CN111051060A - 脱模膜 - Google Patents

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Toray Advanced Film Co Ltd
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Abstract

本发明的目的为提供脱模膜，其同时满足：能够适当地进行被转印膜的缺陷检查；脱模膜的识别性良好；耐溶剂性良好；以及加热后的剥离性良好。为了实现该目的的本发明的脱模膜具有以下的构成。即，脱模膜，其为在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜，脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且上述脱模层为活性能量射线固化性组合物的固化层，上述活性能量射线固化性组合物包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物。

Description

脱模膜
技术领域
本发明涉及脱模膜。详细而言，涉及在基材膜上具备由包含长链烷基化合物(具有碳原子数8以上的烷基的化合物)的活性能量射线固化性组合物的固化层形成的脱模层的脱模膜。
背景技术
脱模膜是出于对陶瓷电容器、硬盘驱动器、半导体装置等精密电子设备的制造工序中使用的粘合剂层的表面进行保护的目的而使用的。另外，脱模膜也作为制造粘合片时的承载膜使用。进而，脱模膜作为将生坯片(green sheet)、光学用树脂片、感光性树脂片等成型时的承载膜使用。
在脱模膜中通常设置有以提高剥离性为目的的脱模层。
在脱模膜的脱模层中一般使用有机硅系化合物，但是，若在与精密电子设备等相关的用途中使用有机硅系化合物，则脱模层中所含的低分子量的有机硅系化合物会转移至粘合剂层而残留在精密电子设备中，有可能使精密电子设备产生故障。
基于此，已知有在脱模层中使用非有机硅系化合物的脱模膜，并且提出有使用长链烷基化合物作为非有机硅系化合物的方案(例如专利文献1～6)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-230289号公报
专利文献2：日本特开2013-87239号公报
专利文献3：日本特开2015-30795号公报
专利文献4：日本特开2016-33173号公报
专利文献5：日本特开2001-240775号公报
专利文献6：日本特开2004-197050号公报
发明内容
发明要解决的课题
在使用脱模膜作为工序膜时，有时要求如以下那样的性能。例如要求：1)能够适当地进行形成于脱模膜上的被转印膜的缺陷等的检查；2)脱模膜的识别性良好(脱模膜是最终被剥离除去的物质，在视觉上能够确认脱模膜是否已被剥离，即，能够抑制忘记剥离脱模膜的情况)；3)耐溶剂性良好(形成于脱模膜上的被转印膜的涂布液大多包含有机溶剂，因此耐溶剂性良好)；以及4)形成于脱模膜上的被转印膜有时被加热，即使在加热后，剥离性也良好。
但是，前述的专利文献1～6记载的技术不能同时解决所有的上述课题。
因此，本发明的目的在于提供下述这样的脱模膜，其同时满足：能够适当地进行被转印膜的缺陷检查；脱模膜的识别性良好；耐溶剂性良好；以及加热后的剥离性良好。
用于解决课题的手段
上述目的是通过以下的发明而实现的。
[1]脱模膜，其为在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜，上述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且上述脱模层为活性能量射线固化性组合物的固化层，所述活性能量射线固化性组合物包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物。
[2]根据[1]所述的脱模膜，其中，上述具有碳原子数8以上的烷基的化合物为在分子中包含烯键式不饱和基团和碳原子数8以上的烷基的化合物。
[3]根据[1]或[2]所述的脱模膜，其中，活性能量射线固化性组合物含有在分子中具有2～10个烯键式不饱和基团且不具有碳原子数8以上的烷基的化合物。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的脱模膜，其常态剥离力(A)为1.5N/50mm以下，加热剥离力(B)为2.0N/50mm以下，且上述常态剥离力与上述加热剥离力之差(B-A)为1.3N/50mm以下。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的脱模膜，其中，上述脱模层的表面自由能为20～35mJ/cm。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的脱模膜，其中，基材膜的厚度小于50μm。
[7]根据[1]～[6]中任一项所述的脱模膜，其中，基材膜为3层层叠结构。
[8]脱模膜的制造方法，其为制造在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜的方法，上述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且上述制造方法具有下述工序：通过对包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物的组合物照射活性能量射线而制成固化层，从而形成上述脱模层。
发明效果
根据本发明，能够提供脱模膜，其同时满足：能够适当地进行被转印膜的缺陷检查；脱模膜的识别性良好(能够抑制忘记剥离的情况)；耐溶剂性良好；以及加热后的剥离性良好。
具体实施方式
本发明的脱模膜在基材膜的至少一个面具有脱模层。该脱模层由活性能量射线固化性组合物的固化层形成，所述活性能量射线固化性组合物包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物。
活性能量射线固化性组合物优选不含有机硅系化合物，但是，在含有有机硅系化合物的情况下，相对于活性能量射线固化性组合物的固体成分总量100质量％，优选为5质量％以下，更优选为3质量％以下，尤其优选为1质量％以下。
在此，所谓有机硅系化合物，是指一直以来通常作为有机硅系脱模剂而已知的有机硅系化合物。所谓有机硅是指由具有有机基团(例如烷基、苯基等)的硅和氧交替地键合而成的主链形成的聚合物。例如，广为人知的有具有二甲基聚硅氧烷作为基本骨架的有机硅系化合物。
本发明中的具有碳原子数8以上的烷基的化合物为具有碳原子数为8以上的直链或支链的烷基的化合物。以下，有时将碳原子数8以上的烷基称作“长链烷基”，另外，有时将具有碳原子数8以上的烷基的化合物称作“长链烷基化合物”。
