JP5412037B2 - シロキサン樹脂、シロキサン樹脂の調製方法および抗反射コーティング組成物 - Google Patents
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Description
(A)式(HSiO3/2)a(RSiO3/2)b(SiO4/2)cを持っているシロキサン樹脂
式中、Rが、Z、Z(CH2)n、もしくはZO(CH2)n
式中、Zが、フェニルもしくは置換フェニル基であり;nが、値1〜6を持ち、aが、値0.01〜0.7を持ち、bが、値0.05〜0.7を持ち、cが、値0.1〜0.9を持ち、a+b+c≒1
および
(B)溶媒
を含む。
(I)抗反射コーティング組成物を、基材上に適用していき、コーティングされた基材を形成させ、該抗反射コーティング組成物が:
(A)式(HSiO3/2)a(RSiO3/2)b(SiO4/2)cを持っているシロキサン樹脂
式中、Rが、Z、Z(CH2)n、もしくはZO(CH2)n
式中、Zが、フェニルもしくは置換フェニル基であり;nが、値1〜6を持ち、aが、値0.01〜0.7を持ち、bが、値0.05〜0.7を持ち、cが、値0.1〜0.9を持ち、a+b+c≒1
および
(B)溶媒
を含み、ならびに
(II)このコーティングされた基材を硬化させていき、該抗反射コーティングを、該基材上で形成させること
を含んでいる。
シロキサン樹脂組成物(HSiO3/2)0.35(RSiO3/2)0.3(SiO4/2)0.35、R=2−HO−C6H4CH2CH2CH2−が、(A)100重量部の1−メトキシ−2−プロパノール、(B)2.65重量部のトリエトキシシラン、(C)3.36重量部のテトラエトキシシラン、(D)4.12重量部のRSi(OEt)3、および(E)3.74重量部の8.4重量%のHCl/H2O混合物を組み合わせていくことにより、調製された。この結果得られてくる溶液が、20分間加熱還流され、60.2重量部の溶液が残るまで、減圧下に除去に付された。1%のH2SO4水溶液0.65重量部および水2.5重量部が加えられ、この溶液が20分間加熱還流された。最終生成物は、明るい黄色溶液である。
シロキサン樹脂組成物(HSiO3/2)0.49(PhCH2CH2SiO3/2)0.16(SiO4/2)0.35(実施例2)および(HSiO3/2)0.4(PhSiO3/2)0.25(SiO4/2)0.35(実施例3)が、氷水浴を用いて冷やされたガラス容器中において、成分(A)1−メトキシ−2−プロパノール、(B)トリクロロシラン、(C)テトラクロロシラン、(D)PhCH2CH2SiCl3もしくはPhSiCl3、および(E)水を、表2に従って組み合わせていくことにより、調製された。この結果得られてくる溶液が、20分間加熱還流され、合計重量の50%が残るまで、減圧下に除去に付された。当初合計重量の1.5%の量の水が加えられ、1−メトキシ−2−プロパノールが、合計重量が当初合計重量に同一となるまで加えられた。最終生成物は、透明溶液であった。
シロキサン樹脂組成物(HSiO3/2)0.84(PhCH2CH2SiO3/2)0.16(比較例4)および(HSiO3/2)0.75(PhSiO3/2)0.25(比較例5)が、実施例2および3において論じられた同一手順を使用して調製されたが、これらの成分に関する重量部が、表4において示されるとおり異なっていたことを除く。最終生成物は両方、曇った溶液であり、0.2μmフィルターを通して濾過され得なかった。これゆえ、これら組成物のどちらも、コーティング組成物として使用され得ない。
シロキサン樹脂組成物(MeSiO3/2)0.49(PhCH2CH2SiO3/2)0.16(SiO4/2)0.35(比較例6)および(MeSiO3/2)0.4(PhSiO3/2)0.25(SiO4/2)0.35(比較例7)が、実施例2および3において論じられた同一手順を使用して調製されたが、成分(B)が、HSiCl3からMeSi(OMe)3に変更され、これらの成分の重量部が、表5において示されるとおり調整されたことを除く。
シロキサン樹脂組成物(PhCH2CH2SiO3/2)0.185(SiO4/2)0.815(実施例8)および(PhSiO3/2)0.21(SiO4/2)0.79(実施例9)が、氷水浴を用いて冷やされたガラス容器中において、成分(A)1−メトキシ−2−プロパノール、(C)テトラクロロシラン、(D)PhCH2CH2SiCl3もしくはPhSiCl3、および(E)水を、表7に従って組み合わせていくことにより、調製された。この結果得られてくる溶液が、20分間加熱還流され、合計重量の50%が残るまで、減圧下に除去に付された。当初合計重量の1.5%の量の水が加えられ、1−メトキシ−2−プロパノールが、合計重量が当初合計重量に同一となるまで加えられた。最終生成物は、透明溶液であった。
Claims (7)
- 式(HSiO3/2)a(RSiO3/2)b(SiO4/2)cを有するシロキサン樹脂であって、式中、Rが、Z、Z(CH2)nまたはZO(CH2)nであり、式中、Zが、非置換またはHO−、MeO−、CH3−、CH3CH2−もしくはCl−置換のフェニル基であり、nが、1〜6の値を有し、aが、0.01〜0.7の値を有し、bが、0.05〜0.7の値を有し、cが、0.25〜0.9の値を有し、a+b+c=1であり、2000〜200000の重量平均分子量を有するシロキサン樹脂。
- Zが、置換フェニル基であり、該置換基が、HO−、MeO−、CH3−、CH3CH2−およびCl−から選択される、請求項1に記載のシロキサン樹脂。
- aが、0.2〜0.5の値を有し、bが、0.15〜0.35の値を有し、cが、0.25〜0.6の値を有し、a+b+c=1である、請求項1に記載のシロキサン樹脂。
- 水、1〜70モル%のHSiX3、5〜70モル%のRSiX3および25〜90モル%のSiX4(但し、HSiX3、RSiX3およびSiX4の合計モルに基づき、HSiX3、RSiX3およびSiX4の合計量を100モル%とし、式中、Xが、加水分解可能な基であり、Rが、Z、Z(CH2)nまたはZO(CH2)nであり、式中、Zが、非置換またはHO−、MeO−、CH3−、CH3CH2−もしくはCl−置換のフェニル基であり、nが、1〜6の値を有する)ならびに有機溶媒を含む反応混合物を形成させること、該反応混合物を反応させて、2000〜200000の重量平均分子量を有するシロキサン樹脂を生成させることを含む、シロキサン樹脂の調製方法。
- RSiX3が、PhCH2CH2SiCl3および(2−HO)C6H4CH2CH2CH2Si(OEt)3(式中、Etがエチル基を表し、Phがフェニル基を表す)から選択される、請求項4に記載のシロキサン樹脂の調製方法。
- 前記溶媒が、前記反応混合物の全重量に基づき70〜99重量%の量で存在している、請求項4に記載のシロキサン樹脂の調製方法。
- (A)式(HSiO3/2)a(RSiO3/2)b(SiO4/2)cを有するシロキサン樹脂であって、式中、Rが、Z、Z(CH2)nまたはZO(CH2)nであり、式中、Zが、非置換またはHO−、MeO−、CH3−、CH3CH2−もしくはCl−置換のフェニル基であり、nが、1〜6の値を有し、aが、0.01〜0.7の値を有し、bが、0.05〜0.7の値を有し、cが、0.25〜0.9の値を有し、a+b+c=1であり、2000〜200000の重量平均分子量を有するシロキサン樹脂と、
(B)溶媒と
を含む、抗反射コーティング組成物。
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