CN109133640A - 一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒及柔面复古陶瓷砖 - Google Patents

一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒及柔面复古陶瓷砖 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒及柔面复古陶瓷砖，该耐磨干粒按照重量百分比配比如下：二氧化硅：51.06～59wt％、三氧化二铝：10～20wt％、氧化钙：7～12wt％、氧化镁：0.2～1.4wt％、氧化钾：1～5.1wt％、氧化钠：0.5～5.5wt％、氧化锌：1～6wt％、氧化锶：3～5.2wt％；其中，所述三氧化二铝与二氧化硅的比值介于1：5与2：5之间，将该耐磨干粒加工成细度可以为80‑100；通过上述耐磨干粒的成份优化以及制作工艺的优化，将其用于复古陶瓷砖中，可以将弱光泽、耐磨性、防滑力有效结合在一起，适合各种运用场合；在侧灯光下有柔弱的光泽感，正视基本无光泽感；耐磨性达到5级；发色亮丽，呈色强。

Description

一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒及柔面复古陶瓷砖
技术领域
本发明属于陶瓷建材领域，具体涉及一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒 及使用该耐磨干粒制造的柔面复古陶瓷砖。
背景技术
复古陶瓷砖在中国市场的发展已经有几年的时间，在市场激烈竞争的大 背景下，陶瓷企业和技术人员除在产品设计方面进行创新外，还更加注重产 品的质感、表面硬度和产品的表面平整度，并且努力能够在生产成本方面有 所降低。复古陶瓷砖的色彩和外貌着重体现的是重归大自然的风格，具有乡 村风味的、质朴的、粗犷的特点，釉面多以亚光为主，复古陶瓷砖的应用范 围较广并有墙地一体化的发展趋势，其创新设计和创新技术赋予复古陶瓷砖 更高的市场价值和生命力，要求有一定的耐磨、防滑、防污能力且瓷砖的外 观色彩丰富、美观。经过多年的发展，釉面耐磨性和硬度较早期有较大的提 升。然而，对于大型商场、地铁站等人流量大的区域，现有的柔面复古瓷砖 的耐磨性难以满足其使用要求，为提升产品耐磨性和硬度，扩大其应用范围， 业界进行了很多提高釉面硬度和耐磨性的研究，但实际效果不佳。因此，研 发一种新的蜡光质感的柔面复古瓷砖的耐磨熔块，降低光污染提高耐磨性， 以满足市场对瓷砖产品的更高要求，是非常有必要的。
发明内容
针对现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种蜡光质感的柔面 砖的耐磨熔块。本发明将着重强调采取优化耐磨熔块成分及其制作工艺进行 优化，将其用于蜡光质感的柔面砖中可提高耐磨性能，使复古陶瓷砖的表面 光泽具有蜡光质感。
本发明要求保护一种蜡光质感的柔面仿古瓷砖的耐磨干粒。该耐磨干粒 配比如下：二氧化硅：51.06～59wt％、三氧化二铝：10～20wt％、氧化钙：7～ 12wt％、氧化镁：0.2～1.4wt％、氧化钾：1～5.1wt％、氧化钠：0.5～5.5wt％、 氧化锌：1～6wt％、氧化锶：3～5.2wt％，其中，所述三氧化二铝与二氧化 硅的比值介于1：5与2：5之间，将该耐磨颗粒加工成细度可以为80-100或 140-160，该耐磨颗粒在釉料的使用中，加入量为9-11为宜。
进一步，所述耐磨干粒由熔块原料和生料通过下述方法制得，将所述熔 块原料经过加热，使其达到熔融状态；在合适的温度下，对熔融状态的所述 熔块原料进行微晶化处理；对微晶化处理后的所述熔块原料进行水淬处理， 得到所述熔块一。
