CN102081315A - 电子照相感光构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电子照相感光构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备。根据本发明的方面,电子照相感光构件包括包含通过聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物获得的固化树脂的表面层。本发明的方面提供其表面层包含具有特定结构的化合物(尿素衍生物)的电子照相感光构件,生产该电子照相感光构件的方法,以及包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
Description
技术领域
本发明涉及一种电子照相感光构件及其生产方法,以及包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
使用有机光导电性物质的电子照相感光构件(有机电子照相感光构件)具有高生产率和低生产成本的优点,因为它们能够通过涂布来生产并且膜形成容易。因此,已广泛研究此电子照相感光构件。特别地,为了延长电子照相感光构件的寿命和达到高图像质量,试图改善电子照相感光构件的机械耐久性。电子照相感光构件中,由于具有由固化树脂构成的表面层的电子照相感光构件的高耐磨耗性,将其投入实际使用例如作为需要高耐久性的高速复印机。
为改善电子照相感光构件的机械耐久性如耐划痕性或耐磨耗性,还知晓将添加剂添加至电子照相感光构件的表面层的技术。
日本专利特开2007-272191、2007-272192和2007-279678各自公开了将特定胺化合物进一步添加至电子照相感光构件的表面层的技术,该表面层含有通过聚合自由基可聚合单体混合物获得的固化树脂。该技术的目的是通过向表面层添加特定胺化合物来改善模糊图像,而由于聚合抑制不降低硬度(机械耐久性)。
然而,作为由本发明的发明人进行研究的结果,发现日本专利特开2007-272191、2007-272192和2007-279678中公开的胺化合物恶化电子照相感光构件的电特性。机械耐久性如耐划痕性也不足。此处,术语″划痕″是指电子照相感光构件表面上形成的外部明显的划痕,当电子照相感光构件表面经受局部机械应力时引起该划痕。在输出图像上此划痕也可以被作为受损图像(划痕状白斑或黑线)。
发明内容
本发明的方面提供一种电子照相感光构件,以及生产该电子照相感光构件的方法,该电子照相感光构件包括含有通过聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物获得的固化树脂的表面层,该电子照相感光构件具有高耐磨耗性、良好的电特性和高耐划痕性。
本发明的方面还提供包括上述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
根据本发明的方面,电子照相感光构件包括含有通过聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物获得的固化树脂的表面层,其中该表面层包含由以下通式(1)表示的化合物。
通式(1)中,R1和R2各自独立地为具有1至3个碳原子的烷基,Ar1和Ar2各自独立地为取代或未取代的芳基。此处,可以包括在所述芳基中的取代基为羧基、氰基、取代或未取代的氨基、羟基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烷基、硝基或卤素原子。
根据本发明的方面,生产电子照相感光构件的方法包括以下步骤:使用包含具有至少一种可聚合官能团的化合物和由上述通式(1)表示的化合物的表面层形成涂布液形成涂布膜;和聚合包含于所述涂布膜中的具有至少一种可聚合官能团的化合物以形成表面层。
根据本发明的方面,可拆卸地安装在电子照相设备的主体的处理盒包括:上述电子照相感光构件和选自充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元中的至少一种单元,其中所述处理盒一体地支承所述电子照相感光构件和所述至少一种单元。
根据本发明的方面,电子照相设备包括上述电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
日本专利特开58-065438公开了由含有尿素化合物的光导电性组合物形成的单层电子照相感光构件。然而,根本没有提及耐划痕性的改善。
日本专利特开63-097959中描述了耐划痕性通过向电子照相感光构件添加尿素化合物来改善。然而,没有进行具体的研究。根据本发明的发明人进行的实验,当将日本专利特开63-097959中公开的尿素化合物添加至含有固化树脂的表面层时,电子照相感光构件的耐划痕性和耐磨耗性降低,电特性也显著地恶化。
本发明的方面能够提供一种电子照相感光构件,以及生产该电子照相感光构件的方法,该电子照相感光构件包括含有通过聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物获得的固化树脂的表面层,该电子照相感光构件具有高耐磨耗性、良好的电特性和高耐划痕性。
本发明的方面还能够提供包括上述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
参照附图,从以下示例性实施方案的描述,本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1A和1B示出电子照相感光构件层结构的实例。
图2示出具有包括根据本发明的方面的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性结构的实例。
具体实施方式
产生根据本发明的方面的效果的详细机理还不清楚,但本发明的发明人认为该机理为如下。
由通式(1)表示的化合物具有分子中的芳基(Ar1和Ar2)容易彼此面对的化学结构。认为由于在电子照相感光构件上引起划痕的外压,彼此面对的芳基之间的距离减少(芳基互相重叠),从而芳基起到在分子水平下的一种弹簧的作用,因而外压能够立即转换成通过化学结构的变化产生的热能。还认为彼此面对的芳基起到具有各向异性的导电通路的作用,因而能够防止电特性的恶化。
在日本专利特开58-065438和63-097959中公开的那些中具有芳基的尿素化合物不具有将短链烷基(R1和R2:具有1至3个碳原子的烷基)直接键合至氮原子的结构。因此,芳基不相互重叠。因而,认为不产生作为由芳基重叠获得的弹簧的效果。
