CN109283808A - 电子照相感光体、处理盒及图像形成装置 - Google Patents

电子照相感光体、处理盒及图像形成装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供电子照相感光体、处理盒及图像形成装置。电子照相感光体具备导电性基体及感光层。感光层为单层，并包含：电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂及粘结树脂。粘结树脂的粘均分子量为25,000以上50,000以下。感光层的断裂应变为4.9％以上13.0％以下。感光层的耐刻划深度为0.50μm以下。

Description

电子照相感光体、处理盒及图像形成装置
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒及图像形成装置。
背景技术
电子照相感光体作为像承载体用于电子照相方式的图像形成装置(例如，打印装置及多功能一体机)中。电子照相感光体具备感光层。电子照相感光体例如有单层型电子照相感光体及层叠型电子照相感光体。单层型电子照相感光体具备的感光层具有电荷产生功能和电荷传输功能。层叠型电子照相感光体具备的感光层包含具有电荷产生功能的电荷产生层及具有电荷输送功能的电荷输送层。
例如，一种电子照相感光体的感光层中含有下述化学式(R-A)所表示的聚芳酯树脂。
【化1】
发明内容
然而，上述例子的电子照相感光体的耐磨损性及抗灰雾性却不充分。
本发明鉴于上述技术问题，目的在于提供一种电子照相感光体，具备耐磨损性及抗灰雾性优异的感光层。并且，本发明的另一目的在于提供抑制图像不良的产生的处理盒及图像形成装置。
本发明的电子照相感光体具备导电性基体和感光层。所述感光层是单层，且包含：电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂及粘结树脂。所述粘结树脂的粘均分子量为25,000以上50,000以下。所述感光层的断裂应变为4.9％以上13.0％以下。所述感光层的耐刻划深度为0.50μm以下。
本发明的处理盒具备上述的电子照相感光体。
本发明的图像形成装置具备：像承载体、带电部、曝光部、显影部及转印部。所述像承载体是上述的电子照相感光体。所述带电部使所述像承载体的表面带电。所述带电部的带电极性为正极性。所述曝光部使带电了的所述像承载体的所述表面曝光，在所述像承载体的所述表面形成静电潜像。所述显影部将所述静电潜像显影为调色剂像。所述转印部在使所述像承载体的所述表面与被转印体接触的同时，使所述调色剂像从所述像承载体转印至所述被转印体。
本发明的电子照相感光体的耐磨损性及抗灰雾性优异。并且，本发明的处理盒及图像形成装置能够抑制图像不良的产生。
附图说明
图1是本发明第一实施方式所涉及的电子照相感光体的结构的一例的局部剖视图。
图2是本发明第一实施方式所涉及的电子照相感光体的结构的一例的局部剖视图。
图3是本发明第一实施方式所涉及的电子照相感光体的结构的一例的局部剖视图。
图4是本发明第二实施方式所涉及的图像形成装置的一例图。
图5是刻划装置的结构的一例图。
图6是沿图5的IV-IV线的剖视图。
图7是图5所示的固定台、划痕针及电子照相感光体的侧视图。
图8表示形成于感光层的表面上的划痕。
图9是聚芳酯树脂(R-1-1)的1H-NMR光谱。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行详细说明，但本发明不受下述实施方式的任何限定，在本发明的目的范围内，可以适当变更后再进行实施。此外，存在适当地省略了重复说明之处的情况，但并不因此限定发明的要旨。此外，本说明书中，有时在化合物名称之后加上“类”来统称该化合物及其衍生物。在化合物名称之后加上“类”来表示聚合物名称的情况下，表示聚合物的重复单元源自该化合物或者其衍生物。
以下，C1-C6烷基及C1-C6烷氧基分别表示下述含义。
C1-C6烷基是直链状或者支链状的，且是无取代的。C1-C6烷基例如：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基及己基。
C1-C6烷氧基是直链状或者支链状的，且是无取代的。C1-C6烷氧基例如：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、异戊氧基、新戊氧基及己氧基。
<第一实施方式：电子照相感光体>
对本发明的第一实施方式所涉及的电子照相感光体(以下，有时记载为感光体)的结构进行说明。图1、图2及图3是第一实施方式的一例，即，感光体1的结构的局部剖视图。如图1所示，感光体1具备导电性基体2和感光层3。感光层3为单层。如图1所示，感光层3可以直接设置于导电性基体2上。并且，如图2所示，感光体1例如可以具备：导电性基体2、中间层4(例如底涂层)及感光层3。图2所示的例子中，感光层3隔着中间层4间接地设置于导电性基体2上。此外，如图3所示，感光体1可以具备保护层5来作为最表面层。
以下，对感光体1的要素(导电性基体2、感光层3及中间层4)进行说明。并且也对感光体1的制造方法进行说明。
[1.导电性基体]
导电性基体2只要能够用作感光体1的导电性基体即可，没有特别限制。导电性基体2可以使用由至少表面部具有导电性的材料构成的导电性基体。导电性基体2例如：由具有导电性的材料(导电性材料)构成的导电性基体及由导电性材料包覆的导电性基体。导电性材料例如：铝、铁、铜、锡、铂、银、钒、钼、铬、镉、钛、镍、钯及铟。这些导电性材料可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。两种以上的组合例如合金(更具体地，铝合金、不锈钢、黄铜等)。这些导电性材料中，从电荷由感光层3向导电性基体2移动的良好方面考虑，优选为铝及铝合金。
导电性基体2的形状可以根据所使用的图像形成装置的结构来适当地选择。导电性基体2的形状例如片材状及鼓状。此外，导电性基体2的厚度可以根据导电性基体2的形状来适当地选择。
[2.感光层]
感光层3含有：电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂及粘结树脂。感光层3还可以含有添加剂。感光层3只要能够充分发挥作为感光层的功能，其厚度没有特别限制。具体地，感光层3的厚度可以为5μm以上100μm以下，优选为10μm以上50μm以下。
感光层3的断裂应变为4.9％以上13.0％以下。感光层3的断裂应变是基于应力-应变曲线求得的值，该应力-应变曲线是通过使用拉伸试验机以5mm/分的拉伸速度对感光层3进行拉伸时得到的，通过后述的实施例的测量方法或与之类似的测量方法来进行测量。从进一步提高耐磨损性方面考虑，感光层3的断裂应变优选为5.0％以上，更优选为6.0％以上，进一步优选为7.0％以上。此外，从进一步提高抗灰雾性的方面考虑，感光层3的断裂应变优选为12.5％以下。
此外，断裂应变例如可以通过调整后述的粘结树脂的种类及粘均分子量来进行控制。
感光层3的耐刻划深度(以下，有时记载为刻划深度)是在下述所示的特定条件下对感光层3进行刻划时形成的划痕的深度。感光层3的刻划深度是通过使用JIS K5600-5-5所规定的刻划装置，进行下述所示的第一步骤、第二步骤、第三步骤及第四步骤来测量的。刻划装置具备固定台和划痕针。划痕针具有直径1mm的半球状的蓝宝石顶端。