进一步，对所述熔块一进行破碎处理，使其达到一定的球磨细度；将破 碎处理后的所述熔块一与所述生料混合、球磨，球磨后达到耐磨干粒的使用 要求。
进一步，所述熔块原料的熔融温度范围为1120-1180℃。
进一步，所对所述熔块进行微晶化处理的降温速率为4℃/min。
进一步，球磨方式可为湿法球磨，球磨介质可为高铝球石、中铝球石、 天然鹅卵石。
优化技术方案
耐磨干粒最佳配方为耐磨熔块最佳配方为二氧化硅：耐磨干粒最佳配方 为二氧化硅：59wt％、三氧化二铝：14wt％、氧化钙：11wt％、氧化镁：0.3wt％、 氧化钾：2.4wt％、氧化钠：2.3wt％、氧化锌：5.5wt％、氧化锶：4.7wt％、 烧失：0.8wt％。
优化技术方案
在耐磨干粒上布施保护釉，形成保护层，所述保护釉主要由保护颗粒制 备而成，所述保护颗粒主要由以下质量份数计的组分组成：二氧化硅：60～ 70份、三氧化二铝：15～25份、氧化铁：0.1～0.3份、二氧化钛：0.01～0.1 份、氧化钠：4～8份、氧化钾：2～6份、氧化镁：0.05～0.3份、氧化钙： 0.5～3份和烧失：0.05～0.3份；然后，依次层叠设置的坯体、面釉、装饰层、 耐磨干粒和保护釉层放入窑炉中进行烧制，制得防滑耐磨易洁复古陶瓷砖坯体；对防滑耐磨复古陶瓷砖坯体进行抛光和磨边处理，即制得防滑耐磨易洁 复古陶瓷砖。
有益效果：本发明相对于现有技术而言，通过上述耐磨熔块的成分优化 以及制作工艺的优化，将其用于柔面砖中，可以将弱光泽、耐磨性、防滑力 有效结合在一起，适合各种运用场合。在侧灯光下有柔弱的光泽感，正视基 本无光泽感；触感平滑细腻，表面无明显针孔、釉泡等缺陷；耐磨性达到4～ 5级；发色亮丽，呈色强。
具体实施方式
为了能进一步了解本发明的内容和特点，以下通过下述实施方式进一步 说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明， 以下的含量如无特别说明，均指以质量计。
下面通过实施例1-5来介绍不同配比的耐磨干粒，此外，通过控制二氧化 硅和三氧化二铝的不同比例，可以获得不同的表面效果。
实施例1
本发明要求保护一种蜡光质感的柔面仿古砖的耐磨干粒。该耐磨干粒按 照重量百分比配比如下：该耐磨干粒按照重量百分比配比如下：二氧化硅： 51.06～59wt％、三氧化二铝：10～20wt％、氧化钙：7～12wt％、氧化镁：0.2～ 1.4wt％、氧化钾：1～5.1wt％、氧化钠：0.5～5.5wt％、氧化锌：1～6wt％、 氧化锶：3～5.2wt％，其中，所述三氧化二铝与二氧化硅的比值介于1：5与 2：5之间，将该耐磨干粒加工成细度可以为80-100或140-160，该耐磨干粒 在釉料的使用中，加入量为9-11为宜。
进一步，所述耐磨干粒由熔块原料和生料通过下述方法制得，将所述熔 块原料经过加热，使其达到熔融状态；在合适的温度下，对熔融状态的所述 熔块原料进行微晶化处理；对微晶化处理后的所述熔块原料进行水淬处理， 得到所述熔块一。
进一步，对所述熔块一进行破碎处理，使其达到一定的球磨细度；将破 碎处理后的所述熔块一与所述生料混合、球磨，球磨后达到耐磨干粒的使用 要求。
进一步，所述熔块原料的熔融温度范围为1120-1180℃。
进一步，所对所述熔块一进行微晶化处理的降温速率为4℃/min。
该工艺中二氧化硅和三氧化二铝的配比介于1：5与2：5之间，其余成 分选取适当值，使用该耐磨干粒制成的陶瓷砖，其表面平滑细腻、具有哑光 柔面效果。
实施例2
本发明要求保护一种蜡光质感的柔面仿古砖的耐磨干粒。该耐磨干粒按 照重量百分比配比如下：该耐磨干粒按照重量百分比配比如下：二氧化硅： 55wt％、三氧化二铝：11wt％、氧化钙：7～12wt％、氧化镁：0.2～1.4wt％、 氧化钾：1～5.1wt％、氧化钠：0.5～5.5wt％、氧化锌：1～6wt％、氧化锶： 3～5.2wt％，其中，所述三氧化二铝与二氧化硅的比值为1：5，将该耐磨干 粒加工成细度可以为80-100，该耐磨干粒在釉料的使用中，加入量为9-11为 宜。
