산디에스테르 잔기 단위 80~99몰%, 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 20~1몰%인 것이 바람직하다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체의 겔투과크로마토그래피로 측정되는 폴리스티렌 환산에 의한 수평균 분자량은 1,000~500,000이며, 바람직하게는 10,000~100,000이다. 수평균 분자량이 1,000미만인 경우는 푸말산디에스테르 공중합체의 강도가 불충분하다. 한편, 수평균 분자량이 500,000을 초과할 경우, 푸말산디에스테르 공중합체의 점도가 높아지고, 취급성이 악화된다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체의 제조방법으로서는 일반식(1)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위와, 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로 이루어지는 푸말산디에스테르 공중합체가 얻어지는 한 어떤 제조방법도 사용할 수 있고, 그 중에서도 손쉽게 제조가능하므로 하기 일반식(4)로 나타내어지는 푸말산디에스테르와, 하기 일반식(5)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 및 하기 일반식(6)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르를 라디칼 공중합하는 방법이 바람직하게 이용된다.
Figure 112006002225012-pat00004
(여기서 R7 및 R8은 각각 독립해서 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, 혹은 탄소수 3~6의 환상 알킬기를 나타낸다.)
Figure 112006002225012-pat00005
(여기서 R9는 수소, 메틸기, R10는 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, p=1 또는 2를 나타낸다.)
Figure 112006002225012-pat00006
(여기서 R11은 수소, 메틸기, R12는 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기를 나타낸다.)
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체의 제조방법에 사용되는 일반식(4)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 중의 R7 및 R8은 각각 독립해서 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, 혹은 탄소수 3~6의 환상 알킬기를 나타내고, 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, 펜틸기, 헥실기 등이 예시되고, 탄소수 1~6의 분기상 알킬기로서는, 예를 들면 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등이 예시되며, 탄소수 3~6의 환상 알킬기로서는, 예를 들면 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로헥실기 등이 예시된다. 이들 중에서도 손쉽게 푸말산디에스테르 공중합체가 얻어지므로 이소프로필기, tert-부틸기, 시클로헥실기 등이 바람직하고, 특히 이소프로필기가 바람직하다.
그리고 구체적인 일반식(4)로 나타내어지는 푸말산디에스테르로서는, 예를 들면 푸말산디메틸, 푸말산디에틸, 푸말산디프로필, 푸말산디-n-부틸, 푸말산디펜틸, 푸말산디헥실, 푸말산디이소프로필, 푸말산디이소부틸, 푸말산디-sec-부틸, 푸말산디-tert-부틸, 푸말산디시클로프로필, 푸말산디시클로부틸, 푸말산디시클로헥실 등이 예시된다. 이들 중에서도 푸말산디이소프로필, 푸말산디-tert-부틸, 푸말산디시클로헥실 등이 바람직하고, 특히 푸말산디이소프로필이 바람직하다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체의 제조방법에 사용되는 일반식(5)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르중의 R9는 수소, 메틸기이며, R10은 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기이며, p는 1 또는 2이다. R10에 있어서의 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기 등이 예시되고, 탄소수 1~4의 분기상 알킬기로서는, 예를 들면 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등이 예시된다.
그리고 구체적인 일반식(5)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르로서는, 예를 들면 아크릴산-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-메틸-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-프로필-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-이소부틸3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐메틸, 아크릴산-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-메틸-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-프로필-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐에틸, 아크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-메틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-프로필-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-메틸-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-프로필-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-n-부틸-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-이소프로필-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-이소부틸-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-sec-부틸-3-옥세타닐에틸, 메타크릴산-3-tert-부틸-3-옥세타닐에틸 등이 예시된다. 이 들 중에서도 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸이 바람직하게 사용된다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체의 제조방법에 사용되는 일반식(6)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르의 R11은 수소, 메틸기이며, R12는 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기이다. R12에 있어서의 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기 등이 예시되고, 탄소수 1~4의 분기상 알킬기로서는, 예를 들면 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등이 예시된다.