长链烷基化合物中的长链烷基的碳原子数优选为10以上，更优选为12以上。另外，长链烷基的碳原子数优选为30以下，更优选为28以下，尤其优选为25以下。
本发明中的活性能量射线固化性组合物含有通过活性能量射线而聚合并固化的化合物(以下为聚合性化合物)。作为该聚合性化合物，可列举在分子中具有至少1个烯键式不饱和基团的化合物(单体、低聚物)。在此，作为烯键式不饱和基团，可列举丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基、乙烯基等。
活性能量射线固化性组合物中所含有的长链烷基化合物可以为聚合性化合物，也可以不为聚合性化合物，但优选为聚合性化合物。即，活性能量射线固化性组合物中所含有的长链烷基化合物优选为在分子中包含烯键式不饱和基团和长链烷基的化合物(以下有时称作“聚合性长链烷基化合物(α)”)。通过使长链烷基化合物为聚合性长链烷基化合物(α)，从而可以易于减小脱模层的常态剥离力、且易于抑制加热剥离力的上升。
如前述那样，活性能量射线固化性组合物中所含有的长链烷基化合物可以不为聚合性化合物。以下，有时将不为聚合性化合物的长链烷基化合物称作非聚合性长链烷基化合物。作为该非聚合性长链烷基化合物，可以使用例如含有长链烷基的聚乙烯基树脂、含有长链烷基的丙烯酸类树脂、含有长链烷基的聚酯树脂、含有长链烷基的醇酸树脂、含有长链烷基的醚化合物、含有长链烷基的胺化合物等。
在活性能量射线固化性组合物仅含有非聚合性长链烷基化合物作为长链烷基化合物的情况下，需要含有在分子中不具有长链烷基(碳原子数8以上的烷基)的聚合性化合物(以下有时称作“聚合性化合物(β)”)。关于聚合性化合物(β)，详细情况将在后文叙述。
在活性能量射线固化性组合物中，可以并用聚合性长链烷基化合物(α)和非聚合性长链烷基化合物，或者可以并用聚合性长链烷基化合物(α)和聚合性化合物(β)。尤其优选的是，在活性能量射线固化性组合物中并用聚合性长链烷基化合物(α)和聚合性化合物(β)。
需要说明的是，在以下的说明中，所谓“(甲基)丙烯酸……酯”是指“丙烯酸……酯”和“甲基丙烯酸……酯”的统称。
聚合性长链烷基化合物(α)是在分子中包含烯键式不饱和基团和长链烷基的化合物。长链烷基的碳原子数为8以上，优选为10以上，更优选为12以上。另外，长链烷基的碳原子数优选为30以下，更优选为28以下，尤其优选为25以下。
作为聚合性长链烷基化合物(α)，可列举例如(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸酯二十烷基等。
尤其优选使用以下所示的聚合性长链烷基化合物(α)。作为该化合物，可列举例如使在分子中分别具有1个以上的(甲基)丙烯酰基和羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物(a)、在分子中具有2个以上的异氰酸酯基的多异氰酸酯化合物(b)和碳原子数为8～30的高级醇(c)反应而得到的化合物。
作为上述(甲基)丙烯酸酯化合物(a)，可列举例如：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、丙三醇单(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙基酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟基乙基邻苯二甲酸酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙基邻苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-酸式磷酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇单(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇单(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、在分子中具有2～30个亚烷基氧基(例如亚乙基氧基、亚丙基氧基、亚丁基氧基等)的(甲基)丙烯酸酯等。
在上述化合物中，从使剥离力较小、且提高耐热性这样的观点考虑，优选使用(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、在分子中具有2～30个亚烷基氧基的(甲基)丙烯酸酯。
作为多异氰酸酯化合物(b)，可列举例如：六亚甲基二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、联甲苯胺二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、氢化甲苯二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、苯二甲撑二异氰酸酯、氢化苯二甲撑二异氰酸酯等二异氰酸酯化合物；以及使以上各种二异氰酸酯化合物与水反应而得到的缩二脲型多异氰酸酯化合物、或者使各种二异氰酸酯化合物与三羟甲基丙烷等多元醇反应而得到的加合物型多异氰酸酯化合物、或者使各种化合物进行异氰脲酸酯化而得到的多聚物等公知的多异氰酸酯化合物。
在上述多异氰酸酯化合物中，优选分子量为50～500的化合物，更优选分子量为100～400的化合物，尤其优选分子量为130～300的化合物。可例示例如六亚甲基二异氰酸酯(分子量168)、二苯基甲烷二异氰酸酯(分子量250)作为优选的化合物。
就高级醇(c)而言，例如，作为直链状的高级醇，可列举辛醇、癸醇、月桂醇、肉豆蔻醇、鲸蜡醇、鲸蜡硬脂醇、硬脂醇、山嵛醇等，作为直链状的不饱和高级醇，可列举油醇等，作为支链型高级醇，可列举2-己基癸醇、2-辛基十二烷醇、2-癸基十四烷醇等。
