JP2012510554A - Uv硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂及びその調製方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有する紫外線(UV)硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製方法に関する。本方法により得られるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、極めて短時間のうちにUV硬化させることができ、硬化させると、高い光学品質と高い熱安定性と優れた接合特性とを有する収縮や亀裂のない透明なガラス様生成物を形成することができる。これらの特性を考慮して、このハイブリッド樹脂を、電子光学、マイクロエレクトロニクス、ステレオリソグラフィー及びバイオフォトニクス用途などの様々な用途で用いることができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有する紫外線(UV)硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製方法に関する。このハイブリッド樹脂は、硬化させると、透明なガラス様生成物を形成することができ、従って、様々な用途で用いることができる。
ゾル−ゲル法は、低温(25〜80℃)でシリカ様材料を調製する周知のプロセスであり、一般に、ゾル調製、鋳型の中でのゾルのゲル化、乾燥、焼成及び焼結からなる(Klein,1988及び1993;Hench and West,1990)。このプロセスは、光学部材ならびに保護コーティング及び機能性コーティング、セラミック粉末の製造、光ファイバー、化粧品及び絶縁体のマトリックスの製造などの様々な用途で実施される。伝統的なゾル−ゲルプロセスは、最後には非晶質無機材料となる、金属アルコキシド前駆体、例えば、ケイ素アルコキシドならびに同様の金属アルコキシド(例えば、チタニウム、アルミニウム及びジルコニウム)の化学反応を伴う。使用が伸びている手法は、有機修飾アルコキシドを前駆体として用いた無機−有機ハイブリッドゾル−ゲルの製造である。これらのハイブリッド生成物は、有機修飾ケイ酸塩(ORMOSIL)として一般に知られている。
従来のゾル−ゲルプロセスによって、即ち、伝統的なアルコキシドを前駆体として用いることによって調製されるゾル−ゲル生成物の欠点の1つは、達成可能なバルクサイズを数センチメートルに、又は達成可能な膜厚を1μm未満に制限する亀裂の形成である(Dislich,1988)。これらの制限を克服するために、ゾル−ゲルマトリックス中に有機ポリマーを導入し、それにより無機−有機ハイブリッドを生成させることが提案された(Schmidt,1989)。無機−有機ハイブリッドの製造のための基本前駆体は、Schmidtによって開発された有機修飾アルコキシド(Schmidt,1984)、即ち、少なくとも1つのアルコキシル基が有機尾部によって置換されているアルコキシドであり、この有機尾部によって、ストレスが解放され、ゾル−ゲル生成物にさらなる柔軟性が与えられ、それによりこの材料は形成プロセスの間の毛細管力に耐えることができ、大きなバルク又は厚膜(数十から数百μm)を形成することができる。メチルトリメトキシシラン(MTMS)、ジメトキシジメチルシラン(DMDMS)、メタクリラートプロピルトリメトキシシラン(MATMS)及び3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GLYMO)などの様々な有機修飾アルコキシドが、無機−有機ハイブリッドを調製するための前駆体として用いられる(Altman et al.,1991;Pellice et al.,2006)。しかしながら、大部分の前駆体が、ガラス様材料を得るために無機アルコキシドである場合、最大約600℃での、非常にゆっくりとした、長い乾燥プロセスが必要とされ、大部分の前駆体が、例えば、有機修飾セラミックス(ORMOCER)(Haas et al.,1999a−b)中の有機修飾アルコキシドである場合、より有機様のポリマー、即ち、50%よりも多い有機残渣を含有するポリマーが得られる。後者は、よく知られた有機ポリマーの限界、即ち、(i)ガラスと比べてより低い透明性;(ii)UV領域におけるより高い吸収;(iii)より大きい分散、即ち、波長の関数としての屈折率の変化;(iv)より大きい熱膨張係数;及び(v)より大きい熱光学係数(屈折率の温度依存度、dn/dT)に悩まされる。
亀裂のない生成物をなお産生しながら、ゾル−ゲルプロセスを加速させるために、蒸発率を制御する方法がHaruvyにより導入された(Haruvy et al.,1992)。高速ゾル−ゲル法として知られるこの方法は、揮発性溶媒の排出が制御された温度及び圧力条件の下で行なわれる準臨界乾燥からなる。高速ゾル−ゲル製造プロセスは、極めて迅速(約数分)であり、有機ポリマーのいくつかの長所(例えば、プロセスの間のわずかな亀裂形成及び収縮)とシリカの長所(例えば、改善された熱安定性)とをこの方法で組み合わせて、10%〜40%の有機残渣を含有する粘性のあるゾル−ゲル樹脂を生じさせる(Gutina et al.,1999)。しかしながら、この樹脂の硬化には、通常、数時間余りかかる(Gvishi,2009)。
伝統的なケイ素アルコキシドと有機修飾ケイ素アルコキシド前駆体の組合せを用いる、特定の調製方法により、極めて低含有量の揮発性物質と低含有量の有機残渣とを含有するUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を得ることができることが本発明によって見出されている。現在知られているUV硬化性ハイブリッド樹脂とは対照的に、本方法によって得られるハイブリッド樹脂は、硬化させると、高い光学的品質、高い熱安定性及び優れた接合特性を有する、収縮や亀裂のない透明なガラス様生成物を形成することができる。非UV硬化性ゾル−ゲル樹脂とは対照的に、本方法によって得られるハイブリッド樹脂は、極めて短時間のうちにUV硬化させることができる。
一態様では、本発明は、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有するUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製方法であって、
(i)(a)第1のモノマー又は第1のモノマー混合物、ここで、該モノマーの1つ1つは金属アルコキシドである;(b)第2のモノマー又は第2のモノマー混合物、ここで、該モノマーの1つ1つは、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非重合性基によって置換されている金属アルコキシドである;及び(c)第3のモノマー又は第3のモノマー混合物、ここで、該モノマーの1つ1つは、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非加水分解性重合性基によって置換されている金属アルコキシドである、を準備する工程と、
(ii)水と加水分解触媒の存在下で、閉じた系で、高い温度と圧力で(a)、(b)及び(c)の該モノマー又はモノマー混合物の加水分解と重縮合を行ない、それにより共通溶媒として働くアルコールを放出させる一方で、該温度を該アルコールの沸点よりも高く、該モノマーの沸点よりも低く保ち、該溶媒と水の蒸気を除去し、それにより一定の圧力を保つ工程と、
(iii)該系の中の圧力を大気圧よりも低く下げ、それにより該溶媒と水の残存する蒸気を排出し、それにより無機−有機ハイブリッド樹脂を得る工程と
を含み、
ここで、光開始剤を工程(i)のモノマーもしくはモノマー混合物のうちの1つ又は工程(ii)の水に添加し、それにより工程(iii)の後に、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を得るか、あるいは
工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂を、重合を妨げることができる溶媒と光開始剤とを含む溶液に溶解させ、場合によってはその後に濾過し、それにより重合させないで長期間保存できるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液を得る、方法に関する。
別の態様では、本発明は、硬化させると、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有する透明なガラス様生成物を形成することができるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を提供する。一実施形態では、形成されるガラス様生成物は、(i)可視領域における0.1dB/cmよりも低い、好ましくは0.01dB/cmよりも低い、より好ましくは0.001dB/cmよりも低い光学損失;(ii)少なくとも7MPa、好ましくは少なくとも9MPa、より好ましくは少なくとも10MPaのガラス−ガラス接合の接着強度;及び(iii)200℃を上回る、好ましくは275℃を上回る、より好ましくは350℃を上回る熱安定性を有する。
本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、以下に記載されるような様々な用途で用いることができる。
シリコーンゴムとシリカガラスとで異なり得る、本発明の方法により生成された無機−有機ハイブリッド樹脂の基本構造を示す。特に、(a)は、シリコーンゴム、即ち、柔軟な特性を有する直線鎖材料を表し、(b)は、高速ゾル−ゲル材料、即ち、カスタムデザイン可能な特性を有する、シリコーンゴムとシリカガラスの中間体である有機−無機ハイブリッドを表し、(c)は、シリカガラス、即ち、硬質脆性材料を表す。 実施例4に記載のハイブリッド樹脂N−2のフォトリソグラフィーへの適用を示す。シリコン基板上の薄い樹脂膜をパターンマスクを通してUV源で照射し、非照射部分をエッチングした後、シリコン(暗い縞)上に模様のあるガラス構造(明るい縞)が生じた。 スペクトル領域:400〜1800cm−1における様々なUV硬化時間でのハイブリッド樹脂N−2の時間依存的FTIR透過を示す。 スペクトル領域:2500〜4000cm−1における様々なUV硬化時間でのハイブリッド樹脂N−2の時間依存的FTIR透過を示す。 3つの光開始剤、イルガキュア184(1%)(破線の曲線)、イルガキュア819(0.5%)(点線の曲線)又はイルガキュア369(0.5%)(実線の曲線)を用いたUV硬化によって乾燥させたシリコーンウエハ上の、実施例6に記載されたように調製されたハイブリッド樹脂N−2の薄膜のFTIRスペクトルを示す。 光開始剤のイルガキュア184(1%)を用いたUV硬化によって乾燥させたシリコーンウエハ上の、実施例6に記載されたように調製されたハイブリッド樹脂N−2(実線の曲線)、N−3(点線の曲線)及びN−4(破線の曲線)の薄膜のFTIRスペクトルのFTIRスペクトルを示す。 光開始剤のイルガキュア369(0.5%)(実線の曲線)、イルガキュア819(0.5%)(点線の曲線)又はイルガキュア184(1%)(破線の曲線)を用いたUV硬化によって乾燥させた溶融シリカブロック上の、実施例7に記載されたように調製されたハイブリッド樹脂N−2の薄膜のUV−NIRスペクトルを示す。
一態様では、本発明は、上で規定されたような、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有するUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の新規の調製方法に関する。一実施形態では、本方法によって調製されたUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、3%未満、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満の揮発性物質と、25%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは15%未満、最も好ましくは10%未満の有機残渣とを含有する。
本明細書で用いられる「UV」という用語は、紫外線放射の略語である。
