CN103328396A - 强化玻璃及强化玻璃板 - Google Patents

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Abstract

本发明的强化玻璃，其特征在于，其是在表面具有压缩应力层的强化玻璃，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且在强化处理前表面的一部分或全部被实施了蚀刻。

Description

强化玻璃及强化玻璃板
技术领域
本发明涉及强化玻璃及强化玻璃板，尤其涉及便携电话、数码相机、PDA(便携末端)、太阳能电池的外壳玻璃、或者显示器，特别是适合于触控面板显示器的玻璃基板的强化玻璃及强化玻璃板。
背景技术
近年来，出现了搭载有触控面板的PDA，为了保护其显示部而使用强化玻璃(例如，参照专利文献1、非专利文献1)。今后，期待强化玻璃的市场日益增大。另外，多数情况下对于该用途的强化玻璃，要求高机械强度的同时，设计性也受到重视。
另外，该用途的强化玻璃例如可以如下所示地进行制作。首先根据各器件的显示部分的形状，切出玻璃，进而在麦克部、扬声器部进行开孔加工，然后对玻璃的表面进行研磨，使其薄壁化，同时除掉玻璃的外周的碎片、开孔部分的碎片，最后通过使玻璃整体浸渍到离子交换炉内而制作。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-83045号公报
非专利文献：
非专利文献1：泉谷彻朗等、《新型玻璃及其物性(新しいガラスとその物性)》、第一版、株式会社经营系统研究所、1984年8月20日、p.451-498
发明内容
发明要解决的课题
用于保护显示部的强化玻璃虽然要求高的机械强度，但如果对玻璃进行外周加工、开孔加工、通常的研磨处理，则有可能使强化玻璃的机械强度下降。为了防止这样的事态，而需要除掉存在于端面的微细裂纹，具体而言，在进行外周加工、开孔加工后，需要端面的镜面加工、对表面进行镜面研磨等研磨加工，其结果是强化玻璃的制造成本升高。
根据上述情况，研究了通过镜面研磨以外的方法除掉存在于端面的裂纹，例如研究了通过对玻璃的表面进行蚀刻，使存在于端面的裂纹的深度变浅，使玻璃(强化玻璃)的机械强度提高的方法。但是，为了提高强化玻璃的生产率，若在严酷的条件下进行蚀刻，则玻璃的表面变粗糙，难以达成便携电话的显示部所要求的表面品质(表面粗糙度Ra为1nm以下)。另一方面，若蚀刻速率过低，则强化玻璃的生产率会下降。
因此，本发明的技术课题在于，发现一种强化玻璃，其能够达成便携电话的显示部所要求的表面品质的同时，还能够提高蚀刻速率，并且机械强度也高。
用于解决问题的方案
本发明人等进行了各种研究，结果发现：通过严格控制玻璃组成中的各成分的含有范围，并且在强化处理前对玻璃的表面进行蚀刻，能够解决上述技术课题，并作为本发明而提出。即，本发明的强化玻璃，其特征在于，其为在表面具有压缩应力层的强化玻璃，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且在强化处理前表面的一部分或全部被实施了蚀刻。这里，“MgO+CaO”是指MgO与CaO的总量。“Al2O3+Na2O+P2O5”是指Al2O3、Na2O、及P2O5的总量。“B2O3+Na2O”是指B2O3与Na2O的总量。
第二，本发明的强化玻璃，优选：作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O34～13％、B2O30～3％、Li2O0～8％、Na2O5～20％、K2O0.1～10％、MgO+CaO3～13％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～0.7、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～0.7、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.5、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～0.7、摩尔比Na2O/Al2O3为0.5～4。
第三，本发明的强化玻璃，优选：作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O35～12％、B2O30～1％、Li2O0～4％、Na2O8～20％、K2O0.5～10％、MgO+CaO5～13％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～0.5、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.3、摩尔比Al2O3/SiO2为0.05～0.5、摩尔比Na2O/Al2O3为1～3。
第四，本发明的强化玻璃，优选：作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O35～11％、B2O30～1％、Li2O0～4％、Na2O9～20％、K2O0.5～8％、MgO0～12％、CaO0～3％、MgO+CaO5～12％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～0.3、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.2、摩尔比Al2O3/SiO2为0.05～0.3、摩尔比Na2O/Al2O3为1～3。
第五，本发明的强化玻璃，优选：作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO250～70％、Al2O35～11％、B2O30～1％、Li2O0～2％、Na2O10～18％、K2O1～6％、MgO0～12％、CaO0～2.5％、MgO+CaO5～12％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.2～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.15～0.27、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.07～0.2、摩尔比Na2O/Al2O3为1～2.3。
