CN111141506A - 一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置及方法。使用本发明能够实现气体密封器件内腔体容积在0.005cm³～0.1cm³之间的极微小密封器件腔体气体压力和组分含量的测量。本发明是一种静态膨胀和动态流量质谱分析法相结合的测量方法。双小孔结构既可以克服气体取样质量歧视效应，也可以确保压力测量腔和组分测量腔压力稳定。可以解决现有方法测量过程中被测密封器件腔体压力衰减快，质谱分析时序响应慢，无法实现密封器件内部腔体容积特别小的产品气体组分准确测量的难题。

Description

一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置及方法

技术领域

本发明涉及真空测量技术领域，具体涉及一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置及方法。

背景技术

航天、航空等领域用气体密封器件，如果内部封装的杂质气体，如水气、氧气、氢气及二氧化碳等浓度含量过高，会对器件内部产生腐蚀、电性能参数漂移、电子迁移等危害，导致器件功能丧失，因此密封器件腔体气体压力和组分含量是评价气密封器件封装可靠性的重要指标之一。传统测试方法采用腔体穿刺取样和动态质谱分析同时进行的方法，取样分析过程中导致被测密封器件腔体压力快速衰减，对于极微小密封器件，由于腔体内含有的总气体量较少，而质谱分析方法具有一定的响应时间，限制了现有方法的应用范围。目前，随着电子封装技术的高速发展，密封电子元器件的内腔体体积大幅缩小，已由传统的以0.1cm³以上腔体容积为主，向0.1cm³以下腔体容积发展，市场已有的密封器件产品腔体容积最小可以达到0.005cm³。因此，现有的密封器件腔体气体组分含量测量方法已无法满足当前极微小密封器件封装技术评价的需要。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置及方法，结合静态膨胀法和动态流量质谱分析法，实现气体密封器件内腔体容积在0.005cm³～0.1cm³之间的极微小密封器件腔体气体压力和组分含量的测量，可以满足航天、航空用高可靠性密封元器件内腔体残余气体含量测量和校准，为此类封装元器件产品的材料选型、生产工艺、鉴定检验等提供技术手段。

本发明的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，包括：压力测量腔、穿刺结构、组分测量腔、抽空腔、取样小孔、抽空小孔、抽气单元和质谱计；

其中，被测密封器件放置在压力测量腔中；穿刺结构安装在压力测量腔上，用于实现被测密封器件的穿刺；压力测量腔一方面通过串联的截止阀B、取样小孔、截止阀C与组分测量腔连接，另一方面通过截止阀A与组分测量腔连接；组分测量腔通过抽空小孔与抽空腔连接；质谱计用于分析组分测量腔内气体组分；

所述抽气单元包括低真空泵和高真空泵，所述高真空泵通过隔断阀C与抽空腔连接，通过隔断阀D与低真空泵连接；低真空泵通过隔断阀B与抽空腔连接，通过隔断阀B、隔断阀A与组分测量腔连接。

较优的，所述穿刺结构包括穿刺施力法兰，穿刺回座弹簧，穿刺波纹管和穿刺针，其中，穿刺回座弹簧和穿刺波纹管安装在穿刺施力法兰与压力测量腔的外壁之间；穿刺针安装在穿刺施力法兰上，伸入压力测量腔内部并与压力测量腔动密封。

较优的，还包括被测密封器件压紧环，用于固定被测密封器件。

较优的，压力测量腔和组分测量腔采用球形或圆柱体结构，按照极高真空获得要求进行设计，本底漏放气速率不大于2×10^-8Pa·m³/s，压力测量腔有效容积不大于1×10^{- 4}m³，组分测量腔有效容积不大于1×10^-3m³。

较优的，取样小孔分子流状态下流导在10^-8m³/s量级，采用不锈钢或无氧铜材料、激光打孔方式制作；抽空小孔直径为1mm～10mm，最小直径间距为0.5mm，采用不锈钢或无氧铜材料制作。

较优的，所述的低真空泵和高真空泵，采用涡旋干泵和涡轮分子泵组合的方案；高真空泵工作时，向抽空腔提供的有效抽速不小于抽空小孔分子流状态下流导的100倍；低真空泵工作时，能在5min内将组分测量腔和抽空腔由环境大气压力抽空至1Pa以下。

