TWI276657B - Nanocompositions material for the production of films with a refractive index gradient - Google Patents

Description

(3) 1276657

f)0至5wt%，有利地〇 〇1至lwt%之熱或光化學交聯起始 劑’敏化劑’潤濕劑，粘合促進劑，抗氧化劑，流變添加劑 ，安定劑，色料，光色及熱色物質，或其組合物，在每一情 況中’係以奈米複合材料之總重量（乾重量）來表達。 依本發明之奈米複合材料的動力粘度在25 °C下是2至 lOOOPas，有利地5至500Pas，特別地10至lOOPas，係由轉動 粘度計來測得。 【實施方式】 可溶聚合物a)有利地是聚丙烯酸酯，聚甲基丙烯酸酯， 聚環氧化物，聚乙烯醇，聚乙酸乙烯酯或聚丁酸乙烯酯，其 可溶於有機溶劑中。有利的有機溶劑是醇類如乙醇.，異丙醇 或丁醇。酮類如丙酮，酯類如乙酸乙酯，醚類如四氫呋喃及 脂族，芳族和鹵化烴類如己烷，苯，甲苯和氯仿。 合適的矽烷類是那些具有一、二、三或四個，有利地二 或三個可水解基團者及其混合物。可水解基團之實例是氫或 鹵素如F，Cl，Br或I ;烷氧基，有利地Cw烷氧基，如甲氧 基，乙氧基，正丙氧基，異丙氧基及丁氧基；芳氧基，有利 地Cm〇芳氧基如苯氧基；醯氧基如乙醯氧基或丙醯氧基；烷 羰基，有利地C2_7烷羰基如乙醯基；胺基，單烷胺基或二烷 胺基，而有利地在烷基中有1至12，特別地1至6碳原子。 特別有利的矽烷類是諸如甲基丙烯氧丙基三甲氧基矽烷 ，丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷，二甲基二甲氧基矽烷，二甲 基二乙氧基矽烷，3-縮水甘油氧基-丙基三甲氧基矽烷，縮 -10- (4) 1276657 水甘油氧基-丙基三乙氧基矽烷，乙烯基三乙氧基矽烷，甲 基三乙氧基矽烷。 矽烷類之部分縮合可以用次化學計量，如0.3至0.9倍的 化學計量的水解劑如水，含水HC1，含水HN〇3或含水之氨來 實施。水解劑之量在此情況中可以成比例的，以使33至 100%之無機縮合比例可以得到。33%之無機縮合比例意指例 如平均三分之一之矽烷的可水解殘基被縮合以形成-Si-0-Si 橋。若有100%之縮合比例，則所討論之矽烷分子之所有可 水解殘基被縮合。 有機轉化比例指明在側鏈中c=c雙鍵或環氧基之加成聚 合反應的程度。95%之有機轉化比例意指例如所有C = C鍵或 環氧基之95%已反應。在C = C雙鍵情況中，如在丙烯酸酯殘 基中，有機轉化比例可以經由IR光譜中振動譜帶之減低而測 得。加成聚合可以藉標準方法如在環氧基情況中之酸或鹼水 解或在C = C雙鍵情況中之UV照射而引發。 丙烯酸酯c)有利地是甲基丙烯酸甲酯或二丙烯酸二醇酯 ，或二甲基丙烯酸二醇酯如二甲基丙烯酸己二醇酯，二丙烯 酸己二醇酯，二丙烯酸十二烷二醇酯或二曱基丙烯酸十二烷 二醇酯。 表面經修飾之奈米級粒子d)有利地包括氧化物Zn〇， Cd〇，Si〇2，Ti〇2 ’ Zr〇2，Ce〇2，Sn〇2，Al2〇3，IruCh，La2〇3 ，Fe2〇3，Ta2〇5，CU2〇，V2〇5，M〇〇3和W〇3以及鹵化物AgCl2 ，AgBr，Agl，Cul，CuBr，Cdl2 和 Pbl2。表面基團可以是易 受自由基，陽離子或陰離子熱或光化學聚合或熱或光化學縮 聚合的可有機聚合及/或可縮聚合之基團。依本發明，具有 -11 - (5) 1276657 (甲基）丙烯基，烯丙基，乙烯基或環氧基之表面基團是有利 的，（甲基）丙烯基和環氧基是特別有利的。