第六，本发明的强化玻璃，优选表面的一部分或全部被含有选自HF、HCl、H2SO4、HNO3、NH4F、NaOH、NH4HF2中的一种或二种以上的蚀刻液实施了蚀刻。需要说明的是，这些成分的蚀刻性能良好。
第七，本发明的强化玻璃，优选蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra为1nm以下。这里，“表面粗糙度Ra”是指用基于SEMI D7-94“FPD玻璃基板的表面粗糙度的测定方法”的方法测定的值。另外，“蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra”是指除去端面的、蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra。
第八，本发明的强化玻璃优选(端面的表面粗糙度Ra)/(蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra)的值为1～5000。
第九，本发明的强化玻璃，优选压缩应力层的压缩应力值为200MPa以上且压缩应力层的厚度(深度)为10μm以上。这里，“压缩应力层的压缩应力值”以及“压缩应力层的厚度”是指使用表面应力计(例如，株式会社东芝制FSM-6000)，观察试样时，根据所观察的干涉条纹的根数与其间隔算出的值。
第十，本发明的强化玻璃优选液相温度为1250℃以下。这里，“液相温度”是指通过标准筛子30目(筛子网眼500μm)，将在50目(筛子网眼300μm)残留的玻璃粉末放入铂舟皿中，在温度梯度炉中保持24小时后，结晶析出的温度。
第十一，本发明的强化玻璃，优选液相粘度为104.0dPa·s以上。这里，“液相粘度”是指铂球牵拉法测定液相温度下的玻璃的粘度的值。
第十二，本发明的强化玻璃优选104.0dPa·s时的温度为1280℃以下。这里，“104.0dPa·s时的温度”是指用铂球牵拉法测定的值。
第十三，本发明的强化玻璃，优选102.5dPa·s时的温度为1620℃以下。这里，“102.5dPa·s时的温度”是指用铂球牵拉法测定的值。
第十四，本发明的强化玻璃，优选密度为2.6g/cm3以下。这里，“密度”可以用公知的阿基米德法测定。
第十五，本发明的强化玻璃板，其特征在于，其包含上述任一项所述的强化玻璃。
第十六，本发明的强化玻璃板，优选通过浮法进行成型。
第十七，本发明的强化玻璃板，优选用于触控面板显示器。
第十八，本发明的强化玻璃板优选用于便携电话的外壳玻璃。
第十九，本发明的强化玻璃板，优选用于太阳能电池的外壳玻璃。
第二十，本发明的强化玻璃板，优选用于显示器的保护部件。
第二十一，本发明的强化用玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且表面的一部分或全部被实施了蚀刻。
第二十二，本发明的强化用玻璃，优选在80℃、10质量％的HCl水溶液中浸渍24小时后的质量减少为0.05～50g/cm2。
发明效果
本发明的强化玻璃由于蚀刻性能适当，所以能够以短时间的蚀刻进行薄壁化和存在于端面的裂纹的除去，同时可以确保高的表面品质。进而，本发明的强化玻璃由于离子交换性能高，所以机械强度高、且机械强度的不均小。
附图说明
图1是对于实施例2中的抛光研磨后的玻璃板，在25℃、5质量％的HF水溶液中浸渍10分钟后的表面的观察图像和粗糙度曲线。
图2是对于实施例2中的抛光研磨后的玻璃板，在25℃、5质量％的HF水溶液中浸渍10分钟后的端面的观察图像和粗糙度曲线。
具体实施方式
本发明的实施方式所述的强化玻璃，其为在表面具有压缩应力层的强化玻璃，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且在强化处理前对表面的至少一部分实施了蚀刻。需要说明的是，在各成分的含有范围的说明中，％表示是指摩尔％。
作为表面形成压缩应力层的方法，有物理强化法和化学强化法。本实施方式的强化玻璃优选通过化学强化法进行制作。
化学强化法是在玻璃的应变点以下的温度下利用离子交换处理对玻璃的表面导入离子半径大的碱离子的方法。如果用化学强化法形成压缩应力层，则即便玻璃的厚度较薄的情况下，也能适当地形成压缩应力层，并且在形成压缩应力层后，即便切断强化玻璃，像风冷强化法等物理强化法，也不容易破坏强化玻璃。
本实施方式的强化玻璃，在强化处理前，表面的至少一部分实施了蚀刻。如果这样的话，则可以使存在于端面的裂纹的深度变浅，提高玻璃的机械强度。这里，优选在玻璃的表面和背面的任意一个面全部实施蚀刻，更优选在表面和背面的两面全部实施蚀刻。
以下示出如上述那样地限定本实施方式的强化玻璃中的各成分的含有范围的理由。
SiO2为形成玻璃的网络的成分。SiO2的含量为45～75％，优选为50～70％、55～68％、55～67％、特别优选为58～66％。如果SiO2的含量过少，则变得难以玻璃化，且热膨胀系数变得过高，耐热冲击性易降低，进而HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。另一方面，如果SiO2的含量过多，则熔融性、成型性容易降低，且热膨胀系数变得过低，难以与周边材料的热膨胀系数匹配，进而蚀刻速率变低，因此难以薄壁化到想要的厚度，其结果是强化玻璃的生产率容易降低。
Al2O3为提高离子交换性能的成分，且为提高应变点和杨氏模量的成分。Al2O3的含量为3～15％。如果Al2O3的含量过少，则有可能无法充分发挥离子交换性能。因此，Al2O3的优选的下限范围为4％以上、5％以上、5.5％以上、7％以上、8％以上，尤其是9％以上。另一方面，如果Al2O3的含量过多，则玻璃中失透结晶容易析出，难以用浮法、溢流下拉法等使玻璃板成型。另外，热膨胀系数过低，则难以与周边材料的热膨胀系数匹配，进而高温粘性变高，熔融性容易降低。另外，HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。因此，Al2O3的优选的上限范围为13％以下、12％以下、11％以下，尤其是9％以下。
