CN101553926A - 固体成像元件用覆盖玻璃及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种固体成像元件用覆盖玻璃及其制造方法，设在该覆盖玻璃的透光面的覆盖膜很难轻易地剥离，且该覆盖玻璃实现与基板的足够的粘结面积和粘结强度，并具有高机械强度和高光学性能，尤其安定的化学性能，且洁净度高。本发明的固体成像元件用覆盖玻璃10为无机氧化物玻璃制的薄板状，其特征在于，在厚度方向上相对的两个透光面11、12中的至少一个透光面具有覆盖膜C1、C2，覆盖玻璃10的外周端面由用激光切断的面13、14形成，覆盖膜C1、C2是在激光切断之前成膜。本发明的固体成像元件用覆盖玻璃10的制造方法，具有熔融玻璃原料混合物的工序、获得的熔融玻璃成型为平板玻璃G的工序、在该平板玻璃G的两个透光面11、12中的至少一个透光面形成覆盖膜C1、C2的成膜工序、向在两个透光面11、12中的至少一个透光面具有覆盖膜C1、C2的附带覆盖膜平板玻璃射出激光的射出工序、将射出工序后的平板玻璃分割成小片玻璃的工序。

Description

固体成像元件用覆盖玻璃及其制造方法
技术领域
本发明涉及作为透过光线的窗材而配置在收纳固体成像元件的封装件上，并保护固体成像元件的覆盖玻璃及其制造方法。
背景技术
固体成像元件由于在扫描仪和传真机等上使用的耗电低的CIS(Contact Image Sensor)的使用用途，同时数码相机被搭载于手机和PHS等小型的信息终端设备等，而变得更多样且被要求高度的性能。以这样的用途被使用的固体成像元件大致可划分为CCD(ChargeCoupled Device)和CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor、也称为互补型MOS)。在1990年代，CCD从显著的高像素化等开始，各种性能大幅提高，但是近年来，关于CMOS，由于要克服技术课题，促进了多样的用途的使用。
关于作为输入这样的固体成像元件的图像信息的窗材而使用的覆盖玻璃，随着固体成像元件的发展，各种各样的课题被相继解决。对于包含在平板玻璃中的Pt等贵金属、耐火物等各种各样的微细异物，或者附着在玻璃表面的粉尘、垃圾和颗粒等，把减少这些物质的数量作为目标而付出了坚持不懈的努力。在专利文献1中，公开了为了区分覆盖玻璃正面和背面地检测出附着在覆盖玻璃表面的垃圾，而使用结合了垂直照明和斜光照明的检测装置。因为覆盖玻璃表面的垃圾的附着是作为干扰信号被检测出来的，所以在要求高精度画像的固体成像元件上，这个检测变得重要。另外，专利文献2提供放射性同位素的含有量少的玻璃成分，以减少由覆盖玻璃中含有的铀和钍等放射性同位素所产生的α射线的量。因为α射线是在由固体成像元件所拍摄的图像中产生被称为白点的缺陷的原因，所以专利文献2实施相应的解决方案。再有，在专利文献3中公开了能够通过将具有指定成分的薄板玻璃成形品的侧面形状限定为指定的形状而实现高强度、高化学耐久性的发明。在专利文献4中，公开了通过限定预先在一面形成覆盖膜的固体成像元件用覆盖玻璃的端缘部的形状，能够减少因覆盖膜边缘部所引起的覆盖玻璃的缺陷的发明。
专利文献1：日本特开2000-295639号公报
专利文献2：日本特开平7-215733号公报
专利文献3：日本特开2004-221541号公报
专利文献4：日本特开2006-140458号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
但是，仅仅通过现在为止实施的发明，在以稳定的品质提供更高性能的固体成像元件用覆盖玻璃方面存在有问题。使用固体成像元件的电子设备正在推进各种各样的技术革新，不仅是在功能方面，而且对于大小和形状等也在谋求轻薄短小化。因此，随着固体成像元件的轻薄短小化，固体成像元件用覆盖玻璃也变得需要轻薄短小化，与此相应的产品正在被开发。但是由于快速地推进小型化和薄型化，为了稳定提供固体成像元件，仅仅通过现在为止实施的对固体成像元件用覆盖玻璃的各种改善和发明，变得不足够。
具体地，作为对固体成像元件用的覆盖玻璃的要求，一方面是即使减小收纳固体成像元件的封装件的外形尺寸，也具有不但满足覆盖玻璃和封装件基板不会剥离的足够高的接合强度，而且即使在封装件中被收纳的固体成像元件的面积增大，也能收纳入封装件内的足够的内腔部面积，另一方面，具有能实现与封装件基板的足够的接合强度的接合部面积，能实现优良品质和性能。
进一步地，除上述那样对封装件和覆盖玻璃要求轻薄短小外，另外关于对各种波长的光线透光的板玻璃表面，要求具有为了实现要求的透过率的高洁净度，具有高的化学耐久性，而且即使是厚度尺寸和透光面面积小的覆盖玻璃，也可实现实际使用时无困难的强度。伴随厚度尺寸和透光面面积变小，特别随着手机等各种携带设备的显著发展，在搭载于那样的精密设备里的固体成像元件中，存在产生如下致命问题的危险：如果在覆盖玻璃上存在威胁稳定的机械强度的表面伤和崩裂等各种表面缺陷，当被施加大的冲击时，覆盖玻璃就会因为这些表面缺陷而变得容易破裂。因此，对于作为封装件和覆盖玻璃被使用的平板玻璃，要求比以前更高的精密加工精度和高形状品质。另外，对于固体成像元件用覆盖玻璃，可通过在它的透光面遮盖要求的膜来使用，但在覆盖膜成膜于玻璃表面的状态下的固体成像元件用覆盖玻璃的洁净度，存在根据成膜后的使用履历如何，膜周缘变得容易剥落，剥落的微细剥离物漂浮并附着在覆盖玻璃表面等问题，关于被成膜的固体成像元件用覆盖玻璃的洁净度，实现高品质成为重要的课题。
为此，本发明者们进行了所述专利文献4的发明，但关于仅有专利文献4还不足够的地方，重新看它的制造工序，对可以更高效地制造的固体成像元件用覆盖玻璃，并且用于实现具有稳定的品质的被成膜的固体成像元件用覆盖玻璃进行了反复研究。
即本发明的发明者们鉴于这种状况，为了制造作为用作高像素的固体成像元件的透光窗的覆盖玻璃而具有优越加工精度和高形状品质的玻璃板材，而把提供设在覆盖玻璃透光面的覆盖膜很难轻易剥离，实现与基板的足够的粘结面积和粘结强度，平板玻璃端面的加工品质也优越，其结果是具有高机械强度、高光学性能、更稳定的化学性能的洁净度高的固体成像元件用覆盖玻璃及其制造方法作为课题。
解决技术问题的手段