本発明の方法は、有機修飾アルコキシドと組み合わせた伝統的なアルコキシドを前駆体として用いて、図1に示すような、シリコーンゴムとシリカガラスとで異なる特性を有する無機−有機ハイブリッド樹脂、即ち、ゾル−ゲル材料を生成させる。特に、本方法によるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を調製するために、3種類の無機重合性モノマー又はモノマー混合物を用いる。第1の種類のモノマーは、シリカ骨格又は任意の他の関連金属酸化物骨格を形成する金属アルコキシドである。第2の種類のモノマーは、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が、亀裂を避ける構造柔軟性を提供する非重合性基によって置換されている金属アルコキシドである。第3の種類のモノマーは、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非加水分解性重合性基によって置換されている金属アルコキシドである。第3の種類のモノマーは、架橋を増加させ、最終生成物のUV硬化を可能にするUV硬化性重合性モノマーである。
本明細書で用いられる「金属アルコキシド」という用語は、アルコキシル基、即ち、アルコールの共役塩基が、負電荷を帯びた酸素原子を介して、原子価が3〜4の金属原子又は半金属原子のイオンに結合している金属有機化合物を指す。
本発明に従って使用することができる金属アルコキシドは、好ましくは遷移金属(例えば、Ti、V、YもしくはZr)、ランタニド金属(例えば、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbもしくはLu)、Alから選択される原子価が3又は4のいずれかの金属、又はSiもしくはBなどの元素と、限定するものではないが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、アミルアルコール(例えば、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール及び2,2−ジメチル−1−プロパノール(ネオペンタノール))、ヘキサノール(例えば、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタノール、3−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−1−ペンタノール、2−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−メチル−3−ペンタノール、3−メチル−3−ペンタノール、2,2−ジメチル−1−ブタノール、2,3−ジメチル−1−ブタノール、3,3−ジメチル−1−ブタノール、2,3−ジメチル−2−ブタノール、3,3−ジメチル−2−ブタノール及び2−エチル−1−ブタノール)、1−ヘプタノール、1−オクタノール、1−ノナノール、1−デカノールなどを含む、C−C10の直鎖又は分岐アルカノールとのアルコキシドである。好ましい実施形態では、金属アルコキシドは、Si、Ti、Zr又はB、より好ましくはSiとC−C、より好ましくはC−Cの直鎖アルカノールのアルコキシドである。
本発明による非重合性基は、水素原子か又は限定するものではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、sec−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどを含む、C−C10、好ましくはC−C、より好ましくはC−Cの直鎖又は分岐アルキルのいずれかであり得る。
本発明による非加水分解性重合性基は、アクリラート(例えば、メタクリラート、好ましくはプロピルメタクリラート)、エポキシド(例えば、グリシドキシプロピル)、ビニル基(例えば、ビニルシラン(別名、エテニルシラン)、ビニルトリエトキシシラン及びビニルトリイソプロポキシシラン)、又はスチレン基(スチリルエチルトリメトキシシラン)であり得る。
好ましい実施形態では、金属アルコキシドは、テトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、オルトチタン酸テトラエチル(TEOT)、オルトチタン酸テトラブチル(TBOT)、ジルコニウムテトラプロポキシド(TPOZ)、ジルコニウムテトラエトキシド(TEOZ)、アルミニウムトリエトキシド(TEOA)又はトリメトキシボラン(TMOB)、最も好ましくはTMOSであり、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非重合性基によって置換されている金属アルコキシドは、メチルトリメトキシシラン(MTMS)又はジメチルジメトキシシラン(DMDMS)であり、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非加水分解性重合性基によって置換されている金属アルコキシドは、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリラート(MATMSもしくはMPTMA)、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GLYMOもしくはGPTS)又はビニルシランである。
本発明の方法によれば、加水分解/重縮合工程は、水と加水分解触媒のみを添加することにより行なわれる、即ち、プレ加水分解工程は必要なく、共通溶媒が提供されることはない。実際、反応は閉じた系で行なわれるので、加水分解プロセスの結果としてその場で形成され、放出されるアルコールは、この系に閉じ込められ、従って、共通溶媒として反応混合物中にとどまる。
加水分解/重縮合工程の間に形成されるアルコールは、この反応で用いられる3種類の無機重合性モノマーの特定のアルコキシル基に由来する。従って、形成されるアルコールは、アルコール単独(例えば、メタノール、エタノール、プロパノールなど)、又は異なるアルコールの混合物(例えば、限定するものではないが、メタノールとエタノールの混合物)からなり得る。好ましい実施形態では、加水分解/重縮合工程の間に形成されるアルコールは、メタノール、エタノール又はそれらの混合物、より好ましくはメタノールである。
加水分解反応と重縮合反応は、放出されるアルコールの沸点よりも高く、このプロセスで前駆体として用いられるモノマーの1つ1つの沸点よりも低い作業温度で行なわれる。例えば、形成されるアルコールがメタノールのみからなる場合、反応が行なわれ得る最低温度は65℃、即ち、メタノールの沸点よりも高く、形成されるアルコールがエタノールのみからなる場合、反応が行なわれ得る最低温度は約80℃、即ち、エタノールの沸点よりも高い。
形成され、放出されるアルコールは、蒸気を発生し、閉じた系の中の圧力を増加させる。例えば、メタノールが形成され、反応が約100℃で行なわれる場合、発生する圧力は、約3.5気圧に等しい。本発明の方法によれば、アルコールと水の蒸気は、一定の圧力を超えると持続的に除去され、従って、系の中の圧力は一定に保たれる。加水分解/重縮合プロセスの間にメタノールが形成される場合、反応のための好ましい圧力は、2.5〜3.5気圧の範囲である。
加水分解反応と重縮合反応はほぼ同時に起こり、ごく短時間のうちに、通常は約数分で完了する。上で述べたように、これらの反応時に発生する圧力は一定のレベルで保たれる、即ち、揮発性溶媒(即ち、アルコール)と水の蒸気が蒸発し、この系から持続的に放出される。本発明の方法の工程(iii)によれば、加水分解反応と重縮合反応の終わり頃に、この反応系の圧力が、まず大気圧まで、その後、例えば、排出ポンプを用いて大気圧より低くにまで徐々に下がり、残存するアルコールと水の蒸気の排出をもたらす。結果的に、まだ反応していないモノマー分子が存在する場合は加水分解され、縮合して、ゲル化前の無機−有機ハイブリッド樹脂が得られる。好ましい実施形態では、加水分解/重縮合工程の大半の間の温度は、水の沸騰温度よりも低く保たれる、即ち、この系の圧力が工程(iii)における大気圧よりも低く下がるときにだけ、実際に、水の蒸気が放出される。
上で規定されたように、工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂は、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満、好ましくは25%未満、より好ましくは20%未満、最も好ましくは15%未満、さらに最も好ましくは10%未満の有機残渣とを含有する粘性樹脂である。この無機−有機ハイブリッド樹脂は、硬化させると、このプロセスで用いられる様々な前駆体間の比を制御することによって操作することができる屈折率や熱膨張などの光学的及び物理的特性を有する透明なゾル−ゲル材料を形成することができる。高屈折率(>1.458)のゾル−ゲル材料を、金属酸化物(例えば、アルミナ、チタニア及びジルコニア)などのより高い屈折率の添加剤を含むシリカ骨格、又はMATMS及びGLYMOなどの高架橋性の有機重合性基を含むモノマーを製造することによって得ることができ、その場合、屈折率の増加は、添加剤の濃度の線形関数であり、低屈折率のゾル−ゲル材料を、マトリックス中の気孔の量を制御することによって得ることができる。
一実施形態では、第1の種類のモノマー、即ち、第1のモノマー又は第1のモノマー混合物と第2の種類のモノマー、即ち、第2のモノマー又は第2のモノマー混合物と第3の種類のモノマー、即ち、第3のモノマー又は第3のモノマー混合物の重量比は、それぞれ10〜50:50〜90:最大20の範囲である。好ましい実施形態では、3種類のモノマーの重量比は、それぞれ20〜50:50〜75:最大10の範囲である。より好ましい実施形態では、3種類のモノマーの重量比は、それぞれ30〜45:50〜65:最大5の範囲である。1種類以上のモノマーが、実際に、異なるモノマーの混合物である場合、各々の混合物中の1つ1つのモノマーの重量間の比は様々に異なり、従って、最終的に得られるゾル−ゲル材料の特性に影響を及ぼし得る。
別途指示しない限り、本明細書で用いられる成分、反応条件などの数量又は濃度を表す数は全て、あらゆる場合において「約」という用語で修飾されるものと理解されるべきである。従って、異なる指示がない限り、本明細書に示される数値パラメータは、本発明によって得られる所望の特性によってプラスマイナス10%まで変わり得る近似値である。
得られる無機−有機ハイブリッド樹脂の光学的特性及び物理的特性に影響し得るさらなるパラメータは、前駆体として用いられるモノマー、即ち、第1、第2及び第3の種類のモノマー又はモノマー混合物の総量と反応系に添加される水とのモル比である。通常、この比は、反応を完了させるのに必要とされるように決定されるが、反応を完了させるのに必要とされる水の約90%しか提供しないことが好ましい。好ましい実施形態では、この3種類のモノマーの総量と水の総量とのモル比は、それぞれ、1:1.5〜2.5、より好ましくは1:1.8〜2の範囲である。
一実施形態では、本発明の方法における前駆体として用いられる第1のモノマーはTMOSであり、前駆体として用いられる第2のモノマーはMTMSであり、前駆体として用いられる第3のモノマーはMATMSである。以下の実施例1に示される好ましい実施形態(本明細書で同定されたハイブリッド樹脂N−2、N−3及びN−4)では、第1のモノマーと第2のモノマーと第3のモノマーと水の重量比は、それぞれ、約3:15:2:3.85、3:14:3:3.85及び3:13:4:3.85であり、工程(ii)の間に放出されるアルコールはメタノールであり、温度は65℃よりも高く、102℃よりも低く保たれ、メタノールと水の蒸気が形成され、圧力が増加する。約2.5〜3.5atmの圧力を超えると、蒸気が除去され、それにより一定の圧力が保たれる。工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂は、工程(i)で提供されるモノマーの総重量の60%未満、好ましくは47〜53%の範囲の重量を有する。実施例3(i)〜(iv)に記載の他の好ましい実施形態では、TMOSとMTMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約3:14:3:3.85、3:16:1:3.85、5:13:2:3.85又は6:9:2:3.85である。
別の実施形態では、使用される第1のモノマーはTMOSであり、使用される第2のモノマーはMTMSであり、使用される第3のモノマーはGLYMOである。以下の実施例2に示される好ましい実施形態(本明細書で同定されるハイブリッド樹脂E−2)では、第1のモノマーと第2のモノマーと第3のモノマーと水の重量比は、それぞれ、約3:15:2:3.85であり、工程(ii)の間に放出されるアルコールはメタノールであり、温度は65℃よりも高く、102℃よりも低く保たれ、メタノールと水の蒸気が形成され、圧力が増加する。約2.5〜3.5atmの圧力を超えると、蒸気が除去され、それにより一定の圧力が保たれる。工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂は、工程(i)で提供されるモノマーの総重量の60%未満、好ましくは47〜53%の範囲の重量を有する。
