CN1161655C

CN1161655C - 构造的着色有机材料、按图形掩蔽的方法和制备图形黑色基质的方法

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Publication number: CN1161655C
Application number: CNB988040328A
Authority: CN
Inventors: U��л��; U·谢德利; E·廷格莱; -; V·哈尔-古勒; G·德基策尔
Original assignee: Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Current assignee: BASF Schweiz AG
Priority date: 1997-04-09
Filing date: 1998-03-26
Publication date: 2004-08-11
Anticipated expiration: 2018-03-26
Also published as: AU7211498A; WO1998045757A1; CN1252135A; EP0974075A1; US6010567A; DE69807203D1; KR20010006127A; JP2002512647A; EP0974075B1; DE69807203T2; US6165681A

Abstract

本发明涉及黑色颜料着色高分子量有机材料，它是由射线敏感前体经辐照处理而构造的，该材料的颜料由有色有机颜料构成，其中至少一种在辐照前为隐性形式。该材料优选用作以图案形式沉积在透明底层上的薄层，且可用作例如光学滤色器的黑色基质。本发明还涉及制备该材料的方法，以及可用于本方法的新型黄色双偶氮缩合颜料的可溶性衍生物。

Description

构造的着色有机材料、按图形掩蔽的方法和制备图形黑色基质的方法

本发明涉及黑颜料着色的高分子量有机材料，是由射线敏感前体经辐照而构造的，该材料的颜料沉积由有色有机颜料形成，其中至少一种颜料在辐照前为隐性形式。该材料优选用作薄层，该薄层是以图案形式沉积在透明底层上的，它可用于，例如光学滤色器的黑色基质(black matrix)。本发明还涉及制备该材料的方法以及可用于所述方法中的黄色双偶氮缩合颜料的新型可溶性衍生物。

滤色器是一项极其精密的技术，因此，对着色剂的要求也非常高。生产原理上有根本区别的滤色器的不同颜料沉积方法是已知的。颜料沉积方法的大量实施方案描述在《显示器》 14/2，115(1993)中。除了三原色之外，黑色图案层也很重要，其吸收系数，据介绍，在3.0～3.5的范围。

第一个可能的选择是采用铬，然而，金属形式铬的反射系数过高，不理想。还可以使用铬的化合物，例如，二氧化铬，然而，为此需要的加工非常复杂和罗嗦。而且重金属铬还由于生态的原因而是不希望的。

另一方面，可使用可完全溶于载色剂、常用溶剂或载色剂(基料)在普通溶剂中的溶液中的染料。通常使用的黑色可溶性染料是C.I.溶剂黑3。然而，此种技术存在黑色染料热稳定性低和不透明度不足的缺陷，而且一般成本也高。

最后，还可以使用在载色剂或惯用溶剂中的完全不溶或溶解度极低的颜料分散体。《Journal of the SID》 1/3，341～346页(1993)，以及在IDW’95(国际染色工作者大会--译注)上(《来稿专辑》CF-3，57～60页，印刷版)，介绍了这类方法的大量实施方案。由于要求均匀的薄涂层，故要求粒度特别细，相应地比表面积就非常高。

然而，用有色颜料，如双偶氮颜料黄83、酞菁颜料蓝15：6、酞菁颜料绿36、二噁嗪颜料紫23及蒽醌颜料红177的混合物着成黑色的射线敏感组合物，所制备的黑色层在不透明度及热稳定性上仍旧不能令人满意。根据《光聚合物科学与技术杂志》 9/1，121～130页(1996)，据称，当用碳黑替代有色有机颜料时可以获得较好的结果。

颜料分散体的缺点在于，能够达到的解象力不能满足最高要求，且使用射线敏感配制物会造成颜料颗粒的脱落，它在黑色基质本身及仪器上造成固体残留。加之，正如《固体技术》S15～S18(11/1992)中所披露的，颜料会导致光散射，致使配制物的灵敏度降低，图形边缘变得不清晰。这在黑色基底的情况下会造成非常显著的不利效果。

本发明的一个目的是提供一种尽可能不含重金属的黑色颜料沉积物，由非常细的颗粒组成，即使层非常薄时仍具有高不透明度以及符合加工射线敏感配制物所要求的优良耐光、热和/或化学品所需的稳定性。

本发明的另一个目的是提供一种以射线敏感配制物为原料制备黑色颜料沉积物的方法，其中解象力非常高，且经辐射生成的图形具有清晰的边缘。

令人惊奇的是，上述目的已可以通过一种新型颜料配制物圆满地达到。

本发明涉及构造的着色高分子量有机材料，它可通过对射线敏感前体进行辐照获得，其中

该射线敏感前体

-包含至少一种可被转化为有色有机颜料的溶解的颜料衍生物，以及

-在至少300～700nm波长范围的透射率≥10％，优选≥20％，尤其优选≥50％；

而且

-所述构造的材料在400～700nm的整个范围，暴露于辐照或未暴露于辐照部位的透射率≤5％，优选≤2％。

根据采用的是负性还是正性光刻胶，能制造这样的被构造的材料，其中着色区或者位于暴露于辐照下的部位或者位于未暴露于辐照下的部位。用负性光刻胶制造的结构材料是优选的。

该有色有机颜料，例如是喹吖啶酮、蒽醌、苝、靛蓝、喹酞酮、异吲哚啉酮、异二氢吲哚、二噁嗪、酞菁、二酮吡咯并吡咯或偶氮颜料。优选的是，该颜料选自二酮吡咯并吡咯、二噁嗪、双偶氮、苯并咪唑酮偶氮、异二氢吲哚、异吲哚啉酮及酞菁颜料。该颜料优选包含至少两个-NHCO-基团，特别优选至少4个-NHCO-基团。

优选的颜料是通式(I)的吡咯并[3，4-c]吡咯

其中G和Q彼此独立地是下式的基团

或

且R₁和R₂彼此独立地是氢、卤素、氰基、氨基甲酰基、硝基、三氟甲基、苯基、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基、C₁～C₆烷硫基或C₁-C₆烷氨基；

通式(II)的二噁嗪

其中R₃、R₄及R₅彼此独立地是氢、卤素、C₁～C₄烷基、C₁～C₄烷氧基、NHCOC₁～C₄烷基或NHCO苯基，其中R₃、R₄及R₆中至少一个是NHCOC₁～C₄烷基或NHCO苯基；

通式(III)、(IV)或(V)的异二氢吲哚

或

其中R₆是基团，

R₇是氢，C₁-C₆烷基苄基或基团，

R₈是氢或R₆，以及

R₉、R₁₀、R₁₁及R₁₂彼此独立地是氢、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基、卤素或三氟甲基；