主要相關的可縮 聚合基是羥基，羧基和胺基，在其幫助下，可能在奈米級粒 子和矽烷間得到醚，酯和醯胺鍵。 在奈米級粒子表面上存在且包括可聚合及/或可縮聚合 基團之有機基有利地具有少於300，特別地少於200之分子量 〇 所有的產製方法，如DE-A- 197 19 948中所描述的，適 於表面經修飾之奈米粒子的產製。奈米粒子有利地具有不大 於100nm，特別地不大於50nm之直徑。關於下限並無特別限 制，雖然就實際而言下限通常是0.5nm，特別地lnm且常是 4nm ° 至於軟化劑e)，依DIN55945( 1 988年12月）具有彈性化或 軟化性質的所有化合物原則上是合適的，且主要是酯型者。 來自以下族群之增塑劑是有利的：無環之脂族二羧酸酯如己 二酸之酯類如己二酸二正辛酯，己二酸雙-(2-乙基己基）酯， 己二酸二異癸酯，癸二酸二丁酯，癸二酸二辛酯及癸二酸雙 (2-乙基己基）酯；C6-C12二羧酸與聚烷二醇之酯類如雙-(正庚 酸）三乙二醇酯，雙-(2-乙基己酸）三乙二醇酯，雙-(異壬酸） 三乙二醇酯；（：0-(：12二羧酸與聚烷二醇之酯類如雙-(2-乙基 丁酸）三乙二醇酯；（甲基）丙烯酸與聚烷二醇之二酯類，如 二丙烯酸或二甲基丙烯酸聚丙二醇酯，二丙烯酸或二甲基丙 烯酸聚乙二醇酯例如二（曱基）丙烯酸四乙二醇酯。 奈米複合材料方便地含有聚合，加成聚合及/或縮聚合 觸媒f) ’其可熱及/或光化學地引發交聯及熟化（統稱爲、、 -12- (6) 1276657 交聯起始劑〃）。 在市場上可得到之起始劑例如可用來作爲光起始劑。這 些的實例是Irgacure® 184( 1 -羥基環己基苯基酮）’ Irgacui:e®500(l-羥基環己基苯基酮，二苯甲酮）及Irgacure®型 之其它光起始劑；Darocur⑧ 1173，1116，1398，1174及 1020 ，2-氯噴噸酮，2-甲基噻噸酮，2-異丙基噻噸酮，苯偶姻’ 4， -二甲氧基-苯偶姻，苯偶姻乙基醚，苯偶姻異丙基醚’ 苄基二曱基縮醛，1，1，1-三氯乙醯苯酮，二乙氧基乙醯苯 酮和二苯並環庚酮。 合適的熱起始劑有利地是二醯基過氧化物，過氧化二碳 酸酯，烷基過酸酯，二烷基過氧化物，過縮醛，酮過氧化物 及烷基氫過氧化物型式之有機過氧化物。此種熱起始劑之實 例是二苯醯過氧化物，特丁基過苯酸酯，及偶氮雙異丁腈。 陽離子性熱起始劑之實例是1 -甲基咪唑。 流變添加劑之實例是經聚醚修飾之二甲基聚矽氧烷類如 @Byk306。敏化劑之實例是經胺修飾之寡醚丙烯酸酯類，如φ Crodamers 〇 本發明也關於一種上述奈米複合材料之製法，其中砂院 b)藉添加水解劑而部分或完全地縮合及可選擇地藉UV照射 而聚合，且混以成份a)，c)至f)之一或多種，或矽烷b)首先 混以成份a)，c)至f)之一或多種，而後縮合且選擇性地被聚 合’且可選擇地隨後除去有機溶劑。用水解劑之縮合有利地 在5至40°C溫度下實施。 折射率改變所需之奈米粒子可以不同方式導入系統中。 -13- (7) 1276657 一方面，商業上可取得之奈米粒子可用來作爲溶劑中之懸浮 物（與聚合物之溶劑相容）。奈米粒子表面首先藉著與含有可 聚合基團之化合物，如與不飽和羧酸’特別是甲基丙烯酸， 丙烯酸，及丙烯矽烷類及/或不飽和/5二酮類之反應而修飾 。此懸浮物而後與矽烷聚合物溶液混合。另一方面，奈米粒 子也可以在原位上藉水解及相關先質（有利地烷氧化物）在基 質之部分及預先縮合之有機矽烷成份中或在預先縮合之有機 矽烷與經溶解之聚合物的混合物中的縮合來產製。 本發明進一步關於上述奈米複合材料在產製具有折射率 梯度之平面材料，特別地薄膜上的用途。 