本发明的固体成像元件用覆盖玻璃是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，覆盖玻璃的外周端面由用激光切断的面形成，覆盖膜是在激光切断之前形成的。
这里，无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃是指由玻璃组分按无机元素的氧化物换算的质量百分率表示来表现的玻璃组成的，按固体成像元件用途而遮盖固体成像元件的封装件的整体的方式来使用的覆盖玻璃。另外，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜是表示，在厚度方向上相对的两个呈大致矩形的透光面的两面上具有薄膜状的覆盖膜，或者在任一个面上具有薄膜状的覆盖膜。覆盖玻璃的外周端面由用激光切断的面形成是指呈矩形状外形的四边的任何一面都是通过照射激光而被切断加工所形成的。而且覆盖膜是在激光切断之前形成的是指通过覆盖膜的成膜，形成在至少一个透光面上的覆盖膜在激光切断前形成。
关于在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面所设置的覆盖膜(也简单地称为薄膜)，对其材质和厚度、构成等没有特别的限制，可以按需要采用相应的设定。即关于覆盖膜，可以设置红外线反射膜(或红外线截断滤光片)、防反射膜(也称为AR镀膜)、无反射膜、导电膜、防止带电膜、低通滤波器、高通滤波器、带通滤波器、遮蔽膜、强化膜、或者保护膜等。尤其红外线反射膜，由于CCD的红外区域的灵敏度高，所以可通过抑制红外线向元件的入射而使固体成像元件的图像接近于肉眼看到的图像，因此是优选的。关于覆盖两个透光面的覆盖膜的种类，可以是相同的，也可以是不同的。另外，也可以在一个面层叠具有不同功能的不同种类的覆盖膜。理所当然，为了达到相同目的，至于层叠覆盖膜时的层叠数，也没有限定，可以增加到2层、3层、4层、5层，甚至即使是做成具有10层、20层、30层、40层等任意层数的多层结构也可以。
关于所述覆盖膜，作为其具体的材质，有下面那样的材质。可以使用具有例如二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钽(或钽)(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)、氧化镧(La2O3)、氧化钇(Y2O3)、氧化镁(MgO)、氧化铪(HfO2)、氧化铬Cr2O3)、氟化镁(MgF2)、氧化钼(MoO3)、氧化钨(WO3)、氧化铈(CeO2)、氧化钒(VO2)、氧化钛锆(ZrTiO4)、硫化锌(ZnS)、冰晶石(Na3AlF6)、锥冰晶石(Na5Al3F14)、氟化钇(YF3)、氟化钙(CaF2)、氟化铝(AlF3)、氟化钡(BaF2)、氟化锂(LiF)、氟化镧(LaF3)、氟化钆(GdF3)、氟化镝(DyF3)、氟化铅(PbF3)、氟化锶(SrF2)、含锑氧化锡(ATO)膜、氧化铟-锡膜(ITO膜)、SiO2和Al2O3的多层膜、SiOx-TiOx系多层膜、SiO2-Ta2O5系多层膜、SiOx-LaOx-TiOx系列的多层膜、In2O3-Y2O3固溶体膜、氧化铝固溶体膜、金属薄膜、胶体粒子分散膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜(PMMA膜)、聚碳酸酯膜(PC膜)、聚苯乙烯膜、或甲基丙烯酸甲酯苯乙烯共聚膜、聚丙烯酸酯膜等组成的材质。
另外，关于覆盖膜的形成方法，只要是可以实现规定的表面精度、功能，关于制造所需的费用也无困难的方法，就不受特别限制而可以采用各种方法。作为形成本发明的覆盖膜的方法，可以采用例如溅射法、真空蒸镀法、或者热CVD法、激光-CVD法、等离子体CVD法、分子束磊晶法(MBE法)、离子镀敷法、激光消融法、有机金属化学气相生长法(MOCVD)等化学气相生长法(或CVD法)、及溶胶-凝胶法、旋涂法和丝网印刷涂法，或电镀法等液相生长法。一般，其中特别是CVD法，由于能形成在低温下粘合性好的覆盖膜，并可以对应于各种被膜，且也适合于化合物的被膜形成，所以是优选的方法。
关于固体成像元件用覆盖玻璃的材质，只要是满足需要的光学性能的，什么样的材质都可以使用。例如，可以适宜使用硼硅酸玻璃、石英玻璃、无碱玻璃、硅酸铝玻璃、铀和钍实质上自由的玻璃、磷酸盐玻璃、钠钙玻璃、高折射率玻璃、或者高应变点玻璃等各种玻璃材质。
作为利用激光切断固体成像元件用覆盖玻璃的外周端面的方法，是指例如利用二氧化碳激光形成第一加工面，然后，把通过二氧化碳激光照射形成的第一加工面的前端作为支点，通过在支点的正下方以增加弯曲应力的方式按压来形成第二加工面的方法。在这里，第一加工面的形成是：对设置了覆盖膜的透光面的表面照射具有光束强度分布为±5％以内的输出条件且光束光点形状具有椭圆、大致矩形状、直线状、三角形状的二氧化碳激光，同时以等速度直线驱动，由此在相当于光束驱动部位的形成有被膜的平板玻璃的玻璃表面和形成在该表面的被膜上都形成切口，汽化或者切断该部位的被膜，在玻璃板的断面方向形成规定深度的切口。由此，新产生的表面就是第一加工面。
因为是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，覆盖玻璃的外周端面是由激光切断的面形成，由此工序可简略化且可以进行高效率的制造，所以优选。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，覆盖膜的外周端粘合在透光面上。
在这里，是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，覆盖膜的外周端粘合在透光面上是指：透光面上的覆盖膜在外周端部被加热至高温，膜的边缘部熔解，由此覆盖膜成为难以剥落的坚固的接合状态。因此，可以减少由于膜剥落而造成的粉尘和异物等的产生，可以抑制因为粉尘和异物粘着而产生的不良影响的发生数。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃除以上所述外，如果覆盖膜是防反射膜，就可以实现覆盖玻璃的可视透过率达到足够高的透过率值的性能。