第一步骤中，使感光体1以其长边方向与固定台的长边方向平行的方式，固定于固定台的顶面。第二步骤中，使划痕针垂直抵接于感光层3的表面。第三步骤中，一边由划痕针对感光层3施加10g的负荷，一边使固定台及固定于固定台的顶面的感光体1在固定台的长边方向上以30mm/分的速度移动30mm。通过该第三步骤，在感光层3的表面形成划痕。第四步骤中，测量划痕的最大深度，即划痕深度。
以上说明了划痕深度的测量方法的概要。刻划深度的测量方法将在后述的实施例中进行详细说明。
感光层3的刻划深度为0.50μm以下，从进一步提高抗灰雾性的方面考虑，优选为0.40μm以下，更优选为0.35μm以下。并且，只要感光体1的感光层能够发挥其功能，感光层3的刻划深度的下限没有特别限制，例如可以是0.00μm，但从制造成本方面考虑，优选为0.09μm。
刻划深度例如可以通过调整后述的粘结树脂的种类及粘均分子量来进行控制。
以下对电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂、粘结树脂及作为可选成分的添加剂进行说明。
(电荷产生剂)
电荷产生剂只要是感光体用的电荷产生剂，没有特别限制。电荷产生剂例如：酞菁类颜料、苝类颜料、双偶氮颜料、三偶氮颜料、二硫酮吡咯并吡咯(dithioketo-pyrrolopyrrole)颜料、无金属萘酞菁颜料、金属萘酞菁颜料、方酸颜料、靛蓝颜料、甘菊蓝颜料、菁颜料、无机光导材料(例如，硒、硒-碲、硒-砷、硫化镉及非晶硅)的粉末、吡喃颜料、蒽嵌蒽醌类颜料、三苯甲烷类颜料、士林类颜料、甲苯胺类颜料、吡唑啉类颜料及喹吖啶酮类颜料。电荷产生剂可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。酞菁类颜料例如无金属酞菁及金属酞菁。金属酞菁例如：氧钛酞菁、羟基镓酞菁及氯镓酞菁。酞菁类颜料可以为结晶，也可以为非结晶。酞菁类颜料的晶体形状(例如，α型、β型、X型、Y型、V型及II型)没有特别限制，可以使用各种晶体形状的酞菁类颜料。
无金属酞菁的结晶例如：无金属酞菁的X型晶体(以下，有时记载为X型无金属酞菁)。氧钛酞菁的结晶例如：氧钛酞菁的α型、β型及Y型晶体(以下，有时分别记载为α型、β型及Y型氧钛酞菁)。羟基镓酞菁的结晶例如羟基镓酞菁的V型晶体。
此外，感光体1用于数字光学式图像形成装置的情况下，优选为使用在700nm以上波长区域具有感光度的电荷产生剂。在700nm以上波长区域具有感光度的电荷产生剂例如酞菁类颜料，从高效地产生电荷的方面考虑，优选为X型无金属酞菁。此外，数字光学式的图像形成装置例如使用半导体激光器之类光源的激光打印机及传真。
此外，感光体1用于使用了短波长激光源的图像形成装置的情况下，电荷产生剂例如优选使用蒽嵌蒽醌类颜料及苝类颜料。短波长激光的波长例如在350nm以上550nm以下。
电荷产生剂例如以下所示的化学式(CGM-1)～(CGM-4)所表示的酞菁类颜料(以下，有时分别记载为电荷产生剂(CGM-1)～(CGM-4))。
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
从高效地产生电荷的方面考虑，相对于粘结树脂100质量份，电荷产生剂的含量优选为0.1质量份以上50质量份以下，更优选为0.5质量份以上30质量份以下，尤其优选为0.5质量份以上4.5质量份以下。
(空穴输送剂)
空穴输送剂例如含氮环状化合物及稠合多环状化合物。含氮环状化合物及稠合多环状化合物例如三苯胺衍生物；二胺衍生物(更具体地，N，N，N’，N’-四苯基联苯胺衍生物、N，N，N’，N’-四苯基苯二胺衍生物、N，N，N’，N’-四苯基萘二胺衍生物、二(氨基苯基乙烯基)苯衍生物、N，N，N’，N’-四苯基亚菲基二胺(N，N，N′，N′-tetraphenyl phenanthrylenediamine)衍生物等)；恶二唑类化合物(更具体地，2，5-二(4-甲基氨基苯基)-1，3，4-恶二唑等)；苯乙烯类化合物(更具体地，9-(4-二乙氨基苯乙烯基)蒽等)；咔唑类化合物(更具体地，聚乙烯基咔唑等)；有机聚硅烷化合物；吡唑啉类化合物(更具体地，1-苯基-3-(对二甲基氨基苯基)吡唑啉等)；腙类化合物；吲哚类化合物；恶唑类化合物；异恶唑类化合物；噻唑类化合物；噻二唑类化合物；咪唑类化合物；吡唑类化合物；三唑类化合物。这些空穴输送剂可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。
从进一步提高耐磨损性的方面考虑，这些空穴输送剂中优选为下述所示的通式(HTM)所表示的化合物(以下，有时记载为空穴输送剂(HTM))。
【化6】
通式(HTM)中，R1、R2、R3及R4各自独立，表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基。a1、a2、a3及a4各自独立，表示0以上5以下的整数。a1、a2、a3及a4不全为0。a1表示2以上5以下整数的情况下，若干个R1可以相同也可以不同。a2表示2以上5以下整数的情况下，若干个R2可以相同也可以不同。a3表示2以上5以下整数的情况下，若干个R3可以相同也可以不同。a4表示2以上5以下整数的情况下，若干个R4可以相同也可以不同。G表示单键或p-亚苯基。
从更进一步提高耐磨损性的方面考虑，通式(HTM)中，R1、R2、R3及R4优选为表示C1-C6烷氧基，更优选为表示甲氧基。从同样的方面考虑，a1、a2、a3及a4各自独立，优选为表示0或1。从同样的方面考虑，G优选为表示p-亚苯基。
从更进一步提高耐磨损性的方面考虑，空穴输送剂(HTM)优选为下述化学式(H-1)所表示的化合物(以下，有时记载为空穴输送剂(H-1))。
【化7】
从高效地输送空穴的方面考虑，相对于粘结树脂100质量份，空穴输送剂的含量优选为10质量份以上200质量份以下，更优选为10质量份以上100质量份以下。
(电子输送剂)
电子输送剂例如：醌类化合物、二酰亚胺类化合物、腙类化合物、丙二腈类化合物、噻喃类化合物、三硝基噻吨酮类化合物、3，4，5，7-四硝基-9-芴酮类化合物、二硝基蒽类化合物、二硝基吖啶类化合物、四氰乙烯、2，4，8-三硝基噻吨酮、二硝基苯、二硝基吖啶、琥珀酸酐、马来酸酐及二溴马来酸酐。醌类化合物例如：联苯醌类化合物、偶氮醌类化合物、蒽醌类化合物、萘醌类化合物、硝基蒽醌类化合物及二硝基蒽醌类化合物。这些电子输送剂可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。
从高效地输送电子方面考虑，这些电子输送剂中，优选为下述所示的通式(ETM)所表示的化合物，更优选为下述所示的化学式(E-1)所表示的化合物(以下，有时记载为电子输送剂(E-1))。
【化8】
通式(ETM)中，R41及R44各自独立，表示C1-C6烷基或氢原子。R42及R43各自独立，表示C1-C6烷基。f1及f2各自独立，表示0以上4以下的整数。f1表示2以上4以下整数的情况下，若干个R42可以相同也可以不同。f2表示2以上4以下整数的情况下，若干个R43可以相同也可以不同。