그리고, 구체적인 일반식(6)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르로서는 예를 들면 아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-메틸테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-에틸테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-프로필테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-n-부틸테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-이소프로필테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-이소부틸테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-sec-부틸테트라히드로푸르푸릴, 아크릴산-2-tert-부틸테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-메틸테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-에틸테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-프로필테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-n-부틸테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-이소프로필테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-이소부틸테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-sec-부틸테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산-2-tert-부틸테트라히드로푸르푸릴 등이 예시된다. 이들 중에서도 아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 메타크릴산테트라히드로푸르푸릴이 바람직하게 사용된다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체를 일반식(4)로 나타내어지는 푸말산디에스테르와, 일반식(5)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르및 일반식(6)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 중 적어도 1개의 (메타)아크릴산에스테르를 라디칼 공중합에 의해 제조할 때의 방법으로서는 특별히 제한은 없고, 공지의 라디칼 공중합방법으로 제조가능하며, 예를 들면 수성매체 중에서 현탁제를 사용한 현탁 공중합방법, 유화 공중합방법, 톨루엔 등의 유기용제를 사용한 용액 공중합방법, 용매를 사용하지 않는 괴상 공중합방법 등이 예시된다.
라디칼 공중합을 행할 때의 중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 옥타노일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 디-tert-부틸퍼옥사이드, tert-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, tert-부틸퍼옥시아세테이트, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, tert-부틸퍼부틸피발레이트 등의 유기과산화물;2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-부티로니트릴), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 디메틸-2,2'-아조비스이소부틸레이트, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 등의 아조계 개시제가 예시된다.
라디칼 공중합을 행할 때에 사용가능한 용매로서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용매;메탄올, 에탄올, 프로필알콜, 부틸알콜 등의 알콜계 용매;시클로헥산;디옥산;테트라히드로푸란;아세톤;메틸에틸 케톤;디메틸포름아미드;초산이소프로필, 물 등이 예시되고, 이들 혼합용매도 사용하는 것이 가능하다.
라디칼 공중합을 행할 때의 중합온도는 중합 개시제의 분해온도에 따라서 적절히 설정할 수 있고, 일반적으로는 40~150℃의 범위에서 행하는 것이 바람직하다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체에는 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에 있어서 다른 단량체 잔기 단위가 함유되어 있어도 좋고, 다른 단량체 잔기 단위로서는, 예를 들면 에틸렌 잔기, 프로필렌 잔기, 1-부텐 잔기 등의 올레핀류 잔기;아크릴산메틸 잔기, 아크릴산에틸 잔기, 아크릴산부틸 잔기 등의 아크릴산알킬에스테르류 잔기;메타크릴산메틸 잔기, 메타크릴산에틸 잔기, 메타크릴산부틸 잔기 등의 메타크릴산알킬에스테르류 잔기;스티렌 잔기, α-메틸스티렌 잔기 등의 비닐 방향족 탄화수소류 잔기;초산비닐 잔기, 프로피온산비닐 잔기, 피발산비닐 잔기 등의 카르본산비닐에스테르류 잔기;메틸비닐에테르 잔기, 에틸비닐에테르 잔기, 부틸비닐에테르 잔기 등의 비닐에테르류 잔기;N-메틸말레이미드 잔기, N-시클로헥실말레이미드 잔기, N-페닐말레이미드 잔기 등의 N-치환 말레이미드류 잔기;아크릴로니트릴 잔기;메타크릴로니트릴 잔기 등이 예시된다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체는 보다 치수안정성, 내약품성이 뛰어나므로, 푸말산디에스테르 공중합체를 가교하여 이루어지는 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체로 하는 것이 바람직하고, 특히 푸말산디에스테르 공중합체 중의 옥세타닐기 및 테트라히드로푸르푸릴기 중 적어도 1개를 개환하여 이루어지는 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체로 하는 것이 바람직하다. 가교체로 할 때의 방법으 로서는, 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체가 얻어지는 한 어떤 방법도 이용하는 것이 가능하고, 그 중에서도 손쉽게 가교체가 얻어지므로 푸말산디에스테르 공중합체에 가교 촉진제를 첨가한 후, 광조사에 의해 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체를 제조하는 방법이 바람직하며, 예를 들면 푸말산디에스테르 공중합체와 가교 촉진제를 용매에 용해한 상태에서 광조사하여 가교체로 하는 방법;푸말산디에스테르 공중합체와 가교 촉진제를 용매에 용융하고, 성형체, 예를 들면 필름으로 한 후에 광조사하여 가교체로 하는 방법 등을 이용할 수 있다.
가교체로 할 때에 사용되는 가교 촉진제로서는 가교 촉진제이면 특별히 제한은 없고, 공지의 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면 페닐디아조늄헥사플루오로안티몬산, 페닐디아조늄헥사플루오로인산, 페닐디아조늄테트라플루오로붕산 등의 방향족 디아조늄염;디페닐요오드늄헥사플루오로안티몬산, 디페닐요오드늄헥사플루오로인산, 디페닐요오드늄테트라플루오로붕산 등의 방향족 요오드늄염;트리페닐술포늄헥사플루오로안티몬산, 트리페닐헥사플루오로인산, 트리페닐술포늄테트라플루오로붕산 등의 방향족 술포늄염;(2,4-시클로펜타디엔-1-일)[(1-메틸에틸)벤젠]-철 착체;o-니트로벤질실릴에테르알루미늄 착체 등이 예시된다. 그때의 가교 촉진제의 첨가량은 푸말산디에스테르 공중합체 100g에 대하여, 바람직하게는 0.1~10g, 특히 바람직하게는 0.2~5g이다.
