CN110498608A - 一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种高硬度耐磨的低光岩板,所述低光岩板从下到上依次为坯体层、底釉层、喷印图案层、保护釉层,干粒釉层,其中,所述干粒釉层中的固态干粒的配方组成按重量百分比如下:SiO2:49~53、Al2O3:18~21、CaO:5~7.5、MgO:0.8~1.4、Na2O:3~4、K2O:2.8~3.5、ZnO:6.5~9、SrO:5.5~7、灼减和微量杂质:<2;本发明采用创新工艺配方的材料结合制得表面具有更好低光效果舒适性,更好理化性能的陶瓷岩板。
Description
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷砖领域,特别是指一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高,在现代装饰板材中,人们对其材料的装饰性,环保耐用性,表面观感、触感的舒适性有了更高要求,对于具有优异理化性能的陶瓷板材,尤其是单块面积不小于1.62m2的大规格陶瓷岩板来说,是人们对美好家居的装饰享受的耐久性装饰材料的优选。
现阶段陶瓷砖制品,有几个主流方向。
1.传统抛光砖产品,防污性好,耐磨且硬度高,但受限于机械布料设备及方法的局限,对于模拟天然石材还不能完全自如地如复印机一般制作出逼真的仿石、仿木、仿布等效果和纹理。
2.釉面砖产品,能在其表面通过喷墨打印设备喷印出精美图案,纹理丰富,其中主要以全抛釉和仿古砖为代表,全抛釉经过抛光,是85度以上亮光为主,搭配色彩丰富的喷墨图案更显奢华,但随着现代社会发展,伴随着的繁忙的高节奏都市生活,越来越多的消费者开始追求轻松简约、自然舒适的空间,而光度较低的效果在舒适性上得到了市场尤其是90后消费者群体的认可,特别是设计师的喜爱。为此,着重体现古典质朴怀旧气氛的哑光低光类的仿古砖产品特别是陶瓷岩板类更迎合现代人们的需求,但众所周知,现有技术制得的陶瓷岩板,要想具有低光度特性时,其产品耐磨性差,硬度低,或者防污性不佳,难以满足消费者日常的使用需求。
因此,为解决上述问题,制得表面具有更好低光效果舒适性又能达到各项合格理化性能的陶瓷岩板,是业内需要解决和提升的所在。
发明内容
有鉴于现有技术存在上述的不足,本发明创新地提出一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法,采用创新工艺配方的材料结合制得表面具有更好低光效果舒适性,更好理化性能的陶瓷岩板,这是本发明具有新颖性、创造性和实用性的目的所在。
本发明所采用的技术手段如下所述。
一种高硬度耐磨的低光岩板,所述低光岩板从下到上依次为坯体层、底釉层、喷印图案层、保护釉层,干粒釉层;其中,所述干粒釉层中的固态干粒的配方组成按重量百分比如下:
SiO2 49~53
Al2O3 18~21
CaO 5~7.5
MgO 0.8~1.4
Na2O 3~4
K2O 2.8~3.5
ZnO 6.5~9
SrO 5.5~7
灼减和微量杂质 <2。
优选的,所述低光岩板表面莫氏硬度≥5级,表面光泽度小于4度。
优选的,所述保护釉层中的保护釉配方组成按重量百分比如下:
SiO2 37~43
Al2O3 18~21
CaO 1~2
MgO 0.2~0.8
Na2O 2~7
K2O 0.8~2.2
ZnO 4~8
BaO 16~19
SrO 5~7
灼减和微量杂质 <3.5。
进一步的,一种高硬度耐磨的低光岩板的制备方法,其包括以下步骤。
(1)、配备常规陶瓷喷墨机并按顺序配装好蓝、棕色、黄、黑、桔、包裹红墨水,备用;
配备底釉,固含量百分比是SiO2:55~60,Al2O3:12~16,CaO:0.1~1,MgO:0.1~0.5,Na2O:1~3,K2O:3.5~5.5,ZnO:1~3,BaO:13~16,灼减和微量杂质:<6,比重为1.42~1.48g/cm3,备用;
配备保护釉,比重为1.27~1.33g/cm3,备用;
配备干粒釉,干粒釉层由按权利要求1所述的固态干粒25%~35%,用于调配固态干粒的溶剂,即:印油65%~75%混合配制,备用;
配备生产设施,备用。
(2)、压制陶瓷岩板底坯并对其进行干燥。
(3)、对干燥后的底坯表面喷施底釉。
(4)、按预先输入在陶瓷喷墨机中的设计图案,喷印在底釉层表面。
(5)、将保护釉喷施在砖坯的图案层表面。
(6)、将干粒釉喷施在上述步骤(5)的保护釉层表面。
(7)、在最高温达1150℃-1190℃的窑炉中烧制而成。
(8)、磨边后,得到一种高硬度耐磨的低光岩板。
优选的,步骤(1)中的干粒釉采用110±30目数范围的固态干粒与印油混合配制又或是110±30目数范围与200±50目数范围的固态干粒采取1:1的组合再与印油混合配制而成。
优选的,步骤(3)中单位面积的底釉喷施量为400~500 g/m2;步骤(5)中单位面积的保护釉喷施量为350~450 g/m2;步骤(6)中单位面积的干粒釉喷施量为100~150 g/m2。
优选的,步骤(1)中所述的固态干粒是通过预定配方配置的原料,在1400℃~1800℃高温中熔制,再流经冷水淬火,再破碎成不同粒径级配的颗粒配制而成的。
本发明所产生的有益效果如下所述。
1. 本发明提出了一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法,其表面干粒釉层的固态干粒按重量百分比组成为二氧化硅49-53%、氧化铝18-21%、氧化钙5-7.5%,氧化镁0.8-1.4%,氧化钾2.8-3.5%,氧化钠3-4%,氧化锌6.5-9%,二氧化锆0.01-0.1%,氧化锶5-7%,其余为灼减和微量杂质,其中,相比常规仿古类产品的干粒配方中加进了5-7%的氧化锶,这是在常规配方成分中是很少采用的,其使得耐磨性得到大大加强,再采用较高含量的氧化铝,使得釉层机械强度加强,表面硬度更高,达到莫氏5级以上。
2. 本发明表层干粒釉不但氧化铝含量高,达18-21%,且二氧化硅的含量也高达49-53%,其形成的硅铝比值的范围仅2.3-2.9,这种高硅铝含量又低硅铝比值的配方设计,使得其不但强度硬度高,且光泽度得到进一步降低,本发明配方的材料设计使制品表面的光度仅为4度以下,更能真实的模拟自然界岩板类的低光甚至于无光的特性,亦迎合了现代人居环境所需,解决了现有技术中的仿古类岩板制品在制造过程中想要低光度但却硬度低,耐磨差的难题。
3. 同时,在喷施干粒釉层工序前,增加了一道匹配的保护釉工艺,其是在喷印墨水后施加薄薄的一层保护釉,随着干燥窑坯温迅速收水,釉料浸渗在坯体表面内在物理形态上提前形成了坯釉结合的中间层结构,更好的解决了制品的防污问题,同时亦减少了干粒釉层的用量,在成本上得到了有效的控制,增强了产品的市场竞争力,因此本发明技术在配方工艺