【化9】
从高效地输送电子方面考虑，相对于粘结树脂100质量份，电子输送剂的含量优选为5质量份以上100质量份以下，更优选为10质量份以上80质量份以下。
(粘结树脂)
粘结树脂例如：热塑性树脂、热固性树脂及光固化树脂。热塑性树脂例如：聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-顺丁烯二酸共聚物、丙烯酸聚合物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚乙烯树脂、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯化聚乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、聚丙烯树脂、离聚物树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、醇酸树脂、聚酰胺树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚砜树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、酮树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂及聚醚树脂。热固性树脂例如：硅酮树脂、环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂及三聚氰胺树脂。光固化树脂例如：环氧-丙烯酸类树脂(环氧化合物的丙烯酸加成物)及聚氨酯-丙烯酸类共聚物(聚氨酯化合物的丙烯酸加成物)。这些粘结树脂可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。
从进一步提高耐磨损性及抗灰雾性的方面考虑，这些粘结树脂中，优选为聚芳酯树脂，更优选为由下述通式(1)表示的聚芳酯树脂(以下，有时记载为聚芳酯树脂(1))。
【化10】
通式(1)中，r、s、t及u各自独立，表示0以上的数。r+s+t+u＝100。r+t＝s+u。r/(r+t)为0.00以上0.90以下。s/(s+u)为0.00以上0.90以下。X是下述化学式(1A)或(1B)所表示的二价基。Y是下述化学式(2A)或(2B)所表示的二价基。
【化11】
通式(1)中，从进一步提高耐磨损性及抗灰雾性方面考虑，X优选为化学式(1A)所表示的二价基。从同样的方面考虑，Y优选为化学式(2A)所表示的二价基。
通式(1)中，从进一步提高耐磨损性及抗灰雾性方面考虑，r/(r+t)优选为0.10以上0.70以下，更优选为0.30以上0.70以下。从同样的方面考虑，s/(s+u)优选为0.10以上0.70以下，更优选为0.30以上0.70以下。
聚芳酯树脂(1)例如具有：下述通式(1-5)所表示的重复单元(以下，有时记载为重复单元(1-5))、下述化学式(1-6)所表示的重复单元(以下，有时记载为重复单元(1-6))、下述化学式(1-7)所表示的重复单元(以下，有时记载为重复单元(1-7))、及下述通式(1-8)所表示的重复单元(以下，有时记载为重复单元(1-8))。
【化12】
通式(1-5)中X的含义与通式(1)中X的含义相同。通式(1-8)中Y的含义与通式(1)中Y的含义相同。
聚芳酯树脂(1)也可以具有重复单元(1-5)～(1-8)以外的重复单元。重复单元(1-5)～(1-8)的物质的量的合计相对于聚芳酯树脂(1)中的重复单元的物质的量的合计的比率(摩尔分数)优选为0.80以上，更优选为0.90以上，进一步优选为1.00。
聚芳酯树脂(1)中，只要源自芳香族二醇的重复单元与源自芳香族二羧酸的重复单元彼此相邻，重复单元(1-5)～(1-8)的排列没有特别限制。例如，重复单元(1-5)与重复单元(1-6)或重复单元(1-8)相邻而彼此结合。同样地，重复单元(1-7)与重复单元(1-6)或重复单元(1-8)相邻而彼此结合。
此外，通式(1)中，r表示：重复单元(1-5)的数相对于聚芳酯树脂(1)中含有的重复单元(1-5)的数、重复单元(1-6)的数、重复单元(1-7)的数及重复单元(1-8)的数的合计的百分比。s表示：重复单元(1-6)的数相对于聚芳酯树脂(1)中含有的重复单元(1-5)的数、重复单元(1-6)的数、重复单元(1-7)的数及重复单元(1-8)数的合计的百分比。t表示：重复单元(1-7)的数相对于聚芳酯树脂(1)中含有的重复单元(1-5)的数、重复单元(1-6)的数、重复单元(1-7)的数及重复单元(1-8)的数的合计的百分比。u表示：重复单元(1-8)的数相对于聚芳酯树脂(1)中含有的重复单元(1-5)的数、重复单元(1-6)的数、重复单元(1-7)的数及重复单元(1-8)的数的合计的百分比。并且，r、s、t及u不是从1条树脂链获得的值，而是从感光层3中含有的聚碳酸酯树脂(1)整体(若干条树脂链)获得的算术平均值。此外，r、s、t及u可以通过用质子核磁共振光谱仪对聚芳酯树脂(1)的1H-NMR光谱进行测量，根据得到的1H-NMR光谱来计算。
聚芳酯树脂(1)例如下述化学式(R-1)～(R-4)所表示的聚芳酯树脂(以下，有时分别记载为聚芳酯树脂(R-1)～(R-4))。
【化13】
从进一步提高抗灰雾性方面考虑，聚芳酯树脂(1)优选为聚芳酯树脂(R-2)及聚芳酯树脂(R-4)，更优选为聚芳酯树脂(R-2)。
粘结树脂的制造方法没有特别限制。粘结树脂使用聚芳酯树脂(1)的情况下，聚芳酯树脂(1)的制造方法例如将用于构成重复单元的芳香族二醇与用于构成重复单元的芳香族二羧酸进行缩聚的方法。缩聚方法没有特别限制，可以采用周知的合成方法(更具体地，溶液聚合、熔融聚合、界面聚合等)。
用于制造聚芳酯树脂(1)的芳香族二羧酸具有2个羧基，并由下述化学式(1-9)或下述通式(1-10)表示。下述通式(1-10)中Y的含义与通式(1)中Y的含义相同。
【化14】
此外，芳香族二羧酸也可以用二酰氯、二甲酯、二乙酯等之类的衍生物。此外，用于缩聚的芳香族二羧酸可以含有化学式(1-9)及通式(1-10)所表示的芳香族二羧酸以外的其他芳香族二羧酸。
芳香族二醇具有2个酚羟基，并由下述通式(1-11)或化学式(1-12)表示。通式(1-11)中X的含义与通式(1)中X的含义相同。
【化15】
合成聚芳酯树脂(1)时，芳香族二醇也可以用二乙酸盐等之类的衍生物。此外，用于缩聚的芳香族二醇除了含有通式(1-11)及化学式(1-12)所表示的芳香族二醇以外，也可以含有其他的芳香族二醇。
粘结树脂的粘均分子量为25,000以上50,000以下。从进一步提高耐磨损性及抗灰雾性的方面考虑，粘均分子量优选为30,000以上。此外，从进一步提高抗灰雾性的方面考虑，粘均分子量优选为46,000以下。粘均分子量例如可以通过调整制造粘结树脂时所用的末端终止剂的量来进行控制。此外，粘均分子量通过后述的实施例所述的测量方法或与之类似的测量方法来测量。
(添加剂)
作为可选成分的添加剂例如：劣化抑制剂(更具体地，抗氧化剂、自由基捕获剂、消光剂、紫外线吸收剂等)、软化剂、表面改性剂、增量剂、增稠剂、分散稳定剂、蜡、供体、表面活性剂及流平剂。使用添加剂的情况下，可以单独使用这些添加剂中的一种，也可以两种以上并用。
