CN112055490A - 电子设备 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及电子设备。本公开提供了纹理化玻璃部件以及包括所述纹理化玻璃部件的电子设备盖组件和壳体。在一些情况下，所述玻璃部件的突起部分包括设置在所述电子设备的相机组件上方的纹理化区域。可将一个或多个开口设置在所述纹理化区域中。所述纹理化区域可被构造成向所述电子设备提供半透明外观或模糊外观，同时向所述电子设备提供期望的“感觉”和可清洁度水平。

Description

电子设备
相关申请的交叉引用
本申请为2019年6月5日提交的且标题为“Electronic Device Enclosure Havinga Textured Glass Component”的美国专利申请号为62/857,613的专利申请并要求其权益，该专利申请的公开内容全文以引用方式并入本文。
技术领域
所述实施方案整体涉及包括纹理化玻璃部件的电子设备壳体。更具体地讲，本公开的实施方案涉及用于电子设备的纹理化玻璃部件、盖组件和壳体。
背景技术
用于电子设备的壳体传统上可由多种部件形成。一些传统的壳体由塑料材料或金属材料形成，这些塑料材料或金属材料可使用传统的模制或机加工技术成形和纹理化。然而，可能更难以使由易碎材料诸如玻璃形成的壳体部件纹理化或成形。本文所述的技术和制品涉及在壳体的玻璃部件上形成纹理和其他表面特征部。
发明内容
本文公开了用于电子设备的纹理化玻璃部件。在一些情况下，纹理化玻璃部件诸如玻璃盖构件可具有被构造成向电子设备的外表面提供期望外观的纹理。例如，玻璃盖构件可具有被构造成提供特定光泽度水平和/或半透明度水平的纹理。纹理还可被构造成向电子设备提供特定的“感觉”、被构造成易于清洁的或两者。
例如，玻璃部件的纹理化区域可设置在电子设备的相机组件上方。可将一个或多个开口设置在玻璃部件的纹理化区域中，以有利于光学模块诸如相机模块定位。开口还可有利于输入或输出到光学模块的元件。在一些情况下，包括纹理化区域的玻璃部件的部分可比玻璃部件的另一个部分厚。
本公开提供了一种电子设备，该电子设备包括显示器、至少部分地围绕该显示器的壳体和相机组件。该壳体包括前盖组件和后盖组件，该前盖组件包括定位在显示器上方的前玻璃构件。该后盖组件包括限定突起部分的后玻璃构件。该突起部分限定开口以及在60度下测量时具有小于约50的光泽度值的纹理化区域。该相机组件联接到后盖组件的内表面并且包括至少部分地定位在开口内的相机模块。
此外，本公开提供了一种电子设备，该电子设备包括壳体和相机组件，该壳体包括由玻璃材料形成的盖构件，该相机组件联接到该盖构件的内表面。该盖构件限定外表面，该外表面包括凸起区域和基部区域，该凸起区域限定包括具有在约0.2微米至约2微米范围内的均方根高度的表面特征部的第一纹理，基部区域限定不同于第一纹理的第二纹理，该凸起区域相对于该基部区域突起。该盖构件还限定从凸起区域延伸到该盖构件的内表面的通孔。该相机组件包括至少部分地定位在通孔中的相机模块。
此外，本公开提供了一种电子设备，该电子设备包括壳体、相机组件和显示器，该壳体包括前盖组件、后盖组件，该前盖组件包括前玻璃构件，该后盖组件包括后玻璃构件，该相机组件联接到该后盖组件的内表面，该显示器定位在该前盖组件下方。后盖组件包括第一玻璃部分，该第一玻璃部分具有第一厚度并且限定纹理化区域，该纹理化区域具有半透明外观并且限定具有在约0.5微米-1至约2微米-1范围内的平均峰部曲率(SSc)和约0.1至约1的均方根斜率(Sdq)的表面特征部。第一玻璃部分还限定定位在纹理化区域中的开口。后盖组件还包括第二玻璃部分，该第二玻璃部分至少部分地围绕第一玻璃部分并且具有小于第一厚度的第二厚度。相机组件包括至少部分地定位在开口内的相机模块。
附图说明
本公开通过下面结合附图的具体描述将更易于理解，其中类似的附图标记表示类似的元件。
图1A示出了包括纹理化玻璃部件的示例性电子设备的前视图。
图1B示出了图1A的电子设备的后视图。
图2A示出了电子设备的局部横截面视图。
图2B示出了电子设备的盖组件的一部分的详细视图。
图2C示出了电子设备的盖组件的另一个部分的详细视图。
图3示出了电子设备的局部横截面视图。
图4示出了电子设备的纹理化玻璃盖构件的局部横截面视图。
图5示出了电子设备的玻璃盖构件的纹理化区域的详细横截面视图。
图6示出了用于形成纹理化玻璃覆盖部件的示例性过程的流程图。
图7示意性地示出了化学强化之后的纹理化玻璃盖构件。
图8示意性地示出了化学强化之后的附加纹理化玻璃盖构件。
图9示出了可结合纹理化玻璃部件的样本电子设备的框图。
附图中的交叉影线或阴影的用途通常被提供以阐明相邻元件之间的边界并还有利于附图的易读性。因此，存在或不存在无交叉影线或阴影均不表示或指示对特定材料、材料属性、元件比例、元件尺寸、类似图示元件的共同性或在附图中所示的任何元件的任何其他特性、性质、或属性的任何偏好或要求。
此外，应当理解，各个特征部和元件(以及其集合和分组)的比例和尺寸(相对的或绝对的)以及其间呈现的界限、间距和位置关系在附图中被提供，以仅用于促进对本文所述的各个实施方案的理解，并因此可不必要地被呈现或示出以进行缩放并且并非旨在指示对所示的实施方案的任何偏好或要求，以排除结合其所述的实施方案。
具体实施方式
现在将具体地参考在附图中示出的代表性实施方案。应当理解，以下描述并非旨在将实施方案限制于一个优选的具体实施。相反，所述实施方案旨在涵盖可被包括在本公开以及由所附权利要求限定的实质和范围内的替代形式、修改形式和等同形式。
以下公开涉及用于电子设备的纹理化玻璃部件。玻璃部件诸如玻璃盖构件或玻璃构件的纹理化区域可被构造成向电子设备的外表面提供期望外观。此外，纹理可被构造成向电子设备提供特定的“感觉”、被构造成易于清洁的或两者。可对纹理化玻璃部件进行化学强化以增强其对冲击和/或弯曲的抗性。
在一些实施方案中，玻璃部件可具有被构造成提供某些特性同时最小化不太期望的其他特性的纹理。例如，纹理可被构造成具有提供特定水平的光学特性诸如光泽度和/或透射雾度的粗糙度参数，同时避免过度粗糙或尖锐的“感觉”。纹理可提供功能性的平衡。例如，增加粗糙度参数的值以降低光泽度或增加表面的雾度，在一些情况下可能提供过度粗糙的“感觉”或者不期望地降低表面的可清洁度。在一些情况下，玻璃部件的不同区域可具有不同的纹理以便向不同区域提供不同的特性。
玻璃部件诸如玻璃盖构件或玻璃构件的纹理化区域可产生半光泽度或低光泽度效应。例如，在60度下测量时，光泽度可为小于约50光泽度单位、小于约40光泽度单位、5光泽度单位至50光泽度单位、10光泽度单位至50光泽度单位、或10光泽度单位至45光泽度单位。
玻璃部件的纹理化区域可产生半透明效应或模糊效应。透射雾度可与受到广角散射(例如，大于2.5度)的光的量有关。具有较大量透射雾度的玻璃部件可具有降低的透射对比度。透射雾度可为大于或等于约50％、大于或等于约60％、大于或等于约70％、约60％至约90％、或约70％至约80％。
玻璃部件的纹理化区域和包括玻璃部件的盖组件的纹理化区域可被构造成提供特定的摩擦系数，或者当纹理化区域被触摸时可以其他方式向用户产生特定的触感。例如，纹理化区域可被构造成在手指沿着纹理化区域触摸或滑动的情况下具有在特定范围内的摩擦系数，从而为壳体提供期望的感觉。例如，作为电子设备正常操作的结果，用户可沿着纹理化区域触摸或滑动手指。
玻璃部件和盖组件的纹理化区域还可被构造成使得从电子设备的正常操作中聚积的污垢或碎屑可易于清洁或移除。例如，纹理化区域可被构造成使得其不产生和/或捕集纺织物碎屑。如下文更详细解释的，纹理可被构造成使得特征部的均方根(RMS)高度、表面特征部的均方根(RMS)斜率不会过大，并且/或者使得平均峰部曲率提供期望的光学和触觉特性。结合图5提供了这些纹理参数和其他纹理参数的更详细描述，并且为简明起见，此处将不再重复。
本文结合纹理化玻璃盖构件的特性的讨论还更一般地涉及如本文所述的纹理化玻璃部件。下文参考图1A至图9对这些实施方案和其他实施方案进行了讨论。然而，本领域的技术人员将容易地理解，本文相对于这些附图所给出的详细描述仅出于说明性目的，而不应被理解为是限制性的。
图1A示出了包括纹理化玻璃部件的示例性电子设备100的前视图。电子设备100可为移动电话(也称为手机)。在另外的实施方案中，电子设备100可为笔记本计算设备(例如，笔记本电脑或膝上型电脑)、平板计算设备(例如，平板电脑)、便携式媒体播放器、可穿戴设备或另一种类型的便携式电子设备。电子设备100还可为台式计算机系统、计算机部件、输入设备、设备或实际上任何其他类型的电子产品或设备部件。
如图1A所示，电子设备100具有包括盖组件122的壳体110。盖组件122可至少部分地限定电子设备100的前表面102。在该示例中，盖组件122限定电子设备100的基本上整个前表面。盖组件122定位在显示器144上方并且可限定定位在显示器144上方的透明部分。壳体110可至少部分地围绕显示器144。
如图1A所示，壳体110还包括外壳构件112(其也可称为外壳或外壳部件)。盖组件122可联接到外壳112。例如，可使用粘合剂、紧固件、接合特征部或它们的组合将盖组件122联接到外壳112。