通式(VI)的双偶氮

其中R₁₃和R₁₄彼此独立地是氢、氯、CONHR₁₇或SO₂NHR₁₇，且R₁₃优选的是CONHR₁₇，R₁₄优选是氯，

R₁₅及R₁₆是氢、氯或甲基，优选是氯或甲基，以及

R₁₇是苯基或羟联苯基(oxybisphenylyl)，每一个可以是未取代的或者取代上1～3个，优选两个取代基，这些取代基选自氯、三氟甲基、甲氧基及甲基，R₁₇优选是苯基或羟联苯基，每一个取代上了两个取代基，这些取代基选自氯、三氟甲基及甲基；

通式(VIIa)或(VIIb)的苯并咪唑酮偶氮

或

其中R₁₉及R₁₈彼此独立地是氢、卤素、硝基、C₁～C₆烷氧基、三氟甲基、C₁～C₆烷基、羧基、C₁～C₆烷氧基羰基或CONHR₂₁，

R₂₀是直接键、氧、硫、C₁～C₆亚烷基或O-C₂～C₆亚烷基-O，以及

R₂₁是氢、C₁～C₆烷基或苯基，后者为未取代的或取代上卤素、硝基、C₁～C₆烷氧基、三氟甲基、C₁～C₆烷基、羧基、C₁～C₆烷氧基羰基或CONH₂的；

通式(VIIIa)或(VIIIb)的异吲哚啉酮

其中R₂₂及R₂₃彼此独立地是氢、卤素或C₁～C₆烷基；以及

通式(IX)的酞菁

其中M是H₂，选自Cu(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)及Pd(II)的二价金属，或者选自V(O)、Mn(O)及Ti(O)的二价氧合金属，

T是-CHR₂₅-、-CO-或-SO₂-，

R₂₄是氢、C₁-C₆烷基、NH₂、NHCOR₂₆、-COR₂₆或

R₂₅是氢或C₁～C₆烷基，

R₂₆是C₁～C₆烷基，

R₂₇是氢、卤素、C₁～C₆烷基或C₁～C₆烷氧基，以及

z是0或1，y是1～8的数，

或者是由通式(IX)的酞菁经热或光化降解生成的酞菁衍生物。

特别优选的颜料是通式(X)的吡咯并[3，4-c]吡咯

其中R₁及R₂彼此独立地是氢、卤素、氰基、氨基甲酰基、硝基、三氟甲基、苯基、C₁～C₆烷基或C₁～C₆烷氧基；

通式(XI)的二噁嗪

其中R₃、R₄及R₅彼此独立地是C₁～C₄烷氧基、NHCOC₁～C₄烷基或NHCO苯基，R₃、R₄或R₅中的至少一个是NHCOC₁～C₄烷基或NHCO苯基；

通式(XII)的异二氢吲哚或通式(XIII)的双偶氮

其中

R₂₈及R₂₉彼此独立地是氢、氯或甲基，优选是氯或甲基，R₂₈尤其优选是氯，R₂₉尤其优选是甲基，

R₃₀及R₃₁彼此独立地是氢、氯、甲基、三氟甲基、甲氧基或苯氧基，后者为未取代的或取代上1或两个，优选取代上一个取代基，这些取代基选自氯、三氟甲基、甲氧基及甲基，R₃₀及R₃₁优选彼此独立地是氯、甲基、三氟甲基、苯氧基或氯苯氧基，R₃₀尤其优选是氯或三氟甲基，而R₃₁尤其优选是甲基或氯苯氧基，以及

R₃₂是氢或氯，优选是氯；

通式(XIV)的苯并咪唑酮偶氮

其中R₃₄及R₃₃彼此独立地是氢、氯、甲氧基、羧基或甲氧基羰基；以及

通式(XV)的酞菁

其中M是H₂及选自Cu(II)、Zn(II)、Fe(II)及Ni(II)的二价金属，

T是-CO-或-SO₂-，y是1～4的数。

尤其特别优选的是下列通式的颜料：

及

烷基可以是直链、支链或环状的。C₁～C₅烷基，例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、环丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2，2-二甲基丙基、环戊基、环己基或正己基，优选直链或支链C₁～C₄烷基。

C₁～C₅烷氧基是O-C₁～C₆烷基，优选O-C₁～C₄烷基。

卤素是氯、溴、氟或碘。氯或溴是优选的。

这种通过辐照构造的新型着色高分子量有机材料，优选包含，以着色高分子量材料为基准，至少5wt％，尤其优选至少10wt％的颜料颗粒。它尤其特别优选包含，以着色高分子量材料为基准，20～90wt％颜料颗粒。

合适的是，通常本发明的着色材料包含颜色互补的两种或更多种颜料。两种互为补色的颜料的颜色之间的色差(Δh)，在10°测量角的情况下，优选为150～210，更优选170～190。在存在着两种以上颜料的情况下，各个准备混合的纯颜料颜色的给色量宜于位于a*b*-颜色表(CIE-L*a*b*(国际照明委员会颜色表示法))的至少两个相反的象限。颜色互补的混合物的特征在于可形成一种低的色饱和度C*(GIE-L*C*h)。

优选将通式(I)的吡咯并[3，4-c]吡咯和/或通式(II)的二噁嗪与通式(VI)的双偶氮和/或酞菁组合起来使用。酞菁可以是通式(IX)的那些，或者也可为已知的类型，如未取代或多卤化的蓝或绿酞菁铜颜料。

可溶于射线敏感组合物中的颜料衍生物特别是可从EP 654 711、EP 742 255、EP 761 772及PCT/EP-98/00248中获知。这些颜料衍生物是经过化学改性，从而完全可溶于可直接使用的载色剂和惯用溶剂的混合物中的有色有机颜料。对本发明重要的是，此种可溶性颜料衍生物在涂布并经过通常后加工之后，能转化为不溶性有色颜料。此种颜料衍生物因而有时叫做“潜颜料”(“latent pigment”)。

必须的是，颜料中至少一种的至少部分以可溶于射线敏感前体的准备用于涂布的配制物中的衍生物形式使用。合适的是，按照本发明以溶解形式使用的颜料用量至少应使涂布的射线敏感前体在至少300～700nm波长范围的透射率为≥10％。此种光谱范围是在借助辐照进行构造时采用的。然而，也可使用几种(例如，2～5种)可溶性衍生物形式的颜料。需要的话，该准备用于涂布的配制物，除了可溶性颜料衍生物之外，还可包含一种或几种不溶性颗粒形式的颜料。