抗氧化剂例如：受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫醚化合物及亚磷酸酯化合物。这些抗氧化剂中，优选的是受阻酚化合物及受阻胺化合物。
(材料的组合)
从进一步提高耐磨损性及抗灰雾性的方面考虑，优选的是：感光层3中的空穴输送剂是空穴输送剂(H-1)，并且，感光层3中的粘结树脂是选自聚芳酯树脂(R-1)～(R-4)中一种以上的聚芳酯树脂。从同样的方面考虑，更优选为：感光层3中的空穴输送剂是空穴输送剂(H-1)，并且，感光层3中的粘结树脂是聚芳酯树脂(R-2)。
[3.中间层]
上述本实施方式的感光体1也可以具有中间层4(例如，底涂层)。中间层4例如含有无机颗粒及用于中间层的树脂(中间层用树脂)。中间层4的设置能够维持可抑制漏电发生这种程度的绝缘状态，并使曝光感光体1时产生的电流流动顺利，抑制电阻的上升。
无机颗粒例如：金属(更具体地，铝、铁、铜等)的颗粒、金属氧化物(更具体地，二氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化锡、氧化锌等)的颗粒及非金属氧化物(更具体地，二氧化硅等)的颗粒。这些无机颗粒可以单独使用一种，也可以两种以上并用。并且，无机颗粒也可以进行表面处理。
中间层用树脂只要能够用作形成中间层的树脂即可，没有特别限制。
[4.感光体的制造方法]
对感光体1的制造方法进行说明。感光体1的制造方法例如具有感光层形成工序。感光层形成工序中，制备用于形成感光层3的涂布液(以下，有时记载为感光层用涂布液)。接着，将感光层用涂布液涂布于导电性基体2上。接着，通过适当的方法进行干燥，去除所涂布的感光层用涂布液中含有的溶剂的至少一部分，来形成感光层3。感光层用涂布液例如包含：电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂、粘结树脂及溶剂。通过将电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂及粘结树脂溶解或分散于溶剂，来制备这样的感光层用涂布液。感光层用涂布液中根据需要也可以添加各种添加剂。
以下，对感光层形成工序进行详细说明。感光层用涂布液中含有的溶剂只要能够使感光层用涂布液中含有各个成分溶解或分散，没有特别限制。溶剂例如：醇(更具体地，甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇等)、脂肪烃(更具体地，正己烷、辛烷、环己烷等)、芳香族烃(更具体地，苯、甲苯、二甲苯等)、卤化烃(更具体地，二氯甲烷、二氯乙烷、四氯化碳、氯苯等)、醚(更具体地，二甲醚、二乙醚、四氢呋喃、乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚等)、酮(更具体地，丙酮、甲基乙基酮、环己酮等)、酯(更具体地，乙酸乙酯、乙酸甲酯等)、二甲基甲醛、二甲基甲酰胺及二甲基亚砜。这些溶剂可以单独使用，也可以组合两种以上来使用。这些溶剂中，优选使用非卤代溶剂。
感光层用涂布液通过使各个成分混合，并分散于溶剂来制备。混合或分散例如可以使用珠磨机、辊磨机、球磨机、磨碎机、油漆振荡器或超声波分散器。
为了提高各成分的分散性，感光层用涂布液中例如也可以含有表面活性剂。
涂布感光层用涂布液的方法只要是能够将感光层用涂布液均匀涂布的方法即可，没有特别限制。涂布方法例如：浸涂法、喷涂法、旋涂法及棒涂法。
去除感光层用涂布液中含有的溶剂的至少一部分的方法只要是能够使得感光层用涂布液中的溶剂的至少一部分蒸发的方法即可，没有特别限制。去除方法例如有：加热、减压、及加热与减压并用。更具体地，例如有一种方法是使用高温干燥机、减压干燥机等进行热处理(热风干燥)。热处理条件例如是温度为40℃以上150℃以下，且时间为3分钟以上120分钟以下。
此外，感光体1的制造方法根据需要，还可以具有形成中间层4的工序等。形成中间层4的工序可以适当选择周知的方法。
上述说明的本实施方式的感光体因耐磨损性及抗灰雾性优异，所以能够较佳地用于各种图像形成装置。
<第二实施方式：图像形成装置>
以下对第二实施方式所涉及图像形成装置进行说明。第二实施方式所涉及的图像形成装置具备：像承载体、带电部、曝光部、显影部及转印部。所述像承载体是上述第一实施方式所涉及的感光体。所述带电部使所述像承载体的表面带电。所述带电部的带电极性为正极性。所述曝光部使带电了的所述像承载体的所述表面曝光，来在所述像承载体的所述表面形成静电潜像。所述显影部将所述静电潜像显影为调色剂像。所述转印部在使所述像承载体的所述表面与被转印体接触的同时，使所述调色剂像从所述像承载体转印至所述被转印体。
第二实施方式所涉及的图像形成装置能够抑制图像不良的产生。其理由推测如下。第二实施方式所涉及的图像形成装置具备第一实施方式所涉及的感光体，来作为像承载体。第一实施方式所涉及的感光体的耐磨损性及抗灰雾性优异。因此，第二实施方式所涉及的图像形成装置能够抑制图像不良(更具体地，灰雾等)的产生。
以下参照图4，以串联方式的彩色图像形成装置为例，来对第二实施方式所涉及的图像形成装置的一方式进行说明。
图4所示的图像形成装置100是直接转印方式的图像形成装置。通常，在采用直接转印方式的图像形成装置中，由于像承载体与作为被转印体的记录介质接触，细微成分容易附着于像承载体的表面，所以容易产生图像不良。然而，第二实施方式的一例，即，图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体，来作为像承载体30。因第一实施方式所涉及的感光体的抗灰雾性优异，所以，具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体30时，即使是采用直接转印方式的图像形成装置100，也能够抑制图像不良的产生。
图像形成装置100具备：图像形成单元40a、40b、40c及40d、转印带50及定影部52。以下，在不需要区分的情况下，图像形成单元40a、40b、40c和40d都记载为图像形成单元40。
图像形成单元40具备：像承载体30、带电部42、曝光部44、显影部46及转印部48。像承载体30设置于图像形成单元40的中央位置。像承载体30设置为可按箭头方向(逆时针方向)旋转。在像承载体30的周围，以带电部42为基准从像承载体30的旋转方向的上游侧依次设置带电部42、曝光部44、显影部46及转印部48。并且，图像形成单元40还可以具备清洗部(未图示)及除电部(未图示)的一方或两方。
分别通过图像形成单元40a～40d，转印带50上的记录介质P(被转印体)上被依次重叠若干种颜色(例如，黑色、青色、品红色和黄色这四种颜色)的调色剂像。
带电部42是带电辊。带电辊通过与像承载体30的表面接触，使像承载体30的表面带电。通常，具备带电辊的图像形成装置中容易产生图像不良。但是，图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体，来作为像承载体30。因第一实施方式所涉及感光体的耐磨损性及抗灰雾性优异，所以，即使是具备带电辊来作为带电部42的图像形成装置100，也能够抑制图像不良的产生。由此，第二实施方式的一例，即，图像形成装置100采用接触带电方式。其他的接触带电方式的带电部例如带电刷。此外，带电部也可以是非接触方式。非接触方式的带电部例如：无栅格电极型带电部(Corotron)及有栅格电极型带电部(Scorotron)。