さらなる実施形態では、使用される第1のモノマーはTMOSであり、使用される第2のモノマー混合物はMTMSとDMDMSの混合物であり、使用される第3のモノマーはMATMSである。実施例3(v)〜(vii)に記載の他の好ましい実施形態では、TMOSとMTMSとDMDMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約3:12:3:2:3.85、3:9:6:2:3.85又は3:6:9:2:3.85である。
また別の実施形態では、使用される第1のモノマー混合物は、TMOSとTEOTの混合物であり、使用される第2のモノマーはMTMSであり、使用される第3のモノマーはMATMSである。実施例3(viii)〜(xi)に記載の好ましい実施形態では、TMOSとTEOTとMTMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約2:1:15:2:3、1.5:1.5:15:2:3、1:3:15:2:3又は1:5:15:2:3である。
さらに別の実施形態では、使用される第1のモノマー混合物は、TMOSとTBOTの混合物であり、使用される第2のモノマーはMTMSであり、使用される第3のモノマー はMATMSである。実施例3(xii)に記載の好ましい実施形態では、TMOSとTBOTとMTMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約2:1:15:2:3である。
またさらなる実施形態では、使用される第1のモノマー混合物は、TMOSとTEOTの混合物であり、使用される第2のモノマー混合物は、MTMSとDMDMSの混合物であり、使用される第3のモノマーはMATMSである。実施例3(xiii)に記載の好ましい実施形態では、TMOSとTEOTとMTMSとDMDMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約1.5:1.5:14:3:2:3.5である。
またさらなる実施形態では、使用される第1のモノマー混合物は、TMOSとTPOZの混合物であり、使用される第2のモノマーはMTMSであり、使用される第3のモノマーはMATMSである。実施例3(xiv)に記載の好ましい実施形態では、TMOSとTPOZとMTMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約3:1:14:2:3.6である。
別の実施形態では、使用される第1のモノマー混合物は、TMOSとTPOZの混合物であり、使用される第2のモノマー混合物は、MTMSとDMDMSの混合物であり、使用される第3のモノマーはMATMSである。実施例3(xv)に記載の好ましい実施形態では、TMOSとTPOZとMTMSとDMDMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約2:1:12:3:2:2.9である。
さらなる実施形態では、使用される第1のモノマー混合物は、TMOSとTMOBの混合物であり、使用される第2のモノマー混合物は、MTMSとDMDMSの混合物であり、使用される第3のモノマーはMATMSである。実施例3(xvi)〜(xviii)に記載の好ましい実施形態では、TMOSとTMOBとMTMSとDMDMSとMATMSと水の重量比は、それぞれ、約1.5:1:12:3:2:3、1.5:2:12:3:2:3又は1.5:1:12:3:3:3である。
さらなるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、上で規定された様々な実施形態で使用されるモノマーのいずれかを同じ種類の代わりのモノマーで代用することによって調製し得る。例えば、第1のモノマーは、TEOZ又はTEOAであることもでき、第3のモノマーは、MATMSの代わりにGLYMO又はビニルシランであってもよい。さらに、例えば、水の重量比が2.5〜3.85の範囲である、様々な水濃度を用いてもよい。
本発明による加水分解触媒は、酸又は塩基であり得る。好適な酸の非限定的な例としては、塩酸、硝酸、硫酸及びメタクリル酸が挙げられる。好適な塩基の非限定的な例としては、限定するものではないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア及びフッ素イオンが挙げられる。好ましい実施形態では、加水分解触媒は塩酸である。より好ましい実施形態では、添加される塩酸の濃度は約5mMである。
本発明による光開始剤は、UV放射に曝露されたときに有機重合性尾部基を介したゾル−ゲル組成物の架橋の開始を可能にする任意のフリーラジカル開始剤又はカチオン性開始剤であってもよい。好適な光開始剤の非限定的な例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、キサントン、チオキサントン、アクリジン及びベンゾキノンが挙げられる。好ましい光開始剤としては、イルガキュア149、イルガキュア184、イルガキュア261、イルガキュア369、イルガキュア500、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア784、イルガキュア819、イルガキュア907、イルガキュア1000及びイルガキュア2959(商標名、Ciba Specialty Chemicals Co.)などのイルガキュアシリーズ、ならびにデガキュアK126及びデガキュアK185(商標名、Degussa GmbH)などのデガキュアシリーズが挙げられる。好ましい実施形態では、光開始剤はイルガキュア184、イルガキュア369又はイルガキュア819である。
本発明の方法により得られるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、直接用いてもよいし、又は重合させないで長期間保存するために希釈してもよい。上で規定されたように、調製されるハイブリッド樹脂が直接適用される場合、光開始剤を工程(i)のモノマーもしくはモノマー混合物のうちの1つか、又は工程(ii)の水のいずれかに添加し、それにより工程(iii)の後に、所望のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を得る。あるいは、工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂を、重合を妨げることができる溶媒と光開始剤とを含む溶液に溶解させて希釈し、場合によってはその後に濾過し、それにより、重合させないで長期間保存できる、光開始剤を含むUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液を得る。本発明者らが見出したように、この希釈溶媒はゾル−ゲルポリマー粒子を溶解させ、得られる安定な懸濁液は、少なくとも数カ月間保存することができる。それを考慮して、本発明の一実施形態では、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、少なくとも2カ月間、好ましくは少なくとも4カ月間、より好ましくは少なくとも6カ月間、重合させないで、希釈形態で保存する。
無機−有機ハイブリッド樹脂の希釈を、重合を妨げるか又は遅らせることができ、かつ大きなゾル−ゲルポリマー凝集体を溶解させることができる任意の好適な溶媒(本明細書では希釈液とも呼ばれる)を用いて行なってもよい。一実施形態では、重合を妨げることができる溶媒は、限定するものではないが、テトラヒドロフラン(THF)、アセトン、塩化メチレン及び四塩化エチレンなどの極性有機溶媒である。好ましい実施形態では、重合を妨げることができる溶媒はTHF又はアセトンである。より好ましい実施形態では、重合を妨げることができる溶媒はTHF又はアセトンであり、光開始剤はイルガキュア184、イルガキュア369又はイルガキュア819であり、該溶媒中の光開始剤の濃度は、0.1〜2.5%、好ましくは0.5〜1.8%、より好ましくは0.5〜1.2%の範囲である。どの場合にも、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を硬化させる前に、適切な粘度を達成するために、希釈液を蒸発させる。
一実施形態では、加水分解/重縮合工程の進行は、このプロセスの間の温度と圧力の変化をモニタリングすることにより制御される。好ましい実施形態では、本発明の方法は、反応容器を加熱することと、該反応容器内の溶液を撹拌することと、弁を開口すること及び排出ポンプを用いて揮発性成分を排出することにより該反応容器内の圧力を制御することとが可能な、好ましくは少なくとも一部自動化された装置内で実施される。
一実施形態では、本発明の方法は、上で規定されたように実施され、その場合、光開始剤が工程(i)のモノマーもしくはモノマー混合物のうちの1つ又は工程(ii)の水に添加され、工程(iii)の後に、すぐに使用できるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂が得られる。
別の実施形態では、本発明の方法は、上で規定されたように実施され、その場合、工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂が、重合を妨げることができる溶媒と光開始剤とを含む溶液に溶解させられ、場合によってはその後に濾過され、それにより重合させないで長期間保存できるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液が得られる。
本発明によれば、溶液中の無機−有機ハイブリッド樹脂の濃度は、最大でほぼ100%(wt)であり得るが、好ましくは約50%(wt)である。従って、得られる溶液の粘度は、ほぼ純粋な溶媒に相当する約0.5センチポイズ(cP)からほぼ純粋な樹脂に相当する約5000cPまでの範囲であり得るが、好ましくは約1:1(wt:wt)の希釈比で得られる約5cPである。
上で規定されたように、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液は、確実に均質になるように、場合により、任意の好適な濾過手段を用いて濾過してもよい。好ましい実施形態では、濾過は、0.2μmフィルターを用いて行なわれる。
前述の全てを考慮して、また、以下の実施例1に示すように、特定の一実施形態では、本発明は、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有し、重合させないで長期間保存できるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製方法であって、
(i)テトラメトキシシラン(TMOS)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)及びトリメトキシシリルプロピルメタクリラート(MATMS)を、それぞれ、約3:15:2の重量比で反応容器に導入する工程と、
(ii)水中の5mM塩酸の存在下で、TMOS、MTMS及びMATMSの加水分解と重縮合を行ない、それにより共通溶媒として働くメタノールを放出させ、ここで、該TMOS、MTMS及びMATMSの総量と水の重量比は、それぞれ、約20:3.85であり、温度は65℃よりも高く、102℃よりも低く保たれ、メタノールと水の蒸気は除去され、それにより約2.5〜3.5atmの一定の圧力が保たれる、工程と、
(iii)反応容器内の圧力をまず大気圧まで、その後、0.5atmよりも低くまで下げ、それによりメタノールと水の残存する蒸気を排出し、それにより4%未満の揮発性物質を含有するゲル化前の無機−有機ハイブリッド樹脂を得る工程と
(iv)得られた無機−有機ハイブリッド樹脂を、約1:1の重量比で、2%イルガキュア819のテトラヒドロフラン(THF)溶液に希釈し、その後、得られた溶液を0.2μmフィルターを用いて濾過し、それにより重合させないで長期間保存できる所望のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液を得る工程と
を含み、
ここで、工程(i)〜(iv)が、該反応容器を加熱することと、該反応容器内の内容物を撹拌することと、弁を開口すること及び排出ポンプを用いて揮発性成分を排出することにより該反応容器内の圧力を制御することとが可能な装置内で実施され、かつ工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂が、工程(i)で導入される該TMOS、MTMS及びMATMSの総重量の60%未満、好ましくは47〜53%の範囲の重量を有する、方法に関する。
上で規定されたように、本発明の方法により得られるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、硬化させると、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有する透明なガラス様生成物を形成することができる。その低い揮発性物質含有量から考えて、この生成物は、実際、収縮や亀裂のない透明なガラス様生成物である。