外壳112可至少部分地限定电子设备100的侧表面106，并且可包括一个或多个金属构件或一个或多个玻璃构件。在该示例中，外壳112限定电子设备100的全部四个侧面或连续侧表面。如图1A所示，外壳112由被聚合物或电介质区段115分隔的一系列金属区段(114,116)形成，该聚合物或电介质区段在相邻金属区段之间提供电隔离。例如，聚合物段115可设置在一对相邻金属区段之间。金属区段(114,116)中的一者或多者可耦接到电子设备100的内部电路并且可用作用于发送和接收无线通信的天线。
外壳112可限定一个或多个开口或端口。如图1A所示，外壳112的金属区段116限定开口117。开口117可允许来自设备部件诸如麦克风或扬声器的(音频)输入或输出，或者可包含电端口或电连接。
盖组件诸如盖组件122通常包括玻璃盖构件132，在本文中也称为玻璃构件。如图1A所示，盖组件122为前盖组件并且玻璃构件132为前玻璃构件。图2A至图5和图7至图8示出了玻璃盖构件的示例，并且结合这些附图提供的描述大体适用于本文。在一些实施方案中，盖组件可被描述为玻璃覆盖件。更一般地，盖组件可由多个层形成。例如，多层盖组件可包括一个或多个玻璃片、聚合物片材和/或各种涂层和层。在一些情况下，玻璃盖构件可跨盖组件(诸如基本上跨盖组件的宽度和长度)侧向延伸。在另外的情况下，盖组件可包括跨盖组件一起基本上侧向延伸的多个覆盖玻璃构件。
本文的典型盖组件为薄的，并且通常具有厚度小于5mm以及更典型地厚度小于3mm的玻璃盖构件。在一些方面，盖组件的玻璃盖构件诸如玻璃盖构件132和玻璃盖构件134可具有约0.1mm至2mm、0.5mm至2mm、或0.2mm至1mm的厚度。如本文所述，玻璃盖构件可具有不均匀的厚度。
尽管盖组件122在图1A中示出为基本上平坦的，但是本文所述的原理还涉及限定表面突起部(诸如图1B所示)、表面凹陷部和/或一个或多个弯曲表面的盖组件和玻璃部件。在实施方案中，玻璃部件诸如玻璃盖构件可为三维的或者可限定成型外形。例如，玻璃部件可限定相对于中心部分不共面的周边部分。周边部分可例如限定设备外壳或壳体的侧壁，而中心部分限定前表面(其可限定覆盖显示器的透明窗口)。
在另外的实施方案中，如本文所述的盖组件可包括在全玻璃或多面玻璃壳体中。在此类实施方案中，盖组件可限定壳体的一个或多个表面，诸如前表面和侧表面、或前表面、侧表面和后表面。用于这种壳体的盖组件可包括玻璃部件、玻璃盖构件或它们的组合。
图1B示出了电子设备100的后视图。如图1B所示，壳体110包括限定电子设备的后表面104的盖组件124。在图1B所示的示例中，盖组件124限定电子设备的基本上整个后表面。盖组件124包括玻璃盖构件134。如图1B所示，盖组件124为后盖组件，并且玻璃盖构件134为后玻璃构件。在一些情况下，电子设备100包括联接到盖组件124的内表面的相机组件(如图2A和图3所示)。
如图1B所示，盖组件124限定相对于盖组件124的第二部分128突起或偏置的第一部分126。第一部分126在本文中也可称为突起部分，并且第二部分128在本文中也可称为基部部分。第二部分128可至少部分地围绕第一部分126。第一部分126可具有大于第二部分128的厚度。例如，第一部分126可比第二部分128厚至少10％、25％、或50％以及至多约250％。在一些情况下，第一部分126可具有大于约1mm且小于或等于约2mm的厚度，并且第二部分可具有大于约0.5mm且小于约1mm的厚度。第一部分126的凸起外表面与第二部分128的外表面之间突起或偏置的量可为约0.5mm至约1.5mm。第一部分126的尺寸可至少部分地取决于相机组件的尺寸。在一些实施方案中，突起部分的侧向尺寸(例如，宽度)可为约5mm至约30mm或约10mm至约20mm。
图1B所示的盖组件124还限定第三区域127。在一些情况下，第三区域127可限定在第一部分126的凸起外表面与第二部分128的外表面之间延伸的外表面。第三区域127在本文中也可称为侧面区域。图2A提供了对盖组件的外表面区域的附加描述。结合图2A提供的描述大体适用于本文，为简明起见，此处不再重复。
如图1B所示，第一部分126限定电子设备100的纹理化区域156。纹理化区域156可具有被构造成向电子设备100的外表面提供期望外观的纹理。此外，纹理化区域156的纹理可被构造成向电子设备提供特定的“感觉”、被构造成易于清洁的或两者。纹理化区域156的至少一个粗糙度参数通常大于抛光表面诸如常规抛光表面的粗糙度参数。在一些情况下，纹理化区域156可在第一部分126的凸起外表面上方延伸，但可基本上不在第三区域127上方延伸。
纹理化区域156的纹理可与盖组件的另一个部分的纹理类似或不同。例如，第二部分128可具有比第一部分126的纹理化区域156的纹理更平滑的纹理。在一些情况下，第二部分128可具有与抛光表面的纹理类似的纹理。此外，第三区域127可具有比纹理化区域156的纹理更平滑的纹理。在一些情况下，第三部分127可具有与抛光表面的纹理类似的纹理。
通常，电子设备100包括相机组件，该相机组件包括一个或多个光学模块157。图1B的示例示出了三个光学模块157，但更一般地，相机组件可限定任何数量的光学模块157，诸如一个、两个、三个、四个或五个光学模块。光学模块157中的每个可与纹理化区域156基本上齐平，相对于该纹理化区域突出或凹陷。
光学模块157可包括但不限于相机模块、照明模块、传感器以及它们的组合。在一些情况下，相机模块包括光学感测阵列和/或光学部件诸如透镜、滤波器或窗口。在另外的情况下，相机模块包括光学感测阵列、光学部件和围绕光学感测阵列和光学部件的相机模块外壳。相机模块还可包括聚焦组件。例如，聚焦组件可包括用于移动相机模块的透镜的致动器。在一些情况下，光学感测阵列可为互补金属氧化物半导体(CMOS)阵列等。
盖组件124的第一部分126可限定至少一个孔(在本文中也称为通孔)，该孔延伸穿过盖组件从纹理化区域156到盖组件的内表面。因此，盖组件的第一部分126还可限定外表面104中的至少一个开口，其中开口对应于通孔的入口(或出口)。外表面104中的开口可位于纹理化区域156中。例如，通孔或开口可具有约1mm至约10mm的侧向尺寸(例如，宽度或直径)。相邻开口的边缘之间的纹理化区域的侧向尺寸可为约1mm至约15mm或约1mm至约10mm。
在一些情况下，第一部分126可限定延伸穿过第一部分126的布置、阵列或一组通孔(如图2B的局部横截面视图所示)。第一部分126还可限定盖构件124的外表面中的布置、阵列或一组开口。
光学模块157可至少部分地定位在纹理化区域156中的开口内，如图1B所示。光学模块157还可至少部分地定位在第一部分126中的通孔内(如图2A和图3的局部横截面视图所示)。相机组件可联接到盖组件的内表面，如图2A和图3所示。
如先前所述，盖组件124包括玻璃盖构件134。在一些情况下，玻璃盖构件134的形状通常可对应于盖组件的形状并且可在电子设备的基本上整个后表面上延伸。在另外的情况下，盖组件可包括多个玻璃盖构件。例如，第一玻璃盖构件可限定盖组件的第一部分，并且第二玻璃盖构件可限定盖组件的第二部分。第一玻璃盖构件和第二玻璃盖构件可单独地通过紧固件或其他附接部件联接在一起或者通过紧固件或其他附接部件结合粘合剂联接在一起。紧固件或其他附接部件可至少部分地限定盖组件的第三区域。盖组件124还可包括耐污涂层、装饰性涂层或它们的组合(例如，如图2B至图2C所示)。
纹理化区域156的纹理可由玻璃盖构件134的纹理化而产生。在一些情况下，玻璃盖构件134可具有多个纹理化区域。玻璃盖构件134的各种纹理化区域中的每个可具有彼此类似的纹理或者可具有彼此不同的纹理。不同的纹理可由于在单一类型的纹理化工艺中使用不同的工艺条件而产生，或者可由于使用不同类型的纹理化工艺而产生。在一些实施方案中，玻璃盖构件134的纹理化区域可具有由两种不同纹理重叠而形成的纹理。这种纹理可由于使用两种不同的纹理化工艺来形成纹理化区域而产生。结合图6讨论了用于在玻璃盖构件134上形成纹理的不同方法，并且那些细节大体适用于本文。此外，结合图5提供的表面纹理的讨论大体适用于本文。
除了显示器和相机组件之外，电子设备100还可包括附加部件。这些附加部件可包括处理单元、控制电路、存储器、输入/输出设备、电源(例如，电池)、充电组件(例如，无线充电组件)、网络通信接口、附件和传感器中的一者或多者。下文结合图9更详细地讨论了样品电子设备的部件，并且结合图9提供的描述大体适用于本文。
图2A示出了电子设备200的局部横截面视图。电子设备200可与图1A和图1B的电子设备100类似，并且横截面可沿着A-A截取。电子设备200包括位于前部的盖组件222和位于电子设备200后部的盖组件224。盖组件222和盖组件224中的每个诸如使用粘合剂、紧固件或它们的组合联接到外壳部件212。外壳部件212可与图1的外壳部件112、外壳部件114和外壳部件116类似。外壳部件212至少部分地限定电子设备200的内部腔体205。
盖组件222包括玻璃盖构件232，并且盖组件224包括玻璃盖构件234。玻璃盖构件诸如玻璃盖构件232和玻璃盖构件234可由玻璃材料形成。盖组件224限定突起部分226(也称为第一部分)，由于突起部分中的玻璃盖构件234的厚度较大，所以该突起部分相对于基部部分228(也称为第二部分)突起。通常，基部部分228的至少一部分基本上与突起部分226相邻。