B2O3为使高温粘度、密度降低，同时使玻璃稳定化，难以析出结晶，且使液相温度降低的成分。但是，如果B2O3的含量过多，则由于离子交换，发生被称为发雾(日文：ヤケ)的玻璃表面的着色，或耐水性降低，或者压缩应力层的压缩应力值降低，或者压缩应力层的厚度变薄，HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。因此，B2O3的含量为0～12％，优选为0～5％、0～3％、0～1.5％、0～1％、0～0.9％、0～0.5％，特别优选为0～0.1％。
Li2O是离子交换成分，且是使高温粘度降低，提高熔融性、成型性的成分，同时提高杨氏模量的成分。进而Li2O虽然在碱金属氧化物中提高压缩应力值的效果大，但在含有5％以上的Na2O的玻璃系中，如果Li2O的含量极端变多，则反而有压缩应力值降低的倾向。另外，如果Li2O的含量过多，则液相粘度降低，玻璃容易失透，除此以外，热膨胀系数变得过高，耐热冲击性降低，或者变得难以与周边材料的热膨胀系数匹配。进而，低温粘性过于降低，容易引起应力缓和，反而有时压缩应力值降低。因此，Li2O的含量为0～12％，优选为0～8％、0～4％、0～2％、0～1％、0～0.5％、0～0.3％，特别优选为0～0.1％。
Na2O是离子交换成分，且是使高温粘度降低、提高熔融性和成型性的成分。另外，Na2O也是改善耐失透性的成分。Na2O的含量为0.3～20％。如果Na2O的含量过少，则熔融性降低、或者热膨胀系数降低、或者离子交换性能容易降低。另外由于蚀刻速率变低，所以难以薄壁化到想要的厚度，作为结果，强化玻璃的生产率容易降低。因此，添加Na2O的情况下，Na2O的优选的下限范围为5％以上、8％以上、9％以上、10％以上、11％以上，尤其是12％以上。另一方面，如果Na2O的含量过多，则热膨胀系数变得过高、耐热冲击性降低，或者难以与周边材料的热膨胀系数匹配。另外，应变点过于降低，或者缺乏玻璃组成的成分平衡，反而有时耐失透性降低。进而，HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。因此，Na2O的优选的上限范围为19％以下、18％以下、17％以下，尤其是16％以下。
K2O是促进离子交换的成分，且是碱金属氧化物中使压缩应力层的厚度容易增大的成分。另外，其是使高温粘度降低而提高熔融性和成型性的成分。进而，其还是改善耐失透性的成分。K2O的含量为0～10％。如果K2O的含量过多，则热膨胀系数变得过高、耐热冲击性降低，或者难以与周边材料的热膨胀系数匹配。另外，应变点过于降低，或者缺乏玻璃组成的成分平衡，反而有耐失透性降低的倾向。因此，K2O的优选的上限范围为8％以下、7％以下、6％以下，尤其是5％以下。需要说明的是，玻璃组成中添加K2O的情况下，K2O的优选的下限范围为0.1％以上、0.5％以上、1％以上、1.5％以上、2％以上，尤其是2.5％以上。
MgO是使高温粘度降低而提高熔融性和成型性、或者提高应变点和杨氏模量的成分，且其是碱土金属氧化物中，提高离子交换性能的效果大的成分。但是，如果MgO的含量过多，则有密度、热膨胀系数变高，且玻璃变得容易失透的倾向。因此，MgO的优选的上限范围为12％以下、10％以下、8％以下，尤其是7％以下。需要说明的是，玻璃组成中添加MgO的情况下，MgO的优选的下限范围为0.1％以上、0.5％以上、1％以上、2％以上，尤其是3％以上。
CaO与其他成分相比，在没有伴随耐失透性的降低的情况下降低高温粘度，提高熔融性和成型性，或者提高应变点和杨氏模量的效果大。CaO的含量优选为0～10％。但是，如果CaO的含量过多，则密度、热膨胀系数变高，且缺乏玻璃组成的成分平衡，反而玻璃容易失透，或者离子交换性能容易降低。另外有容易产生分相的倾向。因此，CaO的优选的含量为0～5％、0～3％，尤其是0～2.5％。
P2O5是提高离子交换性能的成分，尤其是增大压缩应力层的厚度的成分。但是，如果P2O5的含量过多，则玻璃发生分相，或者HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。因此，P2O5的优选的上限范围为10％以下、5％以下，尤其是3％以下。需要说明的是，玻璃组成中添加P2O5的情况下，P2O5的优选的下限范围为0.01％以上、0.1％以上、0.5％以上，尤其是1％以上。
MgO+CaO的含量为1～15％。如果MgO+CaO的含量过少，则难以得到想要的离子交换性能，除此之外，高温粘性变高，溶解性容易降低。另一方面，如果MgO+CaO的含量过多，则密度、热膨胀系数变高，或者耐失透性容易降低。因此，MgO+CaO的优选的含有范围为3～13％、5～13％、5～12％，尤其是5～11％。
Li2O+Na2O+K2O的优选的含量为5～25％、8～22％、12～20％，尤其是16.5～20％。如果Li2O+Na2O+K2O的含量过少，则离子交换性能和熔融性容易降低。另一方面，如果Li2O+Na2O+K2O的含量过多，则玻璃容易失透，除此以外，热膨胀系数变得过高、耐热冲击性降低，或者难以与周边材料的热膨胀系数匹配。另外，应变点过于降低，有时难以得到高的压缩应力值。进而液相温度付附近的粘性降低，有时难以确保高的液相粘度。需要说明的是，“Li2O+Na2O+K2O”是Li2O、Na2O、及K2O的总量。