作为高级醇(c)，可使用市售品。例如，作为直链状的饱和高级醇，可列举“CONOL(注册商标)”10WS、CONOL 1098、CONOL 1275、CONOL 20F、CONOL 20P、CONOL 1495、CONOL1670、CONOL 1695、CONOL 30CK、CONOL 30OC、CONOL 30RC、CONOL 30F、CONOL 30S、CONOL30SS、CONOL 30T、CONOL 2265、CONOL 2280(新日本理化(株)的商品名)、“KALCOL(注册商标)”0898、KALCOL 0880、KALCOL 1098、KALCOL 2098、KALCOL 4098、KALCOL 6098、KALCOL8098、KALCOL 200GD、KALCOL 2475、KALCOL 2474、KALCOL 2473、KALCOL 2463、KALCOL2455、KALCOL 2450、KALCOL 4250、KALCOL 6870、KALCOL 6850、KALCOL 8688、KALCOL 8665、KALCOL 220-80(花王(株)的商品名)，作为直链状的不饱和高级醇，可列举“RIKACOL(注册商标)”60B、RIKACOL70B、RIKACOL75BJ、RIKACOL85BJ、RIKACOL90B、RIKACOL90BR、RIKACOL90BHR、RIKACOL 110BJ、“UNJECOL(注册商标)”50A、UNJECOL 60AN、UNJECOL 70AN、UNJECOL 80AN、UNJECOL 85AN、UNJECOL 90AN、UNJECOL 90NR、UNJECOL 90NHR(新日本理化(株)的商品名)，作为支链型的高级醇，可列举“NJCOL(注册商标)”160BR、NJCOL200A、NJCOL240A(新日本理化(株)的商品名)等。
作为在活性能量射线固化性组合物中可以含有的聚合性化合物(β)，可列举例如(甲基)丙烯酸甲酯、乙基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基)丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基)丙烷四(甲基)丙烯酸酯、丙三醇丙氧基三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇单(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇单(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯-六亚甲基二异氰酸酯氨基甲酸酯预低聚物、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯-甲苯二异氰酸酯氨基甲酸酯低聚物、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯-异佛尔酮二异氰酸酯氨基甲酸酯低聚物等。
在本发明的脱模膜中，活性能量射线固化性组合物优选含有在分子中具有2～10个烯键式不饱和基团且不具有长链烷基的化合物。即，在上述聚合性化合物(β)中，优选在分子中具有2～10个烯键式不饱和基团的化合物，进而，更优选在分子中具有2～7个烯键式不饱和基团的化合物，尤其优选在分子中具有3～6个烯键式不饱和基团的化合物。通过含有该聚合性化合物(β)，从而易于提高脱模层的硬度，易于提高耐溶剂性、耐热性。
就活性能量射线固化性组合物中的长链烷基化合物(聚合性长链烷基化合物(α)及非聚合性长链烷基化合物的合计量)的含量而言，从减小脱模层的剥离力这样的观点考虑，相对于活性能量射线固化性组合物的固体成分总量100质量％，优选为1质量％以上，更优选为5质量％以上，尤其优选为7质量％以上。另一方面，若长链烷基化合物的含量过多，则有时脱模层的强度(硬度)降低、耐溶剂性、耐热性降低，因此长链烷基化合物的含量优选为70质量％以下，更优选为50质量％以下，尤其优选为30质量％以下。
就活性能量射线固化性组合物中的聚合性化合物(β)的含量而言，从提高脱模层的强度(硬度)而提高耐溶剂性、耐热性(抑制加热后的剥离力上升)这样的观点考虑，相对于活性能量射线固化性组合物的固体成分总量100质量％，优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上，尤其优选为30质量％以上。另一方面，若聚合性化合物(β)的含量过多，则有时脱模层表面的剥离力变高，因此聚合性化合物(β)的含量优选为90质量％以下，更优选为80质量％以下，尤其优选为70质量％以下。
活性能量射线固化性组合物优选还包含光聚合引发剂。作为该光聚合引发剂的具体例，可以使用例如：苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯乙酮、对二甲基氨基苯丙酮、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4，4’-二氯二苯甲酮、4，4’-双二乙基氨基二苯甲酮、米蚩酮、苯偶酰、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯甲酰基甲酸甲酯、对异丙基-α-羟基异丁基苯酮、α-羟基异丁基苯酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮等羰基化合物、一硫化四甲基秋兰姆、二硫化四甲基秋兰姆、噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮等硫化合物等。这些光聚合引发剂可以单独使用，也可以组合使用2种以上。
另外，光聚合引发剂通常市面有售，可以使用它们。可列举例如Ciba SpecialtyChemicals(株)制的“Irgacure(注册商标)”184、Irgacure907、Irgacure379、Irgacure819、Irgacure127、Irgacure500、Irgacure754、Irgacure250、Irgacure1800、Irgacure1870、IrgacureOXE01、“DAROCUR(注册商标)”TPO、DAROCUR 1173等、日本SiberHegner(株)制的“Speedcure(注册商标)”MBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、“Esacure(注册商标)”ONE、EsacureKIP 150、EsacureKTO46等、日本化药(株)制的“KAYACURE(注册商标)”DETX-S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等。
就上述光聚合引发剂的含量而言，相对于活性能量射线固化性组合物的固体成分总量100质量％，在0.1～10质量％的范围内是适当的，优选在0.5～8质量％的范围内。
作为用于使活性能量射线固化性组合物固化的活性能量射线，可列举紫外线、可见光线、红外线、电子射线、α射线、β射线、γ射线等。在这些活性能量射线中，优选紫外线及电子射线，尤其优选使用紫外线。
作为用于照射紫外线的光源，并无特别限定，可以使用例如紫外线荧光灯、低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙灯等。另外，也可以使用ArF准分子激光、KrF准分子激光、准分子灯或同步加速器等。其中，优选使用超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧、氙弧、金属卤化物灯。另外，在照射紫外线时，若在低氧浓度下的气氛下、例如氧浓度为500ppm以下的气氛下进行照射，则能够使其效率良好地固化，故优选。