爲了產製具有折射率梯度之材料，依本發明之可光聚合 的奈米複合材料應用至合適載體如玻璃，陶瓷，矽，金屬， 半導體材料或（有利地透明的）塑膠薄膜，特別是PET，PE， PP ° 可光聚合奈米複合材料的塗覆可以依標準方法來實施， 如浸漬塗覆，用刮刀之流動塗覆，澆鑄，旋轉塗覆，噴射， 刮膠，窄口塗覆，液面塗覆，薄膜澆鑄，紡絲或噴霧。在每 一情況中所需之粘度可以藉所用之溶劑之添加或移去來調整 。有利的層厚度（在熟化態）是0.2至100/zm。 本發明進一步關於一種具有折射率梯度之薄膜，其實質 由一或二個塗有依本發明之奈米複合材料之透明塑膠薄膜所 組成，其中折射率梯度已藉應用電勢差，電子照射，全息照 像，石印術或藉局部照明而產生。 本發明進一步關於一種產製具有折射率梯度之薄膜的方 法，其中依本發明之奈米複合材料應用至透明塑膠薄膜，若 (8) 1276657 適合使有機溶劑蒸發（方便地蒸發至0至15wt%，特別地2至 12wt%之殘餘含量，此係以具有折射率梯度之薄膜總重來表 達），且可選擇地奈米複合層與保護用之透明覆蓋薄膜層合 。以此形式，薄膜材料可被捲起且暫時保存，同時不受光且 在受控制環境中（15-30°C )。藉應用電勢差，電子照射，全 息照像，石印術或藉局部照明，折射率梯度在奈米複合層中 產生且藉奈米複合材料之完全熱及/或光引起之交聯而固定 〇 用UV光之照射是有利的。 相對密集之局部照明導致奈米粒子與膠化基質之部分縮 合之矽烷成份在彼此間及/或彼此交聯，以致相關於未照明 之鄰近區的化學電勢梯度形成在表面具有c=c之奈米粒子上 。進一步之奈米粒子由此鄰近區擴散入經照明區。此過程可 以在照明之前或之後發生，且它通常依照明條件和溫度而持 續數秒至數分鐘。因奈米粒子和基質間之折射率差，以此方 式形成局部折射率梯度。此方法接著是藉光聚合及/或熱引 起之聚合所致之基質的完全交聯。（在本文中所用之、、聚合 〃企圖不僅包括狹義之聚合，也包括加成聚合反應和縮合聚 合反應）。在此情況中，若合適則除去溶劑。 令人驚訝地，粒子遷移發生在依本發明之基質中，即使 它是固態或凝膠態。 依本發明之具有折射率梯度的材料可用來例如產製顯示 器之被動光導元件和照明元件，供安全全息照像，照片全息 照像，數位全息照像以供資訊儲存，供具有如處理光波前之 元件的系統，供平面波導之應用，供影響光之極化的應用， -15- 1276657 Ο) 供作爲光束分裂器和作爲鏡片之應用。 在以下實例中，視角被測量以作爲所得之折射率調製的 量計量。在此情況中，在粒子遷移和基質完全熟化後，藉發 光計，在10逐漸變至60° ( α )時（60°相對於中心軸）分析應 用至基底上之奈米複合材料的發光。視角對應於強度[%]對 角度α (-30至+ 30° )之作圖之最大的一半（1/2)時的全寬。較 高之視角含示材料之較大的散射功率。超過10°之値是想要 的。 實例1 :供全息照像之光奈米複合材料之產製 a) Zr(〇Pr)4/MAA(l : 1)之產製： 65.4克（0.20莫耳）之21*(〇？〇4置於250毫升三頸燒瓶中且 在冰浴中冷卻。17.2克（0.20莫耳）甲基丙烯酸（MAA)逐滴緩慢 地添加至此（15分鐘），同時攪拌。在完全添加後，在10分鐘 後自冰浴移除反應混合物且隨後在251下攪拌。 b) 矽烷-PVB混合物之產製 24克（0.20莫耳）二甲基二甲氧基矽烷（DMDS)添加至49.6 克（0.20莫耳）曱基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（MPTS)中且在 25°(：下攬拌5分鐘。在添加9.05克之0.1^^(：1後，持續在25°〇 下攪拌另外之10分鐘，直到反應混合物變爲澄淸。49.92克 聚乙烯醇縮丁醛（30wt%濃度於2-Pr〇H中）隨後添加至此且在 25°C下攪拌5分鐘。 