CN111149025A - 带光学膜的玻璃板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种带光学膜的玻璃板(1),其具备:具有表面背面一对主表面(2a)和连结一对主表面(2a)各个端部的端面(2b)的玻璃板(2)、以及在玻璃板(2)的两个主表面(2a)上形成的光学膜(3)。光学膜(3)具备超出玻璃板(2)的主表面(2a)的端部而向外侧突出的突出部(3a)。
Description
技术领域
本发明涉及带光学膜的玻璃板及其制造方法。
背景技术
在数码相机或摄像机中利用的CCD或CMOS等固体摄像元件的光谱灵敏度对于近红外线区域的光而言具有强灵敏度,因此一般为了将这些固体摄像元件的光谱灵敏度符合人的视觉灵敏度特性而使用视觉灵敏度校正构件。
作为视觉灵敏度校正构件,例如,如专利文献1所公开那样,利用在玻璃板的主表面上形成有具有红外线屏蔽功能的光学膜的带光学膜的玻璃板。另外,为了防止玻璃板表面的反射,也有形成有具有防反射功能的光学膜的情况。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2013/077375号
发明内容
发明要解决的课题
另外,伴随着固体摄像元件的小型化,所使用的带光学膜的玻璃板的小型化也在推进。因此,对于带光学膜的玻璃板而言,为了将有限的面积进行有效利用,大多至玻璃板的主表面的端部附近为止被要求均匀的光学特性。
然而,对于带光学膜的玻璃板而言,在将光学膜形成于大张的原玻璃板的主表面之后,以切割装置切割成规定尺寸而进行制造的情况为惯例,在玻璃板的主表面的端部附近容易产生与切割相伴的光学膜的膜剥离。当由这样的膜剥离而导致在玻璃板的主表面的端部附近未形成有光学膜的状态时,无法充分地实现所要求的光学特性,有可能会招致带光学膜的玻璃板的性能降低。
本发明的课题是提供在玻璃板的主表面的端部附近可靠地形成光学膜的带光学膜的玻璃板。
用于解决课题的手段
为了解决上述的课题所创造的本发明的带光学膜的玻璃板具备:具有表面背面一对主表面和连结一对主表面各个端部的端面的玻璃板、以及在玻璃板的至少一个主表面上形成的光学膜,其特征在于,光学膜具备超出玻璃板的主表面的端部而向外侧突出的突出部。根据这样的构成,凭借突出部,光学膜成为形成于比玻璃板的主表面更宽的范围的状态,因此在玻璃板的主表面的端部附近可靠地形成有光学膜。需要说明的是,突出部成为向外侧突出的状态,因此其他构件不易直接接触于玻璃板的端面。因此,还可期待降低来自玻璃板的端面的起尘或破损的效果。
在上述的构成中,也可以为玻璃板的端面进行了倒角,其端面具有位于与光学膜的突出部相比更外侧的部分。
在上述的构成中,光学膜优选为防反射膜、红外线屏蔽膜、紫外线屏蔽膜、紫外线及红外线屏蔽膜中的至少一种。该情况下,作为光学膜,例如可使用交替层叠高折射率层和低折射率层而成的电介质多层膜。
在上述的构成中,优选作为玻璃板的组成,以质量%计包含25%以上的P2O5。
在上述的构成中,优选光学膜的突出部的突出尺寸为1μm~0.1mm。
为了解决上述的课题所创造的本发明是具备:具有表面背面一对主表面和连结一对主表面各个端部的端面的玻璃板、以及在玻璃板的至少一个主表面上形成的光学膜的带光学膜的玻璃板的制造方法,所述制造方法的特征在于,具备以下工序:成膜工序,在玻璃板的至少一个主表面形成光学膜;和蚀刻工序,使形成有光学膜的玻璃板的至少端面接触蚀刻液而进行蚀刻,玻璃板包含磷酸盐系玻璃,蚀刻液为碱性洗涤剂。根据这样的构成,在蚀刻工序中,仅玻璃板与蚀刻液反应,而光学膜未与蚀刻液反应。其结果是,当着眼于玻璃板的端部时,仅玻璃板的端部被蚀刻液去除,光学膜则以超出玻璃板的主表面的端部而向外侧突出的状态残留。因此,经由该突出部,光学膜成为形成于比玻璃板的主表面更宽的范围的状态,因此在玻璃板的主表面的端部附近可靠地形成有光学膜。
在上述的构成中,优选蚀刻液包含螯合剂的碱性盐作为碱性成分,在蚀刻工序中,使形成有光学膜的玻璃板浸渍于蚀刻液。