在这里，覆盖膜为防反射膜是指具有比由玻璃的组分决定的玻璃的折射率小的折射率的透明的被膜，可以通过将该被膜设置在玻璃表面上而使反射光减少，从而增加透过覆盖玻璃的光线的光量。
作为构成防反射膜的材料，可以适宜地采用TiO2、CaF2、SiO2、Al2O3、MgS2、ZrO2、NiO或者MgF2等和上述相同的材质。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃除以上所述外，只要覆盖膜的外周端是通过被激光加工时产生的热加热而固定在透光面上，则因为具有被膜及玻璃的端部相互牢固的结构，所以可以抑制基于覆盖玻璃端部的缺陷的产生。另外，由于成为不形成采用在切断面的玻璃表面上使用现有的化学蚀刻法等制造方法的时候产生的大的凹凸面的状态，所以不需要为把粘结收纳固体成像元件的各种部件和覆盖玻璃的时候使用的部分的面积增大到所需要的面积以上，而设计固体成像元件封装件。进一步地，由于难以产生因该切断面的凹凸而造成的粉尘或者剥落物等，所以制造的覆盖玻璃具有稳定的品质。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃除以上所述外，如果覆盖膜是光学薄膜，膜的厚度在0.01μm至100μm的范围，则关于光学方面的性能，容易实现满足用途的要求。
在这里，覆盖膜是光学薄膜，膜的厚度在0.01μm至100μm的范围是指设置在厚度方向上相对的两个透光面两面的覆盖膜的厚度方向的厚度尺寸在1×10-8m至1×10-4m的范围。
膜的厚度在0.01μm至100μm的范围之外时，关于透过率等光学方面的性能，有变得难以充分实现需要的性能的情况，所以优选设置在本发明的固体成像元件用覆盖玻璃上的覆盖膜的厚度在0.01μm至100μm的范围内。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃除以上所述外，如果覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度在30μm以下，且凹陷长度在500μm以下，则即使是施加大的冲击，覆盖玻璃也不容易破坏，因此对保护固体成像元件的功能不会产生的障碍，所以优选。
在这里，覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度在30μm以下，且凹陷长度在500μm以下是指：即使是因为在覆盖玻璃端面的表面的裂纹和崩痕而成为表面的一部分被削去的状态的情况，该凹陷的深度尺寸也为30μm以下，沿端边的凹陷的长度尺寸也为500μm以下。
更具体地说，关于覆盖玻璃的外周端面的品质，使用图1来说明。图1是固体成像元件的立体图，而在图1中，1是固体成像元件用覆盖玻璃，2是平板玻璃的端面，3是平板玻璃的第一透光面，4是平板玻璃的第二透光面，5是第一加工面，6是第二加工面，C1是成膜于平板玻璃的第一透光面的被膜，C2是成膜于平板玻璃的第二透光面的被膜，G是平板玻璃，W是平板玻璃端面的凹陷的棱线方向长度尺寸，H是平板玻璃端面的凹陷的平板玻璃厚度方向的深度尺寸，L是平板玻璃端面的凹陷的平板玻璃透光面方向的深度尺寸。棱线是例如第一透光面和第一加工面的边界线，或者第二透光面和第二加工面的边界线。
在图1中，因为覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度是指平板玻璃端面的凹陷的平板玻璃厚度方向的深度尺寸H以及平板玻璃端面的凹陷的平板玻璃透光面方向的深度尺寸L中较大的尺寸，所以任何一个值都为30μm以下，而且平板玻璃端面的凹陷的边方向长度尺寸W为500μm以下。
在覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度超过30μm的时候，特别象是在覆盖玻璃施加了冲击外力的时候，覆盖玻璃的强度显著变弱，或涂敷在覆盖玻璃表面上的覆盖膜的边缘容易以超过30μm的凹凸的某凹陷位置为基点而剥落，所以不优选，另外，在凹陷长度超过500μm的时候，也有出现与凹陷深度方面同样的强度问题及覆盖膜容易剥落的现象之类的倾向，所以不优选。
作为用于以使覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度为30μm以下，且凹陷长度为500μm以下的方式来加工覆盖玻璃的加工方法，有各种各样的加工方法。例如，选择激光加工时的激光的各项条件，特别是激光输出条件和激光移动速度，并且通过激光光束直径的缩颈，可以减小激光加热时产生的凹陷等凹凸的发生率及其大小。再者，关于激光照射面的背面，只要降低机械性动作误差而执行精密的动作，即可使按压力尽可能均等地施加在玻璃面上，且使平板玻璃的固定角度和按压力的施加方向没有偏差。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃，除以上所述外，包含通过按压的割断操作而形成的第二加工面的凹陷缺陷尺寸成为比包含被激光照射而形成的第一加工面的凹陷深度大的值的覆盖玻璃占90％以上。即，如果调查1000块有凹陷的覆盖玻璃，则有900块以上包含通过按压的割断操作而形成的第二加工面的凹陷缺陷尺寸成为比包含第一加工面的凹陷缺陷尺寸大的值。
关于外周端面的凹陷深度的各处的尺寸值的测量只要使用附属于实体显微镜和电子显微镜等的微计量器和激光尺寸测量仪器等进行测量即可。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃除以上所述外，只要固体成像元件是CCD或者CMOS，即使是作为搭载于手机和数码相机等图像记录装置的薄型光半导体元件的前面窗口玻璃来使用的时候，也能实现稳定的品质。
固体成像元件是CCD或者CMOS是表示：将具有光电转换和电荷积累功能的像素群二维排列于半导体基板上而集积成的成像元件即固体成像元件，被称为CCD或者CMOS的图像传感器。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃除以上所述外，只要是无机氧化物玻璃制的薄板状玻璃的组分按换算成氧化物且以质量百分率表示时，包含有SiO2 56～70％、Al2O3 0.5～18％、B2O3 5～20％、RO0.1～20％(RO＝MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)、ZnO 0～9％、M2O 1～18％(M2O＝Li2O+Na2O+K2O)的覆盖玻璃，则可成为除折射率和透过率等希望的光学性能之外，还具有高的耐水性和硬度的覆盖玻璃，并且在通过熔融玻璃而成型为平板玻璃的时候，也容易进行成型操作，并可以达到成型尺寸的精度优良的品质。