进一步，所述耐磨干粒由熔块原料和生料通过下述方法制得，将所述熔 块原料经过加热，使其达到熔融状态；在合适的温度下，对熔融状态的所述 熔块原料进行微晶化处理；对微晶化处理后的所述熔块原料进行水淬处理， 得到所述熔块一。进一步，对所述熔块一进行破碎处理，使其达到一定的球 磨细度；将破碎处理后的所述熔块一与所述生料混合、球磨，球磨后达到耐 磨干粒的使用要求。进一步，所述熔块原料的熔融温度范围为1120-1180℃。 进一步，所对所述熔块一进行微晶化处理的降温速率为4℃/min。该工艺中二 氧化硅和三氧化二铝的配比为1：5，其余成分选取与实施例1相同的量，其 表面略微粗糙，颗粒较为明显，表面无光。
实施例3
本发明要求保护一种蜡光质感的柔面仿古砖的耐磨干粒。该耐磨干粒按 照重量百分比配比如下：二氧化硅：52wt％、三氧化二铝：20.8wt％、氧化钙： 7～12wt％、氧化镁：0.2～1.4wt％、氧化钾：1～5.1wt％、氧化钠：0.5～5.5 wt％、氧化锌：1～6wt％、氧化锶：3～5.2wt％，其中，所述三氧化二铝与 二氧化硅的比值为2：5，将该耐磨干粒加工成细度可以为80-100，该耐磨干 粒在釉料的使用中，加入量为9-11为宜。
进一步，所述耐磨干粒由熔块原料和生料通过下述方法制得，将所述熔 块原料经过加热，使其达到熔融状态；在合适的温度下，对熔融状态的所述 熔块原料进行微晶化处理；对微晶化处理后的所述熔块原料进行水淬处理， 得到所述熔块一。进一步，对所述熔块一进行破碎处理，使其达到一定的球 磨细度；将破碎处理后的所述熔块一与所述生料混合、球磨，球磨后达到耐 磨干粒的使用要求。进一步，所述熔块原料的熔融温度范围为1120-1180℃。 进一步，所对所述熔块一进行微晶化处理的降温速率为4℃/min。
该工艺中二氧化硅和三氧化二铝的配比为2：5，其余成分选取与实施例 1相同的量，使用该耐磨干粒制成的陶瓷砖，其表面平滑、偏光、无柔面效果。
综上，在二氧化硅与三氧化二铝的配比上，其应该选择为介于1:5与2:5 之间才能获得较为合适的耐磨干粒。
实施例4
本发明要求保护一种蜡光质感的柔面仿古瓷砖的耐磨干粒。该耐磨干粒 按照重量百分比配比如下：耐磨干粒最佳配方为二氧化硅：59wt％、三氧化 二铝：14wt％、氧化钙：11wt％、氧化镁：0.3wt％、氧化钾：2.4wt％、氧 化钠：2.3wt％、氧化锌：5.5wt％、氧化锶：4.7wt％、烧失：0.8wt％。
其中，所述三氧化二铝与二氧化硅的比值介于1:5与2:5之间，将该耐磨 熔块制成干粒，其加工细度可以为80-100或140-160，该耐磨干粒在釉料的 使用中，加入量为9-11为宜。
最佳耐磨干粒配方表如下：
进一步，所述耐磨干粒由熔块原料和生料通过下述方法制得，将所述熔 块原料经过加热，使其达到熔融状态；在合适的温度下，对熔融状态的所述 熔块原料进行微晶化处理；对微晶化处理后的所述熔块原料进行水淬处理， 得到所述熔块一。
进一步，对所述熔块一进行破碎处理，使其达到一定的球磨细度；将破 碎处理后的所述熔块一与所述生料混合、球磨，球磨后达到耐磨干粒的使用 要求。
进一步，所述熔块原料的熔融温度范围为1120-1180℃。
进一步，所对所述熔块进行微晶化处理的降温速率为4℃/min。
实施例5
在上述获得较为合适的耐磨干粒的基础上，为获得防滑耐磨易洁复古陶 瓷砖，需要在耐磨干粒上布施保护釉，形成保护层，所述保护釉主要由保护 颗粒制备而成，所述保护颗粒主要由以下质量份数计的组分组成：二氧化硅： 60～70份、三氧化二铝：15～25份、氧化铁：0.1～0.3份、二氧化钛：0.01～ 0.1份、氧化钠：4～8份、氧化钾：2～6份、氧化镁：0.05～0.3份、氧化 钙：0.5～3份和烧失：0.05～0.3份；然后，依次层叠设置的坯体、面釉、装 饰层、耐磨干粒和保护釉层放入窑炉中进行烧制，制得防滑耐磨易洁复古陶 瓷砖坯体；对防滑耐磨复古陶瓷砖坯体进行抛光和磨边处理，即制得防滑耐 磨易洁复古陶瓷砖。
虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是熟悉本技术领域的技术人 员应当理解，我们所描述的具体的实施例只是说明性的，而不是用于对本发 明的范围的限定，熟悉本领域的技术人员在依照本发明的精神所作的等效的 修饰以及变化，都应当涵盖在本发明的权利要求所保护的范围内。

Claims (8)

1.权利要求1要求保护一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，该耐磨干粒按照重量百分比配比如下：二氧化硅：51.06～59wt％、三氧化二铝：10～20wt％、氧化钙：7～12wt％、氧化镁：0.2～1.4wt％、氧化钾：1～5.1wt％、氧化钠：0.5～5.5wt％、氧化锌：1～6wt％、氧化锶：3～5.2wt％，其中，所述三氧化二铝与二氧化硅的比值介于1：5与2：5之间，将该耐磨干粒加工成细度可以为80-100或140-160，该耐磨干粒在釉料的使用中，加入量为9-11为宜。
2.根据权利要求1所述的一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，所述耐磨干粒由熔块原料和生料通过下述方法制得，将所述熔块原料经过加热，使其达到熔融状态；在合适的温度下，对熔融状态的所述熔块原料进行微晶化处理；对微晶化处理后的所述熔块原料进行水淬处理，得到所述熔块一。
3.根据权利要求2所述的一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，对所述熔块一进行破碎处理，使其达到一定的球磨细度；将破碎处理后的所述熔块一与所述生料混合、球磨，球磨后达到耐磨干粒的使用要求。
4.根据权利要求3所述的一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，所述熔块原料的熔融温度范围为1120-1180℃。
5.根据权利要求3所述的一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，其中，对所述熔块原料进行微晶化处理的降温速率为4℃/min。
6.根据权利要求5所述的一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，其中，耐磨干粒最佳配方为二氧化硅：59wt％、三氧化二铝：14wt％、氧化钙：11wt％、氧化镁：0.3wt％、氧化钾：2.4wt％、氧化钠：2.3wt％、氧化锌：5.5wt％、氧化锶：4.7wt％、烧失：0.8wt％。
7.根据权利要求3所述的一种蜡光质感的柔面砖的耐磨干粒，其特征在于，上述球磨方式可为湿法球磨，球磨介质可为高铝球石、中铝球石、天然鹅卵石。
8.采用权利要求1-7任一项的耐磨干粒制成的柔面复古陶瓷砖，其特征在于，在耐磨干粒上施保护釉，形成保护层，所述保护釉主要由易洁保护颗粒制备而成，所述保护颗粒主要由以下质量份数计的组分组成：二氧化硅：60～70份、三氧化二铝：15～25份、氧化铁：0.1～0.3份、二氧化钛：0.01～0.1份、氧化钠：4～8份、氧化钾：2～6份、氧化镁：0.05～0.3份、氧化钙：0.5～3份和烧失：0.05～0.3份；然后，依次层叠设置的坯体、面釉、装饰层、耐磨干粒和保护釉层放入窑炉中进行烧制，制得防滑耐磨复古陶瓷砖坯体；对防滑耐磨复古陶瓷砖坯体进行抛光和磨边处理，即制得防滑耐磨柔面复古陶瓷砖。
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