本明細書で用いられる「収縮や亀裂のないガラス様生成物」という用語は、ゾル−ゲル材料の硬化によって得られる生成物、例えば、約4%又は4%未満、好ましくは3%未満、より好ましくは2%未満、最も好ましくは1%未満の揮発性物質を含有し、結果として、4%未満、好ましくは3%未満、より好ましくは2%未満、最も好ましくは1%未満の収縮率を有する、本発明の方法によって得られるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を指す。最も好ましい実施形態では、この用語は、収縮率がほぼゼロでかつ亀裂のないガラス様生成物を指す。
より具体的には、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の硬化によって形成されるガラス様生成物は、(i)可視領域、即ち、約400〜約700nmの波長範囲、好ましくは約300〜約1000nmの波長範囲、より好ましくは約250〜約1100の波長範囲と約1250〜約1350nmの波長範囲における、約90%の透明度(1cm厚のサンプルについて測定されたもの、0.1dB/cmの吸収損失に等しい)又はそれを上回る透明度;(ii)可視領域における0.1dB/cmよりも低い、好ましくは0.01dB/cmよりも低い、より好ましくは0.001dB/cmよりも低い光学損失;(iii)少なくとも7メガパスカル(MPa)、好ましくは少なくとも9MPa、より好ましくは少なくとも10MPaのガラス−ガラス接合の接着強度、即ち、引張せん断強度;(iv)200℃を上回る、好ましくは275℃を上回る、より好ましくは350℃を上回る熱安定性;及び(v)1.42〜1.46の範囲の、好ましくは1.40〜1.50のより広い範囲の、より好ましくは1.38〜1.60のより広い範囲の屈折率を有する。さらに、上記の硬化性生成物の表面疎水性は、親水性か又は疎水性のいずれかとなるように設計され得る。
従って、別の態様では、本発明は、硬化させると、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有する透明なガラス様生成物を形成することができるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を提供する。本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、任意の好適な方法又はプロセスに従って、例えば、上で詳細に記載された方法によって製造され得る。
一実施形態では、本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、3%未満、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満の揮発性物質と、25%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは15%未満、最も好ましくは10%未満の有機残渣とを含有する。
一実施形態では、本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の硬化により得られる透明なガラス様生成物は、(i)可視領域における0.1dB/cmよりも低い、好ましくは0.01dB/cmよりも低い、より好ましくは0.001dB/cmよりも低い光学損失;(ii)少なくとも7MPa、好ましくは少なくとも9MPa、より好ましくは少なくとも10MPaのガラス−ガラス接合の接着強度;及び(iii)200℃を上回る、好ましくは275℃を上回る、より好ましくは350℃を上回る熱安定性を有する。
一実施形態では、本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂はすぐに使用できる、即ち、すぐに塗布又は成形し、例えば、熱硬化、蒸発硬化又はUV硬化によって、好ましくはUV硬化によって、硬化させることができる。
別の実施形態では、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、重合を妨げることができ、従って重合させないで長期間保存ができる溶媒に溶解させる。
本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は4%以下の揮発性物質を含有するので、完全な残液排出と完全な固化を達成するために、単純な硬化プロセスしか必要とされない。ハイブリッド樹脂のシリカ骨格中にさらなる柔軟な有機尾部があるために、圧力が解放され、亀裂形成が避けられ、亀裂のない大きなモノリス又は膜が生成される。ハイブリッド樹脂を、熱硬化(例えば、数時間の低温(<100℃)硬化)、及び蒸発硬化などの様々な手段により硬化させることができる。実施されたフーリエ変換赤外(FTIR)分光法による検討から、上で規定されたような熱硬化により、ハイブリッド樹脂の重合が24時間後に完了したことが示された。しかしながら、多くの用途には、UV硬化技術が適用されるより短い硬化手順が必要とされる。これらの技術は十分に確立されている。有機残渣含有量の多いゾル−ゲル材料のUV硬化が、その部類の有機修飾ケイ酸塩である有機修飾セラミックス(Streppel et al.,2002)やエポキシベースのハイブリッド(Guglielmi et al.,2007)を用いて立証され、適用された。
上で規定されたように、本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の膜を、UV光源の強度とスペクトル含有量に応じて、ごく短時間のうちに、即ち、数分又はそれより短い時間のうちに、UV硬化させることができる。特に、実施例4に示されるように、TMOS、MTMS及びMATMSを前駆体として用いて調製され、2%イルガキュア819のTHF溶液で希釈されたUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、スピンコーティング技術を用いてシリコン基板上にコーティングし、次いでリソグラフマスクを通して60秒間UVに曝露し、現像液を用いて重合していない部分を除去した。厚さ1〜30μmのシリコン基板上のコーティング材料の縞模様を図2に示し、UV硬化時間の関数としての該コーティング材料のFTIRスペクトルを図3A〜3Bに示す。これにより、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の重合プロセスがわずか60秒後に完了したことが示されている。
本発明のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、電子光学、マイクロエレクトロニクス、ステレオリソグラフィー及びバイオフォトニクス用途などの様々な用途で用いることができる。特に、この樹脂は、(i)ガラスと例えば、エネルギー変換もしくは光検出で用いられる半導体材料の光学接合のための、例えば、光学部材もしくは光ファイバーの接合における光学損失を避けるための釣り合いのとれた屈折率を有する接着材料として、又は熱安定性が考慮されなければならない厳しい環境用の光学接着剤として;(ii)リソグラフィー技術もしくは他の技術を用いて、模様のあるナノ構造もしくはマイクロ構造、又は導波管を製造するときの基板材料として;(iii)ステレオフォトリソグラフィもしくはレプリカ成形用の材料として;(iv)光学部材、電子素子、化学薬品、医薬品及び化粧品の透明なコーティング/封入材料として;ならびに(v)透明なシーリング材料として有用である。
従って、さらなる態様では、本発明は、可視領域における0.1dB/cmよりも低い、好ましくは0.01dB/cmよりも低い、より好ましくは0.001dB/cmよりも低い光学損失を有するガラス様の平面又は三次元構造の製造方法であって、上で規定されたようなUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を成形し、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、その後、該樹脂を硬化させることを含む、方法を提供する。
一実施形態では、本方法は、フォトリソグラフィーによる製造技術、二光子吸収製造技術、インプリンティング技術又はインクジェット様プリンティング技術を用いた、マイクロ又はナノスケール構造の製造に用いられる。
別の実施形態では、本方法は、レンズ、鏡、プリズム及び回折格子などの光学要素の製造に用いられる。
本方法による無機−有機ハイブリッド樹脂の硬化は、熱硬化(例えば、約65℃で最大約24時間)、蒸発硬化又はUV硬化であり得るが、好ましくはUV硬化である。
また別の態様では、本発明は、2つの部材を接合する方法であって、上で規定されたようなUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を該部材上に塗布し、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、該部材を物理的に接触させ、該樹脂をUV硬化させることを含む、方法を提供する。本方法は、その部材のうちの少なくとも1つが、ガラス、半導体材料又は透明な材料でできている、2つの部材の光学接合に用いられることが好ましい。
好ましい一実施形態では、本方法は、2つのファイバーの接合に用いられ、その場合、該2つのファイバー間で形成される接合の屈折率が該2つのファイバーの屈折率に近いことが好ましい。別の好ましい実施形態では、本方法は、光学部材、検出器又はセンサーへのファイバーの接合に用いられる。
さらに別の態様では、本発明は、ダイオード、検出器、センサー、又はレンズ、鏡、プリズム及び回折格子などの光学要素から選択される部材をコーティングする方法であって、該部材を上で規定されたようなUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂でコーティングし、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、該樹脂をUV硬化させることを含む、方法を提供する。好ましい実施形態では、本方法は、該部材を湿気、機械的損傷又は放射線による損傷から保護するために用いられる。
また別の態様では、本発明は、光学素子又は電子素子を封入する方法であって、該光学素子又は電子素子を上で規定されたようなUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂でコーティングし、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、該樹脂をUV硬化させることを含む、方法を提供する。
またさらなる態様では、本発明は、無機材料又は有機材料を封入する方法であって、該無機材料又は有機材料を上で規定されたようなUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂でコーティングし、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、該樹脂をUV硬化させることを含む、方法を提供する。一実施形態では、本方法は、化学薬品、医薬品又は化粧品の封入に用いられる。
上で規定された使用方法のいずれか1つにおけるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂のUV硬化を、例えば、UVランプ、例えば、限定するものではないが、約60秒間で20mW/cmを提供するUVランプの下で実施してもよい。UV硬化はさらに、予備焼成工程と曝露後焼成工程とを伴ってもよく、その場合、これらの工程の1つ1つは、例えば、約65℃で1分間行なわれてもよい。
要約すると、現在利用可能なゾル−ゲル法は、2つのタイプ、即ち、亀裂のない生成物を製造するために非常にゆっくりとしたプロセスを必要とする無機の(即ち、古典的な)ゾル−ゲルの調製方法と、例えば、高い有機残渣含有量を含有するUV硬化性生成物を迅速に製造することができる無機−有機ハイブリッドの調製方法とに大別することができる。言い換えれば、現在利用可能なUV硬化性ゾル−ゲル材料は、高い有機残渣含有量を含有し、そのため、その光学的、機械的及び熱的性能が制限されている。
本発明は、UV硬化されると、高い光学的品質と、高い熱安定性及び光学安定性と、優れた接合特性とを有する、上で規定されたような収縮や亀裂のないガラス様生成物を形成することができる、有機残渣含有量の低いゾルゲルを速く調製するためのプロセスを対象としている。本方法により得られるUV硬化性ハイブリッド樹脂は、シリカガラスの光学的品質及び熱安定性と有機ポリマーの柔軟性とを合わせ持っており、密度や熱膨張係数などの機械的特性を制御し、調整することができ、また、屈折率などの光学特性を操作して、特定の値に合わせることができる。それゆえ、このUV硬化性ハイブリッド樹脂は好適であり、特定の場合には、電子光学、マイクロエレクトロニクス、ステレオリソグラフィー及びバイオフォトニクス用途などの様々な用途で用いられる唯一の好適なゾル−ゲル材料である。このUV硬化性高速ゾル−ゲル材料は、幅広い光学的用途での接合、例えば、ファイバーの光学接合又は光学部材、検出器もしくはセンサーへのファイバーの光学接合にさらに有用である。