c)基質的產製 •16- (10) 1276657 在a)中產製之22.27克Zr(OPr)4/MAA奈米粒子緩慢地添加 至混合物b)中，同時攪拌。在完全添加後，在25 下靜置4 小時且逐滴添加1.08克（0.06莫耳）水。在25 °C下攪拌過夜後 ’添加6.2克二甲基丙烯酸十二烷二醇酯⑴DDMA)和1.6克光 起始劑®Irgacure 184。 實例2至4 : 如實例1中所述一般，實施1 : 1比例之Zr(〇Pr)4/MAA之 產製。 MPTS置於第二槽中，且依表1之所要量的DMDES，PVB， 溶液（30wt%濃度於乙醇中）及TEG = (2-乙基己酸酯）添加至此 且在25°C下攪拌15分鐘。而後添加0.1N HC1且在室溫下攪拌 約10分鐘，直至原爲混濁的反應混合物變澄淸。而後藉助於 滴液漏斗緩慢添加Zr(〇Pr)4/MAA，同時攪拌。在完全添加後 ’在室溫下攪拌4小時。所需量的水隨後逐滴添加且在室溫 下攪拌過夜。 而後添M®Crodamer UVA 421。在另外之15分鐘後添加 ®Irgacure 879。此批料隨後用異丙醇來稀釋且添加®Byk 306 。攪拌直至完全均質化。 -17- 1276657

一嗽 實例4 0.125莫耳 0.125莫耳 0.3125莫耳 0.11莫耳 0 31.0 克 133.6克 116.1克 18.5 克 41.6 克 1.9克 7.08 克 7.08 克 6.8克 90.6 克 實例3 0.1莫耳 0.1莫耳 0.25莫耳 « r-H ο ΰ CM τ-Η 1 24.8 克 133.6 克 110.6 克 14·8 克 1 4.50 克 41.6 克 1·9克 6·75 克 6.75 克 6.5克 86.3 克 實例2 1 0.075莫耳 0.075莫耳 0.1875莫耳 0.11莫耳 o <N 18.6 克 133.6 克 105.1 克 11.1 克 I 3.375 克 41.6 克 1.9克 6.41 克 6.41 克 6.15 克 82.0 克 MPTS PVB溶液 TEG二（2-乙基己酸酯） DMDES 0.1Ν HC1 Zr(OnPr)4/(MAA) 〇 (Ν Crodamer UVA421 Os 00 <υ 〇 a Ό 〇 PQ 異丙醇 視角 遯l^sIlfK]:::稍B-HnsHasa 鑑 HK]111=0H1 18- (12) 1276657 實例5至14 : 如實例1中所述一般，實施Zr(〇Pr)4/MAA之產製： MPTS置於第二槽中，所要量之dmdES，PVB溶液 (3〇wt%濃度於乙醇中）及異丙醇被添加且在下攪拌15分 鐘。而後’ 〇. IN HC1被添加且在室溫下攪拌約10分鐘，直至 原爲混濁之反應混合物變澄淸。所需量之Zr(〇Pr)4/MAA而後 藉助於滴液漏斗而緩慢地添加，同時攪拌。在完全添加後， 在室溫下攪拌4小時。所需量之水而後逐滴添加且在室溫下 攪拌過夜。 而後添加 Irgacure 819及Byk 3 06。隨後用異丙醇稀釋 且添加®Byk 3 06。攪拌直至完全均質化（基礎塗覆物）。依表 2之軟化劑和敏化劑隨後被添加。

基礎塗覆物 MPTS 139克 0.56莫耳 PVB溶液 601.2克 異丙醇 365.7克 DMDES 82.9 克 0.56莫耳 0.1NHC1 25.2 克 1.41莫耳 Zr(〇nPr)4/(MAA) 187.2克 H20 8.46 克 0.47莫耳 Irgacure 819 15.8 克 Byk 306 23.7 克 PVB : ®Mowital 30HH及 60HH(1 : 1) -19- (13) 1276657 表2 :軟化劑和敏化劑之變化（每1 0克® t料之變化） Ex. Crodamer UVA 421 聚乙二醇丙烯 酸酯 TEG 二（2-乙基 己酸酯） 視角 5 0.7776克 . 