合适的话，其余的颜料可按照相当传统的方式将不溶性颜料颗粒非常精细地分散在该射线敏感前体中来获得。要获得在射线敏感前体组合物中颜料非常精细分散的分散体，例如可采用JP-08/179111A中所描述的方法。然而，优选的是，颜料以溶解的颜料衍生物形式存在于射线敏感前体中的比例尽可能大，特别优选，以该构造的材料中所有颜料的总和为基准，占至少30mol％，更优选至少50mol％。最优选的是，使用的全部颜料均为溶解在射线敏感前体中的颜料衍生物形式，这样，前体就基本上不含任何未溶解颜料颗粒了。方便的是，颜料衍生物应完全可溶于包括射线敏感前体以及，需要的话，溶剂乃至可能的其他添加剂在内的准备用于涂布的组合物中。

高分子量有机材料是那些分子量为约10⁵～10⁷g/mol的。

该新型构造的材料中的颜料颗粒是极其细小的。其优选的平均粒度为0.01～1.0μm，尤其优选为0.01～0.1μm。平均粒度是指以粒度对重量作图的分布曲线的最大值。

新型着色高分子量有机材料优选以薄层形式涂布到透明底层上，该薄层厚度≤5μm，尤其优选≤2μm，最优选≤1μm。底层在至少300～700nm波长范围的透明度优选≥95％，尤其优选≥98％。优选的是，该底层，乃至所有的层，都是光滑的，其表面粗糙度尤其优选≤0.1μm。例如，可使用玻璃或聚碳酸酯薄膜作为该光滑底层。

黑色基质的其他优选的性质是本领域技术人员所知道的，并可见诸于，例如有关文献或前面已经提到的出版物。一般而言，优选按照本发明的材料中的颜料颗粒，是在构造期间或以后由其可溶性衍生物再生出来的。在后一种情况下，在颜料颗粒的形成，特别是高解象力和不透明度已能够得到保证之后，颜料颗粒的周围媒质便不再改变。

构造过程是通过对射线敏感前体进行辐照实现的，其间，合适的话，在辐照期间或以后辅以加热和/或化学试剂。构造，应理解为一种物理性质方面的变化，致使，例如不溶于特定液体的物质变得可溶于其中，反之亦然。适合用于实施构造的方法，依待构造的物质之不同而有很多变化，然而对于本领域技术人员来说，就每种已知可构造的材料而言其是已知的。

术语“抗蚀剂”和“光刻胶”常常被用于通过辐照生成构造的有机材料的射线敏感前体。许多此种前体是本领域技术人员已知的。它们，依据在经过辐照，以及适用的话随后的处理之后，该前体变为可溶的还是不溶的，而划分为正性型和负性型。例如，聚合物或聚合物衍生物的溶解度可通过交联、聚合或解聚而发生改变。光刻胶技术描述在许多出版物及技术参考书中，也公开在例如EP 654 711中的有关潜颜料的段落中。

优选的是，可被构造以形成按照本发明的有机材料的前体为公开在EP 654 711 A1中的体系b1)～b5)，尤其是b10)，其主要成分描述在17页/16行～26页/第1行，以及在26页/39行～29页/11行。在每一类光刻胶的范围内，优选使用EP 654 711中作为优选例给出的那些化合物。

按照本发明的着色材料，由于辐照以及，适用的话，随后的处理，从而获得了其最终的高分子量结构，至于辐照究竟是对准保留的区域还是对准已消失的区域进行的，则无关紧要。

为实施辐照，例如可采用任何宽谱带的或单色的电磁辐射，譬如波长范围在250～1000nm的。辐照应当至少部分地在对应于射线敏感前体透射率≥10％的波长范围内进行。辐照优选在250～1000nm，尤其优选在300～700nm范围内进行。最优选的是，辐照在位于或靠近300～700nm波长范围实施，这是出于透射率的考虑，因为，在这段范围最多的光子能够达及材料的深度。辐照优选透过掩模来进行，以便辐照仅发生在随后将生成图形的部位。

随后进行的处理(适用的话)是已知的惯用后处理之一，例如，热固化或用显影浴处理。

这样，本发明还涉及制备图形黑色基质的方法，它包括：

-构造组合物，该组合物被涂布在透明底层上，且在300～700nm波长范围具有透射率≥10％，而且包含射线敏感前体及溶解的颜料衍生物，该衍生物可被转化为有色有机颜料，步骤为对该组合物的适当部位施在所述波长进行辐照以及，需要的话，再借助附加的热处理；

-构造之后，用显影液处理涂层，以使基本上只有高分子量有机材料保留在底层暴露于或未暴露于辐照的部位上；以及

-以热、光化学和/或酸或碱催化的方式在构造期间或以后使颜料衍生物转化为有色有机颜料，从而使得保留在底层上的高分子量有机材料在400～700nm整个范围的透射率≤5％。

可溶性颜料衍生物可按照或者用类似于本身为已知的方法来制备，例如特别是，在EP 648 770、EP 648 817、EP 654 711、EP 742255及PCT/EP-98/00248中所描述的。譬如，二酮吡咯并吡咯、二噁嗪、双偶氮、异二氢吲哚、异吲哚啉酮或酞菁这类颜料，其中每一种包含1～6个-NHCO-基团，它们可按要求的摩尔比与通式

的焦碳酸二酯在非质子有机溶剂中，在碱催化剂的存在下进行反应，合适的反应温度为0～120℃，优选10～100℃，反应时间2～80h。

每种情况下的摩尔比取决于打算引入的基团B的数目。二碳酸酯相对要被取代的氢原子数目的合适用量，为等摩尔或稍微过量，例如100～150mol％。

合适的非质子有机溶剂，例如醚，如四氢呋喃或二烷，或者二醇醚，如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、二甘醇单甲醚或二甘醇单乙醚，以及偶极非质子溶剂，如乙腈、苄腈、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、硝基苯、N-甲基吡咯烷酮、卤化脂族或芳族烃，如三氯乙烷、苯或烷基-、烷氧基-或卤素-取代的苯，如甲苯、二甲苯、茴香醚或氯苯，或者芳族N-杂环化合物，如吡啶、甲基吡啶或喹啉。优选的溶剂例如是四氢呋喃、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮。上述溶剂还可以以混合物的形式使用。有利的是，每重量份反应物，使用5～20重量份溶剂。