本発明の方法とは対照的に、古典的なゾル−ゲル法では、極めて過剰な量の共通溶媒、例えば、メタノール又はエタノールが用いられ、そのため、加水分解、縮合及び蒸発手順に相当な時間が必要とされる。この制約のために、これらの経路で調製される生成物は、商業的な大量製造に、特に、UV硬化が必要とされる用途には不適切なものとなっている。さらに、それらの方法により調製されるゾル−ゲル材料は、比較的高い含有量の揮発性物質を含有しているので、長期保存能力がない。
UV硬化機構が有機重合性基に対して作用するので、現在利用可能な方法を用いて調製されるUV硬化性ゾル−ゲル材料は、高い有機残渣含有量を含有することにさらに留意すべきである。それとは対照的に、本発明の方法によって得られるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂は、ほぼ完全に架橋されており、約4%以下の揮発性物質を含有するので、数秒で完全な固化を達成するためのプロセスを加速するためには、ほんのわずかな量の有機架橋ポリマーがさらに必要となるだけである。上で説明したように、このさらなる架橋は、光開始剤を用いることにより達成される。従って、当該技術分野で公知の任意の他のゾル−ゲル法とは異なり、本発明の方法は、長期保存のためにUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を溶液状態に保った後、UV硬化によってそのハイブリッド樹脂の完全な固化を達成し、それにより、所望するときに、亀裂や収縮のないガラス様材料を数秒で得ることができる。
本発明をこれから以下の非限定的な実施例によって説明する。
実施例1.TMOS、MTMS及びMATMSモノマーからのUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製
UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂(本明細書で同定されるハイブリッド樹脂N−2)を、前駆体のテトラメトキシシラン(TMOS)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)及び3−トリメトキシシリルプロピルメタクリラート(MATMS)と水とを、約3:15:2:3.85(TMOS:MTMS:MATMS:HO)の重量比で用いて調製した。この水に塩酸を加水分解触媒として0.005Mの濃度で添加し、反応溶液中0.0008Mの濃度にした。全ての成分を半解析的天秤(±0.001g)で計量し、その後、50ml反応瓶(Schott)中で混合した。
製造プロセスを、反応瓶を加熱することと、この反応瓶中の溶液を撹拌することと、弁を開口すること及び排出ポンプを用いて揮発性成分を排出することにより圧力を制御することとが可能な装置で実施した。最初の反応を閉じた系で開始し、加水分解反応と重縮合反応の間に放出されるメタノールが反応瓶の中に閉じ込められることによって、共通溶媒として混合物中にとどまることを保証した。温度を、メタノールの沸騰温度(64.7℃)を上回り、メタノールの蒸気が発生するのを可能にする、約95℃に達するまで上昇させ、圧力を2.5〜3atmの範囲に限定した。加水分解反応と重縮合反応が起こるのに必要な大体の時間である5分が経った後、圧力を2分間のプロセスでまず大気圧に、その後、排出ポンプを用いて、0.5atmより低くにまで徐々に解放し、それにより、溶液(即ち、メタノールと水)の中に残る揮発性溶媒を排出した。得られた粘性のある無機−有機ハイブリッド樹脂の重量は、出発溶液重量の47%〜53%の範囲であった。
さらなるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂(それぞれ、本明細書で同定されるハイブリッド樹脂のN−3及びN−4)を、同じ前駆体を約3:14:3:3.85及び3:13:4:3.85(TMOS:MTMS:MATMS:HO[0.005M HCl水溶液])の重量比で用いて調製した。
実施例2.TMOS、MTMS及びGLYMOモノマーからのUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製
本実験では、実施例1に記載の樹脂とは異なる、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂(本明細書で同定されるハイブリッド樹脂E−2)を、前駆体のテトラメトキシシラン(TMOS)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)及び3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GLYMO)と水とを約3:15:2:3.85(TMOS:MTMS:GLYMO:HO)の重量比で用いて調製した。この水に塩酸を0.005Mの濃度で添加し、反応溶液中0.0008Mの濃度にした。この製造プロセスを実施例1に記載されたように実施した。
実施例3.他のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製
以下のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、前駆体と水の様々な組合せから、以下に規定されるような重量比で、実施例1に記載されたように調製し、その場合、塩酸を加水分解触媒として用いる。
(i)テトラメトキシシラン(TMOS)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)及び3−トリメトキシシリルプロピルメタクリラート(MATMS)、重量比約3:14:3:3.85(TMOS:MTMS:MATMS:HO)。
(ii)TMOS、MTMS及びMATMS、重量比約3:16:1:3.85(TMOS:MTMS:MATMS:HO)。
(iii)TMOS、MTMS及びMATMS、重量比約5:13:2:3.85(TMOS:MTMS:MATMS:HO)。
(iv)TMOS、MTMS及びMATMS、重量比約6:9:2:3.85(TMOS:MTMS:MATMS:HO)。
(v)TMOS、MTMS、ジメチルジメトキシシラン(DMDMS)及びMATMS、重量比約3:12:3:2:3.85(TMOS:MTMS:DMDMS:MATMS: HO)。
(vi)TMOS、MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約3:9:6:2:3.85(TMOS:MTMS:DMDMS:MATMS:HO)。
(vii)TMOS、MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約3:6:9:2:3.85(TMOS:MTMS:DMDMS:MATMS:HO)。
(viii)TMOS、オルトチタン酸テトラエチル(TEOT)、MTMS及びMATMS、重量比約2:1:15:2:3(TMOS:TEOT:MTMS:MATMS:HO)。
(ix)TMOS、TEOT、MTMS及びMATMS、重量比約1.5:1.5:15:2:3(TMOS:TEOT:MTMS:MATMS:HO)。
(x)TMOS、TEOT、MTMS及びMATMS、重量比約1:3:15:2:3(TMOS:TEOT:MTMS:MATMS:HO)。
(xi)TMOS、TEOT、MTMS及びMATMS、重量比約1:5:15:2:3(TMOS:TEOT:MTMS:MATMS:HO)。
(xii)TMOS、オルトチタン酸テトラブチル(TBOT)、MTMS、及びMATMS、重量比約2:1:15:2:3(TMOS:TBOT:MTMS:MATMS:HO)。
(xiii)TMOS、TEOT、MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約1.5:1.5:14:3:2:3.5(TMOS:TEOT:MTMS:DMDMS:MATMS:HO)。
(xiv)TMOS、ジルコニウムテトラプロポキシド(TPOZ)、MTMS及びMATMS、重量比約3:1:14:2:3.6(TMOS:TPOZ:MTMS:MATMS:HO)。
(xv)TMOS、TPOZ、MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約2:1:12:3:2:2.9(TMOS:TPOZ:MTMS:DMDMS:MATMS:HO)。
(xvi)TMOS、トリメトキシボラン(TMOB), MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約1.5:1:12:3:2:3(TMOS:TMOB:MTMS:DMDMS: MATMS:HO)。
(xvii)TMOS、TMOB、MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約1.5:2:12:3:2:3(TMOS:TMOB:MTMS:DMDMS:MATMS:HO)。
(xviii)TMOS、TMOB、MTMS、DMDMS及びMATMS、重量比約1.5:1:12:3:3:3(TMOS:TMOB:MTMS:DMDMS:MATMS:HO)。
さらなるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を、使用されたモノマーのいずれかを同じ種類の代わりのモノマーと置き換えることによって調製してもよい。例えば、第1のモノマーは、アルミニウムトリエトキシド(TEOA)又はジルコニウムテトラエトキシド(TEOZ)であることもでき、第3のモノマーは、MATMSの代わりに3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GLYMO)又はビニルシランであってもよい。さらに、例えば、水の重量比が2.5〜3.85の範囲にある、様々な水濃度を用いてもよい。
実施例4.UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の硬化
実施例1に記載されたように調製されたハイブリッド樹脂N−2を、テトラヒドロフラン(THF)を用いて1:1(wt)の比で希釈して、約5センチポイズ(cPs)の粘度を達成したが、このとき、0.5〜1%の濃度の光開始剤イルガキュア819を希釈液溶液に添加した。得られた溶液を、スピンコーティング技術を用いてシリコン基板上にコーティングし、次いで20mW/cmのUVランプを用いて、リソグラフマスクを通して60秒間UVに曝露し、現像液、特に、金属イオンフリー(MIF)−319を用いて重合していない部分を2分間洗浄した。
図2は、シリコン基板上のUV硬化性高速ゾル−ゲル材料の縞模様を示す。この縞模様を作るために、65℃で1分間毎の予備焼成と曝露後焼成をUVランプへの曝露の前後に行なった。得られる厚さを1〜30μmに制御した。この厚さは、調製されるハイブリッド樹脂の粘度とスピナーの速度のみによって決まる。ミクロン未満から最大数百ミクロンのサンプルをこの方法で調製することができる。
図3A〜3Bは、UV硬化時間の関数としてのFTIRスペクトルを示す。このスペクトルは、2つの吸収範囲:400〜1800cm−1(3A)及び2500〜4000cm−1(3B)に分けられる。示すように、透過の増加は、それぞれ、OHストレッチングとSi−OHベンディング(Cothup et al.,1964)に対応する3400cm−1と900cm−1、及びSi−O−CH(Jabbour et al.,2007)に対応する1180cm−1で観察される。これらのスペクトルは重合プロセスの進行を表し、重合が60秒後に既に完了したことを示す。
実施例5.ガラス様生成物の最終組成の分析
実施例1に記載されたように調製されたハイブリッド樹脂N−2を熱で硬化させ、ガラス様生成物の最終組成物、即ち、材料中のSi、O及びCの画分を、X線光電子スペクトロメトリー(XPS)を用いて試験した。次に、得られた結果を、最終的なガラス組成と有機残渣パーセンテージの抽出に用いた。Si、O及びCについて得られた値は、それぞれ、40.0w%、37.5w%及び22.5w%で、1:1.64:1.31の原子比となり、これは、28.93w%の有機残渣を含むSiO1.5(CH0.8(C110.07の単位分子構造に一致する。最初の前駆体からの有機残渣パーセンテージを概算すると、約27%の値が得られた。
実施例6.光開始剤及び希釈液はUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の硬化プロセスに影響を及ぼす