在上述的构成中,优选在成膜工序之后且蚀刻工序之前,还具备:切割玻璃板的切割工序、和将玻璃板的端面进行倒角的倒角工序。
该情况下,切割工序也可以兼倒角工序,在切割玻璃板的同时还进行倒角。
在上述的构成中,光学膜也可以仅形成于玻璃板的一个主表面。
在上述的构成中,光学膜也可以形成于玻璃板的两个主表面。
发明效果
根据本发明,可提供在玻璃板的主表面的端部附近可靠地形成有光学膜的带光学膜的玻璃板。
附图说明
图1是示出第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板的截面图。
图2是示出第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板的平面图。
图3是示出第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的成膜工序的截面图。
图4是示出第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的切割工序的平面图。
图5是示出第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的蚀刻工序的截面图。
图6是示出第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板的截面图。
图7是示出第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的、兼倒角工序的切割工序的初步阶段状态的截面图。
图8是示出第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的、兼倒角工序的切割工序的中间阶段状态的截面图。
图9是示出第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的、兼倒角工序的切割工序的最终阶段状态的截面图。
图10是示出第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的倒角工序的变形例的截面图。
图11是示出第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法中所包括的蚀刻工序的截面图。
图12是示出第三实施方式所述的带光学膜的玻璃板的截面图。
图13是示出第三实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法所包括的成膜工序的截面图。
图14是示出第三实施方式所述的带光学膜的玻璃板的制造方法所包括的蚀刻工序的截面图。
具体实施方式
以下,对于本实施方式所述的带光学膜的玻璃板及其制造方法,参照附图进行说明。
(第一实施方式)
如图1及图2所示,第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板1具备:玻璃板2和光学膜3,例如利用于固体摄像元件的视觉灵敏度校正构件或盖玻璃等。
玻璃板2具备:表面背面一对主表面2a和连结两个主表面2a的各个端部的端面2b。玻璃板2形成为四边形状,但不限定于该形状,例如也可为三角形或五边形以上的多边形或圆形等。在本实施方式中,端面2b在四边形状的玻璃板2的各边中以与主表面2a大致正交的方式形成。
玻璃板2的厚度优选为0.4mm以下、0.3mm以下、0.2mm以下。更优选为0.19mm以下,进一步优选为0.15mm以下、特别优选为0.12mm以下。另一方面,玻璃板2的厚度优选为0.05mm以上,更优选为0.08mm以上。
玻璃板2的各主表面2a的面积可设为1mm2以上且25000mm2以下。各主表面2a的面积的优选范围为3mm2以上且25000mm2以下、更优选为9mm2以上且25000mm2以下、进一步优选为15mm2以上且25000mm2以下、特别优选为20mm2以上且25000mm2以下。