适合作催化剂的碱，例如是碱金属本身，例如锂、钠或钾，以及它们的氢氧化物和碳酸盐，或者碱金属的氨化物，例如锂、钠或钾的氨化物，或者碱金属的氢化物，如锂、钠或钾的氢化物，或者碱土金属或碱金属的醇盐，特别是从1～10个碳原子的伯、仲或叔脂族醇衍生的，例如锂、钠或钾的甲醇盐、乙醇盐、正丙醇盐、异丙醇盐、正丁醇盐、仲丁醇盐、叔丁醇盐、2-甲基-2-丁醇盐、2-甲基-2-戊醇盐、3-甲基-3-戊醇盐、3-乙基-3-戊醇盐，以及有机脂族、芳族或杂环的N-碱，包括，例如二氮二环辛烯、二氮二环十一碳烯及4-二甲基氨基-吡啶及三烷基胺，如三甲基胺或三乙基胺。然而，还可使用上述碱的混合物。

优选使用有机N-碱，如二氮二环辛烷、二氮二环十一碳烯以及，特别是4-二甲基氨基吡啶。

该反应尤其优选在18～40℃的温度及8×10⁴Pa～1.2×10⁵Pa(0.8～1.2巴)的，尤其是在接近1×10⁵Pa(1巴)的压力下实施。

通式

的合适的焦碳酸二酯可采用类似于通常已知的方法制备。为此目的所需要的大多数化学品是已知的。许多是有商品供应的，而它们又全都可以按照本身为已知的方法制备。

在包含1～6个-NHCO-基团的颜料与通式

的焦碳酸二酯起反应的情况下，可生成包含1～6个

基团的可溶性颜料衍生物，具体视化学计量关系而定。然而，不一定要将所有-NHCO-基团中的氢原子都代换为CO₂B。相反，倘若在颜料中存在-个以上-NHCO-基团，通常是有利的，某些-NHCO-基团维持不变。

另一方面，还可能的是，除-NHCO-以外的基团与焦碳酸二酯起反应。譬如，可能的是，由氨基、羟基或巯基基团生成-NH-CO₂B、-O-CO₂B或-S-CO₂B，这也没有任何不利的后果值得担忧，因为，这些基团在类似于由

基团生成该颜料的条件下都会脱掉。

B可以是任何已知可使颜料加溶的基团。然而，优选的是，-B是下列通式的基团

wherein R₃₅，R₃₇ and R₃₆ are each independently of one another C₁-C₆alkyl，其中R₃₅ R₃₇和R₃₆彼此独立地是C₁～C₆烷基，R₃₈和R₃₉彼此独立地是C₁～C₆烷基；由O、S或N(R₄₆)₂隔断的C₁～C₆烷基；苯基或联苯基，每一个为未取代的或取代上C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基、卤素、氰基或硝基者，

R₄₀、R₄₁及R₄₂彼此独立地是氢或C₁～C₆烷基，

R₄₃是氢、C₁～C₆烷基或下式的基团

或

R₄₄和R₄₅彼此独立地是氢、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基、卤素、氰基、硝基、N(R₄₆)₂；苯基，它是未取代的或取代上卤素、氰基、硝基、C₁～C₆烷基或C₁～C₆烷氧基的，

R₄₆和R₄₇是C₁～C₆烷基，R₄₈是氢或C₁～C₆烷基，R₄₉是氢、C₁～C₆烷基、未取代的或C₁～C₆烷基取代的苯基，

E是p，q-C₂-C₆亚烷基，它是未取代的或取代上一个或多个C₁～C₆烷氧基、C₁～C₆烷硫基或C₂～C₁₂二烷基氨基的，其中p和q是不同的位置数字代号，

X是杂原子，选自N、O和S；且当X是O或S时，m是0，而当X是N时，m是1，以及

L₁和L₂彼此独立地是C₁～C₆烷基或[-(p’，q’-C₂-C₆亚烷基)-Z-]_n-C₁～C₆烷基，每一个是未取代的或取代上一个或多个C₁～C₆烷氧基、C₁～C₆烷硫基、C₂～C₁₂二烷基氨基、C₆～C₁₂芳氧基、C₈～C₁₂芳硫基、C₇～C₁₈芳烷基氨基的，或者取代上C₁₂～C₂₄二烷基氨基的，其中n是1～1000的数，p’和q’是不同位置的数字代号，每个Z彼此独立地是杂原子O、S或C₁～C₁₂烷基-取代的N，而且重复单元[-C₂～C₆亚烷基-Z-]中的C₂～C₆亚烷基，可以相同或不同，以及

L₁和L₂可以是饱和的或1～10-不饱和的、不间断或在任何部位被1～10个选自-(C＝O)-及-C₆H₄-的基团隔断的，并可以是未取代的或取代上1～10个选自卤素、氰基和硝基的另外的取代基。

C₂～C₆亚烷基，例如是1，2-亚乙基、1，2-亚丙基、1，3-亚丙基、1，2-亚丁基、1，3-亚丁基、2，3-亚丁基、1，4-亚丁基、2-甲基-1，2-亚丙基，或者是亚戊基或亚己基的异构体。

C₆～C₁₂芳氧基是O-C₆～C₁₂芳基，例如苯氧基或萘氧基，优选苯氧基。

C₁～C₆烷硫基是S-C₁～C₆烷基，优选S-C₁～C₄烷基。

C₆～C₁₂芳硫基是S-C₆～C₁₂芳基，如苯硫基或萘硫基，优选苯硫基。

C₂～C₁₂二烷基氨基是N(烷基₁)(烷基₂)，这两个基团，即烷基₁和烷基₂中碳原子之和为2～12，该C₂～C₁₂二烷基氨基尤其是N(C₁～C₄烷基)-C₁～C₄烷基。

C₇～C₁₈烷芳基氨基是N(烷基₁)(芳基₂)，这两个基团，即，烷基₁和芳基₂中碳原子之和是7～18，该C₇～C₁₈烷芳基氨基特别是甲基苯基氨基或乙基苯基氨基。

C₁₂～C₂₄二芳基氨基是N(芳基₁)(芳基₂)，这两个基团，即，芳基₁和芳基₂中碳原子之和为12～24，该C₁₂～C₂₄二芳基氨基例如是二苯基氨基或苯基萘基氨基，特别是二苯基氨基。

可溶性衍生物优选是前面提到的优选颜料的衍生物。然而，相当出乎意料的是，已发现，惊人好的结果是在采用，特别是通式(VI)的双偶氮颜料的可溶性衍生物时获得的。因此，通式(VI)的颜料的可溶性衍生物乃是特别优选的，尤其是通式(XIII)的颜料的可溶性衍生物。