如图2A所示，盖组件224还限定外表面244。外表面244的区域246由突起部分226限定，并且外表面244的区域248由基部部分228限定。区域246相对于第二部分248突起或凸起，并且可因此称为凸起区域、偏置区域或外部区域。例如，凸起区域246可限定平台。区域248在本文中可称为基部区域。外表面244的区域247可在区域246与区域248之间延伸并且可限定突起部分226的一个侧面。如图2A示意性所示，区域246可包括纹理化区域。在图2A的示例中，区域246具有比区域248或区域247的纹理更粗糙的纹理，如图2B和图2C更详细所示。
电子设备200还包括设置在前盖组件222下方的显示器274和的触摸传感器272。显示器274和触摸传感器272可联接到前盖组件222。显示器274可为液晶显示器(LCD)、发光二极管(LED)显示器、LED背光LCD显示器、有机发光二极管(OLED)显示器、有源层有机发光二极管(AMOLED)显示器等。触摸传感器272可被构造成沿着前盖组件222的外表面检测或测量触摸位置。
盖组件224还包括沿着玻璃盖构件234的内表面233设置的美观涂层或装饰性涂层260，如图2A和图2C所示。当美观涂层上方的盖组件和玻璃盖构件被纹理化时，电子设备的外观可能是由纹理化区域和美观涂层的组合效应产生的。如图2A所示，美观涂层260定位在盖组件224的基部部分228下方，并且在一些情况下可为基部部分228提供期望的颜色。在另外的情况下，美观涂层260可用作掩膜层。在图2A的示例中，美观涂层基本上不在突起部分226下方延伸，并且突起部分226可具有与基部部分228的颜色不同的颜色。在一些情况下，突起部分226(或玻璃盖构件的对应突起部分)可为看起来基本上无色的。例如，a*和b*中的每一者的绝对值可小于5、小于3、或小于或等于2，并且L*的值可大于90、大于95、或大于98。
电子设备200还包括相机组件275。图2A的局部横截面视图示出了相机组件275的两个光学模块(277,278)。如图2A所示，相机组件275联接到玻璃盖构件234的内表面233，但在另外的示例中，相机组件可联接到盖组件224的另一个内表面(如图3所示)。例如，相机组件275可使用可由粘合层提供的粘结结合联接到盖组件224的内表面。作为另外的示例，相机组件275可使用紧固件或其他形式的机械附接件联接到盖组件224的内表面。
相机组件275还包括支撑结构276，该支撑结构联接到盖组件224的玻璃盖构件234的内表面233。支撑结构276可被构造成将相机组件275的各种元件保持在适当的位置。例如，光学模块277和光学模块278中的每个和印刷电路板(PCB)279可安装到支撑结构276。支撑结构276的形状不限于图2A的示例。在一些情况下，支撑结构276可包括板、托架或它们的组合。
支撑结构276和相机组件275与盖组件224的内表面之间的联接可被构造成限制玻璃盖构件234在突起部分226附近的弯曲。例如，支撑结构276可被构造成限制弯曲，这将倾向于增大突起部分226的区域246的向外曲率(并增加其凸度)。限制突起区域的弯曲可限制沿着纹理化区域256的弯曲引起的拉应力。此外，相机组件275与盖组件224的内表面之间的联接可为足够刚性的，使得盖组件224和相机组件275的组合的中性轴的位置相比于单独的盖组件224的对应中性轴被偏移了。例如，相比于单独的盖组件224的对应中性轴，盖组件224和相机组件275的组合的中性轴可远离外表面244向内偏移。在一些情况下，中性轴的偏移在盖组件224的突起部分226中可能是最明显的。
如先前结合图1B所述，盖组件224可限定延伸穿过突起部分226的孔237和孔238。孔237和孔238在本文中也可称为通孔。如图2A所示，玻璃盖构件234也至少部分地限定孔237和孔238。盖组件224还限定孔237的开口267和孔238的开口268。开口267和开口268位于区域246中，该区域可为纹理化区域。
第一光学模块277和第二光学模块278分别与通孔237和通孔238对准。如图2A所示，第一光学模块277基本上延伸穿过第一通孔237，并且第二光学模块278至少部分地延伸穿过第二通孔238。在图2A的示例中，光学模块277可延伸穿过开口267，使得光学模块277的端部延伸超出开口267和表面区域246(在开口267和表面区域246处突出)。光学模块278的端部相对于开口268凹陷。在其他示例中，光学模块的端部可与开口齐平，如图3所示。
如先前结合图1B所述，光学模块可包括相机模块、照明模块、光学传感器等。通常，相机组件275包括至少一个相机模块并且可包括两个、三个、四个或五个相机模块。相机模块电连接到PCB 279。
在一些情况下，窗口可定位在开口内。如图2A所示，窗口269定位在第二开口268内。第一光学模块277还可包括作为其光学部件的一部分的窗口，其中窗口被定位在其外壳内。
图2B为示出了突起部分226(细节1-1)的详细视图并且图2C为示出了盖组件224的基部部分228(细节2-2)的详细视图。对图2B和图2C进行放大，以便更好地示出盖组件224的细节。如图2A至图2C示意性所示，区域246可限定第一纹理，并且区域248可限定不同于第一纹理的第二纹理。在图2A至图2C的示例中，区域246具有比区域248的纹理更粗糙的纹理。此外，区域246具有比区域247的纹理更粗糙的纹理。例如，区域246可具有至少一个粗糙度参数，诸如均方根表面高度、均方根斜率和/或平均峰部曲率，该至少一个粗糙度参数大于区域248和/或区域247的粗糙度参数。更一般地，外表面244的不同区域可具有彼此类似的纹理，或者可具有彼此不同的纹理，如先前结合图1B所述。
在一些情况下，突起部分226的第一纹理和基部部分228的第二纹理可被构造成提供稍微不同的光学效应。例如，当装饰性涂层260向基部部分228提供期望的颜色并且突起部分226具有基本上无色的外观时，突起部分226的第一纹理可被构造成提供比基部部分228的第二纹理更大的半透明度。在一些情况下，基部部分228的第二纹理可为基本上透明的并且可对应于抛光表面的纹理。作为另外的示例，突起部分的第一纹理可被构造成提供比窗口269更低的光泽度，但可提供比基部部分228的第二纹理更高的光泽度。
此外，突起部分226的第一纹理和基部部分228的第二纹理可被构造成提供稍微不同的触觉效应。例如，基部部分228的第二纹理可被构造成向用户提供比突起部分的第一纹理更平滑的感觉。
盖组件224的给定区域的纹理可至少部分地由玻璃盖构件234的纹理化而产生。在玻璃盖构件234上形成的表面特征部(例如，表面特征部286和表面特征部288)和外部涂层265可一起限定盖组件上的表面结构(例如，表面结构296和表面结构298)。玻璃盖构件234的不同的纹理可由于在单一类型的纹理化工艺中使用不同的工艺条件而产生，或者可由于使用不同类型的纹理化工艺而产生。结合图6讨论了用于在玻璃盖构件234上形成纹理的不同方法，并且那些细节适用于此处。此外，结合图5提供的表面纹理和表面特征部的讨论适用于本文，但为简明起见，此处不再重复。
在一些情况下，美观涂层260包括聚合物。美观涂层260可包括至少40％、50％、60％或70％的聚合物，并且因此可称为基于聚合物的涂层或聚合物涂层。当涂层260还包括着色剂时，聚合物可充当着色剂的粘结剂。着色剂(例如，颜料)可基本上分散在聚合物的基质中。例如，聚合物可为聚酯基、环氧基或氨基甲酸酯基，或者为基于另一种合适类型的聚合物或共聚物。美观涂层260还可包括任选的添加剂，诸如一种或多种填充剂、稀释剂、聚合引发剂和/或稳定剂。在一些实施方案中，聚合物具有交联结构。
例如，美观涂层可包括颜色层(例如，油墨、染料、油漆等)和/或金属层。如先前所述，美观涂层260可包括至少一个颜色层。颜色层可包括聚合物和分散在聚合物中的着色剂，并且可为透明的、半透明的或不透明的。更一般地，任何颜料、油漆、油墨、染料、片材、膜或其他层均可用作美观涂层260或其一部分。在一些实施方案中，美观涂层260为包括第一颜色层和第二颜色层的多层涂层。颜色层中的每个可为透明的、半透明的或不透明的。颜色层中的每个可包括相同的着色剂，或者不同的颜色层可包括不同的着色剂。美观涂层260中的颜色层中的每个的厚度可为约2微米至约10微米。
一个或多个颜色层和美观涂层260可具有彩色颜色或非彩色颜色。美观涂层260的颜色可通过颜色模型来表征。例如，在色调饱和度值(HSV)颜色模型中，色调涉及在查看颜色特征部时所观察到的可见光的波长(例如，蓝色或品红色)，并且该值涉及颜色的亮度或暗度。饱和度涉及所感知的色度，如与其亮度成比例地来判断。又如，CIEL*a*b*(CIELAB)色彩空间中的坐标可用于表征颜色，其中L*表示亮度，a*表示红色/品红色和绿色之间的位置，并且b*表示黄色和蓝色之间的位置。
在一些情况下，透过盖组件224的给定区域观察到的美观涂层260可具有均匀的外观。例如，美观涂层260可在肉眼上看起来均匀的(也称为视觉上均匀的)。美观涂层260可具有小于指定值的颜色变化。例如，透过玻璃盖构件观察到的涂层的图像可使用数字照相机获得，并且可确定该图像的每个像素的颜色，从而允许确定颜色和/或亮度变化。纹理化区域上方的颜色均匀度可通过评估使用给定颜色模型获得的色值的均匀度来评估。例如，当通过纹理化区域诸如区域248测量时，L*、a*、b*或它们的组合的变化可小于约20％、15％、10％、或5％。