玻璃板2的端面2b的表面粗糙度Ra优选为0.1nm~10nm。
对于玻璃板2的组成而言,以阳离子%表示含有P5+5%~50%、Al3+2%~30%、R’+(R’为选自Li、Na及K中的至少1种)10%~50%、及R2+(R2+为选自Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+及Zn2+中的至少1种)20%~50%、Cu2+0.5%~15%,且以阴离子%表示含有F-5%~80%、及O2-20%~95%。
玻璃板2除了上述组成之外,也可设为以阴离子%表示含有F-5%~80%的组成。
作为玻璃板2,更优选可使用作为组成以阳离子%表示含有P5+40%~50%、Al3+7%~12%、K+15%~25%、Mg2+3%~12%、Ca2+3%~6%、Ba2+7%~12%、Cu2+1%~15%,且以阴离子%表示含有F-5%~80%、及O2-20%~95%的磷酸盐玻璃。
作为优选的其他组成的玻璃板2,可使用以阳离子%表示含有P5+20%~35%、Al3+10%~20%、Li+20%~30%、Na+0%~10%、Mg2+1%~8%、Ca2+3%~13%、Sr2+2%~12%、Ba2+2%~8%、Zn2+0%~5%、Cu2+0.5%~5%,且以阴离子%表示含有F-30%~65%、及O2-35%~75%的氟磷酸玻璃。
作为优选的其他组成的玻璃板2,可使用以阳离子%表示含有P5+35%~45%、Al3+8%~12%、Li+20%~30%、Mg2+1%~5%、Ca2+3%~6%、Ba2+4%~8%、Cu2+1%~6%,且以阴离子%表示含有F-10%~20%、及O2-75%~95%的氟磷酸玻璃。
作为优选的其他组成的玻璃板2,可使用以阳离子%表示含有P5+30%~45%、Al3+15%~25%、Li+1%~5%、Na+7%~13%、K+0.1%~5%、Mg2+1%~8%、Ca2+3%~13%、Ba2+6%~12%、Zn2+0%~7%、Cu2+1%~5%,且以阴离子%表示含有F-30%~45%、及O2-50%~70%的氟磷酸玻璃。
在以下示出玻璃板2为红外线吸收功能优异的磷酸盐系玻璃情况的例子。
使用于玻璃板2的磷酸盐系玻璃优选实质上不含有F(氟)。在此,“实质上不含有”是指:也可以质量%计含有0.1%以下的氟。
作为这样的磷酸盐系玻璃,例如可使用含有25质量%以上P2O5的玻璃。具体而言,可使用以质量%计含有P2O5 25%~60%、Al2O3 2%~19%、RO(其中,R为选自Mg、Ca、Sr及Ba中的至少一种)5%~45%、ZnO 0%~13%、K2O 8%~20%、Na2O 0%~12%、及CuO0.3%~20%,且实质上不含有氟的玻璃。
P2O5是形成玻璃骨架的成分。P2O5的含量以质量%计优选为25%~60%、更优选为30%~55%、进一步优选为40%~50%。若P2O5的含量过少,则有玻璃化变得不稳定的情况。另一方面,若P2O5的含量过多,则有耐候性容易降低的情况。
Al2O3是进一步提高耐候性的成分。Al2O3的含量以质量%计优选为2%~19%、更优选为2%~15%、进一步优选为2.8%~14.5%、特别优选为3.5%~14.0%。若Al2O3的含量过少,则有耐候性不充分的情况。另一方面,若Al2O3的含量过多,则有熔融性降低而熔融温度上升的情况。需要说明的是,当熔融温度上升时,Cu离子被还原而容易从Cu2+转变成Cu+,因此有不易得到所期望的光学特性的情况。具体而言,会有在近紫外至可见区域的光透射率容易降低,或者红外线吸收特性容易降低的情况。
RO(其中R是选自Mg、Ca、Sr及Ba中的至少一种)是改善耐候性,并且提高熔融性的成分。RO的含量以质量%计优选为5%~45%、更优选为7%~40%、进一步优选为10%~35%。若RO的含量过少,则有耐候性及熔融性不充分的情况。另一方面,若RO的含量过多,则有玻璃的稳定性容易降低,RO成分引起的结晶容易析出的情况。
需要说明的是,RO的各成分的含量的优选范围如以下。