本实施方式的强化玻璃中，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2是0.1～1。如果摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2过小，则蚀刻速率变低，因此难以薄壁化到想要的厚度，作为结果，强化玻璃的生产率容易降低。另外，离子交换性能容易降低。另一方面，如果摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2过大，则HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质，或者耐失透性降低，难以确保高的液相粘度。因此，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2的优选的下限范围为0.15以上、0.2以上，尤其是0.25以上，优选的上限范围为0.7以下、0.5以下，尤其是0.4以下。
本实施方式的强化玻璃中，摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1。如果摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2过小，则蚀刻速率降低，因此难以薄壁化到想要的厚度，作为结果，强化玻璃的生产率容易降低。另外，由于高温粘性变高，则熔融性降低，泡品质容易降低。另一方面，如果摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2过大，则HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质，或者耐失透性降低，难以确保高的液相粘度。因此，摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2的优选的下限范围为0.15以上、0.2以上，尤其是0.23以上，优选的上限范围为0.7以下、0.5以下、0.4以下、0.3以下，尤其是0.27以下。
本实施方式的强化玻璃中，摩尔比P2O5/SiO2为0～1。如果摩尔比P2O5/SiO2增大，则有压缩应力层的厚度变大的倾向，但如果其值过大，则HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。因此，摩尔比P2O5/SiO2的优选的范围为0～0.5、0～0.3、0～0.2，尤其是0～0.1。
本实施方式的强化玻璃中，摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1。如果摩尔比Al2O3/SiO2增大，则应变点和杨氏模量变高、或者有可能提高离子交换性能，但如果该值过大，则玻璃中容易析出失透结晶，难以确保高的液相粘度，或者高温粘性变高，熔融性容易降低，或者HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。因此，摩尔比Al2O3/SiO2的优选的范围为0.01～0.7、0.01～0.5、0.05～0.3，尤其是0.07～0.2。
本实施方式的强化玻璃中，摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5。如果摩尔比Na2O/Al2O3过小，则耐失透性容易降低，另外，溶解性容易降低。另一方面，如果摩尔比Na2O/Al2O3过大，则热膨胀系数变得过高，或者高温粘性变得过低，难以确保高的液相粘度。因此，摩尔比Na2O/Al2O3的优选的范围为0.5～4、为1～3，尤其是1.2～2.3。
除了上述成分以外，例如还可以添加以下的成分。
SrO是不伴随耐失透性的降低而使高温粘度降低、提高熔融性和成型性、或者提高应变点和杨氏模量的成分。如果SrO的含量过多，则密度和热膨胀系数变高，或者离子交换性能降低，或者缺乏玻璃组成的成分平衡，反而玻璃容易失透。SrO的优选的含有范围为0～5％、0～3％、0～1％，尤其是0～0.1％。
BaO是不伴随耐失透性的降低而使高温粘度降低、提高熔融性和成型性、或者提高应变点和杨氏模量的成分。如果BaO的含量过多，则密度和热膨胀系数变高，或者离子交换性能降低、或者缺乏玻璃组成的成分平衡，反而玻璃容易失透。BaO的优选的含有范围为0～5％、0～3％、0～1％，尤其是0～0.1％。
TiO2为提高离子交换性能的成分，另外，虽然是使高温粘度降低的成分，但如果其含量过多，则玻璃发生着色、或者容易失透。因此，TiO2的含量为0～3％、0～1％、0～0.8％、0～0.5％，尤其是0～0.1％。
ZrO2是明显提高离子交换性能的成分，同时是提高液相粘度附近的粘性和应变点的成分，但如果其含量过多，则有可能耐失透性显著降低，另外，有可能密度变得过高。因此，ZrO2的优选的上限范围为10％以下、8％以下、6％以下、4％以下，尤其是3％以下。需要说明的是，在想要提高离子交换性能的情况下，优选玻璃组成中添加ZrO2，此时，ZrO2的优选的下限范围为0.01％以上、0.1％以上、0.5％以上、1％以上，尤其是2％以上。
ZnO是提高离子交换性能的成分，尤其是提高压缩应力值的效果大的成分。还是不降低低温粘性而使高温粘性降低的成分。但是，如果ZnO的含量过多，则有玻璃发生分相，或者耐失透性降低，或者密度变高，或者压缩应力层的厚度变薄的倾向。因此，ZnO的含量优选为0～6％、0～5％、0～3％、0～1％，特别优选为0～0.5％。
作为清澄剂，可以添加0～3％的选自As2O3、Sb2O3、CeO2、SnO2、F、Cl、SO3的组(优选为SnO2、Cl、SO3的组)中的一种或二种以上。SnO2+SO3+Cl的含量优选为0～1％、100～3000ppm、300～2500ppm，特别优选为500～2500ppm。需要说明的是，如果SnO2+SO3+Cl的含量少于100ppm，则难以享有澄清效果。这里，“SnO2+SO3+Cl”是指SnO2、SO3、及Cl的总量。
从环境的观点出发，优选极力控制As2O3、Sb2O3、F的使用，优选实质上不含有。这里，“实质上不含有As2O3”是指不主动添加As2O3作为玻璃成分，但允许作为杂质混入的情况，具体而言，是指As2O3的含量不足500ppm(质量)。“实质上不含有Sb2O3”是指不主动添加Sb2O3作为玻璃成分，但允许作为杂质混入的情况，具体而言，是指Sb2O3的含量不足500ppm(质量)。“实质上不含有F”是指不主动添加F作为玻璃成分，但允许作为杂质混入的情况，具体而言，是指F的含量不足500ppm(质量)。