在一些情况下，可测量美观涂层260颜色均匀度的参考值，并且可将透过纹理化区域230观察到的美观涂层260的感知颜色均匀度值与参考值进行比较。例如，颜色均匀度的参考值可为第一颜色均匀度值，并且透过盖组件224的区域观察到的美观涂层260的感知颜色均匀度值可为第二颜色均匀度值。在一些情况下，第二颜色均匀度值可与第一颜色均匀度值相同或基本上相同。例如，第二颜色均匀度值与第一颜色均匀度值之间的差值可为不可视觉感知的。在另外的示例中，第二颜色均匀度值与第一颜色均匀度值之间的变化可小于约20％、15％、10％、或5％。如先前所讨论的，颜色均匀度值可根据L*、a*、b*或它们的组合的变化来确定，或者根据其他颜色测量技术来确定。
例如，当将美观涂层260施加到如本文所述的缺乏纹理化表面的玻璃盖构件时，可获得该美观涂层的颜色均匀度的参考值。相反，用于获得参考值的玻璃盖构件可具有如制造的表面或抛光表面。如制造的表面或抛光表面的RMS表面高度可小于如本文所述的纹理化表面的RMS表面高度。
在一些情况下，美观涂层260可包括多个层，诸如第一层262和第二层264，如图2C示意性所示。例如，美观涂层260可包括附加颜色层、金属层、光学透明层、光学致密层以及它们的组合。在另外的情况下，美观涂层不需要包括颜色层，但可包括光学致密层和金属层中的一者或多者。
例如，美观涂层260可包括光学致密层。光学致密层可基本上减少或防止可见光的透射，从而通过盖组件224“阻挡”定位在光学致密层后面的部件的视图。此外，光学致密层的光学特性可被配置为调节装饰性涂层260的亮度和/或色度。
例如，光学致密层的光密度(初始强度/透射强度)可通过OD＝log10来描述并且可大于或等于1、大于或等于2、或大于或等于3。一般来说，光学致密层(例如，层264)包括聚合物。光学致密层还可包含一种或多种颜料、染料或它们的组合。例如，光学致密层在可见范围内具有基本上波长独立(中性)的反射率和/或吸收光谱。此外，光学致密层可具有非彩色特性颜色。光学致密层的厚度可为约2微米至约10微米。
在另外的实施方案中，除了一个或多个颜色层之外，美观涂层260可包括金属层。这种金属层可向透过玻璃盖组件224所见的美观涂层提供金属效应。金属层当用于形成金属标记时可为部分层(例如，具有比颜色层小的侧向尺寸的部分层)。例如，层的金属可选自铝、铜、镍、银、金、铂以及其合金。在一些情况下，金属层可被构造成至少部分地透射可见光。例如，金属层可具有大于约0.5nm且小于10nm、小于5nm、小于3nm、小于2nm或小于1nm的厚度。较厚的金属层可用于在玻璃盖构件下方形成记号或另一个标记。该标记可为图像、图案、文本、字形、符号、记号、几何形状或它们的组合的形式。
金属层可沿着玻璃盖构件234的内表面设置。在一些情况下，金属层可与光学透明层结合使用。光学透明层可具有限制或防止裂纹从金属层扩展到玻璃盖构件234中的一种或多种机械特性(例如，模量、硬度和/或韧性)。光学透明层可为聚合物层，并且可具有约1微米至约5微米的厚度。光学透明层可沿着玻璃盖构件234的内表面233设置，金属层可定位在光学透明层与光学致密层之间，第一颜色层可定位在金属层与光学致密层之间，并且第二颜色层可定位在第一颜色层与光学致密层之间。
此外，美观涂层可包括在光学致密层后面并且沿着该光学致密层设置的附加聚合物层。如果电子设备的部件胶合到美观涂层，则这些附加层可包括保护多层涂层的颜色层不因胶合而受损的保护层。附加层还可包括有利于美观涂层粘附到胶上的保护层的向内层。
此外，图2B和图2C的详细视图示出了外表面244的区域诸如区域246和区域248可由施加到玻璃盖构件234的外部涂层265限定。外部涂层265可提供对电子设备上的油和其他沉积物的抗性，并且可称为耐污涂层或疏油性涂层。例如，外部涂层265可包括氟化材料诸如氟化低聚物或聚合物以赋予疏油性和/或疏水性特性。在实施方案中，氟化材料层为约5nm至20nm厚或约10nm至约50nm厚。氟化材料层可直接粘结到表面特征部或者可粘结到中间粘附层。
图3示出了电子设备300的局部横截面视图。电子设备300可与图1A和图1B的电子设备100类似。电子设备300包括位于前部的盖组件322和位于电子设备300后部的盖组件324。盖组件322和盖组件324中的每个诸如使用粘合剂、紧固件或它们的组合联接到外壳部件312。外壳部件312可与图1的外壳部件112、外壳部件114和外壳部件116类似。外壳部件312至少部分地限定电子设备300的内部腔体305。
盖组件322包括玻璃盖构件332，并且盖组件324包括玻璃盖构件334。盖组件324限定突起部分326(也称为第一部分)，由于突起部分326中的玻璃盖构件334的厚度较大，所以该突起部分相对于基部部分328(也称为第二部分)突起。
以与针对图2A所述的类似方式，盖组件324限定外表面344。外表面344的区域346由突起部分326限定，并且外表面344的区域348由基部部分328限定。区域346相对于第二部分348突起或凸起，并且可因此称为凸起区域、偏置区域或外部区域。例如，凸起区域346可限定平台。外表面344的区域347可在区域346与区域348之间延伸并且可限定突起部分326的一个侧面。如图3示意性所示，区域346可包括纹理化区域。在图3的示例中，区域346具有比区域348或区域347的纹理更粗糙的纹理。更一般地，外表面344的不同区域可具有彼此类似的纹理，或者可具有彼此不同的纹理，如先前结合图1B所述。
电子设备300还包括设置在前盖组件322下方的显示器374和触摸传感器372。显示器374和触摸传感器372可如先前针对图2A所述，并且为简明起见，此处不再重复该描述。
盖组件324还包括沿着玻璃盖构件334的内表面332设置的美观涂层或装饰性涂层360。美观涂层360可直接接触内表面332。在图3的示例中，美观涂层360在突起部分326下方延伸。在一些情况下，突起部分326具有与基部部分328基本上相同的颜色。
电子设备300还包括相机组件375。图3的局部横截面视图示出了相机组件375的一个光学模块377。相机组件375还包括联接到盖组件324的内部的支撑结构376。如图3所示，装饰性涂层360在支撑结构376与玻璃盖构件334之间延伸，并且支撑结构376可以与先前针对支撑结构276所述的类似方式通过美观涂层联接到内表面332。支撑结构376可具有与支撑结构276类似的特征部和功能。结合支撑结构276提供的描述大体适用于本文，为简明起见，此处不再重复。
如先前结合图2A所述，盖组件324可限定延伸穿过突起部分326的孔337。孔337在本文中也可称为通孔。如图3所示，玻璃盖构件334也至少部分地限定孔337。盖组件324还限定孔337的开口367。开口367位于包括纹理化区域的区域346中。
光学模块377与通孔337对准。如图3所示，光学模块377基本上延伸穿过通孔337。光学模块377还至少部分地定位在开口367内。在图3的示例中，光学模块377的端部基本上与开口367齐平。又如，光学模块377可延伸穿过开口367，使得该光学模块的端部延伸超出开口和表面区域346(在开口和表面区域346处突出)。
以与先前结合图1B和图2A所述的类似方式，外表面344的不同区域可具有彼此类似的纹理或者可具有彼此不同的纹理。盖组件324的给定区域的纹理可由玻璃盖构件334的纹理化而产生。玻璃盖构件334的不同的纹理可由于在单一类型的纹理化工艺中使用不同的工艺条件而产生，或者可由于使用不同类型的纹理化工艺而产生。结合图6讨论了用于在玻璃盖构件334上形成纹理的不同方法，并且那些细节适用于此处。此外，结合图5提供的表面纹理的讨论适用于本文，但为简明起见，此处不再重复。
例如，美观涂层360可包括颜色层(例如，油墨、染料、油漆等)和/或金属层。美观涂层定位在盖组件324的基部部分328下方，并且可因此为基部部分328提供期望的颜色。美观涂层可具有与美观涂层260类似的特征部，并且为简洁起见，此处不再重复该描述。
图4示出了电子设备的玻璃盖构件434的局部横截面视图。图4示出了玻璃盖构件434，在该图中玻璃盖构件434的外表面444相对于图2A至图2C和图3的视图旋转而面朝上。玻璃盖构件434可为图1B的玻璃盖构件134的一个示例。如图4所示，玻璃盖构件434限定基部部分438和突起部分436(也称为突起部)，该突起部分相对于基部部分438突起或至少部分地偏置。突起部分的厚度T2大于基部部分438的厚度T1。例如，比率T2/T1可为约1.25至约3或约1.5至约2。在一些情况下，突起部分436具有大于约1mm且小于或等于约2mm的厚度，并且基部部分438具有大于约0.5mm且小于约1mm的厚度。
如图4所示，玻璃盖构件434的外表面444包括由玻璃盖构件434的基部部分438限定的基部部分448。外表面444还包括由突起部分436限定的凸起区域446和侧面区域447。凸起区域446也可称为(突起部分436的)偏置区域、外部区域或中心区域。凸起区域446相对于外表面444的基部区域448偏置。具体地讲，凸起区域446远离电子设备的内部腔体向外突起。凸起区域446可限定平台。
如图4所示，玻璃盖构件434的突起部分436还可限定通孔，诸如通孔435。通孔435可允许输入到设备部件(诸如先前结合图1B至图2A和图3所述的光学模块)、从该设备部件输出或者布置该设备部件。突起部分436还可限定通孔的开口467，其中开口467位于纹理化区域456中。在一些情况下，突起部分436可限定延伸穿过突起部分436的布置、阵列、或一组通孔和开口。例如，玻璃盖构件434可限定任何数量的通孔和开口，诸如一个、两个、三个、四个或五个通孔和开口。