在这里，无机氧化物玻璃制的薄板状玻璃的组分按换算成氧化物且以质量百分率表示时，包含有SiO25 6～70％、Al2O3 0.5～18％、B2O35～20％、RO 0.1～20％(RO＝MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)、ZnO 0～9％、M2O 1～18％(M2O＝Li2O+Na2O+K2O)是表示：作为固体成像元件用覆盖玻璃的构成成分，在按氧化物换算表示来记载包含于玻璃中的成分的时候，二氧化硅为56～70质量％，氧化铝为0.5～18质量％，氧化硼为5～20质量％，氧化镁、氧化钙、氧化锌、氧化锶和氧化钡的合量为0.1～20质量％，氧化锌为9质量％以下，氧化锂、氧化钠和氧化钾的合量为1～18质量％。
关于固体成像元件用覆盖玻璃的组分范围成为这样的限定范围的理由，以下按顺序说明。
玻璃组分中的SiO2(二氧化硅)成分是构成玻璃的原子尺度中的网眼构造的骨架的主要成分，在其含有量不满56质量％的时候，因为发生由玻璃表面的化学耐久性所引起的问题的危险性增大，所以不优选。另外，若其含有量超过70质量％，为了把玻璃熔解为均质的状态而得到均质的覆盖玻璃，则需要费用增多的玻璃熔融设备。
玻璃组分中的Al2O3(三氧化二铝)成分是为了把玻璃的网眼构造稳定化所需要的成分，同时在把玻璃从无机原料加热至高温而熔融，且变为熔融玻璃的时候，具有使玻璃化反应的初始熔融性提高的机能的成分，所以是优选的成分之一。另外，该Al2O3成分对于提高玻璃的化学耐久性也是有效的。但是，如果Al2O3的含有量不满0.5质量％，则难以实现在熔融时的初始熔解性的提高和成型后的化学耐久性的提高上的显著变化。再者，其含有量超过18质量％时，则使熔解性提高的功能变低，而且有时成为使玻璃熔融时的熔解性恶化的主要原因，也有时使玻璃的失透性提高，容易看到结晶等产生，所以不优选。根据这样的观点，更优选Al2O3的含有量在15质量％以下。
玻璃组分中的B2O3(氧化硼)成分是具有在加热玻璃时，让玻璃的熔融温度降低而提高玻璃熔融时的熔解性能的机能的成分。但是，由于在这种玻璃组分体系中，通过5质量％以上的含有量，其效果被发挥，所以是优选的。另一方面，B2O3超过20质量％时，则来自熔融时的熔融玻璃质地表面的硼酸成分的蒸发量变多，结果，在把熔融玻璃作为玻璃物品成型后，成为玻璃物品中的不均质的原因，并且有时也会对于玻璃物品的化学耐久性产生障碍，因此，不优选。
关于玻璃组分中的MgO(氧化镁)成分、CaO(氧化钙)成分、ZnO(氧化锌)成分、SrO(氧化锶)成分和BaO(氧化钡)成分的合量，这些成分中的任一项都是为了使玻璃的耐水性和熔解性以及折射率、透过率和硬度等各种物性值达到希望的性能所需要的成分。但是，这些成分的合量值不满0.1质量％时，则不足以实现希望的功能的情况就多。另外，这个合量超过20质量％时，则对玻璃的耐候性和熔融时的熔解性产生障碍的情况就会变多，所以不优选。再者，果超过20质量％时，对于玻璃的机械强度会产生问题，因此不优选。
玻璃组分中的ZnO成分认为是针对作为平板玻璃成型后的平板玻璃表面的、贯穿长期间的化学耐久性的维持和玻璃表面的耐伤性的提高，通过添加进玻璃中而显著改善这些性能的成分，但是添加按质量％表示超过9％的量时，则有时化学耐久性劣化，所以不优选。
在玻璃组分中，作为碱金属元素的氧化物而表现的Li2O(氧化锂)成分、Na2O(氧化钠)成分和K2O(氧化钾)成分的合量，是用于为了补偿由于与覆盖膜加热时的应力调节和与固体成像元件的封装件筐体的膨胀收缩而产生的热应力，而把覆盖玻璃的线热膨胀系数控制在规定的范围，来保持实现相对于施加在覆盖玻璃上的热负荷的稳定性的功能的有用成分。而且，只要这些成分的合量为1质量％以上，则可以与无碱玻璃清楚地区别，在玻璃的熔融工作中不需要无碱玻璃程度的大劳动力，而且能够容易地实现使线热膨胀系数大幅度地变动的效果，所以是适宜的。但是超过18质量％时，则由于对玻璃的化学耐久性、特别是玻璃表面的耐水性产生障碍，所以不优选。
另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃是无机氧化物玻璃，但只要是无碱玻璃，则对于实现构成固体成像元件封装件后的高耐候性都是合适的。
在这里，无机氧化物玻璃为无碱玻璃是表示实质上不含有碱金属元素成分Li、Na、K的玻璃。在这里，实质上不含有是指玻璃组分中属于碱金属元素的被称为Na(钠)、K(钾)、Li(锂)的元素按氧化物换算的合量在0.1质量％以下。即，关于本发明的固体成像元件用覆盖玻璃，可以采用根据其用途所需要的玻璃组分，玻璃物品中所含有的碱成分有阻碍与玻璃表面的长久的耐候性有关的机能的危险，即使是在玻璃熔融工作中需要劳动力的情况，只要能够实现与之相称的实质利益，则是合适的。而且，在这种情况中，作为覆盖玻璃的组分可以使用不含有碱金属元素的组分，即所谓的无碱玻璃组分，关于无碱玻璃，通过应用本发明可以实现希望的机能。
作为在这种情况中可以采用的无碱玻璃的组分，在以氧化物换算表示来记载玻璃中含有的各成分的情况下，以质量％表示为SiO253～61％、Al2O3 0.7～20％、B2O3 6～16％、RO 2～28％(RO＝MgO+BaO)、JO(JO＝CaO+SrO)0.1～15％，并且玻璃中的OH基含有量取50ppm～700ppm的范围是适宜的。
在这里，关于无碱玻璃的组分，SiO2以质量％表示少于53％时，则有化学耐久性变低的倾向，另一方面，由于超过61％，而且不含有碱金属元素，所以熔融玻璃的粘性高，由此，有时容易变成不均质的熔融状态，很难以便宜的制造成本来成型均质的薄板玻璃，所以不优选。
另外，关于无碱玻璃的组分，Al2O3以质量％表示在0.7～20％的范围内，能协调地获得耐电性等玻璃的电性能和化学性能，所以是适宜的。