Fe2O3的含量优选为不足500ppm，不足400ppm、不足300ppm、不足200ppm，特别优选为不足150ppm。如果这样的话，板厚1mm时的玻璃的透射率(400nm～770nm)容易提高(例如90％以上)。
Nb2O5和La2O3等稀土类氧化物是提高杨氏模量的成分。但是，原料本身的成本较高、并且若大量添加，则耐失透性容易降低。因此，稀土类氧化物的含量优选为3％以下、2％以下、1％以下、0.5％以下，特别优选为0.1％以下。
使玻璃较强着色之类的过渡金属元素(Co、Ni等)有可能降低玻璃的透射率。尤其是用于触控面板显示器的情况下，如果过渡金属元素的含量过多，则触控面板显示器的识别性容易降低。因此，优选以过渡金属氧化物的含量为0.5％以下、0.1％以下，尤其是0.05％以下的方式选择玻璃原料(包含碎玻璃)。
从环境层面考虑，优选实质上不含有PbO、Bi2O3。这里，“实质上不含有PbO”是指不主动添加PbO作为玻璃成分，但允许作为杂质混入的情况，具体而言，是指PbO的含量不足500ppm(质量)。“实质上不含有Bi2O3”是指不主动添加Bi2O3作为玻璃成分，但允许作为杂质混入的情况，具体而言，是指Bi2O3的含量不足500ppm(质量)。
本实施方式的强化玻璃中，可以适当选择各成分的优选的含有范围，来构成优选的玻璃组成范围。其中，特别优选的玻璃组成范围，以摩尔％计含有SiO250～70％、Al2O35.5～9％、B2O30～0.1％、Li2O0～0.5％、Na2O12～17％、K2O2～5％、MgO0～12％、CaO0～2.5％、MgO+CaO5～11％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.25～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.15～0.27、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.07～0.2、摩尔比Na2O/Al2O3为1.2～2.3。
本实施方式的强化玻璃在表面具有压缩应力层。压缩应力层的压缩应力值优选为300MPa以上、400MPa以上、500MPa以上、600MPa以上、700MPa以上，尤其是800MPa以上。压缩应力值越大，强化玻璃的机械强度越变高。另一方面，如果表面形成有极端大的压缩应力，则在表面产生微裂纹，反而有强化玻璃的机械强度降低的可能。另外，有强化玻璃内部存在的拉伸应力极端变高的可能。因此，压缩应力层的压缩应力值优选为1500MPa以下。需要说明的是，如果增加玻璃组成中的Al2O3、TiO2、ZrO2、MgO、ZnO的含量、或者降低SrO、BaO的含量，则有压缩应力值变大的倾向。另外，如果使离子交换时间变短、或者降低离子交换溶液的温度，则有压缩应力值变大的倾向。
压缩应力层的厚度优选为10μm以上、25μm以上、50μm以上、60μm以上，尤其是70μm以上。压缩应力层的厚度越大，即便强化玻璃带有深的伤痕，强化玻璃也变得越难割裂，并且机械强度的不均变小。另一方面，压缩应力层的厚度越大，越难以切断强化玻璃。因此，压缩应力层的厚度优选为500μm以下、200μm以下、150μm以下，特别优选为90μm以下。需要说明的是，如果增加玻璃组成中的K2O、P2O5的含量、或者降低SrO、BaO的含量，则有压缩应力层的厚度变大的倾向。另外，如果增长离子交换时间、或者提高离子交换溶液的温度，则有压缩应力层的厚度变大的倾向。
本实施方式的强化玻璃中，密度优选为2.6g/cm3以下、特别优选为2.55g/cm3以下。密度越小，则越能够使强化玻璃轻量化。需要说明的是，如果增加玻璃组成中的SiO2、B2O3、P2O5的含量、或者降低碱金属氧化物、碱土金属氧化物、ZnO、ZrO2、TiO2的含量，则密度容易降低。
本实施方式的强化玻璃中，30～380℃的温度范围中的热膨胀系数优选为80～120×10-7/℃、85～110×10-7/℃、90～110×10-7/℃，特别优选为90～105×10-7/℃。如果将热膨胀系数限定在上述范围，则容易与金属、有机系粘接剂等部件材料的热膨胀系数匹配，容易防止金属、有机系粘接剂等的部件材料的剥离。这里，“30～380℃的温度范围下的热膨胀系数”是指使用膨胀计测定了平均热膨胀系数的值。需要说明的是，如果增加玻璃组成中的碱金属氧化物、碱土金属氧化物的含量，则热膨胀系数容易变高，相反如果降低碱金属氧化物、碱土金属氧化物的含量，则热膨胀系数容易降低。
本实施方式的强化玻璃中，应变点优选为500℃以上、520℃以上、特别优选为530℃以上。应变点越高，耐热性越提高，对强化玻璃进行热处理的情况下，压缩应力层难以消失。另外，应变点越高，离子交换处理时应力缓和越难以发生，因此容易维持压缩应力值。需要说明的是，如果增加玻璃组成中的碱土金属氧化物、Al2O3、ZrO2、P2O5的含量，或者降低碱金属氧化物的含量，则应变点容易变高。
本实施方式的强化玻璃中，104.0dPa·s时的温度优选为1280℃以下、1230℃以下、1200℃以下、1180℃以下，特别优选为1160℃以下。104.0dPa·s时的温度越低，越减轻成型设备中的负担，成型设备长寿命化，作为结果，容易使强化玻璃的制造成本低廉化。如果增加碱金属氧化物、碱土金属氧化物、ZnO、B2O3、TiO2的含量、或者降低SiO2、Al2O3的含量，则104.0dPa·s时的温度容易降低。
本实施方式的强化玻璃中，102.5dPa·s时的温度优选为1620℃以下、1550℃以下、1530℃以下、1500℃以下，特别优选为1450℃以下。102.5dPa·s时的温度越低，越能够低温熔融，能够减轻对熔融窑等的玻璃制造设备的负担，同时容易提高泡品质。即，102.5dPa·s时的温度越低，强化玻璃的制造成本越容易低廉化。需要说明的是，102.5dPa·s时的温度相当于熔融温度。另外，如果增加玻璃组成中的碱金属氧化物、碱土金属氧化物、ZnO、B2O3、TiO2的含量，或者降低SiO2、Al2O3的含量，则102.5dPa·s时的温度容易降低。