电子照相感光构件通常包括支承体和形成在该支承体上的感光层。
根据本发明的方面,电子照相感光构件的感光层可以为在同一层中包括电荷输送层和电荷产生层的单层型感光层(图1A)或可以为分别包括含电荷产生物质的电荷产生层和含电荷输送物质的电荷输送层的层叠型感光层(图1B)。考虑到电子照相特性,有利地使用层叠型感光层。图1A和1B中,101表示支承体,102表示中间层,103表示电荷产生层,104表示电荷输送层和105表示保护层。
根据本发明的方面,电子照相感光构件的表面层是指位于最外层表面的层。例如,在具有图1A中示出的层结构的电子照相感光构件的情况下,电子照相感光构件的表面层为电荷输送层104。在具有图1B中示出的层结构的电子照相感光构件的情况下,电子照相感光构件的表面层为保护层105。
如上所述,根据本发明的方面的电子照相感光构件的表面层包含通过聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物获得的固化树脂。当聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物时,可以任选地使用聚合引发剂。具有至少一种可聚合官能团的化合物能够通过使用热、光(如紫外线)或放射线(如电子束)聚合。这些中,因为如果采用放射线则不必要使用聚合引发剂,所以使用放射线甚至电子束进行聚合。在通过使用电子束聚合具有至少一种可聚合官能团的化合物的情况下,可以在惰性气氛中应用电子束,然后在惰性气氛中进行热处理,从而防止由氧引起的聚合抑制。惰性气体的实例包括氮气和氩气。
根据本发明的方面,电子照相感光构件的表面层进一步包含由以下通式(1)表示的化合物(尿素衍生物,尿素化合物)。
通式(1)中,R1和R2各自独立地为具有1至3个碳原子的烷基。烷基的实例包括甲基、乙基、丙基(正丙基或异丙基)。如果R1和R2为氢原子,达不到根据本发明的方面的优势。在R1和R2各自为具有4个以上碳原子的烷基的情况下,R1和R2起到抑制构成表面层的固化树脂的高密度结构(三维网络结构)形成的因子的作用。从而,不能获得具有足够膜强度的表面层。如果表面层的膜强度不足,则不能达到令人满意的耐磨耗性和耐划痕性。
通式(1)中,R1和R2各自独立地为取代或未取代的芳基。取代或未取代的芳基的实例包括取代或未取代的苯基和取代或未取代的多环芳基。多环芳基的实例包括萘基、芴基和二甲基芴基。可以包括在所述取代或未取代的芳基中的取代基限于羧基、氰基、取代或未取代的氨基、羟基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烷基、硝基和卤素原子。取代的氨基(具有取代基的氨基)的实例包括二甲氨基和二乙氨基。取代或未取代的烷氧基的实例包括甲氧基和乙氧基。取代或未取代的烷基的实例包括甲基、乙基、丙基(正丙基或异丙基)和三氟甲基。卤素原子的实例包括氟原子、氯原子和溴原子。
为获得分子中的芳基容易彼此面对的结构,由通式(1)表示的化合物能够具有在通式(1)中R1和R2为相同的基团以及Ar1和Ar2为相同的基团的对称结构。
根据本发明的方面,电子照相感光构件的表面层可以以相对于表面层的总质量未1至20质量%的量含有由通式(1)表示的化合物。如果该量过小,可能劣化根据本发明的方面的优势。如果该量过大,达不到构成表面层的固化树脂的高密度结构(三维网络结构),因而表面层的膜强度可能降低,并且由通式(1)表示的化合物可能从表面层中析出。
在电子照相感光构件的表面层中可以包含一种以上由通式(1)表示的化合物。
由通式(1)表示的化合物能够例如通过以下文献中描述的方法合成。
·Photochem.Photobio1.Sci.,2002,1,30-37
·Transactions of the Faraday Society,34,1938,783-786
·Tetrahedron Letters 39(1998),6267-6270
·Bulletin of the chemical society of Japan,vol.47(4),1974,935-937
由通式(1)表示的化合物示例如下(示例化合物),但本发明不限于此。
上述化合物中,可以有利地使用由结构式(U-1)表示的化合物、由结构式(U-2)表示的化合物和由结构式(U-10)表示的化合物。由结构式(U-1)至(U-24)表示的化合物也称为示例化合物(U-1)至(U-24)。
具有至少一种可聚合官能团和用于根据本发明的方面的电子照相感光构件的表面层的化合物为能够通过聚合形成固化树脂的化合物。所述化合物的实例包括烯烃化合物(仅具有一个双键C=C的化合物)、卤化烯烃化合物(仅具有一个双键C=C和卤素X(X为F、Cl、Br或I)的化合物)、二烯化合物(具有两个以上双键C=C的化合物)、炔烃化合物(具有一个以上三键C≡C的化合物)、苯乙烯化合物(具有C=C-Ar(Ar为芳香环或杂芳环)结构的化合物)、乙烯基化合物(具有乙烯基C=C-的化合物)、丙烯酸化合物(具有C=C-C O-Z(Z为O、S或N)或C=C-CN结构的化合物)、环醚化合物(环中具有-O-键的环状化合物)、内酯化合物(环中具有-CO-O-键的环状化合物)、内酰胺化合物(环中具有-NH-C O-键的环状化合物)、环胺化合物(环中具有-NH-键的环状化合物)、环状硫化物(环中具有S原子的环状化合物)、环状碳酸酯化合物(环中具有-O-CO-O-键的环状化合物)、环状酸酐(环中具有-CO-O-CO-键的环状化合物)、环状亚氨醚化合物(环中具有-N=C-O-键的环状化合物)、氨基酸-N-羧酸酐(环中具有-O-CO-N=C-CO-键的环状化合物)、环状酰亚胺化合物(环中具有-CO-NH-CO-键、-NH-CO-O-键或-NH-CO-NH-键的环状化合物)、环状含磷化合物(环中具有P原子的环状化合物)、环状含硅化合物(环中具有Si原子的环状化合物)、环烯烃化合物(其环由碳原子或碳多重键构成的环状化合物)、酚化合物(含具有羟基的芳族结构的化合物)、三聚氰胺/尿素化合物(三聚氰胺或尿素衍生物)、二胺化合物(包括多胺的二胺衍生物)、二羧酸化合物(二羧酸(酯)衍生物)、羟基羧酸(oxycarboxylic acid)化合物(羟基羧酸(酯)衍生物)、氨基羧酸化合物(氨基羧酸(酯)衍生物)、二醇化合物(具有两个以上自由OH基的多元醇)、二异氰酸酯化合物(异(硫)氰酸酯衍生物)、含硫化合物(含硫(S)单体)、含磷化合物(含磷(P)单体)、芳族醚化合物(将芳烃基团与其间的氧彼此键合的化合物)、二卤素化合物(具有除了酸性卤化物(acid halide)以外的多个碳-卤素键的化合物)、醛化合物(具有醛基的化合物)、二酮化合物、碳酸衍生物、苯胺衍生物和硅化合物。