较优的，所述被测密封器件为带有密封腔体的电子元器件，厚度在0.5mm～4mm之间，内部密封腔体容积在0.005cm³～0.1cm³之间。

本发明还提供了一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量方法，采用上述测量装置进行测量，包括如下步骤：

步骤1，将被测密封器件安装在压力测量腔内；

步骤2，启动低真泵，依次打开隔断阀B、隔断阀C、隔断阀D、隔断阀A、截止阀A、截止阀B和截止阀C；

步骤3，当组分测量腔内的压力小于10Pa后，启动高真空泵，关闭隔断阀C；

步骤4，当压力测量腔内的压力小于1×10^-2Pa后，关闭截止阀A和截止阀B，记录压力测量腔压力随时间变化曲线，并计算得到压力测量腔的本底漏放气速率值；

步骤5，若压力测量腔本底漏放气速率小于2×10^-8Pa·m³/s，则执行步骤6，否则打开截止阀A和截止阀B对压力测量腔继续抽空，直至满足本底漏放气速率指标要求；

步骤6，在确保截止阀A和截止阀B关闭的情况下，记录压力测量腔的压力值，然后用力按下穿刺结构，然后松开，观察压力测量腔的压力变化情况，如果未发生明显变化，则重新用力按下穿刺结构；

步骤7，依据公式(1)计算被测密封器件腔体压力值：

式中：p_T为被测密封器件的腔体压力值，Pa；p₀、p₁为被测密封器件穿刺前后，压力测量腔的压力值，Pa；V₀为压力测量腔有效容积值，m³；V_T为被测密封器件腔体有效容积值，m³。

步骤8，气体组分测量过程中，通过选择合适直径的抽空小孔和调节隔断阀C开启度，控制组分测量腔的压力在2×10^-4Pa～2×10^-3Pa之间；

步骤9，当组分测量腔的压力小于5×10^-3Pa后，启动质谱计，关闭隔断阀A，继续抽真空至组分测量腔的压力小于2×10^-5Pa后，记录质谱计给出的组分测量腔本底残余气体扫描谱图；

步骤10，.打开截止阀B，将压力测量腔内的气体经取样小孔取样至组分测量腔中，同时记录质谱计给出的测量腔残余气体扫描谱图；

步骤11，采用公式(2)计算被测密封器件腔体气体组分及摩尔浓度含量：

式中：F_i为被测密封器件腔体中i组分气体的摩尔浓度含量，％；I_i为取样过程中，质谱计给出的组分测量腔中i组分气体特征峰离子流强度，A；I_i0为取样前，本底扫描过程中，质谱计给出的组分测量腔中i组分气体特征峰离子流强度，A；A_i为校准证书中给出的质谱计对应i质量数离子流强度修正因子；n为取样过程中，质谱计给出的有明显信号的残余气体种类。

本发明是一种基于静态膨胀和动态流量质谱分析法相结合的极微小密封器件腔体气体压力测量装置及方法。放置在经过抽空处理后的压力测量腔内的被测密封器件，采用穿刺结构刺破后，被测密封器件腔体内部气体会膨胀到压力测量腔中，利用等温膨胀气体状态方程可以由膨胀后压力测量腔压力计算获得被测密封器件腔体气体压力。在压力测量腔和组分测量腔之间安装有固定流导的取样小孔，在组分测量腔和抽空腔之间安装有直径可调的抽空小孔，压力测量腔内气体经取样小孔，进入组分测量腔，再经抽空小孔进入抽空腔后被抽空机组抽走，双小孔结构既可以克服气体取样质量歧视效应，也可以确保压力测量腔和组分测量腔压力稳定。通过安装在组分测量腔上的分压力质谱计，采用残余气体扫描模式获得质谱扫描谱图，再利用质谱分析方法获得残余气体种类和摩尔浓度含量，并将此结果当作被测密封器件腔体气体组分测量结果。