紫外线的照射光量优选为50mJ/cm2以上，更优选为100mJ/cm2以上，尤其优选为150mJ/cm2以上。另外，紫外线的照射光量优选为2000mJ/cm2以下，更优选为1000mJ/cm2以下。
脱模层的厚度优选为10～1000nm的范围，更优选为20～600nm的范围，进一步优选为20～500nm的范围，尤其优选为50～300nm的范围。通过使其处于上述范围，从而即使使用薄膜基材膜也能抑制由脱模层的效果收缩引起的卷曲，并且能够形成良好的涂膜。
通过如上述那样设置由活性能量射线固化性组合物的固化层形成的脱模层，从而耐溶剂性提高，能抑制加热后的剥离力的上升。另外，脱模层的剥离力也呈现为较轻剥离。
本发明中的脱模层的剥离力及加热后的剥离力可以用粘合带相对于脱模层的剥离力来表示。即，将在脱模层表面贴合粘合带并在常温(23±2℃)下经过24小时后将粘合带侧以180°剥离时的剥离力称作常态剥离力(A)，在脱模层表面贴合粘合带并在70℃下经过24小时后将粘合带侧以180°剥离时的剥离力称作加热剥离力(B)。
从将被转印膜顺利地剥离转印这样的观点考虑，本发明中的脱模层的常态剥离力(A)优选为1.5N/50mm以下，更优选为1.0N/50mm以下，尤其优选为0.7N/50mm以下。上述常态剥离力(A)优选为0.05N/50mm以上，更优选为0.10N/50mm以上，尤其优选为0.15N/50mm以上。
从加热后将被转印膜较顺利地剥离转印这样的观点考虑，脱模层的加热剥离力(B)优选为2.0N/50mm以下，更优选为1.5N/50mm以下，尤其优选为1.0N/50mm以下。上述加热剥离力(B)优选为0.1N/50mm以上，更优选为0.2N/50mm以上，尤其优选为0.3N/50mm以上。
另外，加热剥离力(B)相对于常态剥离力(A)而言的上升越小，越优选。从该观点考虑，上述剥离力之差(B-A)优选为1.3N/50mm以下，更优选为1.0N/50mm以下，尤其优选为0.7N/50mm以下。另外，上述剥离力的比率(B/A)优选为4.0以下，更优选为3.0以下，尤其优选为2.5以下。
通过使用活性能量射线固化性组合物的固化层作为脱模层，进而，使上述活性能量射线固化性组合物含有聚合性长链烷基化合物(α)，从而能够使常态剥离力(A)及加热剥离力(B)为上述的范围。从上述观点考虑，尤其优选使上述活性能量射线固化性组合物含有聚合性长链烷基化合物(α)和聚合性化合物(β)。
本发明的脱模膜优选的是：常态剥离力(A)为1.5N/50mm以下，加热剥离力(B)为2.0N/50mm以下，且上述常态剥离力与上述加热剥离力之差(B-A)为1.3N/50mm以下。
从确保层叠于脱模膜的脱模层上的被转印膜的良好的涂布性这样的观点及减小剥离力这样的观点考虑，脱模层的表面自由能优选为20～35mJ/m2，更优选为21～32mJ/m2，尤其优选为22～30mJ/m2。若脱模层的表面自由能小于20mJ/m2，则有时被转印膜的涂布性变差，另一方面，若大于35mJ/m2，则有时剥离力变高。
通过使用活性能量射线固化性组合物的固化层作为脱模层，进而，使上述活性能量射线固化性组合物含有聚合性长链烷基化合物(α)，从而能够使表面自由能为上述的范围。
在此，表面自由能可以使用接触角计、例如协和界面科学(株)的“Drop MasterDM501”来测定。详细情况将在后文叙述。
就脱模层的表面粗糙度SRa而言，优选在脱模膜的雾度值不脱离2.0～8.0％的范围内平滑。通过使脱模层的表面粗糙度SRa较平滑，从而使形成于脱模层上的被转印膜的涂布性良好，并且使被转印膜的表面性平滑，故优选。
从上述观点考虑，脱模层的表面粗糙度SRa优选为100nm以下，更优选为50nm以下，尤其优选为30nm以下。从确保脱模膜的滑动性、卷取这样的观点考虑，上述表面粗糙度SRa优选为1nm以上，更优选为3nm以上，进一步优选为8nm以上，尤其优选为10nm以上。在此，表面粗糙度SRa可以使用光干涉型显微镜、例如(株)Ryoka Systems制的“VertScan”来测定。
从上述观点考虑，脱模层优选不含有粒子，即使在使脱模层中含有粒子的情况下，也是相对于活性能量射线固化性组合物的固体成分总量100质量％而优选为3.0质量％以下，更优选为1.0质量％以下，尤其优选为0.5质量％以下。
脱模层可以通过在基材膜上涂布活性能量射线固化性组合物、根据需要进行干燥、照射活性能量射线并固化来形成。活性能量射线固化性组合物可以利用湿式涂覆法进行涂布。作为湿式涂覆法，可列举例如逆式涂布法、喷涂法、棒涂法、凹版涂布法、棒涂法、模涂法、旋涂法、挤出涂布法、幕涂法等。
本发明的脱模膜的雾度值为1.5～8.0％。通过使脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，从而能够适当地进行形成于脱模膜上的被转印膜的缺陷检查，且使脱模膜的识别性良好。
若脱模膜的雾度值大于8.0％，则缺陷检查精度降低。另一方面，若脱模膜的雾度值小于1.5％，则脱模膜的识别性降低。
从提高被转印膜的缺陷检查精度这样的观点考虑，脱模膜的雾度值优选为7.0％以下，更优选为6.5％以下，尤其优选为6.0％以下。
从提高脱模膜的识别性这样的观点考虑，脱模膜的雾度值优选为2.0％以上，更优选为2.5％以上，进一步优选为3.0％以上，尤其优选为3.5％以上。
脱模膜的雾度值可以通过控制基材膜及脱模层中的任一者或两者的雾度值来调整。基材膜的雾度值例如可以通过使基材膜中含有粒子来控制。脱模层的雾度值例如可以通过使脱模层中含有粒子来控制。
如上述那样，脱模层优选为平滑，并且优选不含有粒子。因此，脱模膜的雾度值优选通过控制基材膜的雾度值来调整。
即，作为将脱模膜的雾度值调整为1.5～8.0％的方法，优选控制基材膜的雾度值。基材膜的雾度值根据脱模层的雾度值来适当控制。从上述观点考虑，基材膜的雾度值优选控制为大致1.8～8.5％的范围，更优选控制为2.3～8.5％的范围。如前述那样，本发明中的脱模层优选为平滑，通过在基材膜上设置平滑的脱模层，从而雾度值存在稍有降低的倾向，基材膜的雾度值优选设计得比作为目标的脱模膜的雾度值稍高。
基材膜的雾度值进一步优选为2.8～7.3％的范围，更优选为3.3～6.8％的范围，尤其优选为3.8～6.3％的范围。关于基材膜的雾度值的控制，详细情况将在后文叙述。
本发明的脱模膜中使用的基材膜并无特别限定，作为构成基材膜的材料，可以使用例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；聚丙烯、聚乙烯等聚烯烃树脂；二乙酰基纤维素、三乙酰基纤维素等纤维素树脂；聚砜树脂、聚醚醚酮树脂、聚醚砜树脂、聚苯硫醚树脂、聚醚酰亚胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、丙烯酸类树脂、环状烯烃树脂、聚碳酸酯树脂等各种树脂。