考虑到电特性,具有至少一种可聚合官能团的化合物可以为分子中具有电荷输送结构的电荷输送化合物。电荷输送结构的实例包括三芳基胺、腙、吡唑啉和咔唑的结构。
为提高聚合效率,可聚合官能团可以为丙烯酸类基团(丙烯酰氧基:CH2=CHCOO-)或甲基丙烯酸类基团(甲基丙烯酰氧基:CH2=C(CH3)COO-)。
为在电子照相感光构件的表面层中形成令人满意的三维网络结构,具有至少一种可聚合官能团的化合物可以为具有两种以上可聚合官能团的电荷输送化合物。
具有至少一种可聚合官能团的化合物可以为由以下通式(4)表示的化合物。由以下通式(4)表示的化合物具有有高聚合效率的一元胺结构。在该结构中,适当地调节可聚合官能团的数量,如果其过量存在则容易增加表面层的内部应力并由此容易引起划痕。
通式(4)中,R3和R4各自独立地为氢原子或甲基,Ar3为取代或未取代的芳基。此处,m和n各自独立地为0至5的整数。取代或未取代的芳基的实例包括苯基、萘基、芴基和9,9-二甲基芴基。
为增加电子照相感光构件表面层的三维网络结构的密度,通式(4)中的Ar3为取代或未取代的苯基。
此外,为达到良好电特性和高膜强度(耐磨耗性和耐划痕性)二者,具有至少一种可聚合官能团的化合物可以为由以下结构式(5)表示的化合物。
当形成含固化树脂的表面层时,可以使用一种以上具有至少一种可聚合官能团的化合物。
任何具有导电性的支承体(导电性支承体)可以用于电子照相感光构件的支承体。例如,可以使用由金属如铝、不锈钢或镍制成的支承体或者由其表面用导电性膜涂布的金属、塑料或纸制成的支承体。支承体可以具有圆筒状或膜状形状等。这些支承体中,考虑到机械强度、电子照相特性和成本,由铝制成的圆筒状支承体是适合的。开口管不经任何处理就可以用作支承体,但其表面进行物理处理如切削或珩磨、阳极氧化处理或使用酸化学处理等的开口管也可以用作支承体。具有通过将开口管进行物理处理如切削或珩磨达到的表面粗糙度Rz为0.1μm以上至3.0μm以下的支承体具有令人满意的干涉条纹抑制作用。
可在支承体和感光层或下述中间层之间任选地形成导电层(图1A和1B中未示出)。当支承体自身具有干涉条纹抑制作用时,不必需形成导电层。然而,将开口管不经任何处理用作支承体并在其上形成导电层,从而能够容易地赋予干涉条纹抑制作用。因此,考虑到生产率和成本,导电层是非常有用的。导电层能够通过以下方法形成。首先,导电层形成涂布液通过将氧化锡、氧化铟、氧化钛或硫酸钡等的无机颗粒与可固化树脂如酚醛树脂一起分散在适当的溶剂中和任选地通过添加粗糙化颗粒来制备。将该涂布液施涂至支承体上,并通过加热干燥所得膜以形成导电层。为赋予干涉条纹抑制作用和为涂布在支承体上形成的缺陷,导电层厚度可以为10μm以上至30μm以下。
中间层可以形成于支承体或导电层上,以确保支承体和感光层之间的粘合性,从而保护感光层不受到电击穿并改善对感光层的载流子注入。
中间层能够通过施涂经由将树脂溶解于溶剂中获得的中间层形成涂布液然后干燥该涂布膜来形成。
用于中间层的树脂的实例包括丙烯酸类树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、乙基纤维素树脂、乙烯-丙烯酸共聚物、环氧树脂、酪素树脂、有机硅树脂、明胶树脂、酚醛树脂、缩丁醛树脂、聚丙烯酸酯、聚缩醛、聚酰胺-酰亚胺、聚酰胺、聚(烯丙基醚)、聚酰亚胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇、聚丁二烯、聚丙烯、脲醛树脂、琼脂糖树脂和纤维素树脂。
用于中间层形成涂布液的溶剂的实例包括苯、甲苯、二甲苯、1,2,3,4-四氢化萘、氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲亚砜。
中间层厚度可以为0.1μm以上至5μm以下。
感光层可以形成于支承体、导电层或中间层上。
电荷产生物质的实例包括偶氮颜料如单偶氮颜料、双偶氮颜料、三偶氮颜料和四偶氮颜料;酞菁颜料如镓酞菁和氧钛(oxytitanium)酞菁;和苝颜料。这些物质中,考虑到环境变化时的特性稳定性,镓酞菁是适合的。此外,考虑到高感光度,可以使用在用CuKα特性X射线测量的X射线衍射光谱中布拉格角2θ为7.4°±0.3°和28.2°±0.3°处具有强峰的羟基镓酞菁晶体。
当感光层为层叠型感光层时,用于电荷输送层的粘合树脂(binding resin)的实例包括绝缘性树脂如聚乙烯醇缩丁醛、多芳基化合物、聚碳酸酯、聚酯、苯氧基树脂、聚乙酸乙烯酯、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺、聚乙烯基吡啶、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、琼脂糖树脂、酪素、聚乙烯醇和聚乙烯基吡咯烷酮。另外,能够使用有机光导电性聚合物如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。
用于电荷产生层形成涂布液的溶剂的实例包括甲苯、二甲苯、1,2,3,4-四氢化萘、氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲亚砜。
电荷产生层能够通过施涂含有电荷产生物质和任选的粘合树脂的电荷产生层形成涂布液,然后通过干燥该涂布膜来形成。电荷产生层形成涂布液可以通过仅向溶剂中添加电荷产生物质并进行分散处理然后通过添加粘合树脂来制备,或者可以通过同时向溶剂中添加电荷产生物质和粘合树脂并进行分散处理来制备。
电荷产生层厚度可以为0.05μm以上至5μm以下。
电荷输送物质的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物。