가교체로 할 때에 사용되는 빛으로서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면 수은 램프, 메탈할라이드램프, 엑시머 램프 등이 예시된다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체는 내열성, 투명성을 갖는 신규 푸말산 디에스테르 공중합체이며, 필름, 시트, 사출성형품 등의 각종 성형재료에 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체를 가교하여 이루어지는 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체는 필름, 시트, 성형품 등의 각종 성형품에 사용하는 것이 가능하고, 그 중에서도 필름에 사용하는 것이 바람직하며, 특히 광학필름, 디스플레이용 광학필름에 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
푸말산디에스테르 공중합체를 가교하여 이루어지는 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체로 이루어지는 디스플레이용 광학필름은, 두께가 10~700㎛인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 50~500㎛, 더욱 바람직하게는 100~300㎛의 범위이다.
또한, 디스플레이용 광학필름은 테트라히드로푸란 불용분으로부터 측정되는 겔분률이 10%이상인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 30%이상, 더욱 바람직하게는 50%이상이다. 또한, 여기서 말하는 겔분률이란, 디스플레이용 광학필름의 가교도의 지표로서 나타내어지는 것이다.
디스플레이용 광학필름의 제조방법으로서는, 디스플레이용 광학필름이 얻어지는 한에 있어서 어떤 방법을 이용해도 좋고, 예를 들면 본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체를 필름화하여, 상기 필름을 가교 필름화함으로써 제조하는 방법;본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체를 가교한 후에 가교 필름으로서 제조하는 방법 등을 예시할 수 있고, 그 중에서도 품질이 뛰어난 디스플레이용 광학필름의 제조가 가능하게 되므로 푸말산디에스테르 공중합체를 필름화하여, 상기 필름을 가교 필름화함으로써 제조하는 방법인 것이 바람직하다.
본 발명의 푸말산디에스테르 공중합체계를 필름화하는 방법으로서는, 일반적으로 필름의 제조방법으로서 알려져 있는 용융압출법, 용액 캐스트법 등의 방법을 이용하는 것이 가능하고, 그 중에서도 특히 광학특성, 내열성, 표면특성 등이 뛰어난 필름, 디스플레이용 광학필름이 얻어지므로, 용액 캐스트법에 의해 제조하는 것이 바람직하다.
여기서, 용액 캐스트법이란, 수지용액(일반적으로는 도프(dope)라고 칭한다.)을 지지기판상에 유연한 후, 가열함으로써 용매를 증발시켜서 필름을 얻는 방법이다. 유연하는 방법으로서는, 예를 들면 T다이법, 닥터 블레이드법, 바코터법, 롤코터법, 립코터법 등이 이용되고, 공업적으로는 다이로부터 도프를 벨트형상 또는 드럼형상의 지지기판에 연속적으로 밀어내는 방법이 가장 일반적으로 이용되고 있다. 또한, 사용되는 지지기판으로서는, 예를 들면 유리기판, 스텐레스나 페로타입 등의 금속기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 플라스틱 기판 등이 있다. 표면성, 광학균질성이 고도로 뛰어난 광학필름을 공업적으로 연속 제막하기 위해서는, 표면을 경면처리한 금속기판이 바람직하게 사용된다.
또한, 가교 필름화하는 방법에 관해서는, 예를 들면 전자선, 빛 및/또는 열에 의해 가교를 행하는 방법을 들 수 있다.
전자선에 의해 가교하는 방법으로서는, 일반적으로 사용되고 있는 전자선 조사장치의 사용이 가능하다. 그리고, 그때는 가교의 반응효율을 보다 뛰어난 것으로 하기 위해서, 예를 들면 트리아크릴산트리메티롤프로판, 시아누르산트리알릴 등의 다관능 비닐화합물 등의 가교조제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 전자선에 의 한 가교를 행할 경우에 있어서, 전자선의 조사강도는 5~500kGy인 것이 바람직하고, 특히 10~100kGy인 것이 바람직하다. 상기 전자선에 의한 가교는, 특히 가교 효율이 뛰어나므로 내열성이 뛰어난 디스플레이용 광학필름으로 된다.
빛에 의해 가교하는 방법으로서는, 예를 들면 수은 램프, 메탈할라이드 램프, 엑시머 램프 등을 광원으로서 사용하는 방법, 열에 의해 가교하는 방법으로서는 간단히 가열하는 방법을 들 수 있다.
또한, 가교 필름화할 때에는 보다 균일한 가교, 가교 효율이 가능하게 되어 품질이 뛰어난 디스플레이용 광학필름이 얻어지므로 가교 촉진제를 사용하는 것이 바람직하고, 상기 가교 촉진제로서는, 예를 들면 페닐디아조늄헥사플루오로안티몬산, 페닐디아조늄헥사플루오로인산, 페닐디아조늄테트라플루오로붕산 등의 방향족디아조늄염;디페닐요오드늄헥사플루오로안티몬산, 디페닐요오드늄헥사플루오로인산, 디페닐요오드늄테트라플루오로붕산 등의 방향족 요오드늄염;트리페닐술포늄헥사플루오로안티몬산, 트리페닐헥사플루오로인산, 트리페닐술포늄테트라플루오로붕산 등의 방향족 술포늄염;1-벤질-2-시아노피리디늄헥사플루오로안티몬산, 1-벤질-2-시아노피리디늄헥사플루오로인산, 1-벤질-2-시아노피리디늄테트라플루오로붕산 등의 방향족 암모늄염;에틸트리페닐포스포늄테트라플루오로안티몬산 등의 방향족 포스포늄염;(2,4-시클로펜타디엔-1-일)((1-메틸에틸)벤젠)-철 착체;o-니트로벤질실릴에테르알루미늄 착체 등이 예시된다. 그때의 가교 촉진제의 첨가량은, 푸말산디에스테르 공중합체 100중량부에 대해서 바람직하게는 0.1~10중량부, 특히 바람직하게는 0.2~5중량부이다.
디스플레이용 광학필름은 특히 투명성, 품질이 뛰어난 디스플레이용 광학필름으로 되므로 전체 광선투과율이 85%이상인 것이 바람직하고, 특히 90%이상인 것이 바람직하다. 또한, 400㎚의 빛에 대한 광투과율이 80%이상인 것이 바람직하고, 특히 85%이상인 것이 바람직하며, 90%이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 헤이즈가 2%이하인 것이 바람직하고, 특히 1%이하인 것이 바람직하다.
그리고, 디스플레이용 광학필름은 표시 품위가 뛰어난 디스플레이용 광학필름으로 되므로, 필름 정면으로부터 측정한 위상차가 10㎚이하인 것이 바람직하고, 특히 5㎚이하인 것이 바람직하다. 면 내의 위상차 편차는 5㎚이하인 것이 바람직하고, 특히 3㎚이하인 것이 바람직하다. 또한, 필름의 두께는 균일한 것이 바람직하고, 두께 편차는 10㎛이하가 바람직하며, 특히 5㎛이하가 바람직하고, 3㎛이하인 것이 더욱 바람직하다.
디스플레이용 광학필름은, 대기분위기하에 있어서의 습기나 산화에 의한 디스플레이의 열화를 보호하기 위해서, 적어도 1층이상의 가스 배리어층을 적층하여 이루어지는 것임이 바람직하다. 상기 가스 배리어층으로서는, 예를 들면 산화규소, 질화규소, 질화산화규소, 산화알루미늄, 산화탄탈, 알루미늄막 등의 무기물층;폴리비닐알콜, 폴리올레핀 등의 유기막층이 예시되고, 특히 광학특성, 가스 배리어성능, 고정밀하고 미세한 디스플레이에 중요한 치수안정성이 뛰어난 디스플레이용 광학필름으로 되므로 무기물층이 바람직하고, 특히 산화규소, 질화규소, 질화산화규소가 바람직하다. 또한, 가스 배리어층의 두께는 무기막의 경우는 1~1000㎚가 바람직하고, 특히 10~300㎚인 것이 바람직하다. 유기층의 경우에는 0.1~100㎛가 바람직하고, 특히 1~50㎛인 것이 바람직하다. 이들 가스 배리어층은 유기층과 무기층을 적층화, 다층화할 수도 있다. 가스 배리어층은 증착, 스퍼터, PECVD, CatCVD, 코팅이나 라미네이팅 등 공지의 방법에 의해 형성할 수 있다.
