CN111132942A - 盖玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明的盖玻璃，其特征在于，在玻璃组成中，含有SiO2、Al2O3、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、BaO、TiO2、Y2O3、ZrO2、P2O5之内至少3种成分以上，由下式计算出的X值为7400以上。还有，X值是由61.1×[SiO2]+174.3×[Al2O3]+11.3×[B2O3]+124.7×[Li2O]－5.2×[Na2O]+226.7×[K2O]+139.4×[MgO]+117.5×[CaO]+89.6×[BaO]+191.8×[TiO2]+226.7×[Y2O3]+157.9×[ZrO2]－42.2×[P2O5]计算出的值。

Description

盖玻璃
技术领域
本发明涉及盖玻璃，特别是涉及适合手机、数码相机、PDA(移动终端)等的触摸屏显示器的盖玻璃。
背景技术
手机、数码相机、PDA(移动终端)等处于越来越普及的倾向。在这些用途中，作为触摸屏显示器的盖玻璃，使用的是经过离子交换处理的强化玻璃(参照专利文献1、非专利文献1)。
【在先技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】日本特开2006－83045号公报
【专利文献2】日本特表2016－524581号公报
【非专利文献】
【非专利文献1】泉谷徹郎等，“新型玻璃及其物性”，第一版，株式会社管理系统研究所，1984年8月20日，p.451－498
盖玻璃，特别是智能手机所使用的盖玻璃，因为在户外使用的情况很多，所以容易受到硬物刮擦，即容易带有宽度和深度大的划痕。其结果是，盖玻璃容易以此伤痕为起点发生破损。因此，提高盖玻璃的抗划伤性变得重要。
作为提高抗划伤性的方法，提高盖玻璃的硬度得到研究。若详述，则现有的玻璃，其硬度大幅低于大量存在于地上的硅石(砂)，因此具有容易因硅石而表面受伤这样的性质。因此，若提高盖玻璃的硬度，则可考虑表面难以受伤。但是，若想要提高盖玻璃的硬度，则玻璃的高温粘度上升，熔融性和成形性大幅降低。此外玻璃组成的平衡被打破，成形时容易产生失透物。结果是，难以得到好的产品。
另外，若在玻璃表面形成硬质的薄膜，则可知盖玻璃的硬度变高(例如，参照专利文献2)。但是，若在玻璃表面形成硬质的薄膜，则有可能盖玻璃的透明性降低，或由于膜应力导致盖玻璃发生翘曲。
还有，蓝宝石因为硬度高，所以可见其适合于盖构件。但是，蓝宝石难以大量生产大尺寸的板状体。
发明内容
本发明鉴于上述情况而形成，其技术课题在于，设计抗划伤性高的盖玻璃。
本发明者等进行了各种研究的结果发现，由下式1计算出的X值与伤痕的大小密切相关，并且发现，通过将该X值限制在规定值以上，能够解决上述技术课题，从而作为本发明提出。即，本发明的盖玻璃，其特征在于，在玻璃组成中，含有SiO2、Al2O3、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、BaO、TiO2、Y2O3、ZrO2、P2O5之内至少3种成分以上，由下式1计算出的X值为7400以上。若是这样，则表面难以受伤，并且即使有硬物刮擦时，也能够减小此伤痕的宽度和深度。还有，在下式1中，[SiO2]是指SiO2的摩尔％含量，[Al2O3]是指Al2O3的摩尔％含量，[B2O3]是指B2O3的摩尔％含量，[Li2O]是指Li2O的摩尔％含量，[Na2O]是指Na2O的摩尔％含量，[K2O]是指K2O的摩尔％含量，[MgO]是指MgO的摩尔％含量，[CaO]是指CaO的摩尔％含量，[BaO]是指BaO的摩尔％含量，[TiO2]是指TiO2的摩尔％含量，[Y2O3]是指Y2O3的摩尔％含量，[ZrO2]是指ZrO2的摩尔％含量，[P2O5]是指P2O5的摩尔％含量。