通式(VI)的双偶氮颜料的可溶性衍生物是新的。因而，本发明还涉及通式(XVI)的化合物。

其中R₅₀是氢、氯、CONG₅R₁₇或SO₂NG₅R₁₇，

G₁～G₅彼此独立地是氢或-CO₂B基团，G₁～G₅中至少一个不是氢，以及

R₁₄～R₁₇及B的定义同上。

优选通式(XVII)的化合物

其中G₆～G₁₁彼此独立地是氢或-CO₂B基团，G₆～G₁₁中至少一个不是氢，以及

R₂₈～R₃₁以及B的定义同上。

有两个例外，即，通式(VIIIa)和(VIIIb)的苯并咪唑酮偶氮颜料的可溶性衍生物也是新的。因此，本发明还涉及如下通式的化合物

或

其中R₅₁和R₅₂彼此独立地是氢、卤素、硝基、C₁～C₆烷氧基、三氟甲基、C₁～C₆烷基、羧基、C₁～C₆烷氧基羰基或CONG₁₆R₅₄，

R₅₃是直接键、氧、硫、C₁～C₆亚烷基或O-C₂-C₆亚烷基-O，

R₅₄是氢、C₁～C₆烷基或苯基，后者是未取代的或取代上卤素、硝基、C₁～C₆烷氧基、三氟甲基、C₁～C₆烷基、羧基、C₁～C₆烷氧基羰基或CONG₁₇G₁₈的，以及

G₁₂～G₁₈彼此独立地是氢或-CO₂B基团，G₁～G₅中至少一个不是氢，前提条件是，当通式(XVIIIa)中R₅₁是H时，R₅₂是o-CF₃，且G₁₄和G₁₅是COOC(CH₃)₂CH₂O(CH₂)₂OCH₃，G₁₂和G₁₃不同时为氢或同时为COOC(CH₃)₂CH₂O(CH₂)₂OCH₃。

优选通式(XVI)、(XVII)或(XVIIIa)的化合物，特别优选通式(XVI)或(XVII)的，最优选通式(XVII)的化合物。

通式(XVI)、(XVII)、(XVIIIa)及(XVIIIb)的化合物具有固有颜色低的优点。它们可采用类似于前面所描述的方法制备。通式(XVI)、(XVII)、(XVIIIa)及(XVIIIb)的化合物，其中G₁～G₁₈中一个或几个，但不是全部，为氢，通常是以可用一般方法分离为其单独组分的混合物形式获得的或者，优选的是，该混合物可不经分离就直接供下一步使用。优选的化合物是通式(XVI)或(XVII)的那些，其中G₁～G₄，或者G₆～G₁₁每一个是CO₂B基团。

基团G₁、G₄、G₇、G₁₀及G₁₂的位置尚不确切知道。然而，不能排除，某些处于互变异构位置，例如在乙酰基的氧原子上。

通式(XVI)、(XVIIIa)或(XVIIIb)的化合物可用于任何目的。然而，优选将它们用作颜料前体，结合到底层中的通式(XVI)、(XVIIIa)或(XVIIIb)的新型可溶性化合物被转化为对应的颜料，所有G₁～G₄或G₁₂～G₁₈均已脱掉，并代之以氢。

要做到这一点非常容易，可通过对包含在有机或水介质、聚合物溶液或熔体中可溶的颜料衍生物的固体、溶液或分散体，特别是对包含该新型可溶性化合物的构造的高分子量有机材料，进行热处理(加热到50～250℃，优选100～200℃的温度范围，具体视颜料而定)来实现。可能发现，催化剂的存在，如酸，对该可溶性颜料衍生物变回到颜料的热转化是有利的。

这使得该颜料可用于下列用途的着色：涂料体系、印刷墨、塑料，特别是纤维形式的塑料也可以，热敏记录体系、喷墨印刷的油墨、印刷在光滑或织物受体底层上的热染料扩散用油墨带，乃至最为合适的光敏组合物，如负性或正性光刻胶配制物，且所获得的性能在总体上均有所改善，例如在光洁度、染色度、亮度及透明度等方面，以及分析领域中令人感兴趣的应用。

因而，在另一个方面，本发明涉及一种高分子量有机材料，它包含，在其整个体积内，通过通式(XVI)、(XVIIIa)或(XVIIIb)的可溶性化合物热降解原位生成的颜料。

本发明的其他目的是，包含通式(XVI)、(XVIIIa)或(XVIIIb)的化合物的热-、光-、或化学-敏感的记录材料、喷墨印刷油墨、热转移印刷油墨带，或特别是可光构造的材料。该化合物的有用形式是，以精细分散的颗粒分布(例如分散、悬浮或乳化)在或者溶解在该记录材料、油墨、油墨带或可光结构材料中。

本领域技术人员非常熟悉喷墨印刷油墨、热转移印刷油墨带、热-、光-及化学-敏感的记录材料，乃至可光构造光敏负性或正性光刻胶组合物。由于潜颜料保持为不可见的，通式(XVI)、(XVII)、(XVIIIa)或(XVIIIb)的化合物固有颜色低的特点在这些应用领域具有特别的优势。

该可溶性颜料衍生物在射线敏感前体被构造为高分子量材料期间或，优选地，之后，便复原为颜料。

该新型着黑色高分子量有机材料对400～700nm范围的可见光具有高不透明度。它们用于制备黑色基质，例如用于滤色器中，极为适合。

该新型滤色器用于液晶显示、等离子体显示或场致发光显示，效果极佳。这些，例如是主动(扭转向列液晶)或被动(超扭转向列液晶)铁电显示器或发光二极管。

因此，本发明还涉及一种采用黑色图形介质依靠其对可见光束的吸收实现以图案方式遮光的方法，该方法包括用光束对准涂布在透明底层上的新型着黑色高分子量有机材料进行照射。由于陡峭边缘，基本上只获得透明和黑色两种区域，实际上不存在不希望的这两者之间的灰色边缘区。

现在，本发明将结合着下面的实施例来说明。

实例1：140g酞菁铜在氮气下引入到装备有锚式搅拌器、温度计、回流冷凝器、惰性气体源及气体洗涤器的1.5升多颈烧瓶中的582ml氯磺酸中，并在140℃搅拌3h。随后，该深绿色溶液冷却至85℃，在15min时间之内滴加176ml亚硫酰氯，继而，混合物在此温度下再搅拌3h，然后，任其冷却过夜。该深绿色溶液在搅拌下滴加到4kg水与4kg冰的混合物中，温度上升至20℃。随后，该蓝色悬浮体经过滤，残余物水洗3遍，每遍4升水，继而抽吸干燥。该仍旧潮湿的粗氯磺化酞菁铜立即用于下一步使用。