本发明可以实现内腔体容积在(0.005～0.1)cm³之间的极微小密封器件腔体气体压力和组分含量的测量，解决现有方法测量过程中被测密封器件腔体压力衰减快，质谱分析时序响应慢，无法实现密封器件内部腔体容积特别小的产品气体组分准确测量的难题。能够满足航天、航空用高可靠性气密封装元器件内腔体残余气体含量准确测量需求，为带有密封腔体的电子元器件，如晶振、二极管、数字开关电路等封装元器件产品的材料选型、生产工艺、鉴定检验等提供评价手段。

有益效果：

(1)采用基于极高真空获得和高精度真空测量技术的静态膨胀法开展极微小密封器件腔体压力测量，具有测量下限低、测量不确定度小的优点。

(2)采用固定取样小孔和抽空小孔的双小孔动态流量质谱分析法，既可以克服单个小孔进样过程中质量歧视效应导致的气体组分含量测量准确问题，也可以有效控制质谱扫描过程中的动态流量和测量腔体压力值，降低质谱扫描过程气体分压力变化导致的气体浓度含量测量不确定度问题。

附图说明

图1为本发明装置示意图。

其中，1-真空计A；2-压力测量腔；3—穿刺施力法兰；4—穿刺回座弹簧；5—穿刺波纹管；6—穿刺针；7—被测密封器件压紧环；8—被测密封器件；9—被测密封器件安装法兰；10—截止阀A；11—截止阀B；12—取样小孔；13—截止阀C；14—真空计B；15—组分测量腔；16—隔断阀A；17—抽空小孔；18—分压力质谱计；19—抽空腔；20—隔断阀B；21—隔断阀C；22—低真空泵；23—高真空泵；24—隔断阀D。

具体实施方式

下面结合附图并举实施例，对本发明进行详细描述。

本发明提供了一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置及方法，如图1所示，包括真空计A 1、真空计B 14，压力测量腔2，穿刺结构，被测密封器件压紧环7，被测密封器件8，被测密封器件安装法兰9，截止阀A 10、截止阀B 11、截止阀C 13，取样小孔12，组分测量腔15，隔断阀A 16、隔断阀B 20、隔断阀C 21、隔断阀D 24，抽空小孔17，分压力质谱计18，抽空腔19，低真空泵22，高真空泵23及相应的管道。

其中，真空计A 1安装在压力测量腔2上，用于实现压力测量腔2压力测量；压力测量腔2用于放置被测密封器件8，为密封器件腔体压力和组分测量提供测试环境；穿刺结构安装在压力测量腔2上，用于实现被测密封器件的穿刺和内部气体取样；被测密封器件压紧环7安装在压力测量腔2内部，用于固定被测密封器件8，防止被测密封器件穿刺过程中发生位移；被测密封器件8是需要测量的对象；被测密封器件安装法兰9安装在压力测量腔2上，用于实现被测密封器件8的安装和压力测量腔2真空密封；截止阀A 10安装在压力测量腔2和组分测量腔15之间，用于实现压力测量腔的高真空获得；截止阀B11和截止阀C 13安装在压力测量腔2和组分测量腔15之间，用于实现组分测量时的小孔取样；取样小孔12安装在截止阀B11和截止阀C13之间，用于实现组分测量过程中的取样量控制；真空计B14安装在组分测量腔15上，用于实现组分测量腔15压力监测；组分测量腔15用于实现密封器件腔体气体组分测量，采用取样分析的方式实现；隔断阀A 16安装在组分测量腔15和抽空腔19之间，用于实现组分测量腔的高真空获得；抽空小孔17安装在组分测量腔15和抽空腔19之间，用于实现密封器件腔体气体组分测量过程中的组分测量腔15压力控制；分压力质谱计18在组分测量腔15上，用于实现密封器件腔体气体组分测量过程中的取样分压力测量；抽空腔19经隔断阀C 21安装在高真空泵23入口处，用于实现抽空小孔17出口端压力控制；隔断阀B 20安装在隔断阀A 16和抽空腔19的公共端上，用于形成低真空抽空通道；隔断阀C 21安装在抽空腔19和高真空泵23之间，用于形成高真空抽空通道；低真空泵22安装在隔断阀B 20和隔断阀D 24之后，用于实现测量装置低真空获得和高真空泵工作过程中的前级真空维持；高真空泵23安装在隔断阀C 21和隔断阀D 24之间，用于实现测量装置高真空获得；隔断阀D24安装在隔断阀B 20、低真空泵22和高真空泵23之间，用于隔断高真空和低真空区域。