디스플레이용 광학필름은 필름의 표면성, 내손상성, TFT 형성시의 내약품성을 향상시키기 위해서 적어도 1층이상의 하드코트층을 갖는 것으로 하는 것이 바람직하다. 상기 하드코트층으로서는, 예를 들면 규소계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴규소계 수지, 자외선 경화형 수지, 우레탄계 하드코트제 등으로 이루어지는 층이 예시되고, 이들은 1종류이상으로 사용할 수 있다. 그 중에서도 투명성, 내손상성, 내약품성이 뛰어난 디스플레이용 광학필름으로 되므로, 자외선 경화형 코팅제에 의한 하드코트층이 바람직하고, 상기 자외선 경화형 코팅제로서는, 예를 들면 자외선 경화형 우레탄아크릴레이트, 자외선 경화형 에폭시아크릴레이트, 자외선 경화형 (폴리)에스테르아크릴레이트, 자외선 경화형 옥세탄 등이 예시된다. 하드코트층의 두께는 0.1~100㎛인 것이 바람직하고, 특히 1~50㎛가 바람직하며, 2~20㎛인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 디스플레이용 광학필름은 상기 디스플레이용 광학필름과 가스 배리어층 및/또는 하드코트층 사이에 프라이머 처리를 행한 것이어도 된다.
디스플레이용 광학필름은, 열안정성 혹은 광안정성을 향상시킬 목적으로 산화방지제, 광안정제를 함유하고 있어도 된다. 상기 산화방지제로서는, 예를 들면 힌더드페놀계 산화방지제, 인계 산화방지제, 유황계 산화방지제, 락톤 산화방지제, 아민계 산화방지제, 히드록실아민계 산화방지제, 비타민E계 산화방지제, 그 외 산 화방지제가 예시된다. 또한, 상기 광안정제로서는, 예를 들면 힌더드아민계 광안정제 등이 예시된다. 이들 산화방지제, 광안정제는 각각 단독으로 사용해도 좋고, 각각을 병용해서 사용해도 좋다.
또한, 디스플레이용 광학필름은 액정화합물의 열화방지 등의 목적으로 자외선 흡수제를 함유하고 있어도 좋고, 상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면 벤조트리아졸, 벤조페논, 트리아진, 벤조에이트 등의 자외선 흡수제를 필요에 따라서 첨가할 수도 있다. 이들 자외선 흡수제는 1종류 이상 조합시켜서 사용할 수도 있다.
또한, 디스플레이용 광학필름은 발명의 주지를 넘지 않는 범위에서, 그 외 폴리머, 계면활성제, 고분자 전해질, 도전성 착체, 무기 필러, 안료, 염료, 대전방지제, 안티블로킹제, 윤활제 등이 더해져 있어도 좋다.
디스플레이용 광학필름은 편광판 보호필름, 위상차 필름, 터치패널 필름, 플랫패널 디스플레이용 필름기판, 액정 디스플레이용 플라스틱 필름기판으로서 사용할 수 있다.
편광판 보호필름으로서는, 예를 들면 폴리비닐알콜·요오드계로 이루어지는 편광판에 대해서 그 표면을 보호하기 위해 양면 혹은 한 면에 상기 디스플레이용 광학필름을 부착시켜서 사용된다.
위상차 필름으로서는, 상기 디스플레이용 광학필름을 1축 또는 2축 연신 가공해서 제조할 수 있다. 연신방법으로서는 공지의 1축 연신법, 예를 들면 텐터에 의해 연신하는 방법, 캘린더에 의해 압연해서 연신하는 방법, 롤 사이에서 연신하는 방법, 자유폭 1축 연신법, 정폭 1축 연신법 등을 들 수 있고, 2축 연신방법으로 서는, 예를 들면 텐터에 의해 연신하는 방법, 축차 2축 연신법, 동시 2축 연신법 등이 예시된다.
터치패널 필름으로서는, 터치패널 디스플레이를 구성하는 필름으로서 사용된다. 그 사용방법은 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 저항식 터치패널의 경우, 상기 디스플레이용 광학필름에 투명도전막을 형성함으로써, 상부 전극기판 혹은 하부 전극기판으로서 사용할 수 있다.
디스플레이용 광학필름은 내열성이 뛰어나므로 플랫패널 디스플레이용 필름기판, 특히 액정 디스플레이용 플라스틱 필름기판으로서도 사용할 수 있다. 상기 필름기판상으로의 컬러필터의 형성은 포토리소그래피법, 인쇄법, 전착법 등 공지의 방법이 이용된다. 상기 필름기판상으로의 TFT의 형성은 공지의 기술, 예를 들면 S.I.D.O.3 Digest p-992(2003년)에 기재된 방법으로 실시할 수 있다.
본 발명은 뛰어난 내열성, 투명성을 갖는 신규 푸말산디에스테르 공중합체를 제공할 수 있다.
본 발명을 실시예에 기초하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 이하에 실시예에 의해 얻어진 푸말산디에스테르 공중합체의 평가·측정방법을 나타낸다. 또한, 단서가 없는 한 사용한 시약은 시판품을 사용했다.
(수평균 분자량)
겔투과크로마토그래피(GPC) 장치(토소제, HLC-802A)를 사용하여, 클로로포름을 용매로 해서, 40℃에서 측정하여 표준 폴리스티렌 환산으로부터 구했다.
(푸말산디에스테르 공중합체의 조성)
핵자기공명 측정장치(니혼덴시제, 상품명 JNM-GX270)를 사용하여 프로톤 핵자기공명 분광(1H-NMR) 스펙트럼 분석으로부터 구했다.
(투명성의 평가방법)
투명성의 평가를 행하기 위해서, 용매로서 테트라히드로푸란을 사용하여 용액 캐스트법으로 두께 300㎛의 시트를 제작하고, 헤이즈미터(니혼덴쇼쿠고교제, 상품명 NDH2000)로 전체 광선투과율 및 헤이즈를 측정했다.
(내열성의 평가방법)
푸말산디에스테르 공중합체의 내열성은 투명성의 평가에 사용한 시트를 150℃의 오븐 내에 1시간 유지하여 변색, 변형의 유무를 눈으로 봄으로써 판단했다. 판단기준은 변색, 변형이 없는 양호한 경우를 ○, 변색, 변형이 보여지는 경우를 ×로 했다.
가교 필름의 내열성은 220℃의 오븐 내에 1시간 유지하여 변색, 변형의 유무를 눈으로 봄으로써 판단했다. 판단기준은 변색, 변형이 없는 양호한 경우를 ○로 하고, 변색, 변형이 보여지는 경우를 ×로 했다.
(겔분률의 측정)
가교 필름의 중량을 측정하고, 속시렛(soxhlet) 추출법(용매:테트라히드로푸란, 3시간 환류)으로 용해물을 추출하여, 용해물의 중량을 측정했다. 가교 필름 중량으로부터 용해물 중량을 빼면, 불용해물의 중량이 구해지고, 겔분률은 하기식에 따라서 구했다.
겔분률(%)=불용해물 중량/가교 필름 중량×100
(위상차량의 측정)
고분자 소재의 편광현미경입문(아와야 유타카 저, 아그네 기술센터 판, 제 5장, pp78~82(2001))에 기재된 세나몬 컴펜세이터를 사용한 편광현미경(Senarmont 간섭법)에 의해 위상차의 측정을 행했다.
(치수안정성의 평가방법)
투명성의 평가에 사용한 필름에 100㎜ 사방에 표시를 해 두고, 필름을 유리판에 끼워, 표시를 한 4점의 간격을 정밀좌표계에 의해 측정했다. 이어서, 220℃의 오븐 속에 1시간 유지했다. 그 후 오븐으로부터 꺼내서 실온까지 방냉한 필름에 대해서 다시 4점의 간격을 측정하여, 가열 전후의 치수변화율을 구했다.
치수변화율(%)=(가열 전 치수-가열 후 치수)/가열 전 치수×100
(표면경도의 측정)
표면경도는 JIS K5600-5-4(1996)에 준거하여 긁기 연필경도를 측정했다.
[실시예1]
교반기, 냉각관, 질소도입관 및 온도계를 구비한 500mL의 4구 플라스크에 폴리비닐알콜(분자량 2,000, 비누화도 80%) 0.4g, 증류수 260g, 푸말산디이소프로필 122g(0.609몰), 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 18g(0.106몰) 및 중합 개시제인 tert-부틸퍼옥시피바레이트 0.8g(0.005몰)을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 550rpm으로 교반하면서 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 공중합을 행했다. 공중합반응의 종료 후, 플라스크 속의 중합물을 여과 선별하고, 증류수 및 메탄올로 세정함으로써 공중합체를 얻었다(수율:53%). 1H-NMR 측정(도 1)에 의해 얻어진 공중합체는, 푸말산디이소프로필 잔기 단위/아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기 단위=86/14(몰%)인 푸말산디에스테르 공중합체였다. 또한, 푸말산디에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 81,000이었다.
얻어진 푸말산디에스테르 공중합체의 내열성, 투명성을 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예2]