基材膜的厚度优选小于50μm，更优选小于37μm，尤其优选小于30μm。另外，上述基材膜的厚度优选为5μm以上，更优选为10μm以上，尤其优选为12μm以上。即，本发明中的基材膜优选为比较薄的薄膜。
通过使基材膜为比较薄的薄膜，从而脱模膜的弯曲刚性变小，从被转印膜剥离脱模膜时的剥离力相对变小，因此优选。
另外，通过使基材膜为比较薄的薄膜，从而每单位长度的质量相对变小，能够使1个卷取辊的最大长度为长尺寸。通过使卷取辊长尺寸化，从而在以辊对辊方式连续地生产脱模膜时或者在脱模膜上以辊对辊方式连续地层叠被转印膜时实现生产率的提高。
设置于基材膜上的脱模层为活性能量射线固化性组合物的固化层。一直以来，对于通常的热固化型脱模层的基于加热的形成而言，需要加热工序，施加于基材膜的温度成为比较高的高温。另一方面，针对对活性能量射线固化性组合物照射活性能量射线而得到的固化层的形成而言，不需要加热工序，能够在比较低的低温来形成。即，在形成活性能量射线固化性组合物的固化层的情况下，施加于基材膜的温度不会变成太高的高温，因此特别是抑制薄膜的基材膜的变形、褶皱的发生。
本发明的脱模膜的制造方法是制造在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜的方法，上述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且上述脱模膜的制造方法具有下述工序：通过对包含长链烷基化合物的组合物照射活性能量射线而制成固化层，从而形成上述脱模层。通过具有该工序，从而施加于基材膜的温度不会变得过于高温，变得易于抑制基材膜的变形、褶皱的发生。
本发明中使用的基材膜优选为聚酯膜，尤其优选经双轴拉伸的聚酯膜。在上述聚酯膜中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
在此，就聚酯而言，优选至少70摩尔％以上为由以芳香族二羧酸和二醇作为主要构成成分的单体通过聚合而得到的聚酯。
作为芳香族二羧酸，可列举例如对苯二甲酸、2，6-萘二甲酸等，尤其优选对苯二甲酸。这些酸成分可以仅使用1种，也可以并用2种以上，还可以部分地共聚有间苯二甲酸等其他芳香族二羧酸、或脂肪酸。
另外，作为二醇成分，可列举例如乙二醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、新戊二醇等。其中，优选使用乙二醇。这些二醇成分可以仅使用1种，也可以并用2种以上。
作为聚酯，可优选列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、及其共聚物、聚对苯二甲酸丁二醇酯及其共聚物、聚萘二甲酸丁二醇酯及其共聚物、以及聚对苯二甲酸1，6-己二醇酯及其共聚物、聚萘二甲酸1，6-己二醇酯及其共聚物等，尤其优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。
聚酯可以利用一直以来已知的方法来制造。可以采用例如下述方法：使酸成分与二醇成分直接进行酯化反应，然后在减压下对该反应的生成物进行加热，边除去剩余的二醇成分边使其缩聚，由此进行制造的方法；使用二烷基酯作为酸成分，在其与二醇成分之间进行酯交换反应，然后与上述同样地进行缩聚，由此进行制造的方法等。此时也可以根据需要使用一直以来公知的碱金属、碱土金属、锰、钴、锌、锑、锗、钛化合物等作为反应催化剂。
如前述那样，为了将脱模膜的雾度值调整为1.5～8.0％，优选对基材膜的雾度值进行控制。基材膜的雾度值例如可以通过使其含有粒子来调整。
使基材膜中含有的粒子的平均粒径优选为0.1～1.5μm，更优选为0.2～1.3μm。基材膜中的粒子的含量优选为0.001～2.0质量％的范围，更优选为0.003～1.0质量％的范围。
作为粒子，可以使用无机粒子、有机粒子。可列举例如：二氧化硅、碳酸钙、氧化铝、硅酸铝、云母、粘土、滑石、硫酸钡等无机粒子；聚酰亚胺系树脂、烯烃或改性烯烃系树脂、交联聚苯乙烯系树脂、有机硅树脂等有机粒子。
基材膜优选为3层层叠结构。将基材膜设为3层层叠结构，在各个层中，控制所添加的粒子的种类、平均粒径及添加量，由此可以制造缺陷少且良好外观的基材膜。
在此，所谓3层层叠结构，优选由A层/B层/A层或A层/B层/C层形成的3层层叠结构，从生产设备的简易化、提高生产率的观点考虑，尤其优选A层/B层/A层的构成。
在此，在A层/B层/A层的层叠结构中，A层和B层意味着组成不同，两侧表层的A层意味着各自的组成相同。同样，在A层/B层/C层的层叠结构中，A层、B层及C层意味着组成均不同。
作为表层的A层或C层、及B层优选如前述那样含有粒子。这些层中所含有的粒子种类、平均粒径、含量可以相同，也可以不同。
在上述的3层层叠结构中，A层或C层的各自的厚度优选为0.2～5.0μm的范围，更优选为0.3～3.0μm的范围，尤其优选为0.4～2.5μm的范围。B层的厚度可以根据基材膜的总厚度进行适当设定。
接下来，对尤其适合作为基材膜的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的制造方法进行说明。
作为使聚酯中含有粒子的方法，例如将粒子以规定比例以浆料的形式分散于作为二醇成分的乙二醇中，进行能够捕集95％以上的例如3μm以上的粗大粒子的高精度过滤后，在聚酯聚合完成前的任意阶段添加该乙二醇浆料。在此，在添加粒子时，例如，若在不使合成时得到的水溶胶、醇溶胶暂时干燥的情况下添加粒子，则粒子的分散性良好，能够抑制粗大突起的产生，故优选。另外，将粒子的水浆料直接与规定的聚酯粒料混合、并供给于排气式双螺杆混炼挤出机、从而捏合入聚酯中的方法也是有效的。
将以这样的方式准备的含有粒子的母粒料和实质上不含有粒子等的粒料以规定的比例混合并干燥，然后供给于公知的熔融层叠用挤出机，利用过滤器对聚合物进行过滤。
接下来，从狭缝状的缝模呈片状挤出，在流延辊上使其冷却固化，制造未拉伸膜。即，使用1至3台的挤出机、1至3层的多歧管或合流组件(例如具有矩形合流部的合流组件)，根据需要进行层叠，将片材从喷嘴挤出，用流延辊进行冷却，制造未拉伸膜。在该情况下，从背压的稳定化及抑制厚度变动的观点考虑，在聚合物流路上设置静态混合器、齿轮泵的方法是有效的。
拉伸方法可以为同时双轴拉伸，也可以为逐次双轴拉伸。