在装备有锚式搅拌器、温度计、回流冷凝器和氮气源的6升多颈烧瓶中，385g肼基甲酸叔丁基酯在1升四氢呋喃(THF)中的溶液，在氮气下被倒入到上述粗氯磺化酞菁铜在3升THF中的溶液中，随后，蓝色溶液在室温下搅拌1h。接着，反应溶液通过在旋转式蒸发器中蒸发，尽可能浓缩，继而，蓝色膏体残余物被溶入2升CH₂Cl₂中；加入1升乙醚，混合物在剧烈搅拌下缓慢滴加到14升己烷中。过滤取出精细沉淀，并在抽吸下充分干燥。获得317.9g蓝色固体，根据薄层色谱分析(硅胶/醋酸乙酯＝EtOac)分析，它含有要求的产物(R_f＝1.0)以及高极性副产物(R_f＝0)。将该粗产物溶解在2升醋酸乙酯中，并进行过滤以便将其与泛白的蓝色不溶解固体分离。滤液经蒸发浓缩至1.2升，并在吸滤器(层厚5cm)的2.5kg硅胶上用6升醋酸乙酯过滤。包含非极性产物的各个级分合并在一起，并蒸发浓缩。将残余物溶解在500mlCH₂Cl₂中；加入150ml乙醚，混合物在剧烈搅拌下慢慢滴加到6.5升己烷中。过滤取出沉淀，用己烷洗涤3遍，每遍用500ml，然后，在60℃/1.6×10⁴Pa(160mbar)下干燥28h。获得153.7g蓝色粉末状叔丁基-N-肼羧酸酯取代的酞菁铜。

热重量分析表明重量损失为51.9％，中点为172℃。

UV/VIS(NMP＝N-甲基吡略烷酮)：λ_max＝673nm，ε＝153 820l.mol^-1.cm^-1；

分析[％]：计算C 46.17 H 4.17 N 16.57 S 9.48 Cl 0.00

(C₅₂H₅₆CuN₁₆O₁₆S₄)测定C 46.05 H 4.42 N 16.02 S 8.54 Cl 0.53.

实例2(删除)：13.5g氯乙酸乙酯及18.2g粉末状碳酸钾在60ml丙酮中回流16h。将混合物冷却至室温，然后过滤并以己烷洗涤。滤液在旋转式蒸发器上浓缩，结果获得几乎等于理论计算收率的下式的化合物

并将该产物的粗产物形式直接用于下一步处理。

该粗产物及78.5g醋酸铵在90ml冰醋酸中回流2h。混合物倒入冰/水中，过滤分离出沉淀的粗产物。从乙醇/水中再结晶出来，得到15.3g(理论值的60％)通式

的结晶吡咯啉酮(pyrrolinone)，其熔点为173～176℃。

分析[％]：计算C 67.52 H 5.67 N 6.06

(C₁₃H₁₃NO₃)测定C 67.52 H 5.71 N 5.90.

4.35g钠与0.05g磺基琥珀酸双2-乙基己基酯钠盐在回流温度下，在100ml叔戊醇中搅拌，直至反应进行完全。12g 4-叔丁基苄腈在95℃下加入到上述澄清溶液中，然后，在30min之内分几部分加入14.6g上面获得的吡咯啉酮。反应混合物在100℃下搅拌3h。反应混合物随后冷却至室温，并加入到15.8ml 37％HCl与600ml甲醇的混合物中，接着，在室温下搅拌2h。过滤分离出红色混合物，以甲醇洗涤，然后，用水洗，最后在60℃真空下干燥。获得17.6g(理论值的81％)结构式如下的颜料：

分析[％]：计算C 76.72 H 5.85 N 8.13

(C₂₂H₂₀N₂O₂)测定C 76.47 H 5.72 N 8.10.

实例3：37g二叔戊基二碳酸酯和随后的2.93g 4-二甲基氨基吡啶被加入到20.7g按照实例2的产物在600mlTHF中的悬浮体中。反应混合物在室温下搅拌4h。随后，溶剂在减压下蒸出。残余物以甲醇洗涤并在室温下真空干燥，结果获得31.3g(理论值的91％)亮黄色产物，结构式为：

分析[％]：计算C 71.31 H 7.04 N 4.89

(C₃₄H₄₀N₂O₈)测定C 71.28 H 6.95 N 4.74.

实例4：重复实例3的操作程序，但使用二叔丁基二碳酸酯代替二叔戊基二碳酸酯。

实例5：向72.7g C.I.颜料紫37在1500mlTHF中的悬浮体中，加入3.9g二甲基氨基吡啶及49.25g二叔戊基二碳酸酯在100ml THF中的溶液。该混合物在23℃下搅拌过夜之后，加入49.25g二叔戊基二碳酸酯在100ml THF中的溶液，随后，混合物搅拌过夜。该反应混合物经硅藻土(^Celite Filter Cel，Fluka)过滤。滤液蒸发被浓缩至干燥。残余物被悬浮在在300ml正己烷中，过滤并蒸发浓缩至干燥，结果获得86g红色化合物，结构式为：

分析[％]：计算C 64.96 H 6.30 N 7.10

(C₆₄H₇₄N₆O₁₆)测定C 65.11 H 6.36 N 6.99；

¹H-NMR(CDCl₃，300MHz)δ：7.69 (d，4H)；7.45(t，2H)；7.35(t，4H)；6.97(s，1H)；6.96(s，1H)；

6.95(s，1H)；6.94(s，1H)；4.00(q，4H)；2.60(m，6H)；1.10-1.70(m，30H)；0.60(m，12H).

实例6：向100g C.I.颜料黄93在1500ml THF中的悬浮体中，加入10.46g二甲基氨基吡啶(DMAP)及186.8g二叔丁基二碳酸酯。该混合物在室温下搅拌过夜之后，反应混合物经硅藻土过滤，滤液进行浓缩。向残余物中加入己烷并剧烈搅拌，然后过滤，获得176.2g粗产物，随后在二氧化硅上进行色谱分离(CH₂Cl₂/醋酸乙酯)。适当的馏分蒸发后获得粗产物，随后再溶解在甲醇中。将该甲醇溶液倒入水中，然后过滤，获得155.1g(94％)纯净、颜色非常浅的产物，结构式为：

分析[％]：计算C 57.02 H 5.44 N 7.29 Cl 11.53

(C₇₃H₆₃Cl₅N₈O₁₆)测定C 56.72 H 5.49 N 6.92 Cl 10.84.

热重量分析显示，重量损失为39.5％，中点为159℃。

实例7：在10g C.I.颜料黄128在250ml THF中的悬浮体中，加入0.61g DMAP和11g二叔丁基二碳酸酯。室温下搅拌过夜后，反应混合物经硅藻土过滤，滤液随后进行浓缩。向残余物中加入己烷并剧烈搅拌，然后过滤，得到14.7g粗产物，随后在二氧化硅上进行色谱分析(CH₂Cl₂/醋酸乙酯)。适当的馏分经蒸发，获得粗产物，随后再悬浮于己烷中。过滤并干燥，获得8.0g(52％)纯净、颜色非常浅的产物，结构式为：

分析[％]：计算C 55.79 H 4.68 N 6.12 Cl 9.69

(C₈₅H₈₅Cl₅F₆N₈O₂₀)测定C 56.08 H 4.85 N 6.07 Cl 9.43.