(式1)
X＝61.1×[SiO2]+174.3×[Al2O3]+11.3×[B2O3]+124.7×[Li2O]－5.2×[Na2O]+226.7×[K2O]+139.4×[MgO]+117.5×[CaO]+89.6×[BaO]+191.8×[TiO2]+226.7×[Y2O3]+157.9×[ZrO2]－42.2×[P2O5]
图1是表示X值与裂纹的宽度(Width)的关系的图，图2是表示X值与裂纹的深度(Depth)的关系的图。由图1、2表明可知，若X值大，则伤痕的宽度与深度显著降低。
另外，本发明的盖玻璃，优选作为玻璃组成以摩尔％表示含有SiO2 20％～80％、Al2O3 5％～30％、B2O3 0％～20％、Li2O 0％～20％、Na2O 0％～30％、K2O 0％～20％、MgO0.1％～40％、CaO 0％～20％、BaO 0％～20％、TiO2 0％～20％、Y2O3 0％～20％、ZrO2 0％～20％、P2O5 0％～20％。
另外，本发明的盖玻璃，优选玻璃组成中的MgO的含量为10摩尔％以上。
另外，本发明的盖玻璃，优选玻璃组成中的P2O5的含量为1摩尔％以上。
另外，本发明的盖玻璃，优选断裂韧性为0.8MPa·m0.5以上。如此，表面难以受伤，并且，即使受到硬物刮擦时，也能够降低该伤痕的宽度和深度。在此，“断裂韧性K1C”是基于JIS R1607“精细陶瓷断裂韧性试验方法”，使用单边预裂纹梁试验法(SEPB法：Single-Edge-Precracked-Beam method)测量得到的。SEPB法是通过单边预裂纹梁试验片的3点弯曲断裂试验，测量试验片直至断裂的最大载荷，根据最大载荷、预裂纹长度、试验片尺寸及弯曲支点间距，求得平面应变断裂韧性K1C的方法。还有，各玻璃的断裂韧性值由5点的平均值求得。
另外，本发明的盖玻璃，优选裂纹阻力为500gf以上。在此，所谓“裂纹阻力”是指裂纹发生率达到50％的载荷。另外，“裂纹发生率”是指以如下方式测量的值。首先在湿度保持在30％、温度保持在25℃的恒温恒湿槽内，将设定为规定载荷的维氏硬度计压头压入玻璃表面(光学研磨面)15秒钟，在此15秒后统计从压痕的4角发生的裂纹的数目(1个压痕最多为4)。如此压入压头50次，求得裂纹发生总数后，运用(裂纹发生总数/200)×100(％)的算式求得。
另外，本发明的盖玻璃，优选板厚为0.1mm～2.0mm。
另外，本发明的盖玻璃，优选在表面具有由离子交换所形成的压缩应力层。
另外，本发明的盖玻璃，优选压缩应力层的压缩应力值为300MPa以上，且应力深度为15μm以上。在此，“压缩应力值”和“应力深度”是指根据使用表面应力计(株式会社东芝制FSM－6000)所观察到的干扰带的条数和其间隔而计算出的值，进行该算出时，使玻璃的折射率为1.50，使光弹性常数为29.4[(nm/cm)/MPa]。
另外，本发明的盖玻璃，优选用于触摸屏显示器。
附图说明
图1是表示X值与裂纹的宽度(Width)的关系的图。
图2是表示X值与裂纹的深度(Depth)的关系的图。
具体实施方式
在本发明的盖玻璃中，由上式1计算出的X值为7400以上，优选为8000以上，8250以上，8500以上，9000以上，9500以上，10000以上，特别优选为11000～20000。若X值过小，则盖玻璃的表面容易受伤。另外伤痕的宽度和深度容易变大。
本发明的盖玻璃，优选具有下述的特性。
裂纹阻力优选为500kgf以上，800kgf以上，1000kgf以上，1500kgf以上，特别优选为2000kgf以上。若裂纹阻力过低，则盖玻璃的表面容易受伤。别外伤痕的宽度和深度容易变大。