3.1104克 16° 6 1.1664克 3.1104克 16。 7 1.5552克 1.5 5 52克 12。 8 2.3328克 PPGDMA(570) - 12° 9 0.7776克 1.5552克 PEGDMA(330) - 13。 10 0.7776克 1.5 5 52克 PEGDMA(3 30) 0.7776克 13。 11 0.7776克 2.3 328克 PPGDA(540) - 10。 12 0.7776克 1.5 5 52克 PEGDA(25 8) 0.7776克 13。 13 - 1.5 5 52克 PEGDMA(330) 1.5 5 52克 14。 14 - 0.7776克 PEGDMA(330) 2_3328 克 16。 PPGDMA(57〇):聚丙：：：醇二甲基丙烯酸酯（平均分子量：57〇 克/莫耳） PEGDMA(33〇):聚乙二醇二曱基丙烯酸酯（平均分子量 :330 克/莫耳） PPGDA(540):聚丙二醇二丙烯酸酯（平均分子量：54〇 (14) 1276657 克/莫耳） PEGDA(25 8):聚乙二醇二丙烯酸酯（平均分子量：258 克/莫耳） 實例1 5 ·•供石印術用之光奈米材料的產製 5 92.2克（1.81莫耳）2]：(〇？1^)4置於2升三頸燒瓶中且在冰浴 中冷卻至10°C。155.7克（1.81莫耳）MAA緩慢逐滴添加至此， 同時攪拌。在完全添加後，反應混合物在丨〇分鐘後自冰浴除 去且隨後在25°C下攪拌。 2312.1克？乂：6(3(^1%濃度於2-丙醇中）置於10升反應器中 。首先2241.9克（9.04莫耳）MPTS，而後1 338克（9.04莫耳）二甲 基二乙氧基矽烷（DMDES)緩慢添加至此且在25分下均質化45 分鐘。隨後添加407克之0.1 N HC1。反應器溫度藉恆溫器保 持在40 °C下。在反應混合物澄淸之後，以上所產製之748克 22*(〇?〇4厦八八被逐滴添加，同時在40°(：下激型攪拌。48.78克 (2.71莫耳）之水而後被添加且在25°C下攪拌另16小時。260克 己二醇二甲基丙烯酸酯（HDDMA)隨後被添加接著在25 °C下攪 拌30鐘，最後添加99克®Crodamer UVA421。在25°C下另外 攪拌30分鐘後，添加99.5克Irgacure 8 19。 全息實驗 經相調節之體積全息照像，以及透射和反射全息照像藉 二波混合而產製。在此使用氬離子雷射作爲相干光源。雷射 光束（20 m W/cm2)聚焦在約〇.5mm直徑上且藉光束分裂器分成 相同強度之二道附加的光束。此二光束之干涉導致光強度之 (15) 1276657 空間週期改變。實例1之材料被用來作爲全息材料。爲了層 之產製’光奈米複合材料層合在玻璃基底上（1〇cmx l〇cmX 0.25cm)，用聚酯薄膜覆蓋且用這些強度之調節來照明。形 成一光柵結構，其具有與強度調節相同之周期性。折射率輪 廓藉阻斷實驗中所用之書寫光束之一而凍結，爲要使用其餘 光束以供隨後聚合。以此方式，產生具有9 〇 %繞射效率的體 積全息照像（波長=633nm)。 石印實驗 在實例1 5中所產生之奈米複合材料藉窄口塗覆方法來層 合在聚酯（有利地PET)上且在爐中65 °C下熟化5分鐘。爲了保 護此塗層，它與一可剝離薄膜層合。以此方式產製之薄膜是 200m長且36cm寬，且乾薄膜厚是20至80// m，有利地40至60 // m 0 爲了產生一擴散物，保護性薄膜被除去且光敏性之側應 用至一石印罩上。在一連續方法（鑽10速度：315mm/min)中 ，光奈米複合材料層經由具有0.8至1.8有利地1.0至1.3光爲 密度的罩用UV光來照明（高壓汞燈，電力：1200W)。折射率 梯度藉著在100°C下之爐中5分鐘之熱處理而固定。 -22-