热重量分析显示，重量损失为35.6％，中点为173℃。

实例8：按如下程序制备一种配制物：将60g ^TMPHM-C树脂(Maruka Lyncur，Mw＝5300)、20g ^TMCymel 300(氨基氰)、40g ^TMTrisp-PA(Mitsui)、5g 2-(2-(4-甲氧基苯基)乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、60g按照实例1的加溶颜料以及50g按照实例3的加溶颜料溶解在500g环戊酮中。

按如下程序制备3.8μm厚薄膜：以600rpm的速度旋转涂布到7.5×7.5cm玻璃板(Corning 7059型)上，随后在100℃的热板上干燥1min。该薄膜的UV/VIS(紫外/可见光)光谱显示，在510nm的透射率为58％。

该薄膜通过辐照以^TMUXM-502MD灯(500瓦，Ushio)接受按图形曝光1min，然后于热板上在100℃加热1min。随后，在显影液中显影30s，显影液组成：2.38wt％四甲基氢氧化铵和2wt％^TMFC430(3M)溶解在水中；以前曝过光的薄膜区域保持不变，而未曝光的区域则被溶解掉。最后，构造后的玻璃板于热板上在230℃加热5min。获得深黑色图形膜结构。

UV/VIS光谱在300～700nm的透射率非常低。

实例9：按照如下程序制备配制物：将42.3g ^TMPHM-C树脂(Maruka Lyncur，Mw＝5300)、8.5g ^TMCymel 300(氨基氰，经二次蒸馏的)、1.7g ^TMTriazine A(Produits Chimiques Auxiliaires etde Synthese，Longjumeau，法国)、34g按照实例1的加溶颜料、34g按照实例4的加溶颜料、17g按照实例5的加溶颜料及34g按照实例6的加溶颜料溶解在254g环戊酮(^TMOMM HTR-2D，Olin-Hunt)中。该配制物在黑暗中混合数小时，然后经过孔径1μm的微过滤介质过滤。

按如下程序制备薄膜：以3000rpm(30s)的速度旋转涂布到7.5×7.5cm玻璃板(Corning 1737型)上，随后于热板上在100℃干燥2min。

该薄膜通过掩模以紫外光源(0.75mW/cm²-G、H及I线)接受按图形曝光267s，然后于热板上在100℃加热2min。随后，在含水显影液中显影5min，该含水显影液组成：2.38wt％四甲基氢氧化铵和2wt％中性湿润剂(聚乙二醇取代的芳族化合物)，以水清洗并干燥，只有曝过光的薄膜区域留下了。最后，玻璃板在200℃于热板上加热5min。获得解象力极佳的深黑色图形膜结构，光密度为3，厚度约2.2μm。

实例10：重复实例9的总体程序，不同的是，显影是在温和搅拌下(约500rpm)进行1min。结果令人满意。

实例11：按如下程序制备配制物：将8.20g由甲基丙烯酸与甲基丙烯酸苄基酯经自由基聚合(1％AIBN(偶氮二异丁腈)、甲苯，20h，70℃，M_n＝8500，M_w＝35000)制备的共聚物、3.6g二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯(^TMSR 399，Sartomer公司)、1.6g ^TMTriazineA(Produits Chimiques Auxiliaires et de Synthèse，Longjumeau，法国)、6.3g按照实例4的加溶颜料、0.9g按照实例5的加溶颜料及1.4g按照实例6的加溶颜料溶解在32.6g环戊酮(^TMOMM HTR-2D，Olin-Hunt)中，随后，加入1.72g C.I.颜料蓝15：6在6.88g丙二醇单甲基乙酸酯(^TMRER600，Olin-Hunt)中的精细分散体。该配制物经孔径5μm的微过滤介质，并随后经1μm的微过滤介质过滤。

按如下程序制备薄膜：以700rpm(30s)的速度旋转涂布到7.5×7.5cm玻璃板(Corning 1737型)上，随后在100℃于热板上干燥2min。

该薄膜通过掩模以紫外光源(1.5mW/cm²-G、H及I线)接受按图形曝光267s，然后在100℃于热板上加热2min。随后，在搅拌下(≈1000rpm)显影2.5min，该含水显影液组成：2.38wt％四甲基氢氧化铵和2wt％中性湿润剂(聚乙二醇取代的芳族化合物)，以水清洗并干燥，只有曝过光的薄膜区域留下了。最后，玻璃板在200℃于热板上加热5min。获得解象力极佳的深黑色图形膜结构，光密度为1.7，厚度约2.1μm。

实例12：在10g C.I.颜料黄154在500ml THF中的悬浮体中，加入1.75g DMAP和35.4g二叔戊基二碳酸酯。室温下搅拌过夜后，反应混合物在硅藻土上过滤，滤液进行浓缩。残余物溶解在甲醇中，继而在水中沉淀，生成的沉淀经过滤，再次溶解在CH₂Cl₂中，并在硫酸镁上干燥。滤液经过滤和蒸发之后，获得膏状体，再在甲醇中研磨。过滤，并将滤液加入到水中，获得沉淀，然后过滤。收集到的固体随后溶解在CH₂Cl₂中，溶液在硫酸镁上干燥。经过滤并蒸出溶剂之后，固体在硅胶上，以CH₂Cl₂/醋酸乙酯为洗脱液进行色谱分析。适当的馏分经蒸发后，获得固体，溶解在甲醇中，然后在水中进行沉淀。过滤并干燥后，获得15.6g(73％)纯净、颜色非常浅的产物，结构式为：

分析[％]：计算C 58.53 H 6.31 N 8.13

(C₈₅H₈₉Cl₅F₆N₈O₂₀)测定C 58.80 H 6.30 N 8.63.