MgO是改善耐候性的成分。MgO的含量以质量%计优选为0%~15%、更优选为0%~7%。若MgO的含量过多,则有玻璃的稳定性容易降低的情况。
CaO是与MgO同样地使耐候性改善的成分。CaO的含量以质量%计优选为0%~15%、更优选为0%~7%。若CaO的含量过多,则有玻璃的稳定性容易降低的情况。
SrO是与MgO同样地使耐候性改善的成分。SrO的含量以质量%计优选为0%~12%、更优选为0%~5%。若SrO含量过多,则有玻璃的稳定性容易降低的情况。
BaO是使玻璃稳定化,并且使耐候性提高的成分。BaO的含量以质量%计优选为1%~30%、更优选为2%~27%、进一步优选为3%~25%。若BaO的含量过少,则有无法充分使玻璃稳定化,或者无法充分提高耐候性的情况。另一方面,若BaO的含量过多,则在成形中有BaO引起的结晶容易析出的情况。
ZnO是改善玻璃的稳定性及耐候性的成分。ZnO的含量以质量%计优选为0%~13%、更优选为0%~12%、进一步优选为0%~10%。若ZnO的含量过多,则有熔融性降低而熔融温度变高,作为结果不易得到所期望的光学特性的情况。另外,有玻璃的稳定性降低,ZnO成分引起的结晶容易析出的情况。
按照以上这样,RO及ZnO有改善玻璃的稳定化的效果,特别是在P2O5少的情况,容易享有其效果。
需要说明的是,P2O5相对于RO的含量之比(P2O5/RO)优选为1.0~1.9、更优选为1.2~1.8。若比(P2O5/RO)过小,则有液相温度变高而RO引起的失透容易析出的情况。另一方面,若P2O5/RO过大,则有耐候性容易降低的情况。
K2O是使熔融温度降低的成分。K2O的含量以质量%计优选为8%~20%、更优选为12.5%~19.5%。若K2O的含量过少,则有熔融温度变高而不易得到所期望的光学特性的情况。另一方面,若K2O的含量过多,则有K2O引起的结晶容易在成形中析出,玻璃化变得不稳定的情况。
Na2O也与K2O同样地是使熔融温度降低的成分。Na2O含量以质量%计优选为0%~12%、更优选为0%~7%。若Na2O的含量过多,则有玻璃化变得不稳定的情况。
CuO是用于吸收近红外线的成分。CuO的含量以质量%计优选为0.3%~20%、更优选为0.3%~15%、进一步优选为0.4%~13%。若CuO的含量过少,则有无法得到所期望的红外线吸收特性的情况。另一方面,若CuO的含量过多,则有紫外至可见区域的光透射性容易降低的情况。另外,有玻璃化变得不稳定的情况。需要说明的是,用于得到所期望的光学特性的CuO的含量优选根据板厚而进行适宜调整。
另外,除了上述成分以外,在未损害本发明的效果的范围内也可以含有B2O3、Nb2O5、Y2O3、La2O3、Ta2O5、CeO2或Sb2O3等。具体而言,这些成分的含量分别以质量%计优选为0%~3%、更优选为0%~2%。
通过将玻璃板2设为上述组成,可达成在可见区域更加高的光透射率与在红外区域更加优异的光吸收特性这两者。具体而言,在波长400nm时的光透射率优选为78%以上,更优选为80%以上,在波长500nm时的光透射率优选为83%以上,更优选为85%以上。另一方面,在波长700nm时的光透射率优选为12%以下,更优选为9%以下,在波长800nm时的光透射率优选为5%以下,更优选为3%以下。
上述的组成的玻璃板2例如利用浇铸法、辊出法、下拉法、再拉法、浮法、溢流法等成形方法而成形为板状。
在本实施方式中,光学膜3分别形成于玻璃板2的两个主表面2a。光学膜3具备超出玻璃板2的主表面2a的端部而向外侧突出的突出部3a。
突出部3a沿着玻璃板2的主表面2a而延伸至外侧,突出部3a的前端部离开玻璃板2的端面2b。需要说明的是,突出部3a未必必须与玻璃板2的主表面2a平行,前端也可以垂下等而倾斜。另外,突出部3a的基端部的一部分即使与玻璃板2的端面2b接触也没有问题。
突出部3a以围绕玻璃板2的主表面2a的全周周围的方式形成为框缘状(参照图2的交叉影线部)。