当感光层为层叠型感光层时,用于电荷输送层的粘合树脂的实例包括绝缘性树脂如聚乙烯醇缩丁醛、多芳基化合物、聚碳酸酯、聚酯、苯氧基树脂、聚乙酸乙烯酯、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺、聚酰胺、聚乙烯基吡啶、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、琼脂糖树脂、酪素、聚乙烯醇和聚乙烯基吡咯烷酮。另外,能够使用有机光导电性聚合物如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。
用于电荷输送层形成涂布液的溶剂的实例包括甲苯、二甲苯、1,2,3,4-四氢化萘、氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲亚砜。
电荷输送层能够通过施涂经由将电荷输送物质和任选的粘合树脂溶解于溶剂中获得的电荷输送层形成涂布液,然后通过干燥该涂布膜而形成。
电荷输送层厚度可以为5μm以上至40μm以下。
根据本发明的方面的电子照相感光构件的表面层具有上述结构。可以将导电性颗粒、紫外线吸收剂、耐磨耗性改进剂进一步添加至表面层。导电性颗粒的实例为金属氧化物如氧化锡颗粒。耐磨耗性改进剂的实例包括含氟树脂颗粒、氧化铝颗粒和二氧化硅颗粒。
表面层的厚度可以为0.5μm以上至20μm以下。
用于表面层形成涂布液的溶剂的实例包括甲苯、二甲苯、1,2,3,4-四氢化萘、氯苯、二氯甲烷、氯仿、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、丙酮、甲乙酮、环己酮、二乙醚、二丙醚、丙二醇单甲醚、二噁烷、甲缩醛、四氢呋喃、水、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷、4-甲基吗啉、N,N′-二甲基环己胺、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和二甲亚砜。
在电子照相感光构件具有图1A中示出的层结构的情况下,具有电荷输送能力的表面层形成于电荷产生层上。在电子照相感光构件具有图1B中示出的层结构的情况下,表面层形成于电荷输送层上。
各上述层能够通过涂布方法如浸渍涂布法(浸渍法)、喷涂法、旋涂法、珠涂法、刮涂法、或束流涂法(beam coating)形成。
图2示出电子照相设备的示意性结构的实例,该电子照相设备具有包括根据本发明的方面的电子照相感光构件的处理盒。
图2中,根据本发明的方面的鼓形电子照相感光构件1以预定圆周速度(处理速度)沿箭头指示的方向绕轴2旋转。旋转中,电子照相感光构件1的周面通过充电单元(第一充电单元)3以预定的正或负电位均匀地充电。接下来,将电子照相感光构件1用曝光光4照射,该曝光光4从提供狭缝曝光或激光束扫描曝光的曝光单元(未示出)输出并且根据目标图像信息的时间序列电数字像素信号来调整强度。因而,相应于目标图像信息的静电潜像顺次地形成于电子照相感光构件1表面上。
形成的静电潜像通过常规显影或反转显影用容纳在显影单元5中的调色剂显影为调色剂图像。然后在电子照相感光构件1表面上形成并承载的调色剂图像通过转印单元6顺次地转印至转印介质7上。在此过程中,以与电子照相感光构件1的旋转同步将转印介质7从进给单元(未示出)进给至电子照相感光构件1和转印单元6之间的部分。另外,将具有与调色剂电荷极性相反极性的偏压从偏压电源(未示出)施加至转印单元6。转印单元可以采用中间转印系统,其中转印单元由第一转印构件、中间转印体和第二转印构件构成。
将其上已转印调色剂图像的转印介质7从电子照相感光构件表面分离,并输送至将调色剂图像进行定影处理的定影单元8。在定影处理之后,将转印介质7作为图像形成物(打印件或复印件)打印出到电子照相设备之外。
沉积物如调色剂图像已从其上转印至转印介质的电子照相感光构件1表面上残留的调色剂通过清洁单元9除去,由此清洁表面。未转印而残留的调色剂能够通过显影单元等收集。此外,电子照相感光构件1通过来自预曝光单元(未示出)的预曝光光10消除电荷,然后将其重复用于图像形成。在充电单元3为使用充电辊等的接触充电单元的情况下,不必需要预曝光。
根据本发明的方面,两种以上部件如电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5、转印单元6和清洁单元9等,可以容纳于容器中以构成处理盒。处理盒可以可拆卸地安装于电子照相设备如复印机或激光束打印机的主体上。例如,选自充电单元3、显影单元5、转印单元6和清洁单元9中的至少一种单元与电子照相感光构件1一起被一体地支承,从而构成处理盒11,该处理盒11通过使用导向单元12如电子照相设备主体的轨道可拆卸地安装于电子照相设备主体上。
基于实施例现在将更具体地描述本发明的方面。然而,本发明不限于此。实施例中,术语″份″是指″质量份″。
实施例
实施例1
首先,将50份用含10%氧化锑的氧化锡涂布的氧化钛颗粒、25份可熔型酚醛树脂、20份甲基溶纤剂、5份甲醇和0.002份硅油(平均分子量为3000的聚二甲基硅氧烷-聚氧化烯共聚物)用使用直径为0.8mm的玻璃珠的砂磨设备分散2小时,以制备导电层形成涂布液。
将导电层形成涂布液通过浸渍法施涂于作为支承体的铝圆筒(外径为30mm的冷拔管)上,并且将所得膜在140℃下干燥30分钟,从而形成具有15μm厚度的导电层。
接下来,将2.5份尼龙6-66-610-12四元尼龙共聚物树脂(产品名称:CM8000,由Toray Industries,Inc.制造)和7.5份N-甲氧基甲基化尼龙6树脂(产品名称:Toresin EF-30T,由NagaseChemteX Corporation制造)溶解于100份甲醇和90份丁醇的混合溶剂中,以制备中间层形成涂布液。
将中间层形成涂布液通过浸渍法施涂于导电层上,并将所得膜在100℃下干燥10分钟,从而形成具有0.55μm厚度的中间层。
随后,将11份在用CuKα特性X射线测量的X射线衍射光谱中布拉格角为7.4°和28.2°处具有强峰的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)添加至通过将5份聚乙烯醇缩丁醛(产品名称:S-LECBX-1,由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)溶解于130份环己酮中获得的溶液中。将500份直径为1mm的玻璃珠添加至其中,并在1800rpm下进行分散处理2小时,同时将所得溶液用18℃冷却水冷却。将已进行分散处理的溶液用300份乙酸乙酯和160份环己酮稀释,以制备电荷产生层形成涂布液。