本研究では、UV硬化プロセスの完了を、重合の進行の目安となる3400cm−1のOHピークを見ることにより、フーリエ変換赤外(FTIR)スペクトルを用いて試験した。
実施例1に記載されたように調製されたハイブリッド樹脂N−2、N−3及びN−4を、THFを1:1(wt)の比で用いて希釈して、約5cPの粘度を達成したが、このとき、重合プロセスを開始させるための、0.5〜1%の濃度の光開始剤を希釈液溶液に添加する。均質な生成物を保証するために、次に、この溶液を0.2μmフィルターで濾過した。様々な光開始剤の影響を調べるために、様々な光開始剤を添加した。
図4は、3つの光開始剤であるイルガキュア184、イルガキュア819及びイルガキュア369(Ciba)を用いてUV硬化によって乾燥させたシリコーンウエハ上のハイブリッド樹脂N−2薄膜のFTIRスペクトルを示す。示すように、イルガキュア369を含有する高速ゾル−ゲル薄膜のUV硬化は、試験した他のゾル−ゲルのUV硬化よりも速く、イルガキュア184を含有する高速ゾル−ゲル薄膜のUV硬化は最も遅かった。しかしながら、イルガキュア184は、接合時に亀裂を生じさせないので、接合により適切であることが分かった。図5は、光開始剤のイルガキュア184を用いたUV硬化によって乾燥させたシリコーンウエハ上のハイブリッド樹脂N−2、N−3及びN−4薄膜のFTIRスペクトルを示す。示すように、ハイブリッド樹脂N−4の重合プロセスは、他の高速ゾル−ゲルの重合プロセスよりもわずかに速かった。
希釈液の影響を調べるために、ハイブリッド樹脂N−2、N−3及びN−4を、様々な希釈液溶媒、特に、テトラヒドロフラン(THF)、アセトン及びN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を用いて上記のように希釈した。見られるように、アセトンは他の2つの希釈液よりも速く蒸発し、THFはそれよりほんの少し遅く、NMPは、蒸発時間がはるかに長いので、適切でないことが分かった(データは示さない)。
実施例7.UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂で形成される接合の光学的品質及び接着強度
本研究では、実施例1に記載されたように調製され、実施例6に記載されたように3つの異なる光開始剤、イルガキュア184、イルガキュア819及びイルガキュア369を含有するTHFで希釈されたハイブリッド樹脂N−2を用いて実施された接合の光学的品質を、UV可視NIRスペクトロメーターを用いて調べた。
高速ゾルゲルの薄膜層を、3つの異なる光開始剤であるイルガキュア184、イルガキュア819及びイルガキュア369を用いて溶融シリカ上に調製し、これらの層の1つ1つの透明度を、分光光度計を用いて200〜2500nmの範囲で測定した。図6に示すように、イルガキュア369及びイルガキュア819を含む膜は、約360〜400nmの顕著な吸収を有し、黄色がかった色の膜を生じる。対照的に、イルガキュア184を含む膜は、300nmまで透明である(吸収損失<0.1dB/cm)。
次に、イルガキュア184を光開始剤として含有する高速ゾル−ゲルハイブリッドを、参照サンプル(特に、溶融シリカブロック)、及び光学素子(特に、溶融シリカブロックと半導体ウエハの組又はBK−7ガラスプリズムと半導体ウエハの組)の上でUV硬化性接着材料として試験した。
接合強度を、コムテック(Cometech)の材料試験マシンモデルQC−506B1を用いて試験した。この2つの接合溶融シリカを、24MPaの接着強度を有する、3M社製エポキシ系接着剤DP−460を用いてアルミニウム棒に接合し、このアルミニウム棒をこの試験マシンに入れて、保持した。熱硬化性ハイブリッド樹脂N−2の場合、10MPaを超える接着強度が得られ、一方、UV硬化性ハイブリッド樹脂N−2の場合、5.5MPaの接着強度が達成された。それでも、UV硬化接合プロセスを改善することによって、7MPaを超える、また、10MPaさえも超える接着強度を達成することができると想定されている。
参考文献
Altman J.C.,Stone R.E.,Dunn B.,Nishida F.,IEEE Photo.Tech.Lett.,1991,3,189−190
Cothup N.B.,Daly L.H.,Wiberley S.E.,“Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy”,Academic Press,New−York and London,1964
Dislich H.,:Klein LC(編) Sol−Gel Technology for Thin films,Performs,Electronics and Specialty Shapes,Noyes New Jersey,1988,第4章
Guglielmi M.,Brusatin G.,Della Giustina G.,J.of Non−Cryst.Solids,2007,353,1681−1687
Gutina A.,Haruvy Y.,Gilath I.,Axelrod E.,Kozlovich N.,Feldman Y.,J.Phys.Chem.B,1999,103,5454
Gvishi R.,J.of Sol−Gel Sci.and Tech.,2009,50,241−253
Haas K.H.,Amberg−Schwab S.,Rose K.,Thin Solid Films,1999a,351,198−203
Haas K.H.,Amberg−Schwab S.,Rose K.,Schottner G.,Surf.Coat.Technol.,1999b,111,72−79
Haruvy Y.,Heller A.,Webber S.E.,:Bein T(編) Supramolecular Architecture:Synthetic Control in Thin Films and Solids,Proc ACS Sym,1992,第28章
Hench L.L.,West J.K.,Chem Rev.,1990,90,33−72
Jabbour J.,Calas S.,Gatti S.,Kribich R.K.,Myara M.,Pille G.,Etienne P.,Moreau Y.,J.Non−Cryst Solids,2007,354,651
Klein L.C.,Sol−Gel technology for thin films,performs,electronics and specialty shapes,Noyes,New Jersey,1988
Klein L.C.,Sol−Gel Optics:Processing and Applications,Kluwer Academic Publishers,Boston,1993
Pellice S.A.,Williams R.J.J.,Sobrados I.,Sanz J.,Castrro Y.,Aparicio M.,Duran A.,J Materials Chemistry,2006,16,3318
Schmidt H.,:Brinker CJ,Clark DE,Ulrich DR(編) Better Ceramics Through Chemistry,North−Holland,New York,1984,327−335ページ
Schmidt H.,:Aegerter et al.(編) Sol−Gel Science and Technology,World Scientific,1989
Streppel U.,Dannberg P.,Wachter C.,Brauer A.,Fronhlich L.,Houbertz R.,Popall M.,Optical Materials,2002,21,475

Claims (32)

  1. 約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有するUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製方法であって、
    (i)(a)第1のモノマー又は第1のモノマー混合物、ここで、前記モノマーの1つ1つは金属アルコキシドである;(b)第2のモノマー又は第2のモノマー混合物、ここで、前記モノマーの1つ1つは、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非重合性基によって置換されている金属アルコキシドである;及び(c)第3のモノマー又は第3のモノマー混合物、ここで、前記モノマーの1つ1つは、少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非加水分解性重合性基によって置換されている金属アルコキシドである、を準備する工程と、
    (ii)水と加水分解触媒の存在下で、閉じた系で、高い温度と圧力で(a)、(b)及び(c)の前記モノマー又はモノマー混合物の加水分解と重縮合を行ない、それにより共通溶媒として働くアルコールを放出させる一方で、前記温度を前記アルコールの沸点よりも高く、前記モノマーの沸点よりも低く保ち、前記溶媒と水の蒸気を除去し、それにより一定の圧力を保つ工程と、
    (iii)前記系の中の圧力を大気圧よりも低く下げ、それにより前記溶媒と前記水の残存する蒸気を排出し、それにより無機−有機ハイブリッド樹脂を得る工程と
    を含み、
    ここで、光開始剤を工程(i)のモノマーもしくはモノマー混合物のうちの1つ又は工程(ii)の前記水に添加し、それにより工程(iii)の後に、前記UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を得るか、あるいは
    工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂を、重合を妨げることができる溶媒と光開始剤とを含む溶液に溶解させ、場合によってはその後に濾過し、それにより重合させないで長期間保存できる前記UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液を得る、方法。
  2. 前記UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂が、3%未満、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満の揮発性物質と、25%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは15%未満の有機残渣とを含有する、請求項1に記載の方法。
  3. 前記金属アルコキシドが、Ti、V、YもしくはZrなどの遷移金属、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbもしくはLuなどのランタニド金属、Alから選択される金属、又はSiもしくはBなどの元素とC−C10の直鎖又は分岐アルキルとのアルコキシドであり;前記非重合性基がH又はC−C10、好ましくはC−C、より好ましくはC−Cの直鎖又は分岐アルカノールであり;かつ前記非加水分解性重合性基が、メタクリラート、好ましくはプロピルメタクリラートなどのアクリラート、グリシドキシプロピルなどのエポキシド、ビニルトリエトキシシラン及びビニルトリイソプロポキシシランなどのビニル基、又はスチリルエチルトリメトキシシランなどのスチレン基である、請求項1に記載の方法。
  4. 前記金属アルコキシドが、Si、Ti、Zr又はB、好ましくはSiとC−C、好ましくはC−Cの直鎖アルキルのアルコキシドである、請求項3に記載の方法。
  5. 前記金属アルコキシドが、テトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、オルトチタン酸テトラエチル(TEOT)、オルトチタン酸テトラブチル(TBOT)、ジルコニウムテトラプロポキシド(TPOZ)、ジルコニウムテトラエトキシド(TEOZ)、アルミニウムエトキシド(TEOA)又はトリメトキシボラン(TMOB)、好ましくはTMOSであり;少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非重合性基によって置換されている前記金属アルコキシドがメチルトリメトキシシラン(MTMS)又はジメチルジメトキシシラン(DMDMS)であり;かつ少なくとも1つであるが全てではないアルコキシル基が非加水分解性重合性基によって置換されている前記金属アルコキシドが、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリラート(MATMS)、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GLYMO)又はビニルシランである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 工程(ii)の間に放出されるアルコールが、メタノール、エタノール又はそれらの混合物である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記アルコールがメタノールであり、温度が65〜102℃、好ましくは80〜102℃の範囲であり、かつ圧力が2.5〜4atm、好ましくは2.5〜3.5atmの範囲である、請求項6に記載の方法。