断裂韧性K1C优选为0.8MPa·m0.5以上，更优选为0.9MPa·m0.5以上，进一步优选为1.0MPa·m0.5以上，特别优选为1.1～3.5MPa·m0.5。特别是在未进行离子交换处理的状态的断裂韧性K1C，优选为0.8MPa·m0.5以上，更优选为0.9MPa·m0.5以上，进一步优选为1.0MPa·m0.5以上，特别优选为1.1～3.5MPa·m0.5。若断裂韧性K1C过小，则盖玻璃的表面容易受伤。另外伤痕的宽度和深度容易变大。
杨氏模量优选为80GPa以上，85GPa以上，90GPa以上，100GPa以上，特别优选为105～150GPa。若杨氏模量低，则板厚薄时，盖玻璃容易挠曲。
密度优选为3.50g/cm3以下，3.25g/cm3，3.00g/cm3以下，2.60g/cm3以下，2.55g/cm3以下，2.50g/cm3以下，2.49g/cm3以下，特别优选为2.40～2.47g/cm3。密度越低，越能够使盖玻璃轻量化。还有，如果使玻璃组成中的SiO2、B2O3、P2O5的含量增加，或使碱金属氧化物、碱土金属氧化物、ZnO、ZrO2、TiO2的含量减少，则密度容易降低。
30～380℃的温度范围的热膨胀系数，优选为120×10－7/℃以下，110×10－7/℃以下，100×10－7/℃以下，特别优选为40×10－7～95×10－7/℃。若热膨胀系数过低，则容易因热冲击而破损，因此能够缩短离子交换处理前的预热和离子交换处理后的缓冷所需要的时间。还有，“30～380℃的温度范围的热膨胀系数”是指使用膨胀计测量平均热膨胀系数的值。
高温粘度102.5dPa·s下的温度，优选为1660℃以下，低于1640℃，1630℃以下，特别优选为1400～1620℃。若高温粘度102.5dPa·s下的温度过高，则熔融性和成形性降低，难以将熔融玻璃成形为板状。
液相粘度优选为102.0dPa·s以上，103.0dPa·s以上，104.0dPa·s以上，104.4dPa·s以上，104.8dPa·s以上，105.0dPa·s以上，105.3dPa·s以上，特别优选为105.5dPa·s以上。还有，液相粘度越高，耐失透性越提高，成形时越难以产生失透物。在此，所谓“液相粘度”是指以白金球提拉法测量液相温度下的粘度得到的值。所谓“液相温度”是将通过标准筛30目(500μm)，并留在50目(300μm)上的玻璃粉末放入白金舟皿，在温度梯度炉中保持24小时后，取出白金舟皿，通过显微镜观察，在玻璃内部确认到失透(失透物)的最高的温度。
波长400nm下的板厚0.8mm换算的光谱透射率，优选为80％以上，83％以上，85％以上，87％以上，特别优选为90％以上。若波长400nm下的板厚0.8mm换算的光谱透射率过低，则难以适用于触摸屏显示器的盖玻璃。
本发明的盖玻璃，优选作为玻璃组成以摩尔％计含有SiO2 20％～80％、Al2O3 5％～30％、B2O3 0％～20％、Li2O 0％～20％、Na2O 0％～30％、K2O 0％～20％、MgO 0.1％～40％、CaO 0％～20％、BaO 0％～20％、TiO20％～20％、Y2O3 0％～20％、ZrO2 0％～20％、P2O5 0％～20％。限定各成分的含有范围的理由下述揭示。还有，在各成分的含有范围的说明中，％显示除非特别指出，否则均指摩尔％。
SiO2是形成玻璃的网络的成分。SiO2的含量优选为20％～80％，30％～70％，32％～61％，33％～55％，34％～低于50％，特别优选为35％～45％。若SiO2的含量过少，则难以玻璃化，另外若热膨胀系数变得过高，则耐热冲击性容易降低。另一方面，若SiO2的含量过多，则熔融性和成形性容易降低，另外热膨胀系数变得过低，难以与周边材料的热膨胀系数匹配。