关于玻璃组分中的MgO和BaO的合量，以质量％表示在2～28％的范围内，对成型后的耐药品性、热膨胀系数、且对避免熔融时来自熔融玻璃的结晶的析出是适宜的。
关于玻璃组分中的CaO和SrO的合量，以质量％表示在0.1～15％的范围内，可使成型后的耐药品性、热膨胀系数、或者称为低温粘性的性质达到最适合的状态，所以是适宜的。
玻璃组分中的B2O3是使玻璃的熔解性提高的成分，但在该玻璃组分体系中，通过以质量％表示有6％以上的含有量而发挥效果，所以优选。另一方面，B2O3以质量％表示超过16％时，则熔融时的蒸发量变多，容易使玻璃不均质，所以不优选。
关于玻璃组分中的OH基含有量，通过用红外分光光度计测量在红外区域的透过率，可以特别规定其含有量，但是在50ppm～700ppm的范围内时，可以使高温的熔融玻璃的粘性达到比玻璃的104dPa·sec适当的粘性值，且对于以各种成型方法成型的玻璃表面，可以得到组分均质且具有平滑的表面状态的玻璃的成型体，所以是适宜的。
另外，在本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的各玻璃组分中，通过采用高纯度原料和其配备的熔融环境来精密地控制U(铀)、Th(钍)、Ra(镭)、Fe2O3、PbO、TiO2、MnO2、ZrO2等不纯物的含有量，特别是对于影响到固体成像元件用覆盖玻璃的紫外线附近的透过率的Fe2O3、PbO、TiO2、MnO2，优选分别按1～100ppm的顺序来管理。另外，对于成为α射线引起的CCD等的软错误的原因的U、Th、Ra，可以分别按0.1～10ppb的顺序来管理。而且，通过这样的管理，固体成像元件用覆盖玻璃的α射线放出量需要在0.5c/cm2·hr以下。
本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法是具有在耐热性容器内熔融玻璃原料混合物的工序、将获得的熔融玻璃成型为平板玻璃的工序、在该平板玻璃的两个透光面中的至少一个透光面上形成覆盖膜的成膜工序、向在两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜的带覆盖膜平板玻璃射出激光的射出工序、将射出工序后的平板玻璃分割成小片玻璃的工序的方法，只要以这个方法为基础，则对于覆盖玻璃的任何一个端面，都可以获得其形状品质和外观品质优良、缺口和裂纹等构造缺陷很难产生的两面带膜状态的薄平板玻璃。
在这里，所谓具有在耐热性容器内熔融玻璃原料混合物的工序、将获得的熔融玻璃成型为平板玻璃的工序、在该平板玻璃的两个透光面中的至少一个透光面上形成覆盖膜的成膜工序、向在两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜的带覆盖膜平板玻璃射出激光的射出工序、将射出工序后的平板玻璃分割成小片玻璃的工序，是指如下所述的含义。即具有：在具备有耐热性的陶瓷制的炉壁的玻璃熔融炉或有耐热性的白金等贵金属制的玻璃熔融锅中，把熔融玻璃熔融成为均质状态的工序、把通过该工序得到的均质状态的熔融玻璃用成型装置成型为具有规定厚度的平板玻璃的工序、在成型的平板玻璃的厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面上形成规定材质的覆盖膜的工序、通过对在覆盖膜形成工序得到的至少一个透光面上被成膜有膜的平板玻璃的透光面照射激光，留下作为用于通过激光分割平板玻璃的预备裂缝线的照射痕的工序、以及通过重复地执行对预备裂缝线进行分割的操作而把激光照射后的两面带膜平板玻璃从原来的平板玻璃分割成小容积的平板玻璃的工序。
关于在耐热性容器内熔融玻璃原料混合物的工序，是把熔融玻璃均质化的物理操作，即只要是在具有搅拌操作或起泡等操作装置的环境下能够把玻璃均质化的操作，则关于用于加热熔融玻璃的加热手段和装置的尺寸，或者装置的外形，可以使用任意的。
另外，关于把获得的熔融玻璃成型为平板玻璃的工序，只要是透光面的成型精度能够达到规定的精度的方法，则可以采用任何成型方法。例如，可以是把通过浇铸成型获得的块状材料切片做成平板玻璃的操作，另外也可以是采用利用金属锡镀浴的漂浮法，或者下拉成型法等各种成型方法的操作。
关于在该平板玻璃的两个透光面中的至少一个透光面上形成覆盖膜的成膜工序，如上所述，只要利用恰当的方法能够把各种覆盖膜材料制成薄膜状，则不管是什么样的方法都可以采用。
关于向在两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜的带覆盖膜平板玻璃射出激光的射出工序，只要能够通过将按规定的输出条件设定输出值的激光照射到覆盖膜和玻璃板两者上，并在平板玻璃上产生预备裂缝线，则不管是以什么样的方法照射激光的操作都可以采用。
另外，对将射出工序后的平板玻璃分割成小片玻璃的工序而言，只要是通过对有预备裂缝线的平板玻璃实施规定的重复操作，在预备裂缝线的裂缝前端施加拉伸力，从而把一块平板玻璃分割成两块以上小容积的平板玻璃的操作，则不管采用什么方法都可以。
本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法的特征为：将熔融玻璃成型为平板玻璃的工序，是将熔融玻璃以同一速度向下方延伸成型，然后对平板玻璃进行冷却固化。可以连续地成型板的厚度尺寸精度和平板玻璃透光面的面精度高的平板玻璃。
在这里，所谓将熔融玻璃成型为平板玻璃的工序是将熔融玻璃向下方延伸成型，然后对平板玻璃进行冷却固化，是指使用采用了向下方延伸成型的成型手段的装置来成型平板玻璃的操作，且在用希望的成型方法成型高温状态的熔融玻璃的时候，通过轧辊等有耐热构造的装置向熔融玻璃施加延伸力并使其延伸，由此用实现规定的表面精度、厚度、板面积的方法来成型。例如，作为延伸成型的方法，具体地表示通过流孔下引法(slot down draw)、溢流熔融法(overflow down draw)(或熔化法)、滚压(roll out)成型法、多级(redraw)成型法等成型手段来成型为平板玻璃形状的方法。
本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法除以上所述外，只要分割成小片玻璃的工序是折断分开工序，就可以沿着事先形成的用于分割的预备裂缝线分断或者分割成正确的形状，获得具有高尺寸精度的平板玻璃小片，所以是优选的。