带电部42施加的电压没有特别限制。带电部42施加的电压例如：直流电压、交流电压及重叠电压(交流电压重叠于直流电压的电压)，其中优选为直流电压。与交流电压及重叠电压相比，直流电压具有下述优势。当带电部42只施加直流电压时，由于施加于像承载体30的电压值一定，所以容易使像承载体30的表面均匀带电到一定电位。此外，当带电部42只施加直流电压时，感光层的磨损量有减少的趋势。由此，能够形成较佳的图像。
曝光部44使带电了的像承载体30的表面曝光。由此，在像承载体30的表面形成静电潜像。基于输入到图像形成装置100的图像数据而形成静电潜像。
显影部46将调色剂提供至像承载体30的表面，使静电潜像显影为调色剂像。显影部46可以采用接触显影方式，即，在与像承载体30的表面接触的同时，使静电潜像显影为调色剂像。通常，采用接触显影方式的图像形成装置容易因灰雾而产生图像不良。然而，图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体，来作为像承载体30。因第一实施方式所涉及感光体的抗灰雾性优异，所以，具备这样的感光体的图像形成装置100即使采用接触显影方式，也能够抑制灰雾所导致的图像不良。
显影部46能够对像承载体30的表面进行清洗。也就是说，图像形成装置100可以采用所谓的无清洁器方式。该情况下，显影部46能够去除像承载体30的表面的残留成分。通常，具备清洗部(例如，清洗刮板)的图像形成装置中，像承载体的表面的残留成分被清洗部刮去。然而，无清洁器方式的图像形成装置的情况下，像承载体的表面的残留成分却不能被刮去。因此，采用无清洁器方式的图像形成装置中，残留成分通常容易残留于像承载体的表面。然而，图像形成装置100具备抗灰雾性优异的第一实施方式的感光体，来作为像承载体30。因此，具备这样的感光体的图像形成装置100即使采用无清洁器方式，残留成分尤其是记录介质P的细微成分(例如，纸粉)也不易残留于感光体的表面。由此，图像形成装置100能够抑制图像不良(例如，灰雾)的产生。
为了使显影部46显影，并高效地清洗像承载体30的表面，优选为满足下述条件(a)及条件(b)。
条件(a)：采用接触显影方式，且在像承载体30与显影部46之间设置转速(旋转速度)差。
条件(b)：像承载体30的表面电位与显影偏压的电位满足下述算式(b-1)及算式(b-2)。
0(V)＜显影偏压的电位(V)＜像承载体30的未曝光区域的表面电位(V)……(b-1)
显影偏压的电位(V)＞像承载体30的曝光区域的表面电位(V)＞0(V)……(b-2)
当采用条件(a)所示的接触显影方式，且在像承载体30与显影部46之间设置转速差时，像承载体30的表面与显影部46接触，从而像承载体30表面的残留成分通过与显影部46之间的摩擦而被去除。显影部46的转速优选为比像承载体30的转速快。
条件(b)中，假设显影方式是反转显影方式的情况。为了提高带电极性为正极性的像承载体30的电气特性，优选为，调色剂的带电极性、像承载体30的未曝光区域的表面电位、像承载体30的曝光区域的表面电位以及显影偏压的电位都为正极性。此外，在转印部48将调色剂像从像承载体30转印到记录介质P以后，且带电部42使像承载体30的表面带电以前，对像承载体30的未曝光区域的表面电位和曝光区域的表面电位进行测量。
满足条件(b)的算式(b-1)时，作用在残留于像承载体30的调色剂(以下，有时记载为残留调色剂)与像承载体30的未曝光区域之间的静电排斥力大于作用在残留调色剂与显影部46之间的静电排斥力。因此，像承载体30的未曝光区域的残留调色剂从像承载体30的表面向显影部46移动而被回収。
若满足条件(b)的算式(b-2)，则作用于残留调色剂与像承载体30的曝光区域之间的静电排斥力小于作用于残留调色剂与显影部46之间的静电排斥力。因此，像承载体30的曝光区域的残留调色剂被保持于像承载体30的表面。保持于像承载体30的曝光区域的调色剂被直接用于图形成像。
转印带50在像承载体30与转印部48之间输送记录介质P。转印带50是环状带。转印带50设置为可沿箭头方向(顺时针方向)旋转。
转印部48使由显影部46显影的调色剂像从像承载体30的表面转印至记录介质P。调色剂像从像承载体30转印到记录介质P时，像承载体30与记录介质P接触。转印部48例如是转印辊。
转印部48将调色剂像转印到记录介质P，定影部52对未定影的调色剂像进行加热及/或加压。定影部52例如是加热辊及/或加压辊。通过对调色剂像进行加热及/或加压，从而调色剂像定影于记录介质P。其结果，在记录介质P上形成图像。
上述对第二实施方式所涉及的图像形成装置的一例进行了说明，但第二实施方式所涉及的图像形成装置不限于上述的图像形成装置100。例如，上述的图像形成装置100是串联方式的图像形成装置，但第二实施方式所涉及的图像形成装置不限于此，也可以采用旋转(Rotary)方式等。此外，第二实施方式所涉及的图像形成装置可以是单色图像形成装置。该情况下，图像形成装置例如可以只具备1个图像形成单元。此外，第二实施方式所涉及的图像形成装置也可以采用中间转印方式。第二实施方式所涉及的图像形成装置采用中间转印方式的情况下，被转印体相当于中间转印带。
<第三实施方式：处理盒>
第三实施方式所涉及的处理盒具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体。继续参照图4，对第三实施方式所涉及的处理盒的一例进行说明。
第三实施方式所涉及的处理盒例如分别相当于图像形成单元40a～40d(图4)。这些处理盒包含被单元化的部分。被单元化了的部分包含像承载体30。此外，被单元化的部分除了包含像承载体30，也可以包含从由带电部42、曝光部44、显影部46及转印部48构成的组中选择的至少1个。处理盒还可以具备清洗部(未图示)及除电部(未图示)的一方或两方。处理盒例如设计成相对于图像形成装置100拆装自如。该情况的处理盒容易操作，在像承载体30的感光度特性等劣化的情况下，可以简单快速地对包含像承载体30在内的处理盒进行更换。
上述所说明的第三实施方式所涉及的处理盒通过具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体，而能够抑制图像不良的产生。
【实施例】
以下，通过实施例对本发明进行更详细的说明。并且，本发明不受下述实施方式限定。
<实施例及比较例中所用的材料>
准备以下的电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂及粘结树脂，来作为用于制造单层型感光体的材料。
[电荷产生剂]
预备第一实施方式中所说明的电荷产生剂(CGM-1)。电荷产生剂(CGM-1)是化学式(CGM-1)所表示的无金属酞菁，其晶体结构是X型。也就是说，所用的电荷产生剂(CGM-1)是X型无金属酞菁。
[空穴输送剂]
预备第一实施方式中所说明的空穴输送剂(H-1)。并且，也预备空穴输送剂(H-2)。空穴输送剂(H-2)是下述所示的化学式(H-2)所表示的空穴输送剂。
