JP2008524374A5 - シロキサン樹脂、シロキサン樹脂の調製方法および抗反射コーティング組成物 - Google Patents

シロキサン樹脂、シロキサン樹脂の調製方法および抗反射コーティング組成物 Download PDF

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本発明は、式（ＨＳｉＯ3/2）a（ＲＳｉＯ3/2）b（ＳｉＯ4/2）cを有するシロキサン樹脂に関し、式中、Ｒが、Ｚ、Ｚ（ＣＨ2）n もしくはＺＯ（ＣＨ2）nであり、式中、Ｚが、フェニルもしくは置換フェニル基であり、ｎが、１〜６の値を有し、ａが、０．０１〜０．７の値を有し、ｂが、０．０５〜０．７の値を有し、ｃが、０．１〜０．９の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ≒１である。本シロキサン樹脂は、抗反射コーティング組成物において有用である。

Claims (8)

  1. 式（ＨＳｉＯ3/2）a（ＲＳｉＯ3/2）b（ＳｉＯ4/2）cを有するシロキサン樹脂であって、式中、Ｒが、Ｚ、Ｚ（ＣＨ2）n もしくはＺＯ（ＣＨ2）n であり、式中、Ｚが、フェニルもしくは置換フェニル基であり、ｎが、１〜６の値を有し、ａが、０．０１〜０．７の値を有し、ｂが、０．０５〜０．７の値を有し、ｃが、０．１〜０．９の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ≒１であるシロキサン樹脂。
  2. Ｚが、置換フェニル基であり、該置換基が、ＨＯ−、ＭｅＯ−、ＣＨ3−、ＣＨ3ＣＨ2−およびＣｌ−から選択される、請求項１に記載の組成物。
  3. ａが、０．２〜０．５の値を有し、ｂが、０．１５〜０．３５の値を有し、ｃが、０．２５〜０．６の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ≒１である、請求項１に記載の組成物。
  4. 水、ＨＳｉＸ3、ＲＳｉＸ3 およびＳｉＸ4 （式中、Ｘが、加水分解可能な基である）ならびに有機溶媒を含む反応混合物を形成させること、該反応混合物を反応させて、シロキサン樹脂を生成させることを含む、シロキサン樹脂の調製方法。
  5. ＲＳｉＸ3が、ＰｈＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3および（２−ＨＯ）Ｃ6Ｈ4ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＥｔ）3 （式中、Ｅｔがエチル基を表し、Ｐｈがフェニル基を表す）から選択される、請求項４に記載の方法。
  6. １〜７０モル％のＨＳｉＸ3 、５〜７０モル％のＲＳｉＸ3 および１０〜９０モル％のＳｉＸ4があり、但し、ＨＳｉＸ3、ＲＳｉＸ3 およびＳｉＸ4の量が、ＨＳｉＸ3、ＲＳｉＸ3 およびＳｉＸ4の合計モルに基づきおよそ１００モル％である、請求項４に記載の方法。
  7. 前記溶媒が、前記反応混合物の全重量に基づき７０〜９９重量％の量で存在している、請求項４に記載の方法。
  8. （Ａ）式（ＨＳｉＯ3/2）a（ＲＳｉＯ3/2）b（ＳｉＯ4/2）cを有するシロキサン樹脂であって、式中、Ｒが、Ｚ、Ｚ（ＣＨ2）n もしくはＺＯ（ＣＨ2）n であり、式中、Ｚが、フェニルもしくは置換フェニル基であり、ｎが、１〜６の値を有し、ａが、０．０１〜０．７の値を有し、ｂが、０．０５〜０．７の値を有し、ｃが、０．１〜０．９の値を有し、ａ＋ｂ＋ｃ≒１であるシロキサン樹脂と、
    （Ｂ）溶媒と
    を含む、抗反射コーティング組成物。
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