교반기, 냉각관, 질소도입관 및 온도계를 구비한 500mL의 4구 플라스크에 폴리비닐알콜(분자량 2,000, 비누화도 80%) 0.4g, 증류수 260g, 푸말산디이소프로필 137.5g(0.687몰), 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 2.5g(0.015몰) 및 중합 개시제인 tert-부틸퍼옥시피바레이트 0.8g(0.005몰)을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 550rpm으로 교반하면서 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 공중합을 행했다. 공중합반응의 종료 후, 플라스크 속의 중합물을 여과 선별하고, 증류수 및 메탄올로 세정함으로써 공중합체를 얻었다(수율:82%). 1H-NMR 측정에 의해 얻어진 공중합체는, 푸말산디이소프로필 잔기 단위/아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기 단위=96/4(몰%)인 푸말산디에스테르 공중합체였다. 또한, 푸말산디에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 47,000이었다.
얻어진 푸말산디에스테르 공중합체를 실시예1과 마찬가지로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예3]
교반기, 냉각관, 질소도입관 및 온도계를 구비한 500mL의 4구 플라스크에 폴리비닐알콜(중합도 2,000, 비누화도 80%) 0.4g, 증류수 260g, 푸말산디이소프로필 134g(0.669몰), 아크릴산테트라히드로푸르푸릴 6g(0.038몰) 및 중합 개시제인 tert-부틸퍼옥시피바레이트 1.1g(0.006몰)을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 550rpm으로 교반하면서 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 공중합을 행했다. 공중합반응 종료 후, 플라스크 속의 중합물을 여과 선별하고, 증류수 및 메탄올로 세정함으로써 공중합체를 얻었다(수율:60%). 1H-NMR 측정(도 2)에 의해 얻어진 공중합체는, 푸말산디이소프로필 잔기 단위/아크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기 단위=95/5(몰%)인 푸말산디에스테르 공중합체였다. 또한, 푸말산디에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 40,000이었다.
얻어진 푸말산디에스테르 공중합체를 실시예1과 마찬가지로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예4]
교반기, 냉각관, 질소도입관 및 온도계를 구비한 500mL의 4구 플라스크에 폴리비닐알콜(중합도 2,000, 비누화도 80%) 0.4g, 증류수 260g, 푸말산디이소프로필 103g(0.514몰), 아크릴산테트라히드로푸르푸릴 37g(0.212몰) 및 중합 개시제인 tert-부틸퍼옥시피바레이트 0.8g(0.005몰)을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 550rpm으로 교반하면서 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 공중합을 행했다. 공 중합반응 종료 후, 플라스크 속의 중합물을 여과 선별하고, 증류수 및 메탄올로 세정함으로써 공중합체를 얻었다(수율:65%). 1H-NMR 측정에 의해 얻어진 공중합체는, 푸말산디이소프로필 잔기 단위/아크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기 단위=64/36(몰%)인 푸말산디에스테르 공중합체였다. 또한, 푸말산디에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 50,000이었다.
얻어진 푸말산디에스테르 공중합체를 실시예1과 마찬가지로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예5]
교반기, 냉각관, 질소도입관 및 온도계를 구비한 500mL의 4구 플라스크에 폴리비닐알콜(중합도 2,000, 비누화도 80%) 0.4g, 증류수 260g, 푸말산디이소프로필 115g(0.574몰), 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 25g(0.136몰) 및 중합 개시제인 tert-부틸퍼옥시피바레이트 0.8g(0.005몰)을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 550rpm으로 교반하면서 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 공중합을 행했다. 공중합반응의 종료 후, 플라스크 속의 중합물을 여과 선별하고, 증류수 및 메탄올로 세정함으로써 공중합체를 얻었다(수율:55%). 1H-NMR 측정에 의해 얻어진 공중합체는, 푸말산디이소프로필 잔기 단위/메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기 단위=80/20(몰%)인 푸말산디에스테르 공중합체였다. 또한, 푸말산디에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 120,000이었다.
얻어진 푸말산디에스테르 공중합체를 실시예1과 마찬가지로 평가했다. 결과 를 표 1에 나타낸다.
[실시예6]
교반기, 냉각관, 질소도입관 및 온도계를 구비한 500mL의 4구 플라스크에 폴리비닐알콜(중합도 2,000, 비누화도 80%) 0.4g, 증류수 260g, 푸말산디이소프로필 130g(0.649몰), 메타크릴산테트라히드로푸르푸릴 10g(0.059몰) 및 중합 개시제인 tert-부틸퍼옥시피바레이트 0.8g(0.005몰)을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 550rpm으로 교반하면서 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 공중합을 행했다. 공중합반응의 종료 후, 플라스크 속의 중합물을 여과 선별하고, 증류수 및 메탄올로 세정함으로써 공중합체를 얻었다(수율:60%). 1H-NMR 측정에 의해 얻어진 공중합체는, 푸말산디이소프로필 잔기 단위/메타크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기 단위=90/10(몰%)인 푸말산디에스테르 공중합체였다. 또한, 푸말산디에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 50,000이었다.
얻어진 푸말산디에스테르 공중합체를 실시예1과 마찬가지로 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
투명성 평가 내열성 평가
전체 광선투과율 헤이즈
실시예1 93% 1.3% ○
실시예2 93% 1.0% ○
실시예3 93% 1.0% ○
실시예4 93% 1.2% ○
실시예5 93% 1.3% ○
실시예6 93% 1.3% ○
[실시예7-12]
실시예1-6에서 얻어진 푸말산디에스테르 공중합체 30g과, 디페닐요오드늄헥사플루오로인산 0.5g을 테트라히드로푸란에 용해한 후, 용액 캐스트법에 의해서 300㎛의 시트를 얻었다. 그 시트에 수은 램프를 10분간 조사했다. 그 결과, 얻어진 필름은 테트라히드로푸란이나 톨루엔 등의 용매에 불용이었으므로, 푸말산디에스테르 공중합체로 이루어지는 가교체인 것을 확인했다. 그리고 얻어진 가교체의 투명성을 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 어떤 가교체도 실시예1과 같은 내열성 평가에 있어서 변색, 변형이 보이지 않고 양호했다.
투명성 평가
전체 광선투과율 헤이즈
실시예7 93% 1.3%