Al2O3是提高抗划伤性的成分，另外是提高离子交换能力、应变点、杨氏模量的成分。若Al2O3的含量过少，则抗划伤性容易降低，另外产生不能充分发挥离子交换能力的可能。因此，Al2O3的含量优选为5％以上，8％以上，10％以上，12％以上，14％以上，特别优选为15％以上。另一方面，若Al2O3的含量过多，则高温粘度上升，熔融性和成形性容易降低。另外，玻璃中容易析出失透结晶，难以由溢流下拉法等成形为板状。特别是作为成形体耐火物而使用氧化铝系耐火物，以溢流下拉法成形为板状时，在与氧化铝系耐火物的界面容易析出尖晶石的失透结晶。此外耐酸性也降低，难以适用于酸处理工序。因此，Al2O3的含量优选为30％以下，25％以下，特别优选为21％以下。
B2O3使高温粘度和密度降低，并且使玻璃稳定化，是使液相温度降低的成分。但是，若B2O3的含量过多，则杨氏模量容易降低。因此，B2O3的含量优选为0％～20％，0％～15％，0.1％～10％，1％～7％，特别优选为2％～5％。
Li2O是离子交换成分，另外使高温粘度降低，是提高熔融性和成形性的成分，并且是提高抗划伤性的成分。另一方面，若Li2O的含量过多，则耐失透性容易降低，另外在离子交换处理时在离子交换溶液中溶出，有可能使离子交换溶液劣化。因此，Li2O的含量优选为0％～20％，0％～7％，0％～3％，0％～1.5％，0％～低于1％，0％～0.5％，0％～0.3％，0％～低于0.1％，特别是0.01％～0.05％。另外，在允许耐失透性的降低，而以提高抗划伤性为优先时，Li2O的含量优选为0％～20％，1％～18％，2％～16％，3％～14％，4％～12％，特别优选为5％～10％。
Na2O是离子交换成分，是提高压缩应力层的压缩应力值的成分，另外使高温粘度降低，是提高熔融性和成形性的成分。另外Na2O是提高耐失透性的成分，特别是抑制在与氧化铝系耐火物的反应中发生的失透的成分。若Na2O的含量过多，则抗划伤性容易降低。另一方面，若Na2O的含量过少，则高温粘度上升，熔融性和成形性降低，或压缩应力层的压缩应力值容易降低。因此，Na2O的含量优选为0％～30％，0％～20％，1％～17％，特别优选为5％～15％。
K2O使高温粘度降低，提高熔融性和成形性，并且是提高抗划伤性的成分，但在碱金属氧化物之中，是使压缩应力层的压缩应力值降低，使应力深度增大的成分，因此从提高压缩应力值的观点出发不利。因此，K2O的含量优选为0％～20％，0％～10％，0％～5％，特别优选为0％～低于1％。
MgO是大幅提高抗划伤性的成分，是提高熔融性和成形性的成分。但是，若MgO的含量过多，则耐失透性容易降低，特别是难以抑制在与氧化铝系耐火物的反应中发生的失透。因此，MgO的含量优选为0.1％～50％，1％～40％，5％～35％，10％～40％，15％～45％，20％～42％，25％～40％，特别优选为30％～35％。
Al2O3与MgO的合计量，优选为高于20但在55％以下，优选为25％～50％，30％～45％，32％～42％，特别优选为35％～40％。若Al2O3与MgO的合计量过少，则抗划伤性容易降低。
CaO与其他的成分比较，不会伴随耐失透性的降低，而使高温粘度降低，是提高熔融性和成形性的效果显著的成分。但是，若CaO的含量过多，则离子交换能力降低，或容易在离子交换处理时使离子交换溶液劣化。因此，CaO的含量优选为0％～20％，0％～10％，0％～5％，0％～4％，0％～3.5％，0％～3％，0％～2％，0％～1％，特别优选为0％～0.5％。
BaO使高温粘度降低，是提高熔融性和成形性，或提高应变点和杨氏模量的成分，但若其含量过多，则除了抗划伤性容易降低以外，密度和热膨胀系数也会变高，玻璃容易失透。因此，BaO的适宜的含量，分别为0％～20％，0％～5％，0％～2％，0％～1.5％，0％～1％，0％～0.5％，0％～0.1％，特别是0％～低于0.1％。