用使用液相沉降法作为基本原理的离心粒径分析仪(产品名称:CAPA700,由HORIBA,Ltd.制造)测量包含于电荷产生层形成涂布液中的羟基镓酞菁晶体的平均粒径(中值)。其平均粒径为0.10μm。
将电荷产生层形成涂布液通过浸渍法施涂于中间层上,并且将所得膜在110℃下干燥10分钟,从而形成具有0.14μm厚度的电荷产生层。
接下来,将5份由以下结构式(6)表示的化合物(电荷输送物质)、5份由以下结构式(7)表示的化合物(电荷输送物质)和10份聚碳酸酯(产品名称:Iupilon Z400,由MITSUBISHI GASCHEMICAL Company,Inc.制造)溶解于70份一氯苯和30份二甲氧基甲烷的混合溶剂中,以制备电荷输送层形成涂布液。
将电荷输送层形成涂布液通过浸渍法施涂于电荷产生层上,并且将所得膜在100℃下干燥30分钟,从而形成具有17μm厚度的电荷输送层。
随后,将49.75份由上述结构式(5)表示的化合物和0.25份示例化合物(U-1)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>97%)溶解于25份正丙醇中。此外,将25份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(产品名称:ZEORORA H,由ZEONCorporation制造)添加至其中,以制备保护层形成涂布液。
将保护层形成涂布液通过浸渍法施涂于电荷输送层上,然后在50℃下加热5分钟。在氮气气氛中,将所得膜在加速电压为80kV吸收剂量为19000Gy下用电子束照射1.5秒。然后将该膜在氮气气氛中在125℃下加热30秒。从用电子束照射至30秒热处理的氧浓度为19ppm。随后,在空气中在100℃下进行热处理20分钟,从而形成具有4.8μm厚度的保护层。
因此,生产包括支承体、导电层、中间层、电荷产生层、电荷输送层和作为表面层的保护层的电子照相感光构件。将该电子照相感光构件称为电子照相感光构件1。
实施例2
除了实施例1中,通过将由结构式(5)表示的化合物的量改变为48.5份和将示例化合物(U-1)的量改变为1.5份来制备保护层形成涂布液以外,以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。将该电子照相感光构件称为电子照相感光构件2。
实施例3
除了实施例1中,通过将由结构式(5)表示的化合物的量改变为42.5份和将示例化合物(U-1)的量改变为7.5份来制备保护层形成涂布液以外,以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。将该电子照相感光构件称为电子照相感光构件3。
实施例4
除了实施例1中,通过将由结构式(5)表示的化合物的量改变为39份和将示例化合物(U-1)的量改变为11份来制备保护层形成涂布液以外,以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。将该电子照相感光构件称为电子照相感光构件4。
实施例5
除了实施例2中,将保护层形成涂布液改变为通过以下获得的保护层形成涂布液以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件:将48.5份由上述结构式(5)表示的化合物、1.5份示例化合物(U-1)、13份聚四氟乙烯颗粒(产品名称:LubronL2,由Daikin Industries,Ltd.制造)和1.5份具有由以下式(A1)表示的重复结构单元和由以下式(A2)表示的重复结构单元的树脂(重均分子量:130,000,共聚比(A1)/(A2)=1/1(摩尔比))添加至25份正丙醇和25份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(产品名称:ZEORORA H,由ZEON Corporation制造)的混合溶液中,然后通过用超高压分散机分散该混合物。将此称为电子照相感光构件5。
实施例6
除了将实施例1中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件6。
实施例7
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件7。
实施例8
除了将实施例3中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例3中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件8。
实施例9
除了将实施例4中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例4中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件9。
实施例10
除了将实施例5中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例5中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件10。
实施例11
通过向实施例2中制备的保护层形成涂布液进一步添加2.5份1-羟基环己基苯基酮(产品名称:Irgacure 184,由CibaSpecialty Chemicals制造,光聚合引发剂)来制备保护层形成涂布液。将该保护层形成涂布液通过浸渍法施涂于电荷输送层上,然后在50℃下加热5分钟。将所得膜用使用金属卤化物灯的光在照射强度为500mW/cm2下照射20秒,并在130℃下加热30分钟,从而形成具有4.8μm厚度的保护层(表面层)。除了上述处理以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件11。
实施例12
除了将实施例11中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例11中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件12。
实施例13
除了将实施例2中的由上述结构式(5)表示的化合物改变为由以下结构式(8)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件13。
实施例14