  8. 前記第1のモノマー又は第1のモノマー混合物:前記第2のモノマー又は第2のモノマー混合物:前記第3のモノマー又は第3のモノマー混合物の重量比が、それぞれ、10〜50:50〜90:最大20の範囲、好ましくは20〜50:50〜75:最大10の範囲、より好ましくは30〜45:50〜65:最大5の範囲であり;かつ前記第1のモノマー又はモノマー混合物、前記第2のモノマー又はモノマー混合物、及び前記第3のモノマー又はモノマー混合物:水のモル比が、それぞれ1:1.5〜2.5の範囲、好ましくはそれぞれ1:1.8〜2である、請求項1に記載の方法。
  9. (i)前記第1のモノマーがTMOSであり、前記第2のモノマーがMTMSであり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;(ii)前記第1のモノマーがTMOSであり、前記第2のモノマーがMTMSであり、かつ前記第3のモノマーがGLYMOであるか;(iii)前記第1のモノマーがTMOSであり、前記第2のモノマー混合物がMTMSとDMDMSの混合物であり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;(iv)前記第1のモノマー混合物がTMOSとTEOTの混合物であり、前記第2のモノマーがMTMSであり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;(v)前記第1のモノマー混合物がTMOSとTBOTの混合物であり、前記第2のモノマーがMTMSであり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;(vi)前記第1のモノマー混合物がTMOSとTEOTの混合物であり、前記第2のモノマー混合物がMTMSとDMDMSの混合物であり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;(vii)前記第1のモノマー混合物がTMOSとTPOZの混合物であり、前記第2のモノマーがMTMSであり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;(viii)前記第1のモノマー混合物がTMOSとTPOZの混合物であり、前記第2のモノマー混合物がMTMSとDMDMSの混合物であり、かつ前記第3のモノマーがMATMSであるか;又は(ix)前記第1のモノマー混合物がTMOSとTMOBの混合物であり、前記第2のモノマー混合物がMTMSとDMDMSの混合物であり、かつ前記第3のモノマーがMATMSである、請求項1に記載の方法。
  10. 前記第1のモノマーがTMOSであり、前記第2のモノマーがMTMSであり、かつ前記第3のモノマーがMATMS又はGLYMOであり、前記第1のモノマー:前記第2のモノマー:前記第3のモノマー:水の重量比が、それぞれ、約3:15:2:3.85、3:14:3:3.85又は3:13:4:3.85であり、工程(ii)の間に放出されるアルコールがメタノールであり、温度が65℃よりも高く、102℃よりも低く保たれ、メタノールと水の蒸気が約2.5〜3.5atmの圧力を超えると除去され、それにより一定の圧力が保たれ、かつ工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂が、工程(i)で準備されるTMOSと、MTMSと、MATMS又はGLYMOのどちらかの総重量の60%未満、好ましくは47〜53%の範囲の重量を有する、請求項9に記載の方法。
  11. 該加水分解触媒が、塩酸、硝酸、硫酸もしくはメタクリル酸、好ましくは塩酸などの酸、又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアもしくはフッ素イオンなどの塩基である、請求項1に記載の方法。
  12. 前記光開始剤がイルガキュア184、イルガキュア819又はイルガキュア369(Ciba Geigy)であり;かつ前記重合を妨げることができる溶媒が、テトラヒドロフラン(THF)、アセトン、塩化メチレン又は四塩化エチレンなどの極性有機溶媒、好ましくはTHF又はアセトンである、請求項1に記載の方法。
  13. 前記光開始剤がイルガキュア184、イルガキュア819又はイルガキュア369であり、前記重合を妨げることができる溶媒がTHF又はアセトンであり、かつ前記重合を妨げることができる溶媒中の前記光開始剤の濃度が、0.1〜2.5%、好ましくは0.5〜1.8%、より好ましくは0.5〜1.2%の範囲である、請求項12に記載の方法。
  14. 前記加水分解/重縮合工程(ii)の進行が、温度又は圧力の変化をモニタリングすることにより制御される、請求項1に記載の方法。
  15. 反応容器を加熱することと、前記反応容器内の溶液を撹拌することと、弁を開口すること及び排出ポンプを用いて揮発性成分を排出することにより前記反応容器内の圧力を制御することとが可能な装置内で実施される、請求項14に記載の方法。
  16. 前記光開始剤を工程(i)のモノマーもしくはモノマー混合物のうちの1つ又は工程(ii)の水に添加し、工程(iii)の後に、UV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を得るか;あるいは
    工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂を、前記重合を妨げることができる溶媒と前記光開始剤とを含む前記溶液に溶解させ、場合によってはその後に濾過し、それにより重合させないで長期間保存できるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液を得る、請求項1に記載の方法。
  17. 前記溶液中の前記無機−有機ハイブリッド樹脂の濃度が、最大ほぼ100%(wt)、好ましくは約50%(wt)であり;前記溶液の粘度が約0.5センチポイズ(cP)〜約5000cP、好ましくは約5cPであり;かつ濾過が0.2μmフィルターを用いて行なわれる、請求項16に記載の方法。
  18. 約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含み、重合させないで長期間保存できるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の調製方法であって、
    (i)テトラメトキシシラン(TMOS)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)及びトリメトキシシリルプロピルメタクリラート(MATMS)を、それぞれ、約3:15:2の重量比で反応容器に導入する工程と、
    (ii)水中の5mM塩酸の存在下で、TMOS、MTMS及びMATMSの加水分解と重縮合を行ない、それにより共通溶媒として働くメタノールを放出させ、ここで、前記TMOS、MTMS及びMATMSの総量と水の重量比は、それぞれ、約20:3.85であり、温度は65℃よりも高く、102℃よりも低く保たれ、メタノールと水の蒸気は除去され、それにより約2.5〜3.5atmの一定の圧力が保たれる、工程と、
    (iii)反応容器内の圧力をまず大気圧まで、その後、0.5atmよりも低くまで下げ、それによりメタノールと水の残存する蒸気を排出し、それにより4%未満の揮発性物質を含有するゲル化前の無機−有機ハイブリッド樹脂を得る工程と
    (iv)得られた無機−有機ハイブリッド樹脂を、約1:1の重量比で、2%イルガキュア819のテトラヒドロフラン(THF)溶液に希釈し、その後、得られた溶液を0.2μmフィルターを用いて濾過し、それにより重合させないで長期間保存できる所望のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂の溶液を得る工程と
    を含み、
    ここで、工程(i)〜(iv)が、前記反応容器を加熱することと、前記反応容器内の内容物を撹拌することと、弁を開口すること及び排出ポンプを用いて揮発性成分を排出することにより前記反応容器内の圧力を制御することとが可能な装置内で実施され、かつ
    工程(iii)で得られる無機−有機ハイブリッド樹脂が、工程(i)で導入されるTMOS、MTMS及びMATMSの総重量の60%未満、好ましくは47〜53%の範囲の重量を有する、方法。
  19. 硬化させると、約4%又は4%未満の揮発性物質と30%未満の有機残渣とを含有する透明なガラス様生成物を形成することができるUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂。
  20. 3%未満、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満の揮発性物質と、25%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは15%未満の有機残渣とを含有する、請求項19に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂。
  21. 前記生成物が、(i)可視領域における0.1dB/cmよりも低い、好ましくは0.01dB/cmよりも低い、より好ましくは0.001dB/cmよりも低い光学損失;(ii)少なくとも7MPa、好ましくは少なくとも9MPa、より好ましくは少なくとも10MPaのガラス−ガラス接合の接着強度;及び(iii)200℃を上回る、好ましくは275℃を上回る、より好ましくは350℃を上回る熱安定性を有する、請求項19又は20に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂。
  22. 重合を妨げることができる溶媒中に溶解していて、重合させないで長期間保存できる、請求項19に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂。
  23. 請求項1〜18のいずれか一項に記載の方法により得られる、請求項19〜22のいずれか一項に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂。
  24. 可視領域における0.1dB/cmよりも低い、好ましくは0.01dB/cmよりも低い、より好ましくは0.001dB/cmよりも低い光学損失を有するガラス様の平面又は三次元構造の製造方法であって、請求項19〜23のいずれか一項に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を成形することと、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させることと、その後、前記樹脂を硬化させることと、を含む方法。
  25. フォトリソグラフィーによる製造技術、二光子吸収製造技術、インプリンティング技術又はインクジェット様プリンティング技術を用いて、マイクロ又はナノスケール構造を製造するための、請求項24に記載の方法。
  26. レンズ、鏡、プリズム及び回折格子などの光学要素を製造するための、請求項24に記載の方法。
  27. 前記硬化が、熱硬化、蒸発硬化又はUV硬化、好ましくはUV硬化である、請求項24〜26のいずれか一項に記載の方法。
  28. 2つの部材を光学接合する方法、ここで、前記部材のうちの少なくとも1つは、ガラス、半導体材料又は透明な材料でできていることが好ましい、であって、請求項19〜23のいずれか一項に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂を前記部材上に塗布し、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、前記部材を物理的に接触させ、前記樹脂をUV硬化させることを含む、方法。
  29. 2つのファイバー、ここで、前記2つのファイバー間で形成される接合の屈折率は、前記2つのファイバーの屈折率に近いことが好ましい、を接合させるための、又はファイバーを光学部材、検出器又はセンサーに接合させるための、請求項28に記載の方法。