在逐次双轴拉伸的情况下，最初的长度方向的拉伸是重要的，拉伸温度优选为90～130℃，更优选为105～120℃。通过使拉伸温度为90℃以上，从而使膜不易断裂，通过使拉伸温度为130℃以下，从而使膜表面不易受到热损伤。另外，从防止拉伸不均及刮伤的观点考虑，拉伸优选分成2个阶段以上进行，关于总倍率，在长度方向上优选为3～4.5倍，更优选为3.2～4.2倍，在宽度方向上优选为3.2～5.0倍，更优选为3.9～4.5倍。为了实现作为目标的膜的断裂强度，可以选择适当的倍率，但是，为了提高宽度方向的断裂强度，进一步优选将宽度方向的拉伸倍率设定得高于长度方向。通过为该温度、倍率范围，从而不易产生拉伸不均或膜断裂等问题，易于得到本发明中的基材膜。再次进行纵向或横向拉伸后，在优选200～230℃、更优选210～230℃进行优选0.5～20秒、更优选1～15秒的热固定。尤其通过使热固定温度为200℃以上，从而易于进行膜的结晶化，因此易于稳定结构，易于得到作为目标的热收缩率等特性。之后，优选在长度和/或宽度方向实施0.5～7.0％的松弛处理。
在拉伸过程中，不去避免膜与辊的接触，尽可能抑制辊的周速与膜的速度差，并且作为拉伸辊，优选易于控制表面的粗糙度等的非粘合性的有机硅辊。也可以像现有技术那样使用陶瓷、Teflon(注册商标)以及金属辊，但是，通过使用非粘合性的有机硅辊，从而仅使膜表面被局部地加热而发生粘合，在膜表面不易产生损伤。
[应用例]
本发明的脱模膜适合作为工序膜。作为在脱模膜的脱模层上通过涂布等而形成的被转印膜，可列举例如粘合剂层、陶瓷层、含有金属粒子的树脂层、光学用树脂层、感光性树脂层等。
另外，就本发明的脱模膜而言，由于加热剥离性良好，因此可以适合用于例如压缩模塑(compression mold)等半导体树脂密封用途、也能够适用于将柔性覆铜箔层压板(FCCL)与覆盖层贴合的柔性印刷基板(FPC)制造时的加热压制工序。
另外，本发明的脱模膜可以作为用于保护上述的被转印膜、例如粘合剂层、陶瓷层、含有金属粒子的树脂层、光学用树脂层、感光性树脂层等被转印膜的保护膜(覆盖膜)来应用。
实施例
以下，利用实施例对本发明进行详细叙述，但是，本发明并不仅限定为这些实施例。
[测定方法及评价方法]
(1)脱模膜及基材膜的雾度值的测定
基于JIS K 7136(2000)，使用日本电色工业(株)制的浊度计“NDH-4000”测定了脱模膜的雾度值。在测定时，以使光入射至脱模膜的脱模层表面的方式进行配置。
另外，基材膜的雾度值也基于JIS K 7136(2000)并使用日本电色工业(株)制的浊度计“NDH-4000”进行测定。
(2)脱模层的表面自由能的测定
作为表面自由能及其各成分(色散力、极性力、氢键力)的值已知的3种液体，使用水、二碘甲烷、1-溴萘，在23℃、65％RH下，用接触角计DropMasterDM501(协和界面科学(株)制)，测定各液体在脱模层上的接触角。对一个测定面进行5次测定，将其平均值作为接触角(θ)。根据该接触角(θ)的值及各液体的已知的值(基于Panzer的方法IV(记载于日本粘接协会志第15卷，第3号，第96页))的数值，使用由北崎·畑的式子导入的下述式，计算各成分的值。
(γSd·γLd)1/2+(γSp·γLp)1/2+(γSh·γLh)1/2＝γL(1+cosθ)/2
在此，γLd、γLp、γLh分别表示测定液的色散力、极性力、氢键力的各成分，θ表示测定液在测定面上的接触角，另外，γSd、γSp、γSh分别表示层叠膜表面的色散力、极性力、氢键力的各成分的值，γL表示各液体的表面能。对将已知的值及θ代入上述式而得到的联立方程式进行求解，由此求出测定面(脱模层表面)的3个成分的值。
如下述式所示，将求出的色散力成分的值、极性力成分的值和氢键力成分的值之和作为表面自由能(E)的值。
E＝γSd+γSp+γSh
(3)常态剥离力(A)的测定
一边用自重为5kg的橡胶辊将丙烯酸系粘合胶带(日东电工(株)制的“No.31B”)的粘合面按压于脱模膜的脱模层表面，一边使其往返一次，使其贴合，在室温(23±2℃)放置24小时，然后用拉伸试验机，以300mm/min的速度，测定将粘合胶带侧以180°剥离时的剥离力。
(4)加热剥离力(B)的测定
一边用自重为5kg的橡胶辊将丙烯酸系粘合胶带(日东电工(株)制的“No.31B”)的粘合面按压于脱模膜的脱模层表面，一边使其往返一次，使其贴合，投入70℃的烘箱24小时后将其取出，在室温(23±2℃)下放置1小时，然后用拉伸试验机，以300mm/min的速度，测定将粘合带侧以180°剥离时的剥离力。
(5)耐溶剂性
作为有机溶剂，使用甲乙酮(MEK)、甲苯、乙酸乙酯，按照以下要领评价针对各有机溶剂的耐溶剂性。
用浸渍有上述有机溶剂的棉棒往返5次擦拭脱模膜的脱模层表面，用目视观察脱模层的状态，按照下述基准进行评价。
A：无变化
B：白化
C：消失
(6)各层的厚度
使用微取样系统(日立制FB-2000A)，利用FIB法(具体而言，基于“高分子表面加工学”(岩森晓著)p.118～119中记载的方法)制作脱模膜的截面观察用样品。使用透射型电子显微镜(日立制H-9000UHRII)，使加速电压为300kV，对截面观察用样品的截面进行观察，测定基材膜及脱模层的厚度。
(7)缺陷检查性
从东丽(株)的聚酯膜(“Lumirror(注册商标)”S10)标记最大长度300μm的异物缺陷(鱼眼)。接下来，使用3M(株)的丙烯酸粘合片(“OCA”(注册商标)8146-2；厚度50μm)将标记有异物缺陷的部分和脱模膜的脱模面贴合而制作试验片。接下来，将该试验片以脱模膜朝上的方式静置于台上，在设置于距层叠体为50cm的高度的位置的40W三波长荧光下进行目视观察，按照下述基准进行评价。
A：能够容易地识别异物缺陷。
B：能够设法识别异物缺陷。
C：不能识别异物缺陷。
(8)脱模膜的识别性
将3M(株)的丙烯酸粘合片(“OCA”(注册商标)8146-2)的一侧的隔膜剥离，贴合实施例及比较例中制作的脱模膜而制作成试验片。接下来，将该试验片以脱模膜朝上的方式静置于台上，在设置于距试验片为50cm的高度的位置的40W三波长荧光下进行目视观察，按照下述基准进行评价。
A：能够容易地识别脱模膜。
B：能够设法识别脱模膜。
C：不能识别脱模膜。
[基材膜的准备]
作为基材膜，准备下述的聚酯膜。
<聚酯膜1>
准备东丽(株)的聚酯膜(“Lumirror(注册商标)”R75X)。该聚酯膜的厚度为25μm、雾度值为4.7％。
<聚酯膜2>
准备东丽(株)的聚酯膜(“Lumirror(注册商标)”R60)。该聚酯膜的厚度为38μm，雾度值为9.4％。
<聚酯膜3>
准备东丽(株)的聚酯膜(“Lumirror(注册商标)”FB40)。该聚酯膜的厚度为25μm，雾度值为0.6％。
<聚酯膜4>
按照下述要领制造A层/B层/A层的3层结构的聚酯膜。
A层原料：向特性粘度为0.60的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中在聚合时添加平均粒径为1.1μm的凝聚二氧化硅0.08质量％，干燥至水分率为200ppm为止。