除了将实施例13中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例13中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件14。
实施例15
除了将实施例2中的由上述结构式(5)表示的化合物改变为由以下结构式(9)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件15。
实施例16
除了将实施例15中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例15中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件16。
实施例17
除了将实施例2中的由上述结构式(5)表示的化合物改变为由以下结构式(10)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件17。
实施例18
除了将实施例17中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件18。
实施例19
将实施例2的保护层形成涂布液改变为通过以下获得的保护层形成涂布液:将24.5份二季戊四醇六丙烯酸酯(产品名称:DPHA,由DAICEL-CYTEC Company,Ltd.制造)(具有六个作为可聚合官能团的丙烯酸类基团和不具有电荷输送结构的化合物)、24份由结构式(11)表示的化合物、2.5份1-羟基环己基苯基酮(产品名称:Irgacure 184,由Ciba Specialty Chemicals制造,光聚合引发剂)和1.5份示例化合物(U-1)溶解于25份正丙醇中,然后进一步添加25份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(产品名称:ZEORORA H,由ZEON Corporation制造)。将该保护层形成涂布液通过浸渍法施涂于电荷输送层上,然后在50℃下加热5分钟。将所得膜用使用金属卤化物灯的光在照射强度为500mW/cm2下照射20秒,并在130℃下加热30分钟,从而形成具有4.8μm厚度的保护层(表面层)。除了上述处理以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件19。
实施例20
除了将实施例19中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例19中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件20。
实施例21
将实施例2的保护层形成涂布液改变为通过以下获得的保护层形成涂布液:将50份掺杂锑和用由结构式(12)表示的化合物表面处理(处理量:7%)的氧化锡超细颗粒和150份乙醇使用砂磨机分散66小时,进一步添加20份聚四氟乙烯颗粒(平均粒径:0.18μm),分散该混合物2小时,并在其中溶解25份可熔型酚醛树脂(产品名称:PL-4804,由Gun Ei Chemical Industry Co.,Ltd.制造,含有除了氨以外的胺化合物)。将该保护层形成涂布液通过浸渍法施涂于电荷输送层上,并将所得膜在150℃下加热60分钟,从而形成具有4.8μm厚度的保护层(表面层)。除了上述处理以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件21。
实施例22
除了将实施例21中的示例化合物(U-1)改变为示例化合物(U-2)(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造,GC纯度:>98%)以外,以与实施例21中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件22。
实施例23
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-3)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件23。
实施例24
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-4)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件24。
实施例25
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-6)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件25。
实施例26
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-8)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件26。
实施例27
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-9)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件27。
实施例28
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-10)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件28。
实施例29
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-12)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件29。
实施例30
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-13)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件30。
实施例31
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.S ci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-15)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件31。