玻璃盖构件434可为一体式结构。例如，玻璃盖构件434可由单片玻璃材料形成以限定单片玻璃部件。突起部436可通过模制或塌陷工艺形成到玻璃盖构件434中，以限定突起的轮廓形状。突起部436还可通过切削掉玻璃盖构件434要成为突起部436的部分周围的材料来形成到玻璃盖构件434中。在一些情况下，通过初始成形工艺形成的玻璃盖构件434的外表面可被研磨、抛光或者以其他方式加工以实现期望的表面光洁度，如结合图6进一步所述。
如图4所示，外表面444的凸起区域446包括纹理化区域456。除了一个或多个开口诸如467之外，纹理化区域456可基本上跨整个凸起区域446延伸。例如，纹理化区域456可基本上在由凸起区域446限定的平台上延伸，并且在一些情况下可被限制在平台上。在一些情况下，凸起区域446的纹理化区域456可被构造成产生比开口467中的光学模块的窗口(例如，图2A的窗口269)或透镜的光泽度水平更低的光泽度水平。纹理化区域456还可被构造成产生半透明外观和/或模糊外观。
在一些实施方案中，外表面444的基部区域448和/或侧面区域447也被纹理化了。一般来讲，玻璃盖构件434的各种纹理化区域中的每个可具有彼此类似的纹理或者可具有彼此不同的纹理。不同的纹理可由于在单一类型的纹理化工艺中使用不同的工艺条件而产生，或者可由于使用不同类型的纹理化工艺而产生。在一些实施方案中，玻璃盖构件434的纹理化区域可具有由两种不同的纹理重叠而形成的纹理。这种纹理可由于使用两种不同的纹理化工艺来形成纹理化区域而产生。
在一个示例中，基部区域448和凸起区域446两者均可限定外表面444的相应纹理化区域(在本文中也称为纹理化表面区域)。例如，凸起区域446可限定第一纹理，并且基部区域448可限定不同于第一纹理的第二纹理，如先前结合图2A至图2C所示。在一些情况下，侧面区域447(其也可称为外围区域)可限定第三纹理。例如，第三纹理可与第一纹理或第二纹理相同，或者可由第一纹理和第二纹理重叠而形成。如本文所用，纹理可包括相对平滑的纹理，诸如由抛光工艺产生的纹理。
如图4示意性所示，(凸起区域446的)纹理化区域456的纹理可比基部区域448的纹理更粗糙。例如，纹理化区域456可具有至少一个粗糙度参数，诸如均方根表面高度、均方根斜率和/或平均峰部曲率，该至少一个粗糙度参数大于基部区域448的粗糙度参数。在一些情况下，基部区域448可不包括纹理化区域或者可具有在触觉上和/或视觉上不同于纹理化区域456的纹理的平滑纹理。例如，基部区域448可具有由抛光或玻璃成形工艺产生的相对平滑的纹理，诸如与抛光表面的纹理相对应的纹理。
此外，侧面区域447可具有比纹理化区域456的纹理更平滑的纹理。在一些情况下，侧面区域447可具有与基部区域448的纹理类似的纹理，诸如与抛光表面的纹理相对应的纹理。在一些情况下，纹理化区域456可不基本上沿着侧面区域447延伸，使得凸起区域446和侧面区域447在视觉上不同。
在另外的示例中，(凸起区域446的)纹理化区域456的纹理可被构造成产生与基部区域448的纹理类似的视觉效应。侧面区域447还可限定被构造成产生与凸起区域446和基部区域448的纹理类似的效应的纹理，以便在基部区域448、侧面区域447与凸起区域446之间提供视觉连续性。例如，基部区域448、侧面区域447和凸起区域446的纹理可被构造成产生模糊效应并且可具有相对较高的透射雾度值。
图5示出了玻璃盖构件534的纹理化区域556的详细视图。纹理化区域556可为图4的细节区域3-3中的纹理化区域456的示例。如先前结合图4所述，纹理化区域556可由玻璃盖构件534的外表面的凸起区域546限定，并且该纹理化区域在本文中也可称为纹理化表面区域。
纹理化区域556包括多个表面特征部580。图5中提供的表面特征部580的示例不是限制性的，并且一般来讲，玻璃盖构件534的表面区域的表面特征部580可限定一系列形状或构型中的任一种。表面特征部580可具有多种形状，诸如圆形特征部或角特征部。例如，表面特征部580可限定圆形、椭圆形、多边形、矩形或不规则表面轮廓。此外，表面特征部580可限定突起部、凹陷部或它们的组合，并且可具有任何合适的形状，可为金字塔形、锥形、圆柱形、拱形，且具有弯曲的上部表面或截头形状诸如圆锥等。
如图5所示，表面特征部580可限定一个或多个凹陷部，诸如表面特征部584。凹陷部可限定最低点，诸如点585。表面特征部580还可限定一个或多个突起部，诸如表面特征部586。突起部可限定最高点，诸如点587。如图5示意性所示，表面特征部580可限定一组最低点和一组最高点。该组最高点也可称为一组峰部。表面特征部580可限定一组凹陷部，每个凹陷部定位在该组峰部的相邻峰部之间。峰部和谷部的形状不限于图5示意性所示的那些形状。例如，峰部中的至少一些可具有如图2B所示的稍微较大的曲率半径(和较小的曲率半径)，以除了提供纹理化表面期望水平的可清洁度之外还提供期望的触觉特性。
在一些实施方案中，表面特征部580限定一组山部和谷部。可使用如下文所述的平面纹理分析技术来限定山部和谷部。表面特征部586可大体对应于山特征部，并且表面特征部584可大体对应于谷特征部。在一些实施方案中，一组山部和谷部在山特征部、谷特征部或它们的组合之间具有基本上均匀的间距。在另外的实施方案中，一组谷部可在山特征部和/或谷特征部之间具有不均匀或不规则的间距。
表面特征部580的高度可相对于参考表面582来测量。例如，山部的高度可根据最高点(例如，点587)来确定，并且谷部的高度可根据最低点(例如，点585)来确定。玻璃盖构件534可为玻璃盖构件234或本文所述的任何其他玻璃盖构件的示例。这些玻璃盖构件的细节适用于玻璃盖构件534，并且为简明起见，此处将不再重复。
在一些情况下，纹理化区域556可为机械纹理化区域，并且表面特征部580可通过一个或多个机械磨削和抛光应用而形成。例如，表面特征部580可至少部分地由磨削和/或抛光处理期间玻璃的脆性断裂而产生。由脆性断裂而产生的表面特征部可比由韧性断裂或蚀刻产生的那些表面特征部更有棱角。例如，纹理的峰部和/或谷部可比由韧性断裂或蚀刻产生的那些纹理的峰部和/或谷部更尖并且/或者包含更明显的边缘。结合图6提供了用于形成表面特征部的操作的进一步描述，并且为简明起见，此处不再重复。
表面特征部580可被构造成向玻璃盖构件534和盖组件以及包括玻璃盖构件534的电子设备的一个或多个表面区域提供特定光学特性。然而，限定表面区域的纹理的表面特征部580可为不可单独视觉感知的。在一些情况下，表面区域的纹理可使得玻璃盖构件534看起来是半透明的，而不是透明的。在一些情况下，纹理可被构造成提供特定水平的此类光学特性，诸如透射雾度、清晰度、光泽度、粒度以及它们的组合。
玻璃盖构件的纹理化表面区域诸如纹理化区域556可被构造成向表面提供指定的光泽度水平。在一些实施方案中，在60度下测量时，纹理化区域556可具有小于约50光泽度单位、小于约40光泽度单位、5光泽度单位至50光泽度单位、10光泽度单位至50光泽度单位、10光泽度单位至45光泽度单位、或15光泽度单位至45光泽度单位的光泽度值。可在不存在美观涂层时测量光泽度水平。
玻璃盖构件的外表面的另一个区域诸如基部区域的光泽度值可类似于或不同于纹理化区域556的光泽度值。例如，外表面的其他区域(诸如当该其他区域具有较平滑表面时)可具有比纹理化区域556的光泽度更高的光泽度。又如，外表面的其他区域可具有比纹理化区域556的光泽度更低的光泽度。例如，在60度下测量时，该其他区域的光泽度可为小于约20光泽度单位、小于约15光泽度单位、小于约10光泽度单位、5光泽度单位至20光泽度单位、或10光泽度单位至20光泽度单位。纹理化区域的光泽度和该其他区域的光泽度之间的差值可为至少10％且小于100％或至少10％且小于50％。在一些情况下，纹理化区域的光泽度可使用可商购获得的装置并且根据ASTM或ISO标准测试方法来测量。角度测量可指入射光与表面纹理化区域的垂线之间的角度。
玻璃盖构件的纹理化表面区域诸如纹理化区域556可被构造成向玻璃盖构件的对应部分提供指定水平的透射雾度。在一些情况下，纹理化区域的透射雾度可使用可商购获得的装置并且根据ASTM或ISO标准测试方法来测量。透射雾度可与受到广角散射(例如，大于2.5度)的光的量有关。透射雾度可大于或等于约50％、大于或等于约60％、或大于或等于约70％。例如，透射雾度可为约60％至约90％、或约70％至约80％。作为非限制性示例，透射雾度可使用购自BYK的haze-gard i设备或购自Nippon Denshoku的GC 5000L可变光度计来测量。当盖组件或玻璃盖构件从电子设备移除时，可测量该盖组件或玻璃盖构件的透射雾度散射。玻璃盖构件的外表面的另一个区域诸如基部区域的透射雾度可类似于或不同于纹理化区域556的透射雾度。例如，外表面的其他区域可具有比纹理化区域556的透射雾度量更少的透射雾度量(诸如小于50％、小于40％、小于30％、或小于25％)。