所谓分割成小片玻璃的工序是折断分开工序，是指如下的工序：通过从有预备裂缝线的带膜平板玻璃的背面向带膜的平板玻璃施加规定的按压力来把带膜的平板玻璃折弯，然后在预备裂缝线的裂缝前端施加适度的拉伸力，结果把一块两面带膜的平板玻璃分割成两块带膜的平板玻璃，重复进行如上的操作，从而把一块带膜的平板玻璃细分割成数块小片的带膜平板玻璃。作为带膜平板玻璃，既可以只是在激光照射面即施加按压力的面的背面配置膜，也可以在两面都配置膜，但是只要最终成为两面带膜的状态，则在制造效率上优选预先在两面配置膜。
关于折断分开工序，需要注意不要因为向被分割的各个平板玻璃施加不要的应力和冲击而在平板玻璃上产生崩纹和伤痕等缺陷，另外还需要充分留意不要让在折断分开时产生的微细的粉尘附着在平板玻璃表面上。
发明的效果
(1)如以上所述，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，覆盖玻璃的外周端面由用激光切断的面形成，由于覆盖膜是在激光切断之前形成的，所以因设置在覆盖玻璃的透光面上的覆盖膜对平板玻璃的结合力变大，平板玻璃和覆盖膜的界面变成具有高的机械强度、硬度的状态，覆盖膜变得难以轻易地剥离。
(2)另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，在厚度方向上相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，只要覆盖膜的外周端粘合在透光面上，则能够成为可以降低在平板玻璃的端面部产生的各种缺陷的产生率，且具有高品质的覆盖玻璃。
(3)另外，只要本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的覆盖膜是防反射膜，则能够使规定的波长区域范围的覆盖玻璃的透过率达到足够高的状态，所以能够使足够的光量入射到固体成像元件，从而能够使固体成像元件的性能达到所设计的优良的品质。
(4)再者，只要本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的覆盖膜的外周端是被激光加工时产生的热加热而粘合在透光面上，则不会在激光切断面上形成大的凹凸，所以可以减小与收纳覆盖玻璃和固体成像元件的陶瓷等基板的粘合面积，即使减小粘合面积也可以实现足够高的粘合强度。另外，即使收纳于固体成像元件封装件的固体成像元件的面积变大，也没必要显著增大封装件外形尺寸，可以通过增大封装件的收纳固体成像元件的内腔部的面积来应对。
(5)另外，只要本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的覆盖膜是光学薄膜，且膜的厚度在0.01μm至100μm的范围，则通过调节膜的厚度就能够赋予带膜平板玻璃各种光学性能。
(6)另外，关于本发明的固体成像元件用覆盖玻璃，只要覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度在30μm以下，并且凹陷长度在500μm以下，则可以抑制形成于覆盖玻璃表面的被膜容易剥落的问题，或者覆盖玻璃的机械强度变低的问题。
(7)另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃，只要固体成像元件是CCD或者CMOS，则其为在与搭载于为了搭载在信息携带设备等所需要的薄型固体成像元件上的厚度尺寸小的固体成像元件用覆盖玻璃也能够对应的机械性能上，具有稳定的品质的覆盖玻璃。
(8)另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃，只要无机氧化物玻璃制的薄板状玻璃的组分按换算成氧化物且以质量百分率表示时，包含有SiO2 56～70％、Al2O3 0.5～18％、B2O3 5～20％、RO 0.1～20％(RO＝MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)、ZnO 0～9％、M2O 1～18％(M2O＝Li2O+Na2O+K2O)，则除了在可视区域的透过率性能和耐水性、耐酸性之类的化学耐久性性能外，也可以作为成为轻量化基准的密度足够低的玻璃材料，再者，还可以作为具有相应的硬度的材质，所以可以构成轻量且具有稳定的强度性能的覆盖玻璃。
(9)本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法，由于具有在耐热性容器内熔融玻璃原料混合物的工序、将获得的熔融玻璃成型为平板玻璃的工序、在该平板玻璃的两个透光面中的至少一个透光面上形成覆盖膜的成膜工序、向两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜的带覆盖膜平板玻璃射出激光的射出工序、将射出工序后的平板玻璃分割成小片玻璃的工序，所以在把平板玻璃细分为小片状的切断后，不需要构筑象在各个小片状的平板玻璃上分别形成覆盖膜那样复杂的工序，从而可以高效地制造平板玻璃。
(10)另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法，只要将熔融玻璃成型为平板玻璃的工序是将熔融玻璃向下方延伸成型，然后对平板玻璃进行冷却固化的工序，则通过恰当地管理做为母材的平板玻璃的起伏等表面品质，能够高速地进行可满足来自顾客的尺寸精度要求的熔融玻璃的精密成型，并能够通过实现高的制造效率来实现与市场要求相称的品质和价格。
(11)另外，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法，只要分割成小片玻璃的工序是折断分开工序，则分割成小片玻璃的工序不会成为复杂的工序，所以容易进行管理，也能够容易地检测出有缺陷的部分，因此能够成为优质品率高的工序。
附图说明
图1是关于本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的端面的说明图。
图2是本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的说明图，(A)是立体图，(B)是局部剖面图。