其中，穿刺结构由穿刺施力法兰3、穿刺回座弹簧4、穿刺波纹管5和穿刺针6组成，其中穿刺回座弹簧4和穿刺波纹管5构成可移动机构，能够在外力的作用下实现穿刺针6的移动，而穿刺针6设计为可拆卸结构，可根据被测密封器件8的厚度选择合适长度的穿刺针6。

穿刺结构采用可移动的动密封结构设计，压力测量腔2和组分测量腔15采用球形或圆柱体结构，按照极高真空获得要求进行设计，本底漏放气速率应不大于2×10^-8Pa·m³/s，压力测量腔2有效容积不大于1×10^-4m³，组分测量腔有效容积不大于1×10^-3m³。取样小孔12分子流状态下流导应在10^-8m³/s量级，可选用不锈钢或无氧铜材料、激光打孔方式制作；抽空小孔17直径在1mm～10mm内可选，最小直径间距为0.5mm，可选用不锈钢或无氧铜材料制作的一组小孔。

所述的低真空泵22和高真空泵23，采用涡旋干泵和涡轮分子泵组合的方案，高真空泵23工作时，向抽空腔19提供的有效抽速应不小于抽空小孔17分子流状态下流导的100倍，低真空泵23工作时，可以在5min内将组分测量腔15和抽空腔19由环境大气压力抽空至1Pa以下。

所述的被测密封器件，通常为带有密封腔体的电子元器件，如晶振、二极管、数字开关电路等，其厚度在0.5mm～4mm之间，内部密封腔体容积在0.005cm³～0.1cm³之间。

采用上述测量装置的测量方法，包括下列步骤：

(1).将被测密封器件安装法兰9从测量装置上取下，将被测密封器件8安装在被测密封器件安装法兰9，并采用被测密封器件压紧环7压紧，然后再将被测密封器件安装法兰9安装到测量装置上；

(2).启动低真泵22、真空计A 1和真空计B 14，依次打开隔断阀B 20、隔断阀C 21、隔断阀D 25、隔断阀A 16、截止阀A 10、截止阀B 11和截止阀C 13，观测真空计B 14的指示值变化情况；

(3).当真空计B 14指示压力小于10Pa后，启动高真空泵23，关闭隔断阀C 21，观察真空计A 1的指示值变化情况；

(4).当真空计A 1指示压力小于1×10^-2Pa后，可以关闭截止阀A 10和截止阀B11，记录压力测量腔2压力随时间变化曲线，由测量腔2压力、压力测量腔容积和测量时间，计算出压力测量腔2本底漏放气速率值；

(5).当测量结果表明测量腔2本底漏放气速率小于2×10^-8Pa·m³/s时，可以进行后续步骤，否则需要打开截止阀A 10和截止阀B11对压力测量腔2继续抽空，直至满足本底漏放气速率指标要求；

(6).在确保截止阀A 10和截止阀2关闭的情况下，记录真空计A 1的指示值，然后用力按下穿刺施力法兰3，然后松开，观察真空计A 1的指示值变化情况，如果未发生明显变化，可以重新用力按下穿刺施力法兰3；

(7).依据公式(1)计算被测密封器件腔体压力值：

式中：

p_T—被测密封器件8的腔体压力值，Pa；

p₀、p₁—被测密封器件穿刺前后，真空计A 1指示的压力测量腔2压力值，Pa；

V₀—压力测量腔2有效容积值，m³；

V_T—被测密封器件8腔体有效容积值，m³。

(8).气体组分测量过程中，通过选择合适直径的抽空小孔17和调节隔断阀C 21开启度的方式控制组分测量腔15的压力在2×10^-4Pa～2×10^-3Pa之间；

(9).当真空计B14指示值小于5×10^-3Pa后，启动分压力质谱计18，工作一段时间后，关闭隔断阀A 16，继续抽真空至真空计B14指示值小于2×10^-5Pa后，记录分压力质谱计18给出的组分测量腔15本底残余气体扫描谱图；