本实施方式的强化玻璃中，液相温度优选为1200℃以下、1150℃以下、1100℃以下、1050℃以下、1000℃以下、950℃以下、900℃以下，特别优选为880℃以下。需要说明的是，液相温度越低，耐失透性和成型性越提高。另外，如果增加玻璃组成中的Na2O、K2O、B2O3的含量，或者降低Al2O3、Li2O、MgO、ZnO、TiO2、ZrO2的含量，则液相温度容易降低。
本实施方式的强化玻璃中，液相粘度优选为104.0dPa·s以上、104.4dPa·s以上、104.8dPa·s以上、105.0dPa·s以上、105.4dPa·s以上、105.6dPa·s以上、106.0dPa·s以上、106.2dPa·s以上，特别优选为106.3dPa·s以上。需要说明的是，液相粘度越高，耐失透性和成型性越提高。另外，如果增加玻璃组成中的Na2O、K2O的含量、或者降低Al2O3、Li2O、MgO、ZnO、TiO2、ZrO2的含量，则液相粘度容易变高。
本实施方式的强化玻璃中，表面(除端面外)的表面粗糙度Ra优选为1nm以下、0.5nm以下、0.3nm以下，特别优选为0.2nm以下。如果表面的表面粗糙度Ra过大，则不仅强化玻璃的外观品质降低，也有可能机械强度降低。
本实施方式的强化玻璃中，蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra优选为1nm以下、0.5nm以下、0.3nm以下，特别优选为0.2nm以下。如果蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra过大，则不仅强化玻璃的外观品质会降低，而且有可能机械强度降低。
本实施方式的强化玻璃中，(端面的表面粗糙度Ra)/(蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra)的值优选为1～5000、1～1000、1～500、1～300、1～100、1～50，特别优选为1～10。如果该值过大，则有端面强度降低的倾向。
本发明的实施方式所述的强化玻璃板的特征在于，包含已经说明的本实施方式的强化玻璃。因此，本实施方式的强化玻璃板的技术特征及优选的范围与本实施方式的强化玻璃的技术特征相同。这里，为了简便，省略了其记载。
本实施方式的强化玻璃板中，板厚优选为3.0mm以下、2.0mm以下、1.5mm以下、1.3mm以下、1.1mm以下、1.0mm以下、0.8mm以下，特别优选为0.7mm以下。另一方面，如果板厚过薄，则难以得到想要的机械强度。因此，板厚优选为0.1mm以上、0.2mm以上、0.3mm以上，特别优选为0.4mm以上。
本发明的实施方式所述的强化用玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且表面的一部分或全部被实施了蚀刻。本实施方式的强化用玻璃的技术特征与本实施方式的强化玻璃、强化玻璃板的技术特征同样。这里，为了简便，省略了其记载。
本实施方式的强化用玻璃在430℃的KNO3熔融盐中进行离子交换处理的情况下，表面的压缩应力层的压缩应力值优选为300MPa以上、且压缩应力层的厚度优选为10μm以上，另外，表面的压缩应力优选为600MPa以上、且压缩应力层的厚度优选为40μm以上，进而表面的压缩应力优选为800MPa以上、且压缩应力层的厚度优选为60μm以上。
离子交换处理时，KNO3熔融盐的温度优选为400～550℃，离子交换时间优选为2～10小时、特别优选为4～8小时。如果这样的话，容易合适地形成压缩应力层。需要说明的是，本实施方式的强化用玻璃由于具有上述的玻璃组成，所以即便不使用KNO3熔融盐和NaNO3熔融盐的混合物等，也能够使压缩应力层的压缩应力值和厚度增大。
本实施方式的强化用玻璃中，优选在80℃、10质量％的HCl水溶液中浸渍24小时后的质量减少为0.05～50g/cm2。如果该值不足0.05g/cm2，则蚀刻速率变低，因此难以薄壁化到想要的厚度，作为结果，强化玻璃的生产率容易降低。另一方面，如果该值超过50g/cm2，则HCl等酸的蚀刻速率变得过高，难以得到想要的表面品质。需要说明的是，质量减少的优选的下限范围为0.1g/cm2以上、尤其是0.2g/cm2以上，另外，优选的上限范围为45g/cm2以下、20g/cm2以下、10g/cm2以下、5g/cm2以下、2g/cm2以下、尤其是1g/cm2以下。
本实施方式的强化用玻璃中，在25℃、5质量％的HF水溶液中处理10分钟时，蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra优选为1nm以下、0.5nm以下、0.3nm以下、特别优选为0.2nm以下。如果蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra过大，则不仅强化玻璃的外观品质会降低，而且有可能机械强度降低。
本实施方式的强化用玻璃中，在25℃、5质量％的HF水溶液中浸渍10分钟时，(端面的表面粗糙度Ra)/(蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra)的值优选为1～5000、1～1000、1～500、1～300、1～100、1～50，特别优选为1～10。如果该值过大，则有端面强度降低的倾向。
可以如下所述地制作本实施方式的强化用玻璃、强化玻璃、及强化玻璃板。
首先，可以将按照上述的玻璃组成方式配制的玻璃原料投入连续熔融炉中，在1500～1600℃下加热熔融，澄清后，供给到成型装置，然后，成型为板状等，缓慢冷却，由此制作板状等的玻璃。
作为成型为板状的方法，优选采用浮法。浮法是能够廉价且大量地制作玻璃板，并且也容易制作大型的玻璃板的方法。
除了浮法以外，还可以采用各种成型方法。可以采用例如，溢流下拉法、下拉法(流孔下拉(slot down)法、重拉(Re-Draw)法等)、拉伸(rollout)法、加压法等成型方法。