图3是对第一加工后的带膜薄板状玻璃实施第二加工时的加工方法的说明图。
符号说明
1、10固体成像元件用覆盖玻璃
2平板玻璃的端面
3、11平板玻璃的第一透光面
4、12平板玻璃的第二透光面
5、13第一加工面
6、14第二加工面
20薄板玻璃
30线状头部
C1成膜在平板玻璃的第一透光面上的被膜
C2成膜在平板玻璃的第二透光面上的被膜
G平板玻璃
M工作方向
W平板玻璃端面的凹陷的棱线方向的长度尺寸
H平板玻璃端面的凹陷的平板玻璃厚度方向的深度尺寸
L平板玻璃端面的凹陷的平板玻璃透光面方向的深度尺寸
具体实施方式
下面，对本发明的固体成像元件用覆盖玻璃及其制造方法，根据实施例详细地进行说明。
实施例1
本发明的固体成像元件用覆盖玻璃的立体图(A)和其局部放大剖面图(B)分别示于图2。
在图2中，10表示固体成像元件用覆盖玻璃，11表示有关在平板玻璃G的厚度方向上相对的两个透光面的第一透光面，12表示与第一透光面11相对的第二透光面，13表示平板玻璃侧周的第一加工面，14表示平板玻璃侧周的第二加工面，C1表示施与第一透光面上的被膜，C2表示施与第二透光面上的被膜。
该固体成像元件用覆盖玻璃10，以氧化物换算的质量％表示来表明其玻璃组分时，使用由具有SiO2 60％、Al2O3 14.7％、B2O3 11％、RO(RO＝MgO+BaO)3％、JO(JO＝CaO+SrO)11.3％，OH基量565ppm的组分的无碱硼硅酸玻璃组成的薄板玻璃，或者是具有SiO2 58～69％、Al2O3 0.5～15％、B2O3 5～20％、M2O(M2O＝Li2O+Na2O+K2O)1～20％、RO (RO＝MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)0.1～20％、ZnO 0～9％的基本组分的铝硼硅酸盐玻璃，并用作收纳光半导体元件即CMOS元件的封装件的窗板玻璃，该CMOS元件的用途是用于搭载于手机等。该固体成像元件用覆盖玻璃的外形尺寸是5mm×5mm×0.3mm的非常小的尺寸，如前面所述，在平板玻璃G的相对的两个透光面中的第一透光面11的表面通过采用真空蒸镀法，以均等的厚度形成厚度尺寸为10μm的防反射膜(也称为AR镀膜)C1，从而成为没有气孔等缺陷的状态。
另外，在与第一透光面11相对的第二透光面12的表面上，与第一透光面11同样，通过真空蒸镀法形成厚度10μm的防反射膜C2。
由于施与两个透光面的防反射膜C1、C2都是在该平板玻璃G被切断加工成为5mm×5mm的透光面前成膜的，所以覆盖膜不是转入到平板玻璃侧面的局部而被成膜的。该覆盖膜的组成是由由SiOX-TiOX系列构成的4层组成的。
再者，如下面所述，上面所述的平板玻璃侧周的第一加工面13和平板玻璃侧周的第二加工面14是通过激光照射和照射之后的按压这两个阶段的激光切断加工而形成的面，所以其表面没有大的凹凸，其结果是，在与固体成像元件用封装件进行粘接时，能够减小固体成像元件用封装件和覆盖玻璃的粘接面积，因此，也可以减小封装件整体的外形尺寸。另外，即使是具有大的面积的固体成像元件，只要增大收纳固体成像元件的封装件的内腔部面积即可，所以不用增大封装件外形尺寸就能收纳大型的固体成像元件。再者，因为在激光切断面未形成大的凹凸，所以自平板玻璃侧周产生的粉尘的产生量被抑制，从而可以获得清洁的平板玻璃。
下面，关于上述的固体成像元件用覆盖玻璃，对其制造方法进行说明。
首先，为了成为规定的玻璃组分，在称量了预先选定的高纯度的玻璃原料后，使用搅拌器等粉末混合装置(省略示意图)进行混合，制成被混合成均质状态的混合玻璃原料。该混合玻璃原料使用投入机被连续地投入保持在1000℃以上的高温的耐热性容器(省略示意图)即由白金等贵金属或者陶瓷等耐火物构成的玻璃熔融炉内。投入到玻璃熔融炉内的混合玻璃原料在玻璃熔融炉内被加热到高温而发生玻璃化反应，成为粗熔融状态的熔融玻璃。之后，该粗熔融状态的熔融玻璃通过运用搅拌操作或起泡(bubbling)等规定的物理的均质化装置而成为均质状态的熔融玻璃。
这样获得的均质熔融玻璃流入到配接于耐热性容器的成型装置(省略示意图)。在这里，成型装置有两种形式，一种是可延伸成型的形式，另一种是在通过浇铸成型做成块状的母材玻璃后，从母材玻璃上切出平板玻璃的形式。
首先对前一种延伸成型进行说明。使用的平板玻璃成型装置在顶部具有上部开口的细长沟形的熔融玻璃供给槽，并且具备把该玻璃供给槽的两侧槽壁顶部作为溢出的溢出堰，以使两侧槽壁的外面部的截面形状成为大致楔形的方式使两侧槽壁的外表面彼此朝向下方相互地接近，并在下端终结的成型体。在熔融炉内被均质化的熔融玻璃从玻璃供给槽的一端连续地被供给并从两侧槽壁顶部棱线溢出，然后沿着成型体的两侧槽壁外面流下，并在大致楔形的下端合流，从而成为一块平板玻璃状态。通过适当地调节熔融玻璃温度和延伸速度等各条件，并通过用安装在下部的可拆卸耐热性滚子以规定速度拉出，将熔融玻璃向下方以同一速度延伸成型，由此，通过冷却固化能够将平板玻璃的成型厚度尺寸控制在最适宜的状态。将这样成型的带状的薄板玻璃按规定长度进行划线切割，由此做成薄板玻璃母材。
另外，关于用后一种浇铸成型获得的母材块，通过使用采用游离磨料的线切割装置等规定的切割装置把块切割成薄板玻璃状。接着，通过使用具备人工皮革的旋转研磨机(省略图示)，一边自动供给将氧化铈等游离磨料分散在水等中形成的浆液，一边对获得的已切断母材玻璃实施研磨加工，且对平板玻璃的两面实施研磨加工，直至母材玻璃的表面粗度以Ra值计为1.1nm的镜面，之后进行洗净、干燥，做成镜面状态的薄板玻璃母材。
用上面所述的两种方法制造成的薄板玻璃母材尺寸可以在如下的范围成型，即，长度：50～600mm，宽度：50～600mm，厚度：0.1～50mm，并可以根据需要进行变更。
关于按上述方式获得的薄板玻璃母材，经过在其厚度方向相对的透光面的两个表面11、12通过使用真空蒸镀装置，被成膜由SiOX-TiOX系列构成的4层防反射膜C1、C2的成膜工序，获得覆盖膜被施与在厚度方向上相对的两个透光面上的已形成被膜的平板玻璃母材。
按以下所述的步骤把已形成被膜的平板玻璃母材即通过在两个透光面上形成覆盖膜的成膜工序，在两个面上形成有覆盖膜的平板玻璃做成小片平板玻璃。