실시예8 93% 1.0%
실시예9 93% 1.0%
실시예10 93% 1.2%
실시예11 93% 1.3%
실시예12 93% 1.3%
[실시예13]
실시예1에 의해 얻어진 푸말산디에스테르 공중합체 100중량부에 대해서, 디페닐요오드늄헥사플루오로인산 1.5중량부, 테트라히드로푸란 400중량부를 혼합하여 20중량% 용액으로 했다. 또한 상기 용액에 펜타에리스리톨테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.35중량부, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트 1.05중량부를 첨가한 용액으로 했다.
얻어진 용액을, 바코터를 사용해서 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름상에 유연하고, 이어서 100℃에서 가열해서 용매를 제거함으로써, 두께 140㎛, 두께 편차가 2㎛인 푸말산디에스테르 공중합체 필름을 제작했다.
상기 필름에 수은 램프로 빛을 10분간 조사하고, 가교를 행하여 가교 필름을 얻었다.
얻어진 가교 필름은 두께가 140㎛, 겔분률은 60%였다. 전체 광선투과율, 400㎚의 파장에서의 광선투과율, 헤이즈, 위상차 및 위상차 편차를 측정했다. 또한, 내열성 평가 및 220℃ 가열 전후의 치수변화율을 측정했다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.
얻어진 가교 필름은 디스플레이용 광학필름에 적합한 것이었다.
[실시예14]
실시예3에 의해 얻어진 푸말산디에스테르 공중합체 100중량부에 대해서 디페닐요오드늄헥사플루오로인산 1.5중량부, 테트라히드로푸란 400중량부를 혼합하여, 20중량% 용액으로 했다. 또한 상기 용액에 펜타에리스리톨테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.35중량부, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트 1.05중량부를 첨가하여 용액으로 했다.
얻어진 용액을 T다이법에 의해 용액유연장치의 지지체에 유연하여 40℃, 80℃, 120℃에서 각각 1시간 건조하고, 폭 300㎜, 두께 60㎛, 두께 편차가 1㎛인 푸말산디에스테르 공중합체 필름을 제작했다.
상기 필름에 수은 램프로 빛을 10분간 조사하고, 가교를 행하여 가교 필름을 얻었다.
얻어진 가교 필름은 두께 60㎛, 겔분률은 30%였다. 전체 광선투과율, 400㎚의 파장에서의 광선투과율, 헤이즈, 위상차 및 위상차 편차를 측정했다. 또한, 내열성 평가 및 220℃ 가열 전후의 치수변화율을 측정했다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.
얻어진 가교 필름은 디스플레이용 광학필름에 적합한 것이었다.
전체 광선투과율 (%) 400㎚ 광선투과율 (%) 헤이즈 (%) 위상차 (㎚) 위상차 편차 (㎚) 220℃ 가열 후 외관 치수 변화율 (%)
실시예13 93 91 0.4 0 0 ○ 0.007
실시에14 93 91 0.4 0 0 ○ 0.005
[실시예15-17](가스 배리어층의 형성)
실시예13에서 얻어진 가교 필름을 하기의 조건으로, 스퍼터에 의해 두께 100㎚의 질화규소층(실시예15)을 필름 양면에 형성했다. 마찬가지로 산화규소층(실시예16), 질화산화규소층(실시예17)을 양면에 형성한 필름을 제작했다.
제막온도:실온, 백그라운드압:1*10-7torr, 스퍼터 가스압:0.6㎩(Ar:80SCCM, N2:20SCCM), 인가전압:RF 마그네트론 500w.
얻어진 디스플레이용 광학필름의 헤이즈, 투습도, 및 220℃ 가열 전후의 치수변화율을 측정한 결과를 표 4에 나타낸다.
헤이즈 (%) 투습도 (g/㎡/day) 220℃ 가열 후 외관 치수변화율 (%) 가스 배리어층
실시예13 0.4 50 ○ 0.007 없음
실시예15 0.9 ＜0.1 ○ 0.002 질화규소
실시예16 0.6 ＜0.1 ○ 0.004 산화규소
실시예17 0.7 ＜0.1 ○ 0.002 질화산화규소
[실시예18](하드코트층의 형성)
실시예13에서 얻어진 140㎛의 가교 필름의 양면에 자외선 경화형 우레탄아크릴레이트 75중량부, 1,6-헥산디올아크릴레이트 10중량부, 이소보닐아크릴레이트 10중량부, 광개시제(지바 스페셜티 케미컬제, 상품명 다로큐어(darocur)1173) 3.5중량부, 산화방지제(지바 스페셜티 케미컬제, 상품명 Irganox1010) 1.4중량부, 규소계 레벨링제 0.1중량부로 이루어지는 자외선 경화형 수지 조성물을 코터에 의해 4㎛의 두께로 도포하고, 고압 수은등으로 광조사하여 하드코트층을 갖는 필름을 제작했다.
얻어진 필름의 광학특성 및 표면경도를 평가했다. 결과를 표 5에 나타낸다.
[실시예19](하드코트층의 형성)
실시예15에서 얻어진 질화규소막을 갖는 필름에 자외선 경화형 에폭시아크릴레이트 60중량부, 1,6-헥산디올아크릴레이트 20중량부, 이소보닐아크릴레이트 15중량부, 광개시제(지바 스페셜티 케미컬제, 상품명 다로큐어1173) 3.5중량부, 산화방지제(지바 스페셜티 케미컬제, 상품명 Irganox1010) 1.4중량부, 규소계 레벨링제0.1중량부로 이루어지는 자외선 경화형 수지 조성물을 코터에 의해 4㎛의 두께로 도포 하고, 고압 수은등으로 광조사했다. 얻어진 디스플레이용 광학필름의 광학특성 및 표면경도를 평가하고, 그 결과를 표 5에 나타낸다.
가스 배리어층 하드코트층 헤이즈 (%) 표면경도 220℃ 가열 후 외관
실시예13 없음 없음 0.4 HB ○
실시예18 없음 있음 0.5 2H ○
실시예19 있음 있음 0.9 2H ○
[실시예20](편광판 보호필름의 제작)
실시예14와 같은 방법에 의해 두께 60㎛, 두께 편차 2㎛인 가교 필름을 제작했다.
상기 필름의 한쪽의 면에 폴리에스테르폴리올과 이소시아네이트의 초산에틸 용액을 바코터를 사용해서 도포하고, 폴리비닐알콜·요오드 편광판의 양면에 부착시켜, 120℃에서 1시간 열처리했다. 부착시킨 필름은 가열에 의한 편광판으로부터의 박리도 없었고, 편광판 보호필름으로서 사용가능했다.
[실시예21](위상차 필름의 제작)
실시예13에서 얻어진 가교 필름을 사방 5㎝ 절단한 후, 2축 연신기(이모토 세이사쿠쇼제)를 사용하여, 180℃의 조건하에서 연신하고, 필름을 제작했다. 얻어진 필름의 두께는 80㎛, 위상차는 10㎚이며, 위상차 필름에 적합한 것이었다.
[실시예22](터치패널 필름의 제작)
실시예15에서 얻어진 가스 배리어층을 적층한 필름상에, 하기의 방법으로 투명도전막(ITO막)을 형성하여 필름을 제작했다. 얻어진 필름은 전체 광선투과율이 93%, 헤이즈가 0.4%이며, 또한 ITO막을 형성할 때의 스퍼터 온도(200℃)이상의 내열성을 나타내므로 터치패널 필름에 적합한 것이었다.
투명도전막의 제막조건:제막온도:200℃, 백그라운드압:1*10-7torr, 스퍼터 가스압:0.6㎩(Ar:80SCCM, O2:20SCCM), 인가전압:RF 마그네트론 500w.
[실시예23](플라스틱 필름기판의 제작)
실시예19에서 얻어진 가스 배리어층 및 하드코트층을 갖는 필름에 스퍼터 처리에 의해 투명전극막(ITO막)을 설치했다(스퍼터 온도:200℃). 또한 ITO층에 폴리이미드 배향막을 스핀 코트에 의해 도포하고, 180℃에서 1시간 베이킹한 후, 러빙(rubbing) 처리를 행했다. 이렇게 해서 제작한 필름기판에 스페이서를 산포(散布)하고, 2장을 상하 러빙 방향이 수직으로 되도록 밀봉제로 고정했다. 밀봉제를 경화 후 진공주입에 의해 액정을 주입하여 에폭시 수지로 밀봉하여 액정셀을 제작했다. 셀 상하에 편광판(니토덴코제, 상품명 NPF)을 붙이고, 표시특성을 평가했다. 백색표시 및 흑색표시도 균일해서 편차가 없는 표시가 가능했다. 또한 이렇게 해서 제작한 액정표시소자는 유연하고 플렉시블이고, 액정 디스플레이용 플라스틱 기판에 적합한 것이었다.
이상과 같이, 본 발명에 의하면 뛰어난 내열성, 투명성을 갖는 광학재료에 바람직한 신규 푸말산디에스테르 공중합체를 제공할 수 있다.