B层原料：向特性粘度为0.58的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中在聚合时添加平均粒径为1.0μm的凝聚二氧化硅0.02质量％，干燥至水分率为200ppm为止。
将上述原料在290℃下挤出为由A层/B层/A层形成的3层层叠片状，使其在表面温度被控制在30℃的冷却辊上急冷并固化。将该未拉伸层叠片在拉伸温度115℃、拉伸倍率3.8倍的条件下沿着长度方向进行拉伸，接着，在拉伸温度120℃、拉伸倍率3.7倍的条件下沿着宽度方向进行拉伸，然后，在215℃以5.0％的松弛率进行热处理，得到A层/B层/A层的厚度为1/18/1(μm)的总厚度20μm的双轴取向层叠聚酯膜。该聚酯膜的雾度值为2.7％。
<聚酯膜5>
在聚酯膜4的制造中，将A层原料中的凝聚二氧化硅的添加量变更为0.07质量％，且将B层原料中的凝聚二氧化硅的添加量变更为0.01质量％，除此以外，与聚酯膜4同样地进行制造。该聚酯膜的雾度值为2.1％。
<聚酯膜6>
在聚酯膜4的制造中，将A层原料中的凝聚二氧化硅的添加量变更为0.09质量％，且将B层原料中的凝聚二氧化硅的添加量变更为0.03质量％，除此以外，与聚酯膜4同样地进行制造。该聚酯膜的雾度值为3.8％。
<聚酯膜7>
在聚酯膜4的制造中，将A层原料中的凝聚二氧化硅的添加量变更为0.04质量％，且将B层原料中的凝聚二氧化硅的添加量变更为0.004质量％，除此以外，与聚酯膜4同样地进行制造。该聚酯膜的雾度值为1.2％。
<聚酯膜8>
按照下述要领制造A层/B层/A层的3层结构的聚酯膜。
(碳酸钙粒子的制造)
使用粉碎后挑选的含有以铁元素计为70ppm的Fe2O3的石灰石作为粗原料，制造石灰乳，然后，导通CO2气体，完成碳酸化反应，一边向所得的平均粒径0.05μm的碳酸钙的晶种粒子(浓度为10质量％的水分散体)中添加石灰乳，一边使其熟化至1.2μm的粒径，然后，进行脱水、干燥。该碳酸钙粒子的铁元素含量为70ppm。之后，将聚丙烯酸铵盐(东亚合成株式会社制：A-30SL)以相对于碳酸钙为1.0质量％的方式进行添加，然后，用乙二醇进行浆料化，并进行湿式粉碎，由此得到50质量％的平均粒径为1.1μm的方解石型合成碳酸钙粒子的乙二醇浆料。之后，用乙二醇稀释成35质量％的浓度，使用超级倾析器(TOMOE制P-3000)，在球(ball)转速4000rpm、后驱动(back drive)转速1800rpm、供给速度0.4m3/hr、供给浆料温度35℃的条件下实施湿式分级，最终用乙二醇稀释成10质量％的浓度，用10μm的过滤器进行过滤再使用。
(聚酯组合物1的制造)
向250℃的存在对苯二甲酸双(2-羟基乙基)酯及其低聚物的酯化反应装置中，以3小时连续地供给对苯二甲酸和乙二醇的浆料(乙二醇/对苯二甲酸的摩尔比为1.15)。在浆料供给过程中，向酯化反应装置内施加0.1MPa的压力，在250℃下进行酯化反应，用4小时的反应时间得到酯化反应率98.0％的自重法低聚物(日文：直重法才リゴマ一)。将所投入的量的酯化反应物转移至缩聚反应罐中。该酯化反应物的低聚合物的平均聚合度为7.0。常压下，向该低聚合物中首先追加添加0.23摩尔的乙二醇，5分钟后，将三氧化锑/乙酸镁·4水合物/乙酸锂·2水合物以锑元素计为230ppm、镁元素计为65ppm、锂元素计为2ppm的方式进行添加，5分钟后，再追加添加0.23摩尔的乙二醇，5分钟后，将磷酸三甲酯以磷元素计为45ppm的方式进行添加(((1/2)A+M)/P＝1.94)，再次在5分钟后，将0.24摩尔的乙二醇以总的摩尔比为1.85的方式进行追加(3次的追加乙二醇添加量合计为0.7摩尔)添加。低聚合物的平均聚合度为2.1。之后，将上述制备的10质量％的碳酸钙粒子的乙二醇浆料，以碳酸钙粒子计相对于聚酯为1.0质量％的方式，在常压下且250℃的条件下，添加于低聚合物中。搅拌10分钟后，将反应体系从常压逐渐降低至100Pa，升温至290℃，结束缩聚反应，得到聚酯组合物1。
(聚酯组合物2的制造)
利用与上述聚酯组合物1同样的方法，制造只是不含有碳酸钙粒子的聚酯组合物2。
(聚酯膜的制造)
由将以下记载的该膜的回收原料和聚酯组合物1各配合50重量％而成的B层(26μm)、以及将聚酯组合物1和聚酯组合物2以碳酸钙粒子计为0.5重量％的方式配合而成的A层(2μm)，得到A层(2μm)/B层(26μm)/A层(2μm)的3层层叠结构的聚酯膜(总厚度30μm)。
具体而言，分别配合聚酯组合物1、2及膜的回收原料，在160℃下减压干燥8小时后，供给至挤出机，在275℃熔融挤出，进行高精度过滤后，制成3层层叠结构。之后，介由保持于285℃的缝模，在冷却辊上采用静电施加流延法缠绕在表面温度为25℃的流延鼓上，进行冷却固化，得到未拉伸层叠膜。利用线性电动机式的同时双轴拉伸机，将该未拉伸层叠膜在95℃沿着长度方向拉伸3.6倍、并且沿着宽度方向拉伸4.1倍，总计拉伸14.8倍，然后，再次在180℃沿着宽度方向拉伸1.05倍，在恒定长度下，在220℃热处理3秒钟，得到总厚度30μm的聚酯膜。该聚酯膜的雾度值为7.0％。
<聚酯膜9>
除了将碳酸钙的平均粒径变更为0.3μm以外，与聚酯膜8同样地进行制造。该聚酯膜的雾度值为6.0％。
<聚酯膜10>
除了将碳酸钙的平均粒径变更为1.7μm以外，与聚酯膜8同样地进行制造。该聚酯膜的雾度值为10.5％。
[实施例1]
用凹版涂布机在聚酯膜1的一个面涂布下述的脱模层涂布液p1(活性能量射线固化性组合物)，在100℃干燥后，照射300mJ/cm2的紫外线，使其固化，形成脱模层，从而制作成脱模膜。脱模层的厚度为200nm。
<脱模层涂布液p1>
投入下述合成的聚合性长链烷基化合物(α1)25质量份、作为聚合性化合物(β)的二季戊四醇六丙烯酸酯(DAICEL-CYTEC(株)的商品名“DPHA”)75质量份、光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals(株)制Irgacure184)10质量份，升温至100℃后，混合1小时，得到活性能量射线固化性组合物。用甲苯和异丙醇的混合溶剂(甲苯：IPA＝3∶1(质量比))使该组合物成为4质量％的固体成分浓度，制备成涂布液。
<聚合性长链烷基化合物(α1)的合成>
向装备有搅拌机及温度计的烧瓶中，投入作为具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物(a)的丙烯酸2-羟基乙酯(日本触媒(株)的“BHEA”100质量份、作为多异氰酸酯化合物(b)的二苯基甲烷二异氰酸酯(Nippon Polyurethane(株)的“Millionate(注册商标)”MT”)240质量份、作为高级醇(c)的硬脂醇(新日本理化(株)的“CONOL 30SS”)26质量份，升温至100℃，保温7小时，使其反应，利用IR测定的结果确认到异氰酸酯基消失，结束反应。