TiO2是提高离子交换能力和抗划伤性的成分，另外是使高温粘度降低的成分，但是若其含量过多，则透明性和耐失透性容易降低。因此，TiO2的含量优选为0％～20％，0％～10％，0％～4.5％，0％～低于1％，0％～0.5％，特别优选为0％～0.3％。
Y2O3是提高抗划伤性的成分。但是，若Y2O3原料本身的成本高，另外若大量添加，则耐失透性容易降低。因此，Y2O3的含量优选为0％～20％，0％～15％，0.1％～12％，1％～10％，1.5％～8％，特别优选为2％～6％。
ZrO2是提高杨氏模量的成分，并且是用于提高液相粘度附近的粘性和应变点的成分，但若其含量过多，则耐失透性有可能显著降低。因此，ZrO2的含量为0％～20％，0％～10％，0％～3％，优选为0％～1％，特别优选为0％～0.1％。
P2O5是提高离子交换能力的成分，特别是增大应力深度的成分。另外有提高裂纹阻力的倾向。但是，若P2O5的含量过多，则玻璃分相，或耐水性容易降低。因此，P2O5的含量优选为0％～20％，0％～10％，0％～3％，0％～1％，特别优选为0％～0.5％。还有，在重视裂纹阻力的提高时，P2O5的适宜的含量优选为0.1％～18％，0.5％～17％，1％～16％，特别优选为2％～15.5％。
除上述成分以外，也可以添加例如以下的成分。
SrO使高温粘度降低，是提高熔融性和成形性，或提高应变点和杨氏模量的成分，但若其含量过多，则除了抗划伤性容易降低以外，密度和热膨胀系数也变高，或玻璃容易失透。因此，SrO的适宜的含量为0％～2％，0％～1.5％，0％～1％，0％～0.5％，0％～0.1％，特别优选为0％～低于0.1％。
ZnO是不会使低温粘性降低，而会使高温粘性降低的成分。另外是提高离子交换能力的成分，特别是提高压缩应力值的效果大的成分。但是，若ZnO的含量过多，则有玻璃分相，或耐失透性降低，或密度变高，或应力深度变小的倾向。因此，ZnO的含量优选为0％～3％，0％～2％，0％～1％，特别优选为0％～低于1％。
SnO2是提高离子交换能力的成分，但若其含量过多，则耐失透性容易降低。因此，SnO2的含量优选为0％～3％，0.01％～3％，0.05％～3％，0.1％～3％，特别优选为0.2％～3％。
澄清剂，也可以添加0.001％～1％的从Cl、SO3、CeO2的群(优选为Cl、SO3的群)中选择的一种或两种以上。
Fe2O3的适宜的含量为低于1000ppm(低于0.1％)，低于800ppm，低于600ppm，低于400ppm，特别优选低于30～300ppm。此外，将Fe2O3的含量限制在上述范围之后，优选将摩尔比SnO2/(Fe2O3+SnO2)限制在0.8以上，0.9以上，特别优选限制在0.95以上。若是如此，则可见光线透射率容易提高。
Gd2O3、Nb2O5、La2O3、Ta2O5是提高抗划伤性的成分。但是，Gd2O3、Nb2O5、La2O3、Ta2O5其原料自身的成本高，另外若大量添加，则耐失透性容易降低。因此，Gd2O3、Nb2O5、La2O3、Ta2O5的适宜的含量分别为3％以下、2％以下、1％以下、0.5％以下，特别优选为0.1％以下。
本发明的盖玻璃，从环境方面考虑，作为玻璃组成，优选实质上不含有As2O3、Sb2O3、PbO、F等。另外，从环境方面考虑，也优选实质上不含有Bi2O3。所谓“实质上不含有”，意思是虽然作为玻璃成分不积极地添加明示的成分，但是允许杂质水平的添加，具体来说，就是指明示的成分的含量低于0.05％的情况。