热重量分析显示，重量损失为49.5％，中点为153℃。

实例13：按照如下程序制备配制物：将42.3g ^TMPHM-C树脂(Maruka Lyncur，Mw＝5300)、8.5g ^TMCymel 300(氨基氰，二次蒸馏的)、1.7g ^TMTriazine A(Produits Chimiques Auxiliaires etde Synthèse，Longjumeau，法国)、34g按照实例1的加溶颜料、34g按照实例4的加溶颜料、17g按照实例5的加溶颜料及34g按照实例12的加溶颜料溶解在254g环戊酮(^TMOMM HTR-2D，Olin-Hunt)中。该配制物在黑暗中混合数小时，然后经过孔径1μm的微过滤介质过滤。

按如下程序制备薄膜：以1250rpm(30s)的速度旋转涂布到7.5×7.5cm玻璃板(Corning 1737型)上，随后在100℃于热板上干燥2min。

该薄膜通过掩模以紫外光源(0.75mW/cm² G、H及I线)接受按图形曝光267s，然后在100℃于热板上加热2min。随后，在含水显影液中显影5min，该含水显影液组成：2.38wt％四甲基氢氧化铵和1wt％中性湿润剂(聚乙二醇取代的芳族化合物)，以水清洗并干燥，只有曝过光的薄膜区域留下了。最后，玻璃板在200℃于热板上加热5min。获得解象力极佳的深黑色图形膜结构，光密度为2.3，厚度约1.5μm。

Claims

1.一种构造的着色有机材料，其中该有机材料分子量为10⁵-10⁷克/摩尔，包含以该着色材料为基准，至少5wt％的选自二酮吡咯并吡咯、二噁嗪、双偶氮、苯并咪唑酮偶氮、异二氢吲哚、异吲哚啉酮及酞菁颜料的有机颜料，

其是通过对射线敏感前体进行辐照而获得的，其中该射线敏感前体

-包含1-4种可转化为所述有机颜料的溶解的颜料衍生物，以及

-在300～700nm的波长范围的透射率≥10％；而且

该构造的材料在400～700nm的整个范围，暴露于辐照或未暴露于辐照部位的透射率≤5％。

2.按照权利要求1的着色材料，其中在300～700nm的波长范围的透射率≥20％。

3.按照权利要求2的着色材料，其中在300～700nm的波长范围的透射率≥50％。

4.按照权利要求1、2或3的着色材料，该构造的材料在400～700nm的整个范围，暴露于辐照或未暴露于辐照部位的透射率≤2％。

5.按照权利要求1、2或3的着色材料，其中该颜料衍生物可转化为选自下列的有色有机颜料：

通式(I)的吡咯并[3，4-c]吡咯

其中G和Q彼此独立地是下式的基团

或

且R₁和R₂彼此独立地是氢、卤素、氰基、氨基甲酰基、硝基、三氟甲基、苯基、C₁～C₆烷基、C₁～C₆烷氧基、C₁～C₆烷硫基或C₁～C₆烷氨基；式(II)的二噁嗪

其中R₃、R₄及R₅彼此独立地是氢、卤素、C₁～C₄烷基、C₁～C₄烷氧基、NHCOC₁～C₄烷基或NHCO苯基，R₃、R₄或R₅中至少一个是NHCOC₁～C₄烷基或NHCO苯基；

式(III)、(IV)或(V)的异二氢吲哚

或

其中R₆是

基团，

R₇是氢、C₁～C₆烷基、苄基或

基团，

R₈是氢或R₆，以及

式(VI)的双偶氮

其中R₁₃和R₁₄彼此独立地是氢、氯、CONHR₁₇或SO₂NHR₁₇，R₁₅及R₁₆是氢、氯或甲基，以及

R₁₇是苯基或羟联苯基，每一个可以是未取代的或者是取代上1～3个，这些取代基选自氯、三氟甲基、甲氧基及甲基；

式(VIIa)或(VIIb)的苯并咪唑酮偶氮

R₂₀是直接键、氧、硫、C₁～C₆亚烷基或O-C₂～C₆亚烷基-O，以及R₂₁是氢、C₁～C₆烷基或苯基，后者为未取代的或取代上卤素、硝基、C₁～C₆烷氧基、三氟甲基、C₁～C₆烷基、羧基、C₁～C₆烷氧基羰基或CONH₂；

式(VIIIa)或(VIIIb)的异吲哚啉酮

或

其中R₂₂及R₂₃彼此独立地是氢、卤素或C₁～C₆烷基；

以及

式(IX)的酞菁

T是-CHR₂₅-、-CO-或-SO₂-，

R₂₄是氢、C₁～C₆烷基、NH₂、NHCOR₂₆、-COR₂₆或

R₂₅是氢或C₁～C₆烷基，

R₂₆是C₁～C₆烷基，

R₂₇是氢、卤素、C₁～C₆烷基或C₁～C₆烷氧基，以及

z是0或1，且y是1～8的数，

或者由通式(IX)的酞菁经热或光化降解生成的酞菁衍生物。

6.按照权利要求1～3中任何一项的着色材料，它包含2-5种可转化为有色有机颜料的溶解的颜料衍生物。

7.按照权利要求1～3中任何一项的着色材料，它还包含一种或2-5种不溶解颗粒形式的颜料。

8.按照权利要求1～3中任何一项的着色材料，其中该构造的材料暴露于辐照的部位在400～700nm整个范围的透射率≤5％。

9.按照权利要求7的着色材料，其中在射线敏感前体中以溶解的颜料衍生物形式存在的那些颜料的比例，以该构造的材料中所有颜料总和为基准，至少是30mol％。

10.按照权利要求9的着色材料，其中在射线敏感前体中以溶解的颜料衍生物形式存在的那些颜料的比例，以该构造的材料中所有颜料总和为基准，至少是50mol％。

11.按照权利要求1、2或3的着色材料，其中颜料颗粒的平均粒度为0.01～1.0μm。

12.按照权利要求11的着色材料，其中颜料颗粒的平均粒度为0.01～0.1μm。

13.按照权利要求1、2或3的着色材料，其中辐照是在300～700nm实施的。

14.按照权利要求1、2或3的着色材料，它以≤5μm的薄层涂布在透明底层上。

15.按照权利要求14的着色材料，它以≤2μm的薄层涂布在透明底层上。

16.一种利用黑色图形介质的吸收而对可见光束进行按图形掩蔽的方法，它包括将光束射向涂布在透明底层上的按照权利要求1、2或3的有机材料。

17.一种制备图形黑色基质的方法，它包括：

构造组合物，该组合物被涂布在透明底层上，并且在300～700nm波长范围的透射率≥10％，并且包含射线敏感前体及溶解的颜料衍生物，该颜料衍生物可被转化为有色有机颜料，步骤为通过对该组合物的适当部位在所述波长进行辐照以及，任选地，再进行附加的热处理；

-构造之后，用显影液对涂层进行处理，以使基本上只有分子量为10⁵-10⁷克/摩尔的有机材料保留在底层的暴露于或未暴露于辐照的部位上；以及

-以热、光化学和/或酸或碱催化的方式在构造期间或以后使颜料衍生物转化为有色有机颜料，使得保留在底层上的分子量为10⁵-10⁷克/摩尔的有机材料在400～700nm整个范围的透射率≤5％。