突出部3a的平面方向的突出尺寸t1优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。若为这样的突出尺寸,则突出部3a成为充分地突出于外侧的状态,因此其他构件不易与玻璃板2的端面2b直接接触,可降低来自玻璃板2的端面2b的起尘或破损。
光学膜3的厚度比玻璃板2的厚度薄,优选为10μm以下。更优选为7μm以下。另一方面,光学膜3的厚度优选为0.1μm以上,更优选为0.2μm以上。
光学膜3根据用途而进行适宜选择,例如可举出防反射膜(AR膜)、红外线屏蔽膜(IR屏蔽膜)、紫外线屏蔽膜、紫外线及红外线屏蔽膜等功能膜。另外,光学膜3也可具备防反射膜及红外线屏蔽膜这两者的功能。对于具有这种功能的光学膜3,例如可使用交替层叠低折射率层和高折射率层而成的电介质多层膜。作为低折率层,使用氧化硅膜等。作为高折射率层,使用包含选自氧化钽、氧化铌、氧化钛、氧化铪、氮化硅、氧化锆中的至少1种的金属氧化膜等。需要说明的是,形成于玻璃板2的一个主表面2a的光学膜3和形成于玻璃板2的另一个主表面2a的光学膜3可为具有相同功能的膜,也可为具有不同功能的膜。具体而言,带光学膜的玻璃板2的构成为例如防反射膜/玻璃板/防反射膜、防反射膜/玻璃板/红外线屏蔽膜、红外线屏蔽膜/玻璃板/红外线屏蔽膜、红外线屏蔽膜/玻璃板/紫外线及红外线屏蔽膜等。
若为具备以上这样的构成的带光学膜的玻璃板2,则光学膜3成为凭借突出部3a而在比玻璃板2的主表面2a更宽的范围内形成的状态。因此,可在玻璃板2的主表面2a的端部附近可靠地形成光学膜3。
接着,说明第一实施方式涉及的带光学膜的玻璃板2的制造方法。
本制造方法依次具备成膜工序、切割工序和蚀刻工序。在本实施方式中,如图3及图4所示,示出从包含大张的原玻璃板4的原玻璃板层叠体5采集多片制品尺寸的包括玻璃板2的玻璃板层叠体6,进行所谓多倒角的例子。当然,以修整等为目的,也可为从原玻璃板层叠体5采集一片玻璃板层叠体6。需要说明的是,在本制造方法中,依照原玻璃板层叠体5→玻璃板层叠体6→带光学膜的玻璃板1的顺序进行制造。
如图3所示,在成膜工序中,在大张的原玻璃板4的两个主表面4a形成光学膜3,制造原玻璃板层叠体5。光学膜3形成于原玻璃板4的各主表面4a的整个面。光学膜3例如使用真空蒸镀法或溅射法等而形成。
如图4所示,在切割工序中,例如将原玻璃板层叠体5切割成棋盘格状,制造多片玻璃板层叠体6。在图示例中,从一片原玻璃板层叠体5采集9片玻璃板层叠体6。原玻璃板层叠体5的切割方法无特别限定,例如可使用利用切割装置的刀片等的机械性切割、折叠割断、激光割断、激光熔断等。
如图5所示,在蚀刻工序中,将玻璃板层叠体6浸渍于容纳于蚀刻槽(未图示)的蚀刻液E进行蚀刻。
对于玻璃板层叠体6所含的玻璃板2为如上述的磷酸盐系玻璃的情况,蚀刻液E例如由碱性洗涤剂构成。这是因为磷酸盐系玻璃与如氟磷酸盐系这样的其他的玻璃相比,耐碱性更低。作为碱性洗涤剂没有特别限定,例如可使用Na、K等的碱性成分,或三乙醇胺、苯甲醇或乙二醇等表面活性剂,或含有水或醇等的洗涤剂。
作为碱性洗涤剂所包含的碱性成分,优选包含氨基多羧酸等的螯合剂的碱金属盐。作为氨基多羧酸的碱金属盐,可举出:二亚乙基三胺五乙酸、乙二胺四乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、次氮基三乙酸等的钠盐及钾盐。其中,优选使用二亚乙基三胺五乙酸五钠、乙二胺四乙酸四钠、三亚乙基四胺六乙酸六钠、次氮基三乙酸三钠,特别优选使用二亚乙基三胺五乙酸五钠。
蚀刻液E与玻璃板2反应,但与光学膜3实质上不反应。在本实施方式中,玻璃板层叠体6所含的玻璃板2在两个主表面2a上形成有光学膜3,因此当将玻璃板层叠体6浸渍于蚀刻液E时,仅玻璃板2的端部与蚀刻液E直接接触而进行反应。因此,仅玻璃板2的端部经由蚀刻液E而被缓缓地浸蚀,而玻璃板2的端面2b的位置向A方向移动。其结果,在光学膜3原样残留的状态下,仅去除了玻璃板2的端部的表层部X1(图5的交叉影线部)。因此,制造出如图1所示的在玻璃板2的两个主表面2a上形成有具有突出部3a的光学膜3的带光学膜的玻璃板2。