【化16】
[电子输送剂]
预备第一实施方式中所说明的电子输送剂(E-1)。
[粘结树脂]
通过后述的方法来合成第一实施方式中所说明的聚芳酯树脂(R-1)～(R-4)。并且，预备聚芳酯树脂(R-5)及聚碳酸酯树脂(R-6)。聚芳酯树脂(R-5)及聚碳酸酯树脂(R-6)分别是下述化学式(R-5)及(R-6)所表示的树脂。
【化17】
〔聚芳酯树脂(R-1)～(R-4)的合成〕
聚芳酯树脂(R-1)～(R-4)分别通过以下的方法来合成。就聚芳酯树脂(R-1)而言，合成了粘均分子量不同的5种聚芳酯树脂(R-1)。以下，将粘均分子量为25,200、35,200、45,100、17,900及53,100的聚芳酯树脂(R-1)分别记载为聚芳酯树脂(R-1-1)、聚芳酯树脂(R-1-2)、聚芳酯树脂(R-1-3)、聚芳酯树脂(R-1-4)及聚芳酯树脂(R-1-5)。
(聚芳酯树脂(R-1-1)的合成)
反应容器使用具备温度计、三通阀及滴定漏斗的、容量1L的三口烧瓶。向反应容器内加入作为芳香族二醇的1，1-双(4-羟基-3-甲基苯基)环己烷12.2g(41.3毫摩尔)、作为末端终止剂的叔丁基苯酚0.37g(2.45毫摩尔)、氢氧化钠3.9g(98毫摩尔)及苄基三丁基氯化铵0.12g(0.38毫摩尔)。接着，将反应容器内进行氩气置换。然后，再向反应容器加入600mL水。将反应容器的内部温度保持在20℃，将反应容器的内含物搅拌1小时。接着，冷却反应容器的内含物，使反应容器的内部温度降温到10℃。由此来制备碱性水溶液。
另一方面，将作为芳酰卤(aryloyl halide)的4，4′-氧二苯甲酰氯(4，4′-oxybis(benzoyl chloride))4.8g(16.2毫摩尔)及2，6-萘二甲酰氯(2，6-Naphthalenedicarbonyl dichloride)4.1g(16.2毫摩尔)溶解于三氯甲烷300g，来制备三氯甲烷溶液。
接着，将上述碱性水溶液的温度保持在10℃，并一边搅拌反应容器的内含物，一边向上述碱性水溶液内加入上述三氯甲烷溶液，开始聚合反应。就聚合反应而言，搅拌反应容器的内含物，使反应容器的内部温度保持在13±3℃，并反应3小时。之后，用倾析器去除上层(水层)，获得有机层。
接着，向容量2L的三口烧瓶加入离子交换水500mL后，加入所得到的有机层。再加入三氯甲烷300g和乙酸6mL。在室温(25℃)，将三口烧瓶的内含物搅拌30分钟。之后，用倾析器去除三口烧瓶的内含物的上层(水层)，获得有机层。用离子交换水500mL，通过分液漏斗对得到的有机层进行清洗。重复8次使用离子交换水的清洗，由此得到水洗后的有机层。
接下来，将水洗后的有机层进行过滤，获得滤液。向容量3L的三角烧瓶加入甲醇1.5L。将得到的滤液缓慢滴加到上述三角烧瓶，得到沉淀物。通过过滤，将沉淀物滤出。在温度70℃，将得到的沉淀物真空干燥12小时。由此，得到粘均分子量25,200的聚芳酯树脂(R-1-1)。此外，通过下述方法来测量聚芳酯树脂(R-1-1)的粘均分子量。后述的聚芳酯树脂(R-1-2)～(R-1-5)及聚芳酯树脂(R-2)～(R-4)的粘均分子量的测量方法同样。
(粘均分子量的测量方法)
将聚芳酯树脂(R-1-1)溶解于二氯甲烷，制备浓度C为6.00g/L的样品溶液。接着，用作为溶剂的二氯甲烷的流下时间t0为136.16秒的乌氏毛细管粘度计，在设定为20℃的恒温水槽中测量样品溶液的流下时间t(单位：秒)。接着，按照下式(10)来计算粘均分子量(Mv)。
Mv＝3207×η1.205 (10)
(式(10)中，η＝b/a；a＝0.438×ηsp+1；ηsp＝t/t0-1；t0＝136.16秒；b＝100×ηsp/C；C＝6.00g/L。)
(聚芳酯树脂(R-1-2)的合成)
除了将叔丁基苯酚的加入量改为0.21g(1.41毫摩尔)以外，通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量35,200的聚芳酯树脂(R-1-2)。
(聚芳酯树脂(R-1-3)的合成)
除了将叔丁基苯酚的加入量改为0.17g(1.10毫摩尔)以外。通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量45,100的聚芳酯树脂(R-1-3)。
(聚芳酯树脂(R-1-4)的合成)
除了将叔丁基苯酚的加入量改为0.66g(4.40毫摩尔)以外，通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量17,900的聚芳酯树脂(R-1-4)。
(聚芳酯树脂(R-1-5)的合成)
通过将叔丁基苯酚的加入量改为0.14g(0.93毫摩尔)以外，通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量53,100的聚芳酯树脂(R-1-5)。
(聚芳酯树脂(R-2)的合成)
除了将作为聚芳酯树脂(R-1-1)的起始物料的芳酰卤改为作为聚芳酯树脂(R-2)的起始物料的芳酰卤以外，通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量30,100的聚芳酯树脂(R-2)。并且，聚芳酯树脂(R-2)的合成中的芳酰卤的总计物质的量与聚芳酯树脂(R-1-1)的合成中的芳酰卤的总计物质的量相同。
(聚芳酯树脂(R-3)的合成)
除了将作为聚芳酯树脂(R-1-1)的起始物料的芳香族二醇改为作为聚芳酯树脂(R-3)的起始物料的芳香族二醇以外，通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量32,300的聚芳酯树脂(R-3)。并且，聚芳酯树脂(R-3)的合成中的芳香族二醇的总计物质的量与聚芳酯树脂(R-1-1)的合成中的芳香族二醇的总计物质的量相同。
(聚芳酯树脂(R-4)的合成)
除了将作为聚芳酯树脂(R-1-1)的起始物料的芳香族二醇及芳酰卤分别改为作为聚芳酯树脂(R-4)的起始物料的芳香族二醇及芳酰卤以外，通过与聚芳酯树脂(R-1-1)相同的方法，获得粘均分子量30,500的聚芳酯树脂(R-4)。并且，聚芳酯树脂(R-4)的合成中的芳香族二醇的总计物质的量与聚芳酯树脂(R-1-1)的合成中的芳香族二醇的总计物质的量相同。此外，聚芳酯树脂(R-4)的合成中的芳酰卤的总计物质的量与聚芳酯树脂(R-1-1)的合成中的芳酰卤的总计物质的量相同。
接下来，使用质子核磁共振光谱仪(日本分光株式会社制造，共振频率：300MHz)，测量所合成的聚芳酯树脂(R-1-1)～(R-1-5)及(R-2)～(R-4)的1H-NMR光谱。溶剂使用氘代氯仿。内标物使用四甲基硅烷(TMS)。将图9所示的聚芳酯树脂(R-1-1)的1H-NMR光谱作为聚芳酯树脂(R-1-1)～(R-1-5)及(R-2)～(R-4)中的代表例。图9中，横轴表示化学位移(单位：ppm)，纵轴表示信号强度(单位：任意单位)。通过图9所示的1H-NMR光谱，确认到获得了聚芳酯树脂(R-1-1)。其他的聚芳酯树脂(R-1-2)～(R-1-5)及(R-2)～(R-4)也同样地，通过1H-NMR光谱，分别确认到获得了聚芳酯树脂(R-1-2)～(R-1-5)及(R-2)～(R-4)。