Claims (1)

1276657 (1) 拾、申請專利範圍 附件4A : 複合材_-料，其念省J: 第92 1 00346號專利申請案 中文申請專利範圍替換本 民 1.一種固態或凝膠態之可聚合 &)4.9至95.9〜1%之可溶聚合物 b) 4至95wt%之部分或完全縮合的矽烷，其來自以下族群 :丙烯矽烷類，環氧基矽烷類，丙烯烷氧基矽烷類，丙烯環 氧基矽烷類，環氧基烷氧基矽烷類，烷氧基矽烷類及烷基烷 氧基矽烷類，此矽烷具有33至100%之無機縮合比例及〇至 95%之有機轉化比例； c) 0至60wt%丙烯酸酯； d) 0.1至50wt%之表面經修飾的奈米級粒子，其來自以下 族群··氧化物，硫化物，硒化物，碲化物，鹵化物，碳化物 ，砷化物，銻化物，氮化物，磷化物，碳酸鹽，羧酸鹽，憐 酸鹽，硫酸鹽，矽酸鹽，鈦酸鹽，鉻酸鹽，鋁酸鹽，錫酸鹽 ，高鉛酸鹽及其混合氧化物； e) 0至5 0 w t %軟化劑； f) 0至5wt%之熱或光化學交聯起始劑，敏化劑，潤濕劑 ，粘合促進劑，流變添加劑，抗氧化劑，安定劑，色料，光 色及熱色物質或其組合物，在每一情況中係以奈米複合材料 之總重量（乾重量）來表示。 2·如申請專利範圍第1項之奈米複合材料，其中可溶聚 合物a)是聚丙烯酸酯，聚甲基丙烯酸酯，聚環氧化物，聚^ 1276657 (2) 烯醇，聚乙酸乙烯酯或聚丁酸乙烯酯，其可溶於有機溶劑中 〇 3 ·如申請專利範圍第1或2項之奈米複合材料，其中矽烷 b)是甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷’丙烯氧基丙基三甲氧 基矽烷，二甲基二甲氧基矽烷，二甲基二乙氧基矽烷，3 -縮 水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷，乙烯基三乙氧基矽烷，甲基 三乙氧基矽烷或其組合物。 4·如申請專利範圍第1或2項之奈米複合材料，其中丙烯 酸酯c)是甲基丙烯酸甲酯或二醇二丙烯酸酯或二醇二甲基丙 烯酸酯。 5.如申請專利範圍第1或2項之奈米複合材料，其中奈米 級粒子d)用含有（甲基）丙烯基，烯丙基，乙烯基，環氧基， 羥基，羧基或胺基或其組合物之化合物來表面修飾。 6·如申請專利範圍第1或2項之奈米複合材料，其中奈米 級粒子是表面經修飾的Si〇2，Ti〇2，Ζι·〇2，或Ta2〇5粒子。 7 ·如申請專利範圍第1或2項之奈米複合材料，其中含有 0.1至30wt%之軟化劑。 8 · —種產製如申請專利範圍第1項之奈米複合材料的方 法，其中矽烷b)藉添加水解劑而部分或完全縮合且選擇地藉 UV照射來聚合，且與成份a)，c)至f)之一或多者混合，或石夕 烷b)首先與成份a)，c)至f)之一或多者混合，而後縮合並選 擇地聚合，且選擇地，有機溶劑隨後去除。 9· 一種具有折射率梯度之薄膜，其實質由一或二個覆有 如申請專利範圍第1項之奈米複合材料的透明塑膠薄膜組成 1276657 (3) ’其中折射率梯度已藉應用電勢差，電子照射，全息照像術 ’石印術或藉局部照明來產生。 10·—種產製如申請專利範圍第9項之具有折射率梯度的 薄膜的方法’其中如申請專利範圍第1項之奈米複合材料應 用至透明塑膠薄膜上，使有機溶劑蒸發，可選擇地，奈米複 合材料層與透明覆蓋薄膜層合，折射率梯度藉應用電勢差， 電子照射’全息照像術，石印術或藉局部照明而產生於奈米 複合材料層中且折射率梯度隨後藉完全熱及/或光引起之奈 米複合材料之交聯而固定。 -3-