接着，在强化处理前对成型后的玻璃的表面的一部分或全部，进行蚀刻。如果进行蚀刻，则即便不进行研磨等，也能使玻璃薄壁化，如果同时蚀刻端面，则也可以除掉存在于端面的裂纹。作为蚀刻液，优选使用含有选自HF、HCl、H2SO4、HNO3、NH4F、NaOH、NH4HF2的组中的一种或二种以上、尤其是含有选自HCl、HF、HNO3的组中的一种或二种以上的蚀刻液。蚀刻液优选1～20质量％、2～10质量％、特别优选3～8质量％的蚀刻水溶液。蚀刻液的使用温度除了使用HF的情况外，优选为20～50℃、20～40℃、20～30℃。蚀刻时间优选为1～20分钟、2～15分钟、特别优选为3～10分钟。
接着，可以通过对所得到的玻璃进行强化处理，由此制作强化玻璃。将强化玻璃切断成规定尺寸的时期可以是强化处理前，但从成本方面出发，在强化处理后进行是有利的。
作为强化处理，优选离子交换处理。离子交换处理的条件没有特别限定，考虑玻璃的粘度特性、用途、厚度、内部的拉伸应力等，选择最佳的条件即可。例如，离子交换处理可在400～550℃的KNO3熔融盐中使玻璃浸渍1～8小时而进行。尤其是，若将KNO3熔融盐中的K离子与玻璃中的Na成分进行离子交换，则可以在玻璃的表面有效地形成压缩应力层。
实施例1
以下对本发明的实施例进行说明。需要说明的是，以下的实施例仅仅是例示。本发明不受以下实施例的任何限定。
表1～3示出了本发明的实施例(试样No.1～21)。需要说明的是，表中的“未”是指未测定。
[表1]
Figure BDA00003516771600171
[表2]
Figure BDA00003516771600181
[表3]
Figure BDA00003516771600191
如下所述制作表中的各试样。首先，按照表中的玻璃组成配制玻璃原料，使用铂舟皿在1580℃熔融8小时。然后，将得到的熔融玻璃流出到碳板上，成型为板状。对于得到的玻璃板，评价各种特性。
密度ρ为通过公知的阿基米德法测定而得到的值。
热膨胀系数α为使用膨胀计对30～380℃的温度范围下的平均热膨胀系数进行测定而得到的值。
应变点Ps、慢冷点Ta为基于ASTM C336的方法测定而得到的值。
软化点Ts为基于ASTM C338的方法测定而得到的值。
高温粘度104.0dPa·s、103.0dPa·s、102.5dPa·s时的温度为用铂球牵拉法测定而得到的值。
液相温度TL为将通过标准筛子30目(筛子网眼500μm)、且残留在50目(筛子网眼300μm)的玻璃粉末放入铂舟皿后，在温度梯度炉中保持24小时，测定结晶析出的温度而得到的值。
液相粘度log10ηTL为用铂球牵拉法测定液相温度时的玻璃的粘度而得到的值。
如下所述地对HCl水溶液的质量减少进行了评价。首先，将各试样加工成20mm×50mm×1mm的长方形后，用异丙醇对表面充分洗涤。接着，使各试样干燥后，对质量进行测定。另外，将10质量％的HCl水溶液调整为100ml，将其放入特氟隆(注册商标)瓶内，然后将温度设定为80℃。接着，使各试样在10质量％的HCl水溶液中浸渍24小时，对试样的表面整体(包含端面)进行蚀刻。最后，测定蚀刻后的各试样的质量后，将质量减少除以表面积，由此算出了每单位面积的质量减少。
由表1～3可知，对于试样No.1～21而言，密度为2.54g/cm3以下、热膨胀系数为93～110×10-7/℃，适合作为强化玻璃的原材料即强化用玻璃。另外认为：由于液相粘度为104.3dPa·s以上，所以可成型为板状，此外由于104.0dPa·s时的温度为1280℃以下，所以成型设备的负担减轻，并且由于102.5dPa·s时的温度为1612℃以下，所以生产率高，可廉价地制作大量的玻璃板。需要说明的是，在强化处理的前后，虽然玻璃的表层中的玻璃组成微观上不同，但作为玻璃整体进行观察时，玻璃组成实质上没有区别。
接着，对各试样的两表面实施光学研磨后，在440℃的KNO3熔融盐中浸渍6小时，由此进行了离子交换处理。在离子交换处理后对各试样的表面进行洗涤。接着，根据使用表面应力计(株式会社东芝制FSM-6000)所观察的干涉条纹根数和其间隔算出表面的压缩应力层的压缩应力值CS与厚度DOL。算出后，结果各试样的折射率为1.52、光学弹性常数为28[(nm/cm)/MPa]。
由表1～3可知，试样No.1～21用KNO3熔融盐进行了离子交换处理，结果CS为741MPa以上、DOL为44μm以上。
实施例2
对于试样No.21记载的玻璃，以板厚为1.0mm的方式用浮法成型为板状。需要说明的是，玻璃板的表面(表面)的表面粗糙度Ra为0.0002μm，背面的Ra为0.009μm。接着，以玻璃板的表面成为镜面的方式，分别研磨两表面(除去端面)。研磨后的表面的表面粗糙度Ra为0.0002μm。将研磨后的玻璃板切成50mm×100mm的尺寸后，用#600的Al2O3抛光研磨该端面。对于研磨后的玻璃板，在25℃、5质量％的HF水溶液中浸渍10分钟，然后测定了表面(除去端面)的表面粗糙度Ra与端面的表面粗糙度Ra。为了参考，对于研磨后的玻璃板，将在25℃、5质量％的HF水溶液中浸渍10分钟后的表面的观察图像和粗糙度曲线示于图1，将端面的观察图像和粗糙度曲线示于图2。这里，“表面粗糙度Ra”是用基于SEMI D7-94“FPD玻璃基板的表面粗糙度的测定方法”的方法测定而得到的值。
测定的结果为：两表面的表面粗糙度Ra为0.0003μm、端面的表面粗糙度Ra为0.77μm、(端面的表面粗糙度Ra)/(表面的表面粗糙度Ra)的值为2566。
产业上的可利用性
本发明的强化玻璃及强化玻璃板适合作为便携电话、数码相机、PDA等的外壳玻璃、或者触控面板显示器等的玻璃基板。另外，本发明的强化玻璃及强化玻璃板除了这些用途以外，还可以期待在要求高的机械强度的用途、例如窗玻璃、磁盘用基板、平板显示器用基板、太阳能电池用外壳玻璃、固体摄像元件用外壳玻璃、餐具中的应用。

Claims (22)

1.一种强化玻璃，其特征在于，其是在表面具有压缩应力层的强化玻璃，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且在强化处理前表面的一部分或全部被实施了蚀刻。
2.根据权利要求1所述的强化玻璃玻璃，其特征在于，