基于蚀刻的平面方向的去除厚度t2优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。该去除厚度t2优选为与图1的突出部3a的突出尺寸t1大体一致。
在本制造方法中,在玻璃板层叠体6的状态下,玻璃板2的两个主表面2a经由光学膜3来保护,因此在蚀刻工序中,可进行玻璃板2的端面加工而未使玻璃板2的厚度变化。
(第二实施方式)
如图6所示,第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板1与第一实施方式所述的带光学膜的玻璃板1的不同之处在于,将玻璃板2的端面2b进行了倒角。
玻璃板2的端面2b在两个主表面2a侧的一部分区域具有包含相对于主表面2a倾斜的倾斜平面的倒角部2c。倒角部2c相对于主表面2a的倾斜角度θ优选为20°~60°。需要说明的是,倒角部2c的形状没有特别限定,例如可以由凸曲面(圆弧面或椭圆弧面)或连结倾斜角度不同的多个平面而成的复合平面等形成。另外,也可以将玻璃板2的端面2b整体制成凸曲面等,对端面2b整体设置倒角部。
在玻璃板2的端面2b形成倒角部2c的情况下,端面2b也可具有位于与光学膜3的突出部3a相比更外侧的部分Y(图6的交叉影线部)。若如此设置,则其他构件容易直接接触于玻璃板2的端面2b,凭借倒角部2c,端面2b的机械性强度提高,因此可降低来自玻璃板2的端面2b的起尘或破损。需要说明的是,设置突出的部分Y的情况下,可缩小突出部2的突出尺寸t3,因此可缩短在后述的蚀刻工序的蚀刻时间,提高制造效率。当然,也可不设置突出的部分Y。
在本实施方式中,在光学膜3的突出部3a的前端也形成有倒角部3b。倒角部3b的形状没有特别限定,可选择与玻璃板2的倒角部2c同样的形状。需要说明的是,也可以省略光学膜3的倒角部3b,而仅设置玻璃板2的倒角部2c。
突出部3a的平面方向的突出尺寸t3优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。
接着,说明第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板2的制造方法。
本制造方法依次具备成膜工序、切割工序、倒角工序和蚀刻工序。在本实施方式中示出以下例子:切割工序兼倒角工序,在切割原玻璃板层叠体5的过程中还进行倒角。
在成膜工序中,通过与第一实施方式同样的方法,制造原玻璃板层叠体5(参照图3)。
切割工序具备:如图7及图8所示,利用切割装置的第一刀片21切削包含原玻璃板4的主表面4a附近的原玻璃板层叠体5的表层部5s的第一工序;和如图9所示,利用切割装置的第二刀片22切削在第一工序中未切削而残留的原玻璃板层叠体5的中央部5c的第二工序。
如图7及图8所示,第一刀片21为可旋转地加以保持的圆盘状,在其周缘部具有切割刃21a。切割刃21a具有以呈V字状的凸部的方式相互逆向倾斜的一对倾斜面21b。
如图9所示,第二刀片22也为可旋转地保持的圆盘状,在其周缘部具有切割刃22a。第二刀片22比第一刀片21更薄。切割刃22a的形状只要为可在第二刀片22的厚度的范围内切削原玻璃板层叠体5的形状,就没有特别限定。需要说明的是,也可替代第二刀片22而使用基于激光照射的切割。
在第一工序中,首先,如图7所示,一边使第一刀片21旋转,一边切削原玻璃板层叠体5的一个表层部5s,在原玻璃板层叠体5的一个表层部5s形成与切割刃21a的形状对应的V字状的沟5a。然后,如图8所示,使形成有沟5a的原玻璃板层叠体5表面背面反转,一边使第一刀片21旋转,一边切削原玻璃板层叠体5的另一个表层部5s,对于原玻璃板层叠体5的另一个表层部5s也形成与切割刃21a的形状对应的V字状的沟5a。接着,在第二工序中,如图9所示,以将形成于原玻璃板层叠体5的两个表层部5s的V字状的沟5a的沟底部彼此相连的方式,一边使第二刀片22旋转,一边切削原玻璃板层叠体5的中央部5c,切割(全切割)原玻璃板层叠体5。由此,由原玻璃板层叠体5制造玻璃板层叠体6,并且对于所制造的玻璃板层叠体6在对应于V字状的沟5a的部分形成有倒角部2c、3b。