玻璃盖构件的纹理化表面区域诸如纹理化区域556可被构造成向玻璃盖构件的对应部分提供指定水平的清晰度。纹理化区域的清晰度或透射窄角散射可使用可商购获得的装置并且根据ASTM或ISO标准测试方法来测量。清晰度可为小于约50％、小于约40％、小于约30％、小于约20％、小于约15％、或小于约10％。例如，清晰度可为约5％至约30％、约5％至约20％、约5％至约15％、或约5％至约15％。透射窄角散射可使用购自BYK的haze-gard i设备或购自Nippon Denshoku的GC 5000L可变光度计来测量。可根据中心区域中的强度(I中心)和围绕中心区域的环中的强度(I环)的测量结果来确定清晰度值。例如，清晰度值可等于100％*(I中心-I环)/(I中心+I环)。当盖组件或玻璃盖构件从电子设备移除时，可测量该盖组件或玻璃盖构件的清晰度或透射窄角散射。
在一些情况下，玻璃盖构件的纹理化区域可被构造成向玻璃盖构件的对应部分提供指定水平的视觉均匀度。玻璃盖构件的外表面的另一个区域诸如基部区域的视觉均匀度水平可类似于或不同于纹理化区域556的视觉均匀度水平。纹理化区域的粒度可使用可商购获得的装置在漫射照明下测量。可类似地测量盖组件的纹理化区域的粒度。在一些情况下，玻璃盖构件534的纹理化表面的图像可使用数字相机获得，并且可确定该图像的每个像素的亮度，从而允许确定在纹理化表面上的亮度变化。例如，购自BYK的BYK-mac设备可产生根据亮度水平的柱状图来确定的粒度值。纹理化表面的粒度可小于约1.5或小于约1.0。此外，粒度可为约0.1至约1.5、约0.1至约1.0、约0.25至约1.5、约0.25至约1.0、约0.5至约1.5、或约0.5至约1.0。可在将任何美观涂层施加到玻璃盖构件之前测量这些粒度值。
玻璃盖构件的纹理化表面区域诸如纹理化区域556可被构造成提供指定水平的可清洁度。例如，纹理化区域556的纹理可被构造成使得特征部的均方根(RMS)高度不会过大。纹理还可被构造成使得任何凹面特征部的尺寸足够大以有利于清洁。此外，纹理可被构造成使得表面特征部的均方根(RMS)斜率和/或平均峰部曲率足够小，以除了提供期望水平的可清洁度之外还提供期望的触觉特性。
表面纹理参数包括平面表面纹理参数，诸如幅值参数、空间参数和混合参数。表面过滤可用于在确定表面纹理参数之前排除表面噪波和/或表面波度。此外，分割技术可用于确定特征部参数，诸如最大直径、最小直径、面积和周长。这些参数可根据投影到参考表面(例如，参考平面)上的特征部形状来计算。可为给定类别的表面特征部(例如，山部或谷部)确定平均值。表面纹理参数和用于确定这些参数的方法(包括过滤和分割)更详细描述于国际标准化组织(ISO)标准25178(产品几何技术规范(GPS)—表面纹理：平面)中。这些表面纹理参数可使用可商购获得的装置来测量。
例如，玻璃盖构件534的该一个或多个表面区域的表面特征部580可部分地通过表面特征部的高度来表征。该高度可相对于参考表面(由图5中的线582示意性示出)(诸如该表面的算术平均值)来测量。表面特征部580的高度可能不均匀，使得表面特征部具有高度的分布。表面特征部580的高度的大小可落在零至约5微米、零至约2.5微米、零至约2微米、零至约1.5微米、或零至约1微米的范围内。表面特征部580可通过表面的均方根高度Sq或算术平均高度Sa来表征。表面特征部580的均方根(RMS)高度可为大于零且小于约2.5微米、大于零且小于约2微米、大于零且小于约1.5微米、大于零且小于约1微米、约0.1微米至约2.5微米、约0.1微米至约2微米、约0.1微米至约1.5微米、约0.1微米至约1.25微米、约0.1微米至约1.0微米、约0.2微米至约2.5微米、约0.2微米至约2微米、约0.2微米至约1.5微米、约0.2微米至约1.25微米、约0.2微米至约1.0微米、约0.25微米至约2.5微米、约0.25微米至约2微米、约0.25微米至约1.5微米、约0.25微米至约1.25微米、约0.25微米至约1.0微米、约0.5微米至约2.5微米、约0.5微米至约2微米、约0.5微米至约1.5微米、约0.5微米至约1.25微米、或约0.5微米至约1.0微米。在一些情况下，当一个纹理化区域具有较大的RMS高度时，其可被称为比另一个纹理化区域更粗糙。
玻璃盖构件的外表面的另一个区域诸如基部区域的RMS高度可类似于或不同于纹理化区域556的RMS高度。例如，凸起区域的RMS高度可大于基部区域的RMS高度。例如，凸起区域的RMS高度可比基部区域的RMS高度大至少10％且小于150％、至少10％且小于100％、或至少10％且小于50％。在一些情况下，基部区域的RMS高度可类似于抛光表面的RMS高度，诸如约1nm至约150nm、约1nm至约125nm、约1nm至约100nm、约1nm至约75nm、约1nm至约50nm、约1nm至约25nm、或约1nm至约10nm。
此外，该一个或多个表面区域的表面特征部580可通过侧向参数诸如峰部之间的距离来表征。峰部之间的间距可能不均匀，使得在峰部之间存在间距的分布。峰部之间的平均距离或间距可称为平均节距。平均节距可为约1微米至约20微米、约1微米至约15微米、约1微米至约10微米、约2.5微米至约20微米、约2.5微米至约15微米、约2.5微米至约10微米、约5微米至约20微米、约5微米至约15微米、或约5微米至约10微米。
在一些实施方案中，该一个或多个表面区域的表面特征部580可被构造成具有峰部的平均高度与峰部的平均间距的特定比率。例如，RMS高度与平均节距的比率可为约0.01至约0.6、约0.01至约0.3、约0.02至约0.6、约0.02至约0.3、约0.03至约0.6、约0.03至约0.3、约0.04至约0.6、或约0.04至约0.3。
该一个或多个表面区域的表面特征部580还可通过侧向尺寸来表征。例如，表面特征部580可通过最大侧向(或线性)尺寸和最小侧向(或线性)尺寸来表征。表面特征部580可具有足够小的最大侧向尺寸，使得这些表面特征部不可被视觉感知为单独的特征部。此外，表面特征部580的侧向尺寸和间距可被构造成使得玻璃盖构件具有足够小的粒度。
该一个或多个表面区域的表面特征部580可通过均方根斜率(Sdq)(也称为均方根梯度)来表征。在一些实施方案中，均方根斜率可为大于零且小于约1.25、大于零且小于约1、约0.1至小于约1.25、约0.1至小于约1、约0.25至小于约1、约0.25至约0.75、或约0.1至约0.5。在一些情况下，凸起区域的均方根斜率大于基部区域的均方根斜率。例如，凸起区域的均方根斜率可比基部区域的均方根斜率大至少10％且小于60％。
该一个或多个表面区域的表面特征部580还可通过峰部(也称为峰顶点)的曲率来表征，诸如通过算术平均峰顶点曲率Ssc(在本文中也称为平均峰部曲率)来表征。在一些实施方案中，算术平均峰顶点曲率为大于零且小于约2.0微米、大于零且小于或等于约1.5微米-1、约0.1微米-1至约2.0微米-1、约0.1微米-1至约1.5微米-1、约0.25微米-1至约2.0微米-1、约0.25微米-1至约1.5微米-1、约0.5微米-1至约2.0微米-1、约0.5微米-1至约1.5微米-1、约0.75微米-1至约2.0微米-1、0.75微米-1至约1.5微米-1。在一些情况下，凸起区域的平均峰部曲率大于基部区域的平均峰部曲率。例如，凸起区域的平均峰部曲率可比基部区域的平均峰部曲率大至少10％且小于50％。
该一个或多个表面区域的表面特征部580还可通过自相关长度来表征。在一些实施方案中，自相关长度为约1微米至约50微米、约2微米至约30微米、或约3微米至约25微米。
如先前结合图2A和图3所述，美观涂层可沿着玻璃盖构件535的内表面设置。在一些情况下，玻璃盖构件534的表面特征部580可被构造成当透过纹理化区域诸如纹理化区域536观察美观涂层时最小化不太期望的视觉效应。例如，可能优选的是，纹理不产生不期望的视觉对比度变化量和/或视觉纹理。
图6示出了用于形成纹理化玻璃部件诸如玻璃盖构件的示例性过程600的流程图。纹理化玻璃部件可由玻璃材料的工件或坯件形成。方法600包括对玻璃工件进行机加工以形成具有突起部分的玻璃构件的操作610、在该玻璃构件的该突起部分和基部部分上形成纹理(不是如机加工的纹理)的操作620和操作620、以及化学强化玻璃构件的操作630。
通常，工件和构件的玻璃材料包括基于二氧化硅的玻璃材料。玻璃盖构件的玻璃材料可具有网络结构，诸如基于硅酸盐的网络结构。在一些实施方案中，玻璃材料包括硅铝酸盐玻璃。如本文所用，硅铝酸盐玻璃包括元素铝、硅和氧，但还可包括其他元素。通常，玻璃材料包括可离子交换的玻璃材料，诸如碱金属硅铝酸盐玻璃(例如，锂硅铝酸盐玻璃)。可离子交换的硅铝酸盐玻璃可包含一价离子或二价离子，这些一价离子或二价离子补偿由于铝离子替换硅离子而引起的电荷。合适的一价离子包括但不限于碱金属离子，诸如Li+、Na+或者K+。合适的二价离子包括碱土离子，诸如Ca2+或者Mg2+。结合图6提供的合适玻璃材料的描述大体适用于本文所述的玻璃部件和盖构件。
如图6所示，方法600包括将玻璃工件或坯件机加工成期望形状的操作610。在一些情况下，操作610将玻璃材料从工件或坯件移除以限定具有突起部分和基部部分的玻璃构件。例如，操作610可包括移除工件的要成为突起部分的部分周围的玻璃。在一些情况下，当通过模制操作形成突起部分时，可省略操作610的这个部分。操作610还可包括在突起部分中钻出一个或多个通孔。操作610可涉及计算机数控(CNC)机加工工艺诸如CNC铣削工艺、CNC磨削工艺和/或CNC钻孔工艺中的一者或多者。在一些情况下，在操作610之后，突起部分(例如，突起部分436)具有大于约1mm且小于或等于约3mm的厚度，并且基部部分438具有大于约0.5mm且小于约2mm的厚度。任选地，可在操作610之后洗涤玻璃构件。