作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O34～13％、B2O30～3％、Li2O0～8％、Na2O5～20％、K2O0.1～10％、MgO+CaO3～13％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～0.7、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～0.7、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.5、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～0.7、摩尔比Na2O/Al2O3为0.5～4。
3.根据权利要求1或2所述的强化玻璃，其特征在于，
作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O35～12％、B2O30～1％、Li2O0～4％、Na2O8～20％、K2O0.5～10％、MgO+CaO5～13％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～0.5、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.3、摩尔比Al2O3/SiO2为0.05～0.5、摩尔比Na2O/Al2O3为1～3。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O35～11％、B2O30～1％、Li2O0～4％、Na2O9～20％、K2O0.5～8％、MgO0～12％、CaO0～3％、MgO+CaO5～12％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～0.3、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.2、摩尔比Al2O3/SiO2为0.05～0.3、摩尔比Na2O/Al2O3为1～3。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO250～70％、Al2O35～11％、B2O30～1％、Li2O0～2％、Na2O10～18％、K2O1～6％、MgO0～12％、CaO0～2.5％、MgO+CaO5～12％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.2～0.5、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.15～0.27、摩尔比P2O5/SiO2为0～0.1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.07～0.2、摩尔比Na2O/Al2O3为1～2.3。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
表面的一部分或全部被含有选自HF、HCl、H2SO4、HNO3、NH4F、NaOH、NH4HF2中的一种或二种以上物质的蚀刻液实施了蚀刻。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra为1nm以下。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
(端面的表面粗糙度Ra)/(蚀刻后的表面的表面粗糙度Ra)的值为1～5000。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
压缩应力层的压缩应力值为200MPa以上且压缩应力层的厚度为10μm以上。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
液相温度为1250℃以下。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
液相粘度为104.0dPa·s以上。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
在104.0dPa·s时的温度为1280℃以下。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
在102.5dPa·s时的温度为1620℃以下。
14.根据权利要求1～13中任一项所述的强化玻璃，其特征在于，
密度为2.6g/cm3以下。
15.一种强化玻璃板，其特征在于，
其包含权利要求1～14中任一项所述的强化玻璃。
16.根据权利要求15所述的强化玻璃板，其特征在于，
其通过浮法进行成型。
17.根据权利要求15或16所述的强化玻璃板，其特征在于，
其用于触控面板显示器。
18.根据权利要求15或16所述的强化玻璃板，其特征在于，
其用于便携电话的外壳玻璃。
19.根据权利要求15或16所述的强化玻璃板，其特征在于，
其用于太阳能电池的外壳玻璃。
20.根据权利要求15或16所述的强化玻璃板，其特征在于，
其用于显示器的保护部件。
21.一种强化用玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，且摩尔比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2为0.1～1、摩尔比(B2O3+Na2O)/SiO2为0.1～1、摩尔比P2O5/SiO2为0～1、摩尔比Al2O3/SiO2为0.01～1、摩尔比Na2O/Al2O3为0.1～5，并且表面的一部分或全部被实施了蚀刻。
22.根据权利要求21所述的强化用玻璃，其特征在于，
在80℃、10质量％的HCl水溶液中浸渍24小时后的质量减少量为0.05～50g/cm2。
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