(10).打开截止阀B11，将压力测量腔2内的气体经取样小孔12取样至组分测量腔15中，同时记录分压力质谱计18给出的测量腔残余气体扫描谱图；

(11)采用公式(2)计算被测密封器件腔体气体组分及摩尔浓度含量：

式中：

F_i—被测密封器件8腔体中i组分气体的摩尔浓度含量，％；

I_i—取样过程中(一般取截止阀B11打开后1min～3min时间段)，分压力质谱计18给出的组分测量腔15中i组分气体特征峰离子流强度，A；

I_i0—取样前，本底扫描过程中，分压力质谱计18给出的组分测量腔15中i组分气体特征峰离子流强度，A；

A_i—校准证书中给出的分压力质谱计18对应i质量数离子流强度修正因子；

n—取样过程中，分压力质谱计18给出的有明显信号的残余气体种类，一般仅考虑扫描谱图中离子流强度值大于最大离子流强度1/10⁵的谱峰处对应的气体。

其中，所述步骤(7)中的被测密封器件8腔体压力应在于1×10³Pa～1×10⁵Pa之间；步骤(11)中的被测密封器件8被测气体种类主要是H₂O、H₂、O₂、CO₂等分子量小于100的气体，最小可检测组分含量为1×10^-4(V/V)。

本发明采用静态膨胀法实现极微小密封器件腔体压力的测量，该方法结合极高真空获得和高精度真空测量技术，可以克服真空材料放气、测试工装泄漏和真空计非线性等对压力测量结果的影响，具有测量下限低、测量准确度高等特点。再结合动态流量质谱分析法实现极微小密封器件腔体气体种类和含量的测量，该方法采用固定取样小孔和可调节抽空小孔，将压力测量腔体的气体引入到组分测量腔体，既可以克服单个小孔进样过程中质量歧视效应导致的气体浓度含量测量不准确问题，也可以有效控制质谱扫描过程中的动态流量和测量腔体压力值，降低质谱扫描过程气体分压力发生变化导致的气体浓度含量测量不准确的问题。

综上所述，以上仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，包括：压力测量腔(2)、穿刺结构、组分测量腔(15)、抽空腔(19)、取样小孔(12)、抽空小孔(17)、抽气单元和质谱计(18)；

其中，被测密封器件(8)放置在压力测量腔(2)中；穿刺结构安装在压力测量腔(2)上，用于实现被测密封器件(8)的穿刺；压力测量腔(2)一方面通过串联的截止阀B(11)、取样小孔(12)、截止阀C(13)与组分测量腔(15)连接，另一方面通过截止阀A(10)与组分测量腔(15)连接；组分测量腔(15)通过抽空小孔(17)与抽空腔(19)连接；质谱计(18)用于分析组分测量腔(15)内气体组分；

所述抽气单元包括低真空泵(22)和高真空泵(23)，所述高真空泵(23)通过隔断阀C(21)与抽空腔(19)连接，通过隔断阀D(24)与低真空泵(22)连接；低真空泵(22)通过隔断阀B(20)与抽空腔(19)连接，通过隔断阀B(20)、隔断阀A(16)与组分测量腔(15)连接。

2.如权利要求1所述的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，所述穿刺结构包括穿刺施力法兰(3)，穿刺回座弹簧(4)，穿刺波纹管(5)和穿刺针(6)，其中，穿刺回座弹簧(4)和穿刺波纹管(5)安装在穿刺施力法兰(3)与压力测量腔(2)的外壁之间；穿刺针(6)安装在穿刺施力法兰(3)上，伸入压力测量腔(2)内部并与压力测量腔(2)动密封。

3.如权利要求1所述的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，还包括被测密封器件压紧环(7)，用于固定被测密封器件(8)。

4.如权利要求1所述的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，压力测量腔(2)和组分测量腔(15)采用球形或圆柱体结构，按照极高真空获得要求进行设计，本底漏放气速率不大于2×10^-8Pa·m³/s，压力测量腔(2)有效容积不大于1×10^-4m³，组分测量腔有效容积不大于1×10^-3m³。