当然,倒角工序也可以在切割工序结束之后,作为另外的工序而进行。该情况下,如图10所示,倒角工序可使用旋转磨石23而进行。详细来说,旋转磨石23具备相对于在切割工序中制造的玻璃板层叠体6的板厚方向而言,具有相互逆向的倾斜的一对圆锥面状的加工面23a。利用旋转磨石23所研磨的玻璃板层叠体6被研磨成仿照旋转磨石23的加工面23a的形状。即,对于玻璃板2及光学膜3的端面,在利用加工面23a所研磨的位置形成有倒角部2c、3b。需要说明的是,倒角工序也可以分割成在玻璃板2的一个主表面2a侧的端面形成倒角部2c、3b的第一工序;和在玻璃板2的另一个主表面2a侧的端面形成倒角部2c、3b的第二工序。
如图11所示,在蚀刻工序中,将形成有倒角部2c、3b的玻璃板层叠体6浸渍于蚀刻液E。如此地,仅是与蚀刻液E直接接触的玻璃板2的端部被缓缓地浸蚀,玻璃板2的端面2b的位置向A方向移动。其结果是,在光学膜3原样残留的状态下,去除了玻璃板2的端部的表层部X2(图中的交叉影线部)。此时,端面2b的位置发生了变化,但大致维持端面2b的形状。因此,蚀刻工序之后,玻璃板2的倒角部2c也残留。另外,光学膜3未与蚀刻液E反应,因此蚀刻工序后的光学膜3的倒角部3b也残留。因此,制造了如图6所示的在玻璃板2的两个主表面2a形成有具有突出部3a的光学膜3、并且在玻璃板2及光学膜3形成有倒角部2c、3b的带光学膜的玻璃板2。
基于蚀刻的平面方向的去除厚度t4优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。该去除厚度t4优选与图6的突出部3a的突出尺寸t3大体一致。
(第三实施方式)
如图12所示,第三实施方式所述的带光学膜的玻璃板1与第一实施方式及第二实施方式所述的带光学膜的玻璃板1的不同之处是,具有突出部3a的光学膜3仅形成于玻璃板2的一个主表面2a。需要说明的是,在图示例中未设置倒角部,但也可以设置如在第二实施方式中说明的倒角部。
突出部3a的平面方向的突出尺寸t5优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。
如此构成的带光学膜的玻璃板2的制造方法依次具备:成膜工序、切割工序和蚀刻工序。
如图13所示,在成膜工序中,仅在原玻璃板4的一个主表面4a形成光学膜3,从而制造原玻璃板层叠体5。光学膜3形成于原玻璃板4的一个主表面4a的整个面。
在切割工序中,利用与第一实施方式同样的方法,由原玻璃板层叠体5制造一片或多片玻璃板层叠体6(参照图4)。其中,所制造的玻璃板层叠体6仅在玻璃板2的一个主表面2a上形成光学膜3。
如图14所示,在蚀刻工序中,将玻璃板层叠体6浸渍于蚀刻液E。如此地,与蚀刻液E直接接触的玻璃板2的端部及未形成光学膜3侧的主表面2a被缓缓地浸蚀,玻璃板2的端面2b向A方向移动,并且玻璃板2的主表面2a向B方向移动。其结果是,在光学膜3原样残留的状态下,去除了玻璃板2的端部的表层部X3(图中的交叉影线部)和主表面2a的表层部X4(图中的交叉影线部)。因此,制造了如图12所示的仅在玻璃板2的一个主表面2a形成有具有突出部3a的光学膜3的带光学膜的玻璃板2。
基于蚀刻的平面方向的去除厚度t6优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。该去除厚度t6优选与图12的突出部3a的突出尺寸t5大体一致。另外,经由蚀刻而在板厚方向的去除厚度t7优选为1μm~0.1mm,更优选为3μm~20μm。
在本制造方法中,仅玻璃板2的一个主表面2a被光学膜3保护,因此在蚀刻工序中,玻璃板2的厚度发生变化。因此,在玻璃板2的端面加工的基础上,可进行玻璃板2的薄化加工(薄板化)。
需要说明的是,本发明不限定于上述实施方式的构成,也不限定于上述的作用效果。本发明可在不脱离本发明的主旨的范围内作各种变形。