Claims (15)

  1. 하기 일반식(1)로 나타내어지는 푸말산디에스테르 잔기 단위와, 하기 일반식(2)로 나타내어지는 옥세타닐기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 및 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 테트라히드로푸르푸릴기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위 중 1개 이상의 (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위로 이루어지고, 수평균 분자량이 1,000~500,000인 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체.
    Figure 112006002225012-pat00007
    여기서 R1 및 R2는 각각 독립해서 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, 혹은 탄소수 3~6의 환상 알킬기를 나타낸다.
    Figure 112006002225012-pat00008
    여기서 R3은 수소, 메틸기, R4는 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기, n=1 또는 2를 나타낸다.
    Figure 112006002225012-pat00009
    여기서 R5는 수소, 메틸기, R6은 수소, 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기, 분기상 알킬기를 나타낸다.
  2. 제 1항에 있어서, 푸말산디에스테르 잔기 단위가 푸말산디이소프로필 잔기 단위인 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체.
  3. 제 1항에 있어서, (메타)아크릴산에스테르 잔기 단위가 아크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산-3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기, 메타크릴산테트라히드로푸르푸릴 잔기인 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체.
  4. 제 1항에 기재된 푸말산디에스테르 공중합체를 가교해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체.
  5. 제 4항에 기재된 푸말산디에스테르 공중합체의 가교체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름.
  6. 제 5항에 기재된 필름으로 이루어지고, 두께가 10~700㎛, 테트라히드로푸란 불용분으로부터 측정되는 겔분률이 10%이상인 가교 필름인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 광학필름.
  7. 제 6항에 있어서, 전체 광선투과율이 85%이상, 400㎚에 있어서의 광선투과율이 80%이상, 헤이즈가 2%이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 광학필름.
  8. 제 6항에 있어서, 두께 편차가 10㎛이하, 필름의 정면으로부터 측정한 위상차가 10㎚이하, 면 내의 위상차 편차가 5㎚이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 광학필름.
  9. 제 6항에 있어서, 1층이상의 가스 배리어층을 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 광학필름.
  10. 제 6항에 있어서, 1층이상의 하드코트층을 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 광학필름.
  11. 제 6항에 기재된 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 편광판 보호필름.
  12. 제 6항에 기재된 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
  13. 제 6항에 기재된 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널 필름.
  14. 제 6항에 기재된 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플랫패널 디스플레이용 필름기판.
  15. 제 6항에 기재된 디스플레이용 광학필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 플라스틱 필름기판.
KR1020060003457A 2005-01-13 2006-01-12 푸말산디에스테르 공중합체 KR100843571B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005006535A JP4529696B2 (ja) 2005-01-13 2005-01-13 フマル酸ジエステル共重合体
JPJP-P-2005-00006535 2005-01-13
JP2005069359A JP2006249318A (ja) 2005-03-11 2005-03-11 ディスプレイ用光学フィルム
JPJP-P-2005-00069359 2005-03-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060082814A KR20060082814A (ko) 2006-07-19
KR100843571B1 true KR100843571B1 (ko) 2008-07-03