首先，使用利用二氧化碳气体激光的热加工激光切割装置，在被成膜的面上，作为预备分割线以激光光束移动速度为180±5mm/sec，或220±5mm/sec，激光输出功率为120±5W或160±5W的条件进行棋盘格状的第一加工，直至厚度达到已形成被膜的平板玻璃母材的厚度方向的20％为止。这样，通过实施第一加工而形成的面，在切断后成为图2(A)中的第一加工面13。
接着，如图3概念性图示，对于在薄板玻璃20的第一加工面13的某透光面11的相反侧已被成膜的透光面12，使金属制的线状头部30沿工作方向M移动，同时用夹具(省略图示)按压薄板玻璃20的第一加工面13侧的已被成膜的透光面12，由此，对薄板玻璃20的第一加工面13施加适当的应力，并以1×10-3m/sec的按压速度进行压断。这样，通过进行第二加工的割断操作，而获得沿着第一加工所形成的作为断裂起源的预备线被分割的短栅状的平板玻璃。由该第二加工所形成的面是图2(A)中的第二加工面14。这样经过压断加工成的短栅状的平板玻璃，利用真空镊子(省略图示)分别被运送到下一个工序。然后，通过再次压断加工短栅状的平板玻璃获得最终的固体成像元件用覆盖玻璃。
这样获得的固体成像元件用覆盖玻璃，通过在形成第一加工面13的时候所进行的激光照射，在透光面11的覆盖膜C1的外周端，覆盖膜C1利用激光产生的热加热成为与玻璃表面11坚固地粘接的状态，所以透光面上的覆盖膜很难轻易地剥落。
接着，对于用上述的制造方法而获得的本发明的固体成像元件用覆盖玻璃，把对于由产生在其端面的崩裂等造成的凹陷缺陷的尺寸进行调查的结果进行整理并显示在表1中。与该覆盖玻璃相关的测量是预先检查10万块覆盖玻璃，并把在该检查中确认在端面部有凹陷的每一块覆盖玻璃集中起来，在此基础上，为了确认该凹陷的大小，利用电子显微镜进一步地进行测量。
在表1中，从试样No.1到试样No.17是有在包含作为第一透光面和第一加工面的边界的棱线的部分上产生的崩裂等凹陷缺陷的试样，从试样No.18到试样No.26是有在包含作为第二透光面和第二加工面的边界的棱线的部分上产生的崩裂等凹陷缺陷的试样。
[表1]
Figure A20078004553600281
从表1可知，凹陷的棱线方向长度W是从10μm到280μm范围的尺寸值，都是在500μm以下的尺寸。另外，凹陷的平板玻璃透光面方向的深度方向尺寸L都比平板玻璃厚度方向的深度尺寸H大，是从2μm到17μm范围的尺寸值，在30μm以下。
这样，本发明的固体成像元件用覆盖玻璃是具有无大尺寸的崩裂那样的凹陷缺陷的完整的形状尺寸，且有高的尺寸稳定性的优秀的覆盖玻璃，也很难发生由凹陷所造成的强度的降低和膜的脱落。

Claims (11)

1、一种固体成像元件用覆盖玻璃，其是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，
在厚度方向相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，所述覆盖玻璃的外周端面由用激光切断的面形成，所述覆盖膜是在激光切断之前形成的。
2、一种固体成像元件用覆盖玻璃，其是无机氧化物玻璃制的薄板状的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，
在厚度方向相对的两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜，该覆盖膜的外周端粘合在透光面上。
3、如权利要求1或权利要求2所述的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，所述覆盖膜是防反射膜。
4、如权利要求1至权利要求3所述的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，所述覆盖膜的外周端通过被激光加工时产生的热加热而粘合在透光面上。
5、如权利要求1至权利要求4中任一项所述的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，所述覆盖膜是光学薄膜，该光学薄膜的厚度在0.01μm～100μm的范围内。
6、如权利要求1至权利要求5中任一项所述的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，所述覆盖玻璃的外周端面的凹陷深度在30μm以下，并且凹陷长度在500μm以下。
7、如权利要求1至权利要求6中任一项所述的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，该固体成像元件是CCD或CMOS。
8、如权利要求1至权利要求7中任一项所述的固体成像元件用覆盖玻璃，其特征在于，无机氧化物玻璃制的薄板状玻璃的组分按换算成氧化物且以质量百分率表示时，包含有SiO256～70％、Al2O30.5～18％、B2O35～20％、RO 0.1～20％(RO＝MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)、ZnO0～9％、M2O 1～18％(M2O＝Li2O+Na2O+K2O)。
9、一种固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，包括：在耐热性容器内熔融玻璃原料混合物的工序、将获得的熔融玻璃成型为平板玻璃的工序、在该平板玻璃的两个透光面中的至少一个透光面上形成覆盖膜的成膜工序、向在两个透光面中的至少一个透光面具有覆盖膜的带覆盖膜平板玻璃射出激光的射出工序、将射出工序后的平板玻璃分割成小片玻璃的工序。
10、如权利要求9所述的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，在将熔融玻璃成型为平板玻璃的工序中，将熔融玻璃向下方延伸成型，然后冷却固化平板玻璃。
11、如权利要求9所述的固体成像元件用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，分割成小片玻璃的工序是折断分开工序。
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