在上述实施方式中,说明了将成膜工序在切割工序之前进行的情况,但也可以将成膜工序在切割工序之后(进行倒角工序的情况下在倒角工序之后)进行。
在上述实施方式中,也可以省略切割工序,在成膜工序中在制品尺寸的玻璃板上直接形成光学膜。
在上述实施方式中,也可以在蚀刻工序之后,从玻璃板的主表面去除光学膜。
在上述实施方式中,也可以在切割工序中,一边对原玻璃板层叠体的切割部喷射气体,一边照射激光,将切割部进行激光熔断。该情况下,通过调整气体的喷射量或喷射方向,可将所切割的端面加工成凸曲面(例如圆弧面)。因此,即使使用这样的激光熔断,也可以与切割同时进行倒角。
在上述实施方式中,也可以替代将玻璃板层叠体整体浸渍于蚀刻液,而例如利用涂布等使蚀刻液附着于玻璃板层叠体所包含的玻璃板的一部分(例如端面)等,从而仅蚀刻玻璃板的一部分。
附图标记说明
1 带光学膜的玻璃板
2 玻璃板
2a 主表面
2b 端面
2c 倒角部
3 光学膜
3a 突出部
3b 倒角部
4 原玻璃板
5 原玻璃板层叠体
6 玻璃板层叠体
21 第一刀片
22 第二刀片
23 旋转磨石
E 蚀刻液
Claims (11)
1.一种带光学膜的玻璃板,其具备:具有表面背面一对主表面和连结所述一对主表面各个端部的端面的玻璃板、以及在所述玻璃板的至少一个所述主表面上形成的光学膜,其特征在于,
所述光学膜具备超出所述玻璃板的所述主表面的所述端部而向外侧突出的突出部。
2.根据权利要求1所述的带光学膜的玻璃板,其特征在于,所述端面进行了倒角,所述端面具有位于与所述突出部相比更外侧的部分。
3.根据权利要求1或2所述的带光学膜的玻璃板,其特征在于,所述光学膜为防反射膜、红外线屏蔽膜、紫外线屏蔽膜、紫外线及红外线屏蔽膜中的至少1种。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的带光学膜的玻璃板,其特征在于,作为所述玻璃板的组成,以质量%计包含25%以上的P2O5。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的带光学膜的玻璃板,其特征在于,所述突出部的突出尺寸为1μm~0.1mm。
6.一种带光学膜的玻璃板的制造方法,所述带光学膜的玻璃板具备:具有表面背面一对主表面和连结所述一对主表面各个端部的端面的玻璃板、以及在所述玻璃板的至少一个所述主表面上形成的光学膜,
所述制造方法的特征在于,具备以下工序:
成膜工序,在所述玻璃板的至少一个所述主表面形成所述光学膜;和
蚀刻工序,使形成有所述光学膜的所述玻璃板的至少所述端面接触蚀刻液而进行蚀刻,
所述玻璃板包含磷酸盐系玻璃,所述蚀刻液为碱性洗涤剂。
7.根据权利要求6所述的带光学膜的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述蚀刻液包含螯合剂的碱性盐作为所述碱性成分,
在所述蚀刻工序中,使形成有所述光学膜的所述玻璃板浸渍于所述蚀刻液。
8.根据权利要求6或7所述的带光学膜的玻璃板的制造方法,其特征在于,在所述成膜工序之后且所述蚀刻工序之前,还具备:切割所述玻璃板的切割工序、和将所述玻璃板的所述端面进行倒角的倒角工序。
9.根据权利要求8所述的带光学膜的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述切割工序兼所述倒角工序,在切割所述玻璃板的同时还进行倒角。
10.根据权利要求6~9中任一项所述的带光学膜的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述光学膜仅形成于所述玻璃板的一个所述主表面。
11.根据权利要求6~9中任一项所述的带光学膜的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述光学膜形成于所述玻璃板的两个所述主表面。
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