在本发明的盖玻璃中，板厚优选为2.0mm以下，1.5mm以下，1.3mm以下，1.1mm以下，1.0mm以下，特别优选为0.9mm以下。板厚越小，越能够使盖玻璃轻量化。另一方面，若板厚过薄，则难以得到希望的力学强度。因此，板厚优选为0.1mm以上，0.3mm以上，0.4mm以上，0.5mm以上，0.6mm以上，特别优选为0.7mm以上。
制造本发明的盖玻璃的方法，例如如下。优选首先将按照希望的玻璃组成调合而成的玻璃原料投入连续熔融炉，以1550～1700℃进行加热熔融，澄清后，将熔融玻璃供给到成形装置，之后成形为板状，进行冷却。成形为板状后，切断加工成规定尺寸的方法，能够采用众所周知的方法。
作为将熔融玻璃成形为板状的方法，优选采用溢流下拉法。溢流下拉法，是能够大量制作高品位的盖玻璃的方法。在此，“溢流下拉法”就是从成形体耐火物的两侧使熔融玻璃溢出，一边使溢出的熔融玻璃在成形体耐火物的下端汇合，一边在下方延伸成形而成形为板状的方法。在溢流下拉法中，使应该成为盖玻璃的表面的面不与成形体耐火物的表面接触，而是以自由表面的状态成形为板状。因此，能够廉价地制造未研磨而表面品位良好的盖玻璃。
除了溢流下拉法以外，也能够采用各种成形方法。例如，能够采用浮法、下拉法(流孔下拉法、再下拉法等)、轧平法、压制法等的成形方法。
本发明的盖玻璃，虽然有无进行离子交换处理均可，但是若进行离子交换处理，则在表面形成有压缩应力层，因此能够进一步抗划伤性。离子交换处理的条件没有特别限定，考虑玻璃的粘度特性、厚度、内部的抗拉应力、尺寸变化等而选择最佳的条件即可。特别是若将KNO3熔盐中的K离子与玻璃中的Na成分进行离子交换，则能够高效率地形成压缩应力层。离子交换处理之时，离子交换溶液的温度优选为400～450℃，离子交换时间优选为2～6小时。如果这样，则能够在表面高效率地形成压缩应力层。
本发明的盖玻璃，优选在表面具有由离子交换形成的压缩应力层，优选压缩应力层的压缩应力值为300MPa以上，400MPa以上，500MPa以上，600MPa以上，特别优选为700MPa以上。压缩应力值越大，断裂韧性K1C越高。另一方面，若表面形成极大的压缩应力，则内在的抗拉应力变得极端高，另外离子交换处理前后的尺寸变化有可能变大。因此，压缩应力层的压缩应力值优选为1800MPa以下，1650MPa以下，特别优1500MPa以下。还有，如果缩短离子交换时间，或降低离子交换溶液的温度，则压缩应力值有变大的倾向。
压缩应力层的应力深度优选为15μm以上，20μm以上，25μm以上，30μm以上，特别优选为35μm以上。应力深度越大，力学强度的偏差越小。另一方面，应力深度越大，内在的抗拉应力越高，另外离子交换处理前后尺寸变化的可能性越大。此外，若应力深度过大，则压缩应力值有降低的倾向。因此，应力深度优选为60μm以下，50μm以下，特别优选为45μm以下。还有，如果延长离子交换时间，或提高离子交换溶液的温度，则应力深度有变大的倾向。
内部的抗拉应力值优选为150MPa以下，120PMa以下，100MPa以下，80MPa以下，70MPa以下，特别优选为60MPa以下。若内部的抗拉应力值过高，则由于硬物刮擦，容易导致盖玻璃自爆。另一方面，若内部的抗拉应力值过低，则难以确保盖玻璃的力学强度。内部的抗拉应力值优选为15MPa以上，25MPa以上，35MPa以上，特别优选为40MPa以上。还有，内部的抗拉应力可以由下式2计算。
(式2)
内部的抗拉应力值＝(压缩应力值×应力深度)/(板厚－2×应力深度)
【实施例】
以下，基于实施例，说明本发明。还有，以下的实施例只是例示。本发明不受以下的实施例任何限定。
表1～4表示本发明的实施例(试料No.1～42)，表4表示本发明的比较例(试料No.43～45)。还有，表中“N.A.”意思是未测量。
【表1】
Figure BDA0002414746530000111
【表2】
Figure BDA0002414746530000121