方法600还包括在玻璃构件的突起部分上形成纹理的操作620。操作620可包括使用机械处理将玻璃材料从玻璃构件的突起部分机械地移除。机械处理包括磨削操作、抛光操作或它们的组合。通常，操作620涉及使用磨料诸如立方氮化硼、金刚石或碳化硅的颗粒将玻璃材料从突起部分的表面移除。当操作620涉及多个机械处理步骤时，较早步骤使用的磨料通常比稍后步骤使用的磨料更粗糙。磨削操作可为使用固定磨料(例如，粘结到磨削工具的金属或树脂)的CNC磨削工艺。抛光操作可使用松散的磨料，该松散的磨料可以浆液形式提供给抛光垫。在一些情况下，抛光操作可具有抛光深度(移除的玻璃材料的深度)，该抛光深度小于由先前的磨削操作或抛光操作而产生的表面特征部的全高度。在一些情况下，操作620可在突起部分的凸起区域(例如，与图4中的区域446类似的区域)上产生纹理。任选地，可在操作620之后洗涤玻璃构件。
方法600还包括在玻璃构件的基部部分上形成纹理的操作630。在一些情况下，操作630不同于操作620。例如，在形成基部部分的纹理时，操作630可使用不同于操作620的技术。在一些情况下，操作630还可在突起部分的侧面区域或外围区域(例如，与图4的区域447类似的区域)上产生纹理。此外，在一些情况下，操作630可纹理化构件的基部部分和突起部分，然后操作620可进一步纹理化构件的突起部分。任选地，可在操作630之后洗涤玻璃构件。
在一些实施方案中，操作630可包括将玻璃材料从基部部分的表面移除的一系列机械移除步骤。在一些情况下，该一系列步骤中的最终步骤可产生比由操作620产生的纹理更平滑的纹理。例如，操作630的最终机械移除步骤可使用比操作620使用的磨料更精细的磨料，并且/或者可施加比操作620施加的力更小的力。在一些情况下，操作630产生与抛光表面的纹理相对应的纹理。
在一些情况下，操作630可包括机械移除步骤，之后是蚀刻步骤。例如，机械移除步骤可涉及使用湿式喷砂处理工艺或干式喷砂处理工艺在基部部分处引导磨料颗粒流。在喷砂处理之后，可使用化学蚀刻技术来进一步将玻璃材料从玻璃构件移除。在操作630期间，可使用掩膜诸如蜡或聚合物掩膜来屏蔽玻璃的凸起部分的一些或全部。化学蚀刻可发生在液相或气相中。蚀刻技术还包括反应离子蚀刻，该反应离子蚀刻可在气体如氩气或氙气中使用含氟化合物诸如CH4、CHF3、SF6等的混合物。蚀刻处理可将玻璃盖构件蚀刻至足够的深度以移除喷砂处理期间形成的小坑、小裂缝或其他此类特征部中的至少一些。
可在操作630中使用的用于移除玻璃盖构件的一部分的其他技术包括但不限于化学蚀刻、机械移除材料诸如研磨处理、激光烧蚀、光刻结合蚀刻以及它们的组合。在一些情况下，激光烧蚀技术可涉及将激光脉冲序列引导到玻璃构件的表面上的多个操作。
方法600还包括化学强化玻璃构件的操作640。在一些情况下，操作640可在操作620和操作630已完成之后进行。在其他情况下，操作640可在操作620的最终机械处理步骤(例如，抛光步骤)之前并且/或者操作630已完成之前进行。
操作640可包括化学强化玻璃盖构件的离子交换操作。在离子交换操作期间，存在于玻璃材料中的离子可在从玻璃盖构件的表面延伸的区域中与较大的离子交换。离子交换可形成从玻璃盖构件的表面延伸的压应力层，如图7和图8示意性所示。在一些情况下，操作640包括多个离子交换操作。在一些实施方案中，压应力层形成在玻璃盖构件的纹理化外表面和内表面中的每个表面处。拉应力层可形成在这些压应力层之间。
例如，玻璃构件的可离子交换的玻璃材料可包括一价离子或二价离子诸如碱金属离子(例如，Li+、Na+或K+)或碱土金属离子(例如，Ca2+或Mg2+)，这些一价离子或二价离子可与其他碱金属离子或碱土金属离子交换。如果玻璃构件包括钠离子，则钠离子可与钾离子交换。类似地，如果玻璃构件包括锂离子，则锂离子可与钠离子和/或钾离子交换。在一些实施方案中，压应力层延伸到玻璃构件中的某一深度(或厚度)，该深度(或厚度)大于表面纹理的最小深度。
在一个示例中，化学强化工艺涉及将玻璃构件暴露于包含较大离子的介质中，诸如通过将该玻璃构件浸没在包含较大离子的浴中，或者通过用离子源喷涂或涂覆该玻璃构件。例如，可将包括感兴趣的离子的盐浴(例如，硝酸钾浴)用于离子交换。用于离子交换的合适温度高于室温，并且根据工艺要求进行选择。离子交换过程可在低于玻璃的应变点的温度下进行。在离子交换操作之后，可冷却玻璃构件。根据上文已经讨论的因素，深约10微米至250微米的压缩层可形成在玻璃构件中。表面压缩应力(CS)可以为约300MPa至约1100MPa。可根据需要将掩膜用于屏蔽玻璃构件的部分使其免于离子交换。任选地，在离子交换操作640之后洗涤玻璃构件。
在一些实施方案中，过程600的操作可按与图6所示顺序不同的顺序来执行。例如，操作630中的一些或全部可在操作620的一些或全部之前，使得构件的基部部分可在突起部分之前至少部分地被纹理化。此外，在玻璃构件中形成该一个或多个通孔的操作可发生在操作620和/或操作630的步骤中的一个或多个之后。此外，过程600可包括一个或多个附加操作。例如，方法600可包括在构件的突起部分的侧面区域或外围区域上形成纹理的单独操作或附加操作。此外，方法600可包括洗涤操作、抛光操作和/或涂覆操作。
图7示意性示出了在化学强化操作之后的玻璃盖构件734。玻璃盖构件734包括突起部分736、基部部分738和纹理化区域756。如图7所示，压应力层794从外表面744延伸，并且压应力层796从玻璃盖构件734的内表面742延伸(未按比例示出)。压应力层794因此可称为外部压应力层，并且压应力层796因此可称为内部压应力层。拉应力层795定位在压应力层794与压应力层796之间。在图7的示例中，压应力层794具有与压应力层796基本上相同的深度。然而，该示例不是限制性的，并且在一些情况下，压应力层794的深度可不同于压应力层796的深度。例如，压应力层794的深度可基本上大于压应力层796的深度。
例如，压应力层794的深度可为75微米至250微米、100微米至250微米、或125微米至250微米。在一些情况下，压应力层(例如，794、796或798)可具有比通过纹理化工艺留下的任何表面下特征部的深度更深的深度。压应力层796的深度可与压应力层794的深度相同，或者可为约5微米至约100微米或约5微米至约50微米。
如图7所示，玻璃盖构件734还包括从限定通孔735的壁表面745延伸的压应力层798。例如，当在化学强化操作之前形成通孔735时，可形成压应力层798。压应力层可具有与压应力层794或压应力层796的深度基本上相同的深度，或者可具有某个其他深度。玻璃盖构件734可为图1B的玻璃盖构件134或本文所述的任何其他玻璃盖构件的一个实施方案。
图8示意性示出了在化学强化操作之后的玻璃盖构件834。玻璃盖构件834包括突起部分836、基部部分838和纹理化区域856。如图8所示，压应力层894从外表面844延伸，并且压应力层896从玻璃盖构件834的内表面842延伸(未按比例示出)。拉应力层895定位在压应力层894与压应力层896之间。在图8的示例中，压应力层894具有与压应力层896基本上相同的深度。然而，该示例不是限制性的，并且在一些情况下，压应力层896的深度可不同于压应力层894的深度。例如，压应力层的深度可基本上大于压应力层894的深度。压应力层的深度可如先前针对图7所述，并且为简明起见，此处不再重复该描述。
如图8所示，玻璃盖构件834不包括从限定通孔835的壁表面延伸的压应力层。在一些情况下，掩膜操作可用于防止沿着该壁表面的离子交换。玻璃盖构件834可为图1B的玻璃盖构件134或本文所述的任何其他玻璃盖构件的一个实施方案。
图9示出了可包含纹理化玻璃部件诸如纹理化玻璃盖构件的样品电子设备的框图。图9中描绘的示意图可对应于如上文所述的图1A至图8中所示的设备的部件。然而，图9还可更一般地表示具有如本文所述的盖组件的其他类型的电子设备。
在实施方案中，电子设备900可包括传感器920以提供关于电子设备的配置和/或取向的信息，以便控制显示器的输出。例如，当显示器908的可视区域的全部或部分被阻挡或大体上遮掩时，显示器908的一部分可被关闭、禁用或置于低能量状态。又如，显示器908可被适于响应于设备900的旋转使图形输出的显示基于设备900的取向变化(例如，90度或180度)而旋转。
电子设备900还包括与计算机可读存储器902可操作地连接的处理器906。处理器906可经由电子总线或电桥可操作地连接到存储器902部件。处理器906可被实现为一个或多个计算机处理器或微控制器，该一个或多个计算机处理器或微控制器被配置为响应于计算机可读指令来执行操作。处理器906可包括设备900的中央处理单元(CPU)。附加地和/或另选地，处理器906可包括位于设备900内的其他电子电路，该电子电路包括专用集成芯片(ASIC)和其他微控制器设备。处理器906可被配置为执行上文示例中描述的功能。
存储器902可包括多种类型的非暂态计算机可读存储介质，包括例如读取存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦除可编程存储器(例如，EPROM和EEPROM)、或闪存存储器。存储器902被配置为存储计算机可读指令、传感器值和其他持久性软件元件。