  30. ダイオード、検出器、センサー、又はレンズ、鏡、プリズム及び回折格子などの光学要素から選択される部材をコーティングする、好ましくは前記部材を湿気、機械的損傷又は放射線による損傷から保護するための、方法であって、前記部材を請求項19〜23のいずれか一項に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂でコーティングし、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、前記樹脂をUV硬化させることを含む、方法。
  31. 光学素子又は電子素子を封入する方法であって、前記光学素子又は電子素子を請求項19〜23のいずれか一項に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂でコーティングし、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、前記樹脂をUV硬化させることを含む、方法。
  32. 無機材料又は有機材料、好ましくは化学的材料、薬学的材料又は化粧材料を封入する方法であって、前記無機材料又は有機材料を請求項19〜23のいずれか一項に記載のUV硬化性無機−有機ハイブリッド樹脂でコーティングし、存在する場合は、重合を妨げることができる溶媒を蒸発させ、前記樹脂をUV硬化させることを含む、方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016507613A (ja) * 2012-12-21 2016-03-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101530742B1 (ko) * 2008-03-26 2015-06-22 린텍 가부시키가이샤 실란 화합물 중합체로 이루어지는 고정재 및 광 소자 밀봉체
DE102009019370A1 (de) * 2009-04-29 2011-01-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Verkapseln von flüssigen oder pastösen Substanzen in einem vernetzten Verkapselungsmaterial
KR101611999B1 (ko) * 2010-02-04 2016-04-14 삼성디스플레이 주식회사 접착제, 접착제를 갖는 표시 장치, 표시 장치의 제조 방법 및 본딩 장치
US8858025B2 (en) * 2012-03-07 2014-10-14 Lg Innotek Co., Ltd. Lighting device
US9627595B2 (en) * 2012-06-27 2017-04-18 Lg Innotek Co., Ltd. Lighting device
US20140178698A1 (en) * 2012-12-21 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
US9963786B2 (en) 2013-03-15 2018-05-08 Henkel Ag & Co. Kgaa Inorganic composite coatings comprising novel functionalized acrylics
WO2015047301A1 (en) 2013-09-27 2015-04-02 Halliburton Energy Services, Inc. Expandable particulates and methods of use and preparation
US20180251645A1 (en) * 2015-08-19 2018-09-06 Yissum Research Development Company Of The Hebrew University Of Jerusalem Ltd 3d polymerizable ceramic inks
EP3246175B1 (de) * 2016-05-20 2018-06-27 Flooring Technologies Ltd. Verfahren zur herstellung einer abriebfesten holzwerkstoffplatte und produktionslinie hierfür
EP3480030B1 (de) 2017-11-06 2020-05-13 Flooring Technologies Ltd. Verfahren zur herstellung einer abriebfesten holzwerkstoffplatte und produktionslinie hierfür
CN109991813B (zh) * 2017-12-29 2022-06-21 财团法人工业技术研究院 感光型复合材料及使用其形成复合薄膜的方法
WO2020133158A1 (zh) * 2018-12-28 2020-07-02 湖州五爻硅基材料研究院有限公司 一种球形硅树脂粉体或其接团体的制备方法以及由此得到的球形硅树脂粉体或其接团体
EP3686028B1 (de) 2019-01-22 2021-02-17 Flooring Technologies Ltd. Verfahren zur herstellung einer abriebfesten holzwerkstoffplatte
DE102020112268A1 (de) * 2020-05-06 2021-11-11 EXXERGY GmbH Verbesserung der Glasfestigkeit und Bruchzähigkeit durch eine nicht spröde, abriebfeste Beschichtung
KR102223131B1 (ko) 2020-05-18 2021-03-05 주식회사 마이크로원 여과집진기의 여과효율 향상을 위한 재봉부 무용제 심실링 적용 필터 및 이의 제조 공법
CN112831002A (zh) * 2021-02-05 2021-05-25 珠海格力电器股份有限公司 光敏树脂及其合成方法
CN113125310B (zh) * 2021-04-19 2022-08-16 安徽农业大学 一种监测塑料包装中光起始剂-907渗透行为的方法
WO2023170438A1 (en) * 2022-03-10 2023-09-14 Totalenergies One Tech Photoactivable hybrid organic-inorganic sol-gel resin for 3d printing

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07331173A (ja) * 1995-02-21 1995-12-19 Toray Ind Inc 光学材料形成用塗液組成物および光学材料
JP2004307659A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Olympus Corp 光学素子および光学素子形成用の有機無機複合材料
WO2008041630A1 (fr) * 2006-09-29 2008-04-10 Asahi Kasei Emd Corporation Composition de polyorganosiloxane
JP2010037538A (ja) * 2008-07-31 2010-02-18 Korea Advanced Inst Of Sci Technol Led封止用樹脂組成物

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0281034A3 (en) * 1987-02-26 1990-09-19 Tohru Yamamoto An aromatic composition and a method for the production of the same
US5204381A (en) * 1990-02-13 1993-04-20 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Hybrid sol-gel optical materials
US5776565A (en) * 1996-12-04 1998-07-07 International Paper Company Hybrid sol-gel barrier coatings
WO2002088221A1 (en) 2001-04-27 2002-11-07 The University Of Sydney Materials for optical applications
DE10148894A1 (de) * 2001-10-04 2003-04-30 Fraunhofer Ges Forschung Photochemisch und/oder thermisch strukturierbare Harze auf Silanbasis, einstufiges Verfahren zu deren Herstellung, dabei einzetzbare Ausgangsverbindungen und Herstellungsverfahren für diese
DE10200760A1 (de) * 2002-01-10 2003-07-24 Clariant Gmbh Nanokompositmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenfolien
US6727337B2 (en) * 2002-05-16 2004-04-27 The Australian National University Low loss optical material
CN1616523B (zh) * 2003-09-29 2010-12-08 三洋电机株式会社 有机金属聚合物材料及其制造方法
KR100614976B1 (ko) * 2004-04-12 2006-08-25 한국과학기술원 광소자 또는 디스플레이에 이용되는 무기/유기혼성올리고머, 나노혼성고분자 및 그 제조방법
TW200700510A (en) * 2005-02-25 2007-01-01 Optimax Tech Corp Inorganic-organic hybrid nanocomposite antiglare and antireflection coatings
EP2067824A1 (en) * 2006-09-29 2009-06-10 Nippon Shokubai Co., Ltd. Curable resin composition, optical material, and method of regulating optical material
DE102006052303B4 (de) * 2006-11-03 2012-07-12 Eads Deutschland Gmbh Schutz von erosionsbelasteten Luftfahrtstrukturen durch nanopartikelverstärkte anorganisch-organische Hybridbeschichtungen
WO2009001629A1 (ja) * 2007-06-26 2008-12-31 Konica Minolta Opto, Inc. クリアーハードコートフィルム、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07331173A (ja) * 1995-02-21 1995-12-19 Toray Ind Inc 光学材料形成用塗液組成物および光学材料
JP2004307659A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Olympus Corp 光学素子および光学素子形成用の有機無機複合材料
WO2008041630A1 (fr) * 2006-09-29 2008-04-10 Asahi Kasei Emd Corporation Composition de polyorganosiloxane
JP2010037538A (ja) * 2008-07-31 2010-02-18 Korea Advanced Inst Of Sci Technol Led封止用樹脂組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016507613A (ja) * 2012-12-21 2016-03-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法

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