5.如权利要求1所述的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，取样小孔(12)分子流状态下流导在10^-8m³/s量级，采用不锈钢或无氧铜材料、激光打孔方式制作；抽空小孔(17)直径为1mm～10mm，最小直径间距为0.5mm，采用不锈钢或无氧铜材料制作。

6.如权利要求1所述的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，所述的低真空泵(22)和高真空泵(23)，采用涡旋干泵和涡轮分子泵组合的方案；高真空泵(23)工作时，向抽空腔(19)提供的有效抽速不小于抽空小孔(17)分子流状态下流导的100倍；低真空泵(23)工作时，能在5min内将组分测量腔(15)和抽空腔(19)由环境大气压力抽空至1Pa以下。

7.如权利要求1所述的极微小密封器件腔体气体压力和组分测量装置，其特征在于，所述被测密封器件为带有密封腔体的电子元器件，厚度在0.5mm～4mm之间，内部密封腔体容积在0.005cm³～0.1cm³之间。

8.一种极微小密封器件腔体气体压力和组分测量方法，其特征在于，采用如权利要求1～7任意一项所述的测量装置进行测量，包括如下步骤：

步骤1，将被测密封器件(8)安装在压力测量腔(2)内；

步骤2，启动低真泵(22)，依次打开隔断阀B(20)、隔断阀C(21)、隔断阀D(25)、隔断阀A(16)、截止阀A(10)、截止阀B(11)和截止阀C(13)；

步骤3，当组分测量腔(15)内的压力小于10Pa后，启动高真空泵(23)，关闭隔断阀C(21)；

步骤4，当压力测量腔(2)内的压力小于1×10^-2Pa后，关闭截止阀A(10)和截止阀B(11)，记录压力测量腔(2)压力随时间变化曲线，并计算得到压力测量腔(2)的本底漏放气速率值；

步骤5，若压力测量腔(2)本底漏放气速率小于2×10^-8Pa·m³/s，则执行步骤6，否则打开截止阀A(10)和截止阀B(11)对压力测量腔(2)继续抽空，直至满足本底漏放气速率指标要求；

步骤6，在确保截止阀A(10)和截止阀B关闭的情况下，记录压力测量腔(2)的压力值，然后用力按下穿刺结构，然后松开，观察压力测量腔(2)的压力变化情况，如果未发生明显变化，则重新用力按下穿刺结构；

步骤7，依据公式(1)计算被测密封器件腔体压力值：

式中：p_T为被测密封器件(8)的腔体压力值，Pa；p₀、p₁为被测密封器件穿刺前后，压力测量腔(2)的压力值，Pa；V₀为压力测量腔(2)有效容积值，m³；V_T为被测密封器件(8)腔体有效容积值，m³。

步骤8，气体组分测量过程中，通过选择合适直径的抽空小孔(17)和调节隔断阀C(21)开启度，控制组分测量腔(15)的压力在2×10^-4Pa～2×10^-3Pa之间；

步骤9，当组分测量腔(15)的压力小于5×10^-3Pa后，启动质谱计(18)，关闭隔断阀A(16)，继续抽真空至组分测量腔(15)的压力小于2×10^-5Pa后，记录质谱计(18)给出的组分测量腔(15)本底残余气体扫描谱图；

步骤10，.打开截止阀B(11)，将压力测量腔(2)内的气体经取样小孔(12)取样至组分测量腔(15)中，同时记录质谱计(18)给出的测量腔残余气体扫描谱图；

步骤11，采用公式(2)计算被测密封器件腔体气体组分及摩尔浓度含量：

式中：F_i为被测密封器件(8)腔体中i组分气体的摩尔浓度含量，％；I_i为取样过程中，质谱计(18)给出的组分测量腔(15)中i组分气体特征峰离子流强度，A；I_i0为取样前，本底扫描过程中，质谱计(18)给出的组分测量腔(15)中i组分气体特征峰离子流强度，A；A_i为校准证书中给出的质谱计(18)对应i质量数离子流强度修正因子；n为取样过程中，质谱计(18)给出的有明显信号的残余气体种类。

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