Family

ID=37173385

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060003457A KR100843571B1 (ko) 2005-01-13 2006-01-12 푸말산디에스테르 공중합체

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7759451B2 (ko)
KR (1) KR100843571B1 (ko)
TW (1) TWI337186B (ko)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005153273A (ja) * 2003-11-25 2005-06-16 Nitto Denko Corp 樹脂シート、液晶セル基板、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置用基板、エレクトロルミネッセンス表示装置および太陽電池用基板
EP1898252B1 (en) 2006-09-05 2014-04-30 Tosoh Corporation Optical compensation film stack and stretched retardation film
KR100964787B1 (ko) * 2007-04-16 2010-06-21 주식회사 엘지화학 광학필름 및 이를 포함하는 액정표시장치
JP5830949B2 (ja) 2010-07-06 2015-12-09 東ソー株式会社 位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなる位相差フィルム
EP2876120B1 (en) * 2012-07-20 2017-09-06 Tosoh Corporation (diisopropyl fumarate)-(cinnamic acid derivative) copolymer, and phase difference film produced using same
KR102115142B1 (ko) 2012-11-28 2020-05-26 도소 가부시키가이샤 푸마르산디에스테르-계피산에스테르계 공중합체, 그 제조 방법 및 그것을 사용한 필름
WO2015040931A1 (ja) * 2013-09-20 2015-03-26 リケンテクノス株式会社 ポリ（メタ）アクリルイミド系樹脂層を含む透明多層フィルム、及びその製造方法
JP7061429B2 (ja) * 2016-10-03 2022-04-28 株式会社きもと 無機化合物層接着用のハードコートフィルム、および、該ハードコートフィルムを用いた透明導電性フィルムおよびタッチパネル
US11225540B2 (en) 2016-12-07 2022-01-18 Tosoh Corporation Copolymer and optical film using same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61211316A (ja) 1985-03-16 1986-09-19 Nippon Oil & Fats Co Ltd 芳香族ビニル／フマル酸ジエステル共重合体
JPS61241305A (ja) 1985-04-18 1986-10-27 Nippon Oil & Fats Co Ltd フマル酸ジエステルのラジカル重合反応を制御する方法
JP2000159970A (ja) 1998-11-30 2000-06-13 Nof Corp 架橋用フマル酸ジエステル系樹脂組成物及びその架橋物
JP2002220423A (ja) 2001-01-24 2002-08-09 Tdk Corp 架橋性低比誘電性高分子材料ならびにそれを用いたフィルム、基板および電子部品

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6272710A (ja) 1985-09-26 1987-04-03 Nippon Oil & Fats Co Ltd アクリル酸エステル系ポリマ−コンポジツトの製造法
ES2116283T3 (es) * 1989-12-12 1998-07-16 Mitsui Chemicals Inc Composicion para toner electrofotografico y procedimiento para su produccion.
JPH0511220A (ja) 1991-07-04 1993-01-19 Nippon Oil & Fats Co Ltd 高酸素透過性コンタクトレンズ
JP3108550B2 (ja) * 1992-11-11 2000-11-13 株式会社メニコン 軟質眼用レンズ材料
JP3612349B2 (ja) 1994-06-24 2005-01-19 株式会社日本コンタクトレンズ コンタクトレンズ又は眼内レンズとして用いられる材料
JP3047800B2 (ja) * 1995-11-20 2000-06-05 東亞合成株式会社 側鎖にオキセタニル基を含有する重合体の製造方法
JP3238064B2 (ja) * 1996-02-05 2001-12-10 ティーディーケイ株式会社 低誘電性高分子材料の使用方法ならびにそれを用いたフィルム、基板および電子部品の使用方法
JP4725046B2 (ja) * 2003-08-20 2011-07-13 東ソー株式会社 ディスプレイ用プラスチック基板および表示素子

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61211316A (ja) 1985-03-16 1986-09-19 Nippon Oil & Fats Co Ltd 芳香族ビニル／フマル酸ジエステル共重合体
JPS61241305A (ja) 1985-04-18 1986-10-27 Nippon Oil & Fats Co Ltd フマル酸ジエステルのラジカル重合反応を制御する方法
JP2000159970A (ja) 1998-11-30 2000-06-13 Nof Corp 架橋用フマル酸ジエステル系樹脂組成物及びその架橋物
JP2002220423A (ja) 2001-01-24 2002-08-09 Tdk Corp 架橋性低比誘電性高分子材料ならびにそれを用いたフィルム、基板および電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
TW200634034A (en) 2006-10-01
US20070298247A1 (en) 2007-12-27
US7759451B2 (en) 2010-07-20
KR20060082814A (ko) 2006-07-19
TWI337186B (en) 2011-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100843571B1 (ko) 푸말산디에스테르 공중합체
KR100939481B1 (ko) 디스플레이용 플라스틱기판 및 표시소자
JP5028961B2 (ja) 共重合体及び該共重合体よりなる光学フィルム
JP2006249318A (ja) ディスプレイ用光学フィルム
EP2578609B1 (en) Acrylic thermoplastic resin and molded object thereof
US20080266493A1 (en) Resin composition for optical material
WO2016099972A1 (en) Polymeric materials with negative photoelastic constants
US8497959B2 (en) Optical film and liquid crystal display
JP4918759B2 (ja) 光学フィルム
JP4696542B2 (ja) 偏光子保護フィルムおよび偏光板
JP5625751B2 (ja) フラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板
WO2013069642A1 (ja) 位相差フィルム及びそれを備える液晶表示装置
JP2009227868A (ja) 樹脂組成物およびフィルム
US8084563B2 (en) Cyclic olefin addition copolymer, process for production thereof, and retardation film obtained from the copolymer
KR101499899B1 (ko) 광학필름용 고분자, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 광학필름
KR101508038B1 (ko) 광학 필름용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학 필름
JP2005010294A (ja) 積層体
JP4918761B2 (ja) 透明性フィルムの製造方法
JP5170275B2 (ja) 光学フィルム
KR101521682B1 (ko) 보관 안정성이 우수한 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판
JP2012066589A (ja) 透明性フィルムの製造方法
JP5716854B2 (ja) フラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板
JP5838807B2 (ja) ディスプレイ用透明プラスチックフィルム基板
KR101565629B1 (ko) 광학 필름용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학 필름
WO2024019169A1 (ja) 蒸着用基材フィルム、および蒸着フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130531

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140603

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150601

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160527

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170530

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180618

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190618

Year of fee payment: 12