电子设备900可包括控制电路910。该控制电路910可在单个控制单元中实现，并且不必被实现为不同的电路元件。如本文所用，“控制单元”将与“控制电路”同义使用。控制电路910可接收来自处理器906或来自电子设备900的其他元件的信号。
如图9所示，电子设备900包括电池914，该电池被配置为向电子设备900的部件提供电力。电池914可包括连接在一起以提供内部电力供应的一个或多个电力存储单元。可将电池914可操作地耦接到电力管理电路，该电力管理电路被配置为针对电子设备900内的各个部件或部件的组提供适当的电压和功率电平。电池914可经由电力管理电路被配置为从外部电源诸如交流电源插座接收电力。电池914可存储所接收到的电力，使得电子设备900可在没有连接到外部电源的情况下运行延长的时间段，这段时间可在从若干个小时到若干天的范围内。
在一些实施方案中，电子设备900包括一个或多个输入设备918。输入设备918是被配置为接收来自用户或环境的输入的设备。例如，输入设备918可包括例如下压按钮、触摸激活按钮、电容式触摸传感器、触摸屏(例如，触敏显示器或力敏显示器)、电容式触摸按钮、拨号盘、冠部等。在一些实施方案中，输入设备918可提供专用或主要功能，包括例如电源按钮、音量按钮、主页按钮、滚轮和相机按钮。
设备900还可包括一个或多个传感器920，诸如力传感器、电容传感器、加速度计、气压计、陀螺仪、接近传感器、光传感器等。传感器920可以可操作地耦接到处理电路。在一些实施方案中，传感器920可检测电子设备的变形和/或构型的变化并且可操作地耦接到基于传感器信号而控制显示器的处理电路。在一些具体实施中，来自传感器920的输出用于将显示输出重新配置为对应于设备的取向或折叠/展开构型或状态。用于该目的的示例性传感器920包括加速度计、陀螺仪、磁力仪和其他类似类型的定位/取向感测设备。此外，传感器920可包括麦克风、声传感器、光传感器、光学面部识别传感器或其他类型的感测设备。
在一些实施方案中，电子设备900包括一个或多个输出设备904，该一个或多个输出设备被配置为向用户提供输出。输出设备904可包括显示器908，该显示器呈现由处理器906生成的视觉信息。输出设备904还可包括一个或多个扬声器以提供音频输出。输出设备904还可包括被配置为沿着设备900的外表面产生触觉或触知输出的一个或多个触觉设备。
显示器908可包括液晶显示器(LCD)、发光二极管(LED)显示器、LED背光LCD显示器、有机发光二极管(OLED)显示器、有源层有机发光二极管(AMOLED)显示器、有机电致发光(EL)显示器、电泳油墨显示器等。如果显示器908为液晶显示器或电泳油墨显示器，则显示器908还可包括可受控以提供可变显示器亮度水平的背光部件。如果显示器908为有机发光二极管或有机电致发光型显示器，则可通过修改被提供至显示元件的电信号来控制显示器908的亮度。此外，关于电子设备的配置和/或取向的信息可用于控制显示器的输出，如相对于输入设备918所述。在一些情况下，显示器与触摸传感器和/或力传感器集成在一起，以便检测沿设备900的外表面所施加的触摸和/或力。
电子设备900还可包括通信端口912，该通信端口被配置为发射和/或接收来自外部设备或单独设备的信号或电通信。通信端口912可被配置为经由电缆、适配器或其他类型的电连接器而联接到外部设备。在一些实施方案中，通信端口912可用于将电子设备900耦接到主机计算机。
电子设备900还可包括至少一个附件916，诸如相机、用于相机的闪光灯或其他此类设备。相机可为可连接到电子设备900的其他部分(诸如，控制电路910)的相机组件的一部分。
如本文所用，术语“约”、“大约”、“基本上”、“类似”等用于解释相对小的变化，诸如+/-10％、+/-5％、+/-2％、或+/-1％的变化。此外，可使用关于范围端点的术语“约”表示端点值的+/-10％、+/-5％、+/-2％、或+/-1％的变化。此外，公开其中至少一个端点被描述为“约”特定值的范围包括公开其中端点等于特定值的范围。
以下论述适用于本文所述的电子设备，其范围在于这些设备可用于获取个人可识别信息数据。众所周知，使用个人可识别信息应遵循公认为满足或超过维护用户隐私的行业或政府要求的隐私政策和做法。具体地讲，应管理和处理个人可识别信息数据，以使无意或未经授权的访问或使用的风险最小化，并应当向用户明确说明授权使用的性质。
为了说明的目的，前述描述使用具体命名以提供对所述实施方案的透彻理解。然而，对于本领域的技术人员而言将显而易见的是，不需要具体细节即可实践所述实施方案。因此，出于例示和描述的目的，呈现了对本文所述的具体实施方案的前述描述。它们并非旨在是穷举性的或将实施方案限制为所公开的精确形式。对于本领域的普通技术人员而言将显而易见的是，鉴于上面的教导内容，许多修改和变型是可行的。

Claims (20)

1.一种电子设备，包括：
显示器；
壳体，所述壳体至少部分地围绕所述显示器并且包括：
前盖组件，所述前盖组件包括定位在所述显示器上的前玻璃构件；和
后盖组件，所述后盖组件包括限定突起部分的后玻璃构件，所述突起部分限定开口并且限定在60度下测量时具有小于约50的光泽度值的纹理化区域；和
相机组件，所述相机组件联接到所述后盖组件的内表面并且包括至少部分地定位在所述开口中的相机模块。
2.根据权利要求1所述的电子设备，其中，
所述壳体还包括定位在所述前盖组件与所述后盖组件之间的外壳，
所述外壳包括由电介质区段分隔开的一对金属区段，
所述后玻璃构件还限定围绕所述突起部分的基部部分，并且
所述突起部分从所述基部部分向外延伸。
3.根据权利要求2所述的电子设备，其中，所述突起部分的厚度对于所述基部部分的厚度的比率为约1.5至约2.5。
4.根据权利要求2所述的电子设备，其中，所述后玻璃构件包括从所述基部部分的外表面和所述突起部分的外表面延伸的压应力层。
5.根据权利要求4所述的电子设备，其中，所述相机组件通过粘合层粘结到所述后盖组件的所述内表面，从而限制沿着所述纹理化区域的由弯曲引起的拉应力。
6.根据权利要求2所述的电子设备，其中，所述纹理化区域包括由机械磨削和抛光而产生的表面特征部。
7.根据权利要求6所述的电子设备，其中，
所述相机组件联接到所述突起部分的内表面，并且
所述突起部分具有半透明外观。
8.一种电子设备，包括：
壳体，所述壳体包括由玻璃材料形成的盖构件并且限定：
外表面，所述外表面包括：
限定第一纹理的凸起区域，所述第一纹理包括具有约0.2微米至约2微米的均方根高度的表面特征部；以及
限定不同于所述第一纹理的第二纹理的基部区域，所述凸起区域相对于所述基部区域突起；以及
通孔，所述通孔从所述凸起区域延伸到所述盖构件的内表面；以及
相机组件，所述相机组件联接到所述盖构件的所述内表面并且包括至少部分地定位在所述通孔中的相机模块。
9.根据权利要求8所述的电子设备，其中，
所述第二纹理具有第二表面特征部，所述第二表面特征部具有第二均方根高度，
所述第一纹理的所述均方根高度为第一均方根高度，并且
所述第一纹理的所述第一均方根高度大于所述第二纹理的所述第二均方根高度。
10.根据权利要求9所述的电子设备，其中，所述第二纹理的所述第二均方根高度为约1纳米至约125纳米。
11.根据权利要求8所述的电子设备，其中，所述第一纹理的所述表面特征部限定在约0.5微米-1至约2微米-1范围内的平均峰部曲率(SSc)。
12.根据权利要求8所述的电子设备，其中，
所述凸起区域限定平台，并且
所述外表面还限定从所述基部区域延伸到所述凸起区域的侧面区域。
13.根据权利要求8所述的电子设备，其中，所述相机模块的端部与所述凸起区域齐平。
14.根据权利要求8所述的电子设备，其中，
外部压应力层从所述外表面的所述凸起区域和所述基部区域延伸到所述玻璃材料中，并且
内部压应力层从所述内表面延伸到所述玻璃材料中。
15.一种电子设备，包括：
壳体，所述壳体包括：
前盖组件，所述前盖组件包括前玻璃构件；
后盖组件，所述后盖组件包括：
第一玻璃部分，所述第一玻璃部分具有第一厚度并且限定纹理化区域，所述纹理化区域具有半透明外观并且限定：
表面特征部，所述表面特征部具有：
在约0.5微米-1至约2微米-1范围的平均峰部曲率(SSc)；以及
在约0.1至约1的均方根斜率(Sdq)；以及
开口，所述开口定位在所述纹理化区域中；以及
第二玻璃部分，所述第二玻璃部分至少部分地围绕所述第一玻璃部分并且具有小于所述第一厚度的第二厚度；以及
相机组件，所述相机组件联接到所述后盖组件的内表面，所述相机组件包括至少部分地定位在所述开口内的相机模块；以及
显示器，所述显示器定位在所述前盖组件下方。
16.根据权利要求15所述的电子设备，其中，所述表面特征部限定约3微米至约25微米的自相关长度。
17.根据权利要求15所述的电子设备，其中，
所述第一玻璃部分具有大于约1毫米且小于或等于约2毫米的厚度，并且
所述第二玻璃部分具有大于约0.5毫米且小于约1毫米的厚度。
18.根据权利要求15所述的电子设备，其中，
所述后盖组件还包括沿着所述第二玻璃部分的内表面设置的基于聚合物的涂层，并且
所述第一玻璃部分的内表面不设有基于聚合物的涂层。
19.根据权利要求18所述的电子设备，其中，所述相机组件包括支撑结构，并且所述支撑结构限制所述后盖组件的弯曲。
20.根据权利要求15所述的电子设备，其中，所述电子设备还包括联接到所述后盖组件的所述内表面的无线充电组件。
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