【表3】
Figure BDA0002414746530000131
【表4】
Figure BDA0002414746530000141
以如下方式制作了表中的各试料。首先以成为表中的玻璃组成的方式，调合玻璃原料，使用白金舟皿，以1550℃熔化21小时。接着，使所得到的熔融玻璃流出到碳板之上，成形为平板形状后，用缓冷炉缓冷。对于所得到的板状玻璃，将表面进行光学研磨使板厚达到0.8mm后，评价各种特性。
杨氏模量E，是通过众所周知的共振法测量得到的值。
断裂韧性K1C，是基于JIS R1607“精细陶瓷断裂韧性试验方法”，由SEPB法测量的。还有，各试料的断裂韧性值由5点的平均值求得。
裂纹阻力(裂纹发生率达到50％的载荷)，是将设定为规定载荷的维氏硬度计压头压入玻璃表面(光学研磨面)15秒钟，在此15秒后统计从压痕的4角发生的裂纹的数目(1个压痕最多为4)而计算出的。
由表所表明的可知，试料No.1～42，因为X值大，所以可认为抗划伤性高。另一方面，试料No.43～45，因为X值小，所以可认为抗划伤性低。

Claims (10)

1.一种盖玻璃，其特征在于，在玻璃组成中含有SiO2、Al2O3、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、BaO、TiO2、Y2O3、ZrO2、P2O5之中的至少3种成分以上，由下式计算出的X值为7400以上，
X＝61.1×[SiO2]+174.3×[Al2O3]+11.3×[B2O3]+124.7×[Li2O]－5.2×[Na2O]+226.7×[K2O]+139.4×[MgO]+117.5×[CaO]+89.6×[BaO]+191.8×[TiO2]+226.7×[Y2O3]+157.9×[ZrO2]－42.2×[P2O5]。
2.根据权利要求1所述的盖玻璃，其特征在于，作为玻璃组成以摩尔％表示含有SiO220％～80％、Al2O3 5％～30％、B2O3 0％～20％、Li2O 0％～20％、Na2O 0％～30％、K2O 0％～20％、MgO 0.1％～40％、CaO 0％～20％、BaO 0％～20％、TiO2 0％～20％、Y2O3 0％～20％、ZrO2 0％～20％、P2O5 0％～20％。
3.根据权利要求1或2所述的盖玻璃，其特征在于，玻璃组成中的MgO的含量高于10摩尔％。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的盖玻璃，其特征在于，玻璃组成中的P2O5的含量为1摩尔％以上。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的盖玻璃，其特征在于，断裂韧性为0.8MPa·m0.5以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的盖玻璃，其特征在于，裂纹阻力为500gf以上。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的盖玻璃，其特征在于，板厚为0.1～2.0mm。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的盖玻璃，其特征在于，在表面具有由离子交换形成的压缩应力层。
9.根据权利要求8所述的盖玻璃，其特征在于，压缩应力层的压缩应力值为300MPa以上，且应力深度为15μm以上。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的盖玻璃，其特征在于，用于触摸屏显示器。
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