[实施例2]
除了变更为下述的脱模层涂布液p2(活性能量射线固化性组合物)以外，与实施例1同样地制作脱模膜。
<脱模层涂布液p2>
投入下述合成的聚合性长链烷基化合物(α2)15质量份、作为聚合性化合物(β)的二季戊四醇六丙烯酸酯(DAICEL-CYTEC(株)的商品名“DPHA”)85质量份、光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals(株)制Irgacure184)10质量份，升温至100℃后，混合1小时，得到活性能量射线固化性组合物。用甲苯和异丙醇的混合溶剂(甲苯：IPA＝3∶1(质量比))使该组合物成为4质量％的固体成分浓度，制备成涂布液。
<聚合性长链烷基化合物(α2)的合成>
向装备有搅拌机及温度计的烧瓶中，投入作为具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物(a)的丙烯酸2-羟基乙酯(日本触媒(株)的“BHEA”100质量份、作为多异氰酸酯化合物(b)的六亚甲基二异氰酸酯(Nippon Polyurethane(株)的商品名“HDI”)86质量份、作为高级醇(c)的硬脂醇(新日本理化(株)的“CONOL 30SS”)46质量份，升温至100℃，保温7小时，使其反应，IR测定的结果确认到异氰酸酯基消失，结束反应。
[实施例3]
除了变更为下述的脱模层涂布液p3(活性能量射线固化性组合物)以外，与实施例1同样地制作脱模膜。
<脱模层涂布液p3>
用甲苯和异丙醇的混合溶剂(甲苯：IPA＝3∶1(质量比))，使下述合成的非聚合性长链烷基化合物10质量份、作为聚合性化合物(β)的氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学制的“UA-306T”)66质量份及三环癸烷二甲醇丙烯酸酯33质量份、光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals(株)制Irgacure184)3质量成为4质量％的固体成分浓度，制备成涂布液。
<非聚合性长链烷基化合物的合成>
向具备搅拌机、氮气导入管、冷凝管、橡胶隔膜的4口烧瓶中，添加丙烯酸十八烷基酯50质量份，再添加2，2′-联吡啶1.2质量份，将体系内进行氮气置换。在氮气气流下，添加溴化铜0.5质量份，将反应体系加热至90℃，添加聚合引发剂(2-溴异丁酸乙酯)0.6质量份，引发聚合，不添加溶剂，在氮气气流下于90℃聚合10小时。确认到聚合率为85重量％以上后，从橡胶隔膜添加丙烯酸2-乙基己酯33质量份，在110℃加热20小时。
由此，得到丙烯酸十八烷基酯聚合物嵌段和丙烯酸2-乙基己酯聚合物嵌段的A-B型二嵌段聚合物。将其加热至60℃，以8,000g的离心力进行30分钟离心处理，得到上清液的聚合物。向50质量份的该聚合物添加磺酸型离子交换树脂10质量份，在100℃搅拌1小时，滤去离子交换树脂，得到数均分子量为25,000的长链烷基化合物(聚合物)。
[比较例1]
用凹版涂布机在聚酯膜1的一个面涂布下述的脱模层涂布液p4(热固化性组合物)，在100℃预干燥后，在160℃加热干燥，形成脱模层，从而制作成脱模膜。脱模层的厚度为200nm。
<脱模层涂布液p4>
用甲苯将以固体成分换算计为10质量份的长链烷基化合物(Ashio产业(株)的“Ashio Resin(注册商标)”RA-95H)、以固体成分换算计为2.5质量份的三聚氰胺系交联剂(住友化学(株)的“Sumimal(注册商标)”M66-B)、以固体成分换算计为1.3质量份的酸催化剂(对甲苯磺酸(tayca(株)的“TAYCACURE”AC-700))溶解，制备成固体成分浓度2.0质量％的涂布液。
[实施例4～8及比较例2～5]
除了将实施例1的聚酯膜1变更为表1所示的聚酯膜2～10以外，与实施例1同样地制作实施例4～8及比较例2～5的脱模膜。
[评价]
对上述制作的实施例及比较例的脱模膜，按照上述的测定方法及评价方法进行了评价。将其结果示于表2中。
[表1]
[表1]
Figure BDA0002382506660000281
表中的固化方法中，“UV”是指基于紫外线照射的固化，“热”是指热固化。
[表2]
[表2]
Figure BDA0002382506660000291

Claims (8)

1.脱模膜，其为在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜，所述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且所述脱模层为活性能量射线固化性组合物的固化层，所述活性能量射线固化性组合物包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物。
2.根据权利要求1所述的脱模膜，其中，所述具有碳原子数8以上的烷基的化合物为在分子中包含烯键式不饱和基团和碳原子数8以上的烷基的化合物。
3.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其中，活性能量射线固化性组合物含有在分子中具有2～10个烯键式不饱和基团且不具有碳原子数8以上的烷基的化合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的脱模膜，其常态剥离力(A)为1.5N/50mm以下，加热剥离力(B)为2.0N/50mm以下，且所述常态剥离力与所述加热剥离力之差(B-A)为1.3N/50mm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的脱模膜，其中，所述脱模层的表面自由能为20～35mJ/cm。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的脱模膜，其中，基材膜的厚度小于50μm。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的脱模膜，其中，基材膜为3层层叠结构。
8.脱模膜的制造方法，其为制造在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜的方法，所述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且所述制造方法具有下述工序：通过对包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物的组合物照射活性能量射线而制成固化层，从而形成所述脱模层。
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