实施例32
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-19)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件32。
实施例33
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-20)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件33。
实施例34
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-21)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件34。
实施例35
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-22)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件35。
实施例36
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-23)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件36。
实施例37
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为按照Photochem.Photobiol.Sci.,2002,1,30-37中描述的方法合成的示例化合物(U-24)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件37。
比较例1
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(13)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C1。
比较例2
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(14)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C2。
比较例3
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(15)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C3。
比较例4
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(16)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C4。
比较例5
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(17)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C5。
比较例6
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(18)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C6。
比较例7
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(19)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C7。
比较例8
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(20)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C8。
比较例9
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为邻苯二甲酸二乙酯(增塑剂)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C9。
比较例10
除了将实施例2中的示例化合物(U-1)改变为由以下结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C10。
比较例11
除了将实施例11中的示例化合物(U-1)改变为由上述结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例11中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C11。
比较例12
除了将实施例13中的示例化合物(U-1)改变为由上述结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例13中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C12。
比较例13
除了将实施例15中的示例化合物(U-1)改变为由上述结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例15中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C13。
比较例14
除了将实施例17中的示例化合物(U-1)改变为由上述结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C14。
比较例15
除了将实施例19中的示例化合物(U-1)改变为由上述结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例19中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C15。
比较例16
除了实施例21中,将示例化合物(U-1)改变为由上述结构式(21)表示的化合物以外,以与实施例21中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C16。
比较例17
除了在实施例2中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C17。
比较例18
除了在实施例11中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例11中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C18。
比较例19
除了在实施例13中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例13中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C19。
比较例20
除了在实施例15中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例15中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C20。
比较例21
除了在实施例17中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C21。
比较例22
除了在实施例19中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例19中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C22。
比较例23
除了在实施例21中,不使用示例化合物(U-1)以外,以与实施例21中相同的方式生产电子照相感光构件。将此称为电子照相感光构件C23。
比较例24
除了在实施例1中,不形成保护层以外,以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。将其电荷输送层为表面层的电子照相感光构件称为电子照相感光构件C24。
比较例25
除了使用通过向比较例24中制备的电荷输送层形成涂布液中进一步添加0.6份示例化合物(U-1)获得的电荷输送层形成涂布液以外,以与比较例24中相同的方式生产电子照相感光构件。将其电荷输送层为表面层的电子照相感光构件称为电子照相感光构件C25。
表面层特性的评价
各电子照相感光构件2、7、C 10和C 17的表面层的通用硬度和弹性变形率用硬度计(产品名称:H100VP-HCU,由FischerInstrumentation Ltd.in Germany制造)测量。将四角锥金刚石压头(相对面之间的角度为136°)压入表面层中以测量,同时将负荷施加于金刚石压头上。电检测当将负荷施加于金刚石压头时的压痕深度。测量在23℃/50%RH的环境中进行。
随着通用硬度增加,机械强度变高。通过将测试负荷(最终负荷:2mN)除以由于测试负荷而产生的压痕的表面积(由压头的几何形状计算)来确定通用硬度。
随着弹性变形率增加,弹性变高。弹性变形率通过测量由减少测试负荷(最终负荷:2mN)直到负荷达到0的压痕深度和负荷来测定。
过纸耐久性评价
将各电子照相感光构件1至37和C1至C25安装于电子照相复印机(产品名称:iR4570,由CANON KABUSHIKI KAISHA制造)中。将暗区电位设定为-750V,亮区电位设定为-160V,而200000张过纸耐久性测试在27℃/75%RH环境中进行。此处,存在或不存在由形成于电子照相感光构件表面上的划痕引起的图像缺陷(受损图像)通过目视检查每10000张纸来确定(实施例1至37和比较例1至25)。此外,关于各电子照相感光构件1至10、23至37和C1至C10、C17、C24和C25,确定20000张过纸后亮区电位变化的差(=(20000张过纸后的亮区电位)-(初始亮区电位))(实施例1至10与23至37和比较例1至10、17、24和25)。另外,关于各电子照相感光构件1至10、23至37和C1至C10和C17,确定50000张过纸后表面层的磨耗损失(μm)(实施例1至10与23至37和比较例1至10与17)。表中示出结果。
表
比较例24和25中,不能完成200000张过纸耐久性测试,并且当进行30000张过纸时,结束耐久性测试。
虽然已参照示例性实施方案描述本发明,但应理解本发明不限于公开的示例性实施方案。下列权利要求的范围与最宽泛的解释相一致,以包含所有此类修改和等同结构与功能。
Claims (12)
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中在通式(1)中,R1和R2为相同的基团,且Ar1和Ar2为相同的基团。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述表面层以相对于所述表面层的总质量为1至20质量%的量包含所述由通式(1)表示的化合物。
5.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述具有至少一种可聚合官能团的化合物为电荷输送化合物,所述可聚合官能团为丙烯酸类基团或甲基丙烯酸类基团。
6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件,其中所述具有至少一种可聚合官能团的化合物为具有两种以上可聚合官能团的电荷输送化合物。
8.根据权利要求7所述的电子照相感光构件,其中所述具有至少一种可聚合官能团的化合物为由以下结构式(5)表示的化合物,
10.根据权利要求9所述的生产电子照相感光构件的方法,其中所述聚合通过用电子束照射所述涂布膜来进行。
11.一种处理盒,该处理盒可拆卸地安装在电子照相设备的主体上,所述处理盒包括:
根据权利要求1所述的电子照相感光构件;和
选自充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元中的至少一种单元,
其中所述处理盒一体地支承所述电子照相感光构件和所述至少一种单元。
12.一种电子照相设备,该电子照相设备包括:
根据权利要求1所述的电子照相感光构件;
充电单元;
曝光单元;
显影单元;和
转印单元。
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