<感光体的制造>
[感光体(A-1)]
向容器内加入：电荷产生剂(CGM-1)2质量份、空穴输送剂(H-1)65质量份、电子输送剂(E-1)35质量份、作为粘结树脂的聚芳酯树脂(R-1-1)100质量份及作为溶剂的四氢呋喃300质量份。用棒状超声波振子，使容器内的材料与溶剂混合2分钟，来使材料分散于溶剂。再使用球磨机，使容器内的材料与溶剂混合50小时，来使材料分散于溶剂。由此，得到感光层用涂布液。使用浸涂法，将该感光层用涂布液涂布于作为导电性基体的铝制鼓状支承体上。将所涂布的感光层用涂布液在100℃热风干燥40分钟。由此，在导电性基体上形成感光层(厚度27μm)。从而获得单层型感光体，即，感光体(A-1)。
[感光体(A-2)～(A-7)及感光体(B-1)～(B-4)]
除了粘结树脂及空穴输送剂使用表1所述的以外，通过与上述的感光体(A-1)相同的方法，分别获得感光体(A-2)～(A-7)及感光体(B-1)～(B-4)。并且，表1中，“粘结树脂”栏的“种类”中的R-1-1～R-1-5及R-2～R-5分别表示聚芳酯树脂(R-1-1)～(R-1-5)及(R-2)～(R-5)。“粘结树脂”栏的“种类”中的R-6表示聚碳酸酯树脂(R-6)。
<测量方法及评价方法>
[断裂应变的测量]
分别对所得到的感光体(A-1)～(A-7)及感光体(B-1)～(B-4)测量感光层的断裂应变。对断裂应变的测量方法进行说明。首先，通过上述方法来制造各个感光体，将感光层从各个感光体的鼓状支承体剥离。接着，将感光层剪裁为3mm×30mm的大小，得到样品。接着，将样品安装到拉伸试验机(株式会社岛津制造作所制造“Autograph(日本注册商标)AGS-J 5kN”)。安装样品时，将拉伸试验机的夹具间的距离调整为8mm。接着，在温度23℃及湿度50％RH的环境下，以5mm/分的拉伸速度对样品进行拉伸，得到应力-应变曲线。根据所得到的应力-应变曲线求出断裂应变。结果如表1所示。
[刻划深度的测量]
分别对所得到的感光体(A-1)～(A-7)及感光体(B-1)～(B-4)测量感光层的刻划深度。刻划深度使用JIS K5600-5-5(日本工业标准K5600：涂料一般试验方法，第五部：涂膜的机械性质，第五节：刻划硬度(负荷针法))所规定的刻划装置200(参照图5)，通过后述的方法进行测量。
以下，参照图5，对JIS K5600-5-5所规定的刻划装置200进行说明。图5是刻划装置200的结构的一例图。刻划装置200具备：固定台201、固定器具202、划痕针203、支承臂部204、2个轴支承部205、基台206、2个轨道部207、砝码盘208及匀速马达(未图示)。砝码209载置于砝码盘208。
图5中，X轴方向及Y轴方向为水平方向，Z轴方向为垂直方向。X轴方向表示固定台201的长边方向。Y轴方向表示在与固定台201的顶面201a(载置面)平行的平面内、与X轴方向正交的方向。并且，后述的图6～8中的X轴方向、Y轴方向及Z轴方向都与图5相同。
固定台201相当于JIS K5600-5-5中的试验板固定台。固定台201具备：顶面201a、一端201b及另一端201c。固定台201的顶面201a是水平面。一端201b与2个轴支承部205相对。
固定器具202设置于固定台201的顶面201a的另一端201c一侧。固定器具202使测量对象(感光体1)固定于固定台201的顶面201a。
划痕针203具有顶端203b(参照图6)。顶端203b的结构是直径1mm的半球状。顶端203b的材质为蓝宝石。
支承臂部204对划痕针203进行支承。支承臂部204以支撑轴204a为中心，在划痕针203接近及远离感光体1的方向上转动。
2个轴支承部205对支承臂部204进行支承，并能够使之转动。
基台206具备顶面206a。2个轴支承部205设置于顶面206a的一端侧。
2个轨道部207设置于顶面206a的另一端侧。2个轨道部207设置为彼此平行地相对。2个轨道部207分别设置为与固定台201的长边方向(X轴方向)平行。固定台201安装于2个轨道部207之间。固定台201沿着轨道部207，可在固定台201的长边方向(X轴方向)上水平移动。
砝码盘208隔着支承臂部204设置在划痕针203上。砝码209载置于砝码盘208。
匀速马达使固定台201沿轨道部207在X轴方向上移动。
以下，对刻划深度的测量方法进行说明。刻划深度的测量方法包含：第一步骤、第二步骤、第三步骤及第四步骤。刻划装置200使用的是表面性能测量机(新东科学株式会社制造“HEIDON TYPE14”)。刻划深度的测量在温度23℃及湿度50％RH的环境下进行。感光体1的形状为鼓状(圆筒状)。
(第一步骤)
第一步骤中，使感光体1以其长边方向与固定台201的长边方向平行的方式，固定于固定台201的顶面201a。此时，感光体1安装成其中心轴L2(旋转轴)方向与固定台201的长边方向平行。
(第二步骤)
第二步骤中，使划痕针203与感光层3的表面3a垂直抵接。在图5的基础上，再参照图6及图7，对使划痕针203与鼓状的感光体1的感光层3的表面3a垂直抵接的方法进行说明。
图6是沿图5的IV-IV线的剖视图，且是使划痕针203与感光体1抵接时的剖视图。图7是图5所示的固定台201、划痕针203及感光体1的侧视图。
使划痕针203以其中心轴A1的延长线与固定台201的顶面201a垂直的方式接近感光体1。接着，感光体1的感光层3的表面3a中，使划痕针203的顶端203b抵接于垂直方向(Z轴方向)上距离固定台201的顶面201a最远的点(抵接点P2)。由此，使划痕针203的顶端203b以划痕针203的中心轴A1垂直于切线A2的方式与感光体1抵接。此时，连接顶面201a的接触点P1与顶端203b的抵接点P2之间的线段和感光体1的中心轴L2正交。并且，切线A2是垂直于中心轴L2的感光体1的剖面所构成的外周圆在抵接点P2的切线。
(第三步骤)
接下来，参照图5及图6，对第三步骤进行说明。第三步骤中，在使划痕针203与感光层3的表面3a垂直抵接的状态，由划痕针203向感光层3施加1og的负荷W。具体地，将10g砝码209载置于砝码盘208。在此状态下移动固定台201。具体地，驱动匀速马达，使固定台201沿轨道部207在X轴方向上水平移动。也就是说，使固定台201的一端201b从第一位置N1移动到第二位置N2。并且，第二位置N2位于第一位置N1的下游侧。下游侧是固定台201的长边方向上、固定台201位于远离2个轴支承部205的方向一侧。随着固定台201在长边方向上的移动，感光体1也在固定台201的长边方向上水平移动。固定台201及感光体1的移动速度为30mm/分。并且，固定台201及感光体1的移动距离为30mm。固定台201及感光体1的移动距离相当于第一位置N1与第二位置N2之间的距离D1-2。固定台201及感光体1移动后，通过划痕针203在感光体1的感光层3的表面3a上形成了划痕S。
接下来，在图5～图7的基础上再参照图8，对划痕S进行说明。图8表示形成于感光层3的表面3a的划痕S。划痕S形成为分别与固定台201的顶面201a及切线A2垂直。此外，划痕S形成为经过图7所示的线L3。线L3是由多个抵接点P2构成的线。线L3分别与固定台201的顶面201a及感光体1的中心轴L2平行。线L3与划痕针203的中心轴A1垂直。
(第四步骤)
第四步骤中，测量划痕S的深度Ds的最大值，即，刻划深度。具体地，从固定台201卸下感光体1。用三维干涉显微镜(Bruker公司的“WYKO NT-1100”)，用5倍的倍率观察形成于感光体1的感光层3上的划痕S，并测量划痕S的深度Ds。划痕S的深度Ds为从切线A2到划痕S的底部的距离。将划痕S的深度Ds中的最大值作为刻划深度。测量出的刻划深度如表1所示。
[抗灰雾性的评价]
分别对所得到的感光体(A-1)～(A-7)及感光体(B-1)～(B-4)评价所形成的图像的抗灰雾性。评价设备使用的是图像形成装置(京瓷办公信息系统株式会社制造“单色打印机FS-1300D”的改装机)。该图像形成装置采用直接转印方式、接触显影方式及无清洁器方式。该图像形成装置中，显影部对残留在感光体上的调色剂进行清洗。并且，该图像形成装置的带电部是带电辊。纸张使用的是京瓷办公信息系统株式会社销售的“京瓷办公信息系统品牌纸VM-A4”(A4大小)。评价设备的评价使用的是单组分显影剂(试生产样品)。
使用评价设备，以感光体的转速168mm/秒，带电电位+600V的条件下，在15,000枚的纸张上连续印刷图像I。图像I是印刷覆盖率1％的图像。接着，在1页纸张上印刷空白图像。温度10℃及湿度15％RH的环境下进行印刷。使用反射密度计(X-rite社制造“RD914”)，对所得到的空白图像测量空白图像内3个位置的图像浓度。空白图像中3个位置的图像浓度之和除以测量位置数。由此，得到空白图像的图像浓度的算术平均值。从空白图像的图像浓度的算术平均值减去基准纸张的图像浓度，所得到的值作为灰雾密度。按照下述判定基准，对测量出的灰雾密度进行判断。判定为A或B的感光体评价为抗灰雾性良好，判定为C的感光体评价为抗灰雾性不良。灰雾密度(FD值)及判定结果如表1所示。
(抗灰雾性的判定基准)
判定A：灰雾密度为0.010以下。
判定B：灰雾密度大于0.010且为0.020以下。
判定C：灰雾密度大于0.020。
[耐磨损性的评价]
分别对所得到的感光体(A-1)～(A-7)及感光体(B-1)～(B-4)评价耐磨损性。耐磨损性的评价方法如下所述。首先，在评价上述的抗灰雾性之前，通过涡电流式膜厚计对各个感光体的感光层的厚度进行测量。接着，上述抗灰雾性的评价以后，通过涡电流式膜厚计对各个感光体的感光层的厚度进行测量。然后，计算抗灰雾性的评价前后各个感光体的感光层厚度的减少量，来作为磨损量(单位：μm)。结果如表1所示。磨损量越小，耐磨损性评价为越优异。
如表1所示，感光体(A-1)～(A-7)的粘结树脂的粘均分子量为25,200以上45,100以下。感光体(A-1)～(A-7)的感光层的断裂应变为6.7％以上12.2％以下。感光体(A-1)～(A-7)的感光层的刻划深度为0.34μm以下。感光体(A-1)～(A-7)的磨损量为2.9μm以上5.7μm以下。感光体(A-1)～(A-7)的抗灰雾性的判定结果为A(良好)。
如表1所示，感光体(B-1)中，粘结树脂的粘均分子量小于25,000，并且感光层的断裂应变小于4.9％；感光体(B-2)中，粘结树脂的粘均分子量大于50,000，并且，感光层的断裂应变大于13.0％；感光体(B-3)中，感光层的断裂应变大于13.0％，并且，感光层的刻划深度大于0.50μm；感光体(B-4)中，感光层的刻划深度大于0.50μm；感光体(B-1)及(B-4)中，磨损量为5.8μm以上；感光体(B-1)～(B-4)中，抗灰雾性的判定结果为C(不良)。
从表1可以得知，感光体(A-1)～(A-7)的耐磨损性比感光体(B-1)及(B-4)优异。并且，感光体(A-1)～(A-7)的抗灰雾性比感光体(B-1)～(B-4)优异。

Claims (10)

1.一种电子照相感光体，具备导电性基体和感光层，其特征在于，
所述感光层为单层，并含有：电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂及粘结树脂，
所述粘结树脂的粘均分子量为25,000以上50,000以下，
所述感光层的断裂应变为4.9％以上13.0％以下，
所述感光层的耐刻划深度为0.50μm以下。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，
所述粘结树脂包含由下述通式(1)表示的聚芳酯树脂，
【化1】
所述通式(1)中，
r、s、t及u各自独立，表示0以上的数，
r+s+t+u＝100，
r+t＝s+u，
r/(r+t)为0.00以上0.90以下，
s/(s+u)为0.00以上0.90以下，
X是下述化学式(1A)或(1B)所示的二价基，
Y是下述化学式(2A)或(2B)所示的二价基，
【化2】
3.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其特征在于，
所述通式(1)中，Y是所述化学式(2A)所表示的二价基。
4.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其特征在于，
所述聚芳酯树脂由下述化学式(R-1)、化学式(R-2)、化学式(R-3)或化学式(R-4)表示，
【化3】
5.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体，其特征在于，
所述空穴输送剂包含由下述通式(HTM)表示的化合物，
【化4】
所述通式(HTM)中，
R1、R2、R3及R4各自独立，表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基，
a1、a2、a3及a4各自独立，表示0以上5以下的整数，
a1、a2、a3及a4不全为0，
a1表示2以上5以下整数的情况下，若干个R1可以相同也可以不同，
a2表示2以上5以下整数的情况下，若干个R2可以相同也可以不同，
a3表示2以上5以下整数的情况下，若干个R3可以相同也可以不同，
a4表示2以上5以下整数的情况下，若干个R4可以相同也可以不同，
G表示单键或p-亚苯基。
6.根据权利要求5所述的电子照相感光体，其特征在于，
所述通式(HTM)中，R1、R2、R3及R4表示甲氧基。
7.根据权利要求6所述的电子照相感光体，其特征在于，
所述空穴输送剂包含由下述化学式(H-1)表示的化合物，
【化5】
8.一种处理盒，
具备权利要求1或2所述的电子照相感光体。
9.一种图像形成装置，具备：
像承载体；
带电部，使所述像承载体的表面带电；
曝光部，使带电了的所述像承载体的所述表面曝光，在所述像承载体的所述表面形成静电潜像；
显影部，将所述静电潜像显影为调色剂像；以及
转印部，使所述调色剂像从所述像承载体转印到被转印体，
所述图像形成装置的特征在于，
所述像承载体是权利要求1或2所述的电子照相感光体，
所述带电部的带电极性为正极性，
所述转印部在使所述像承载体的所述表面与所述被转印体接触的同时，使所述调色剂像从所述像承载体转印到所述被转印体。
10.根据权利要求9所述的图像形成装置，其特征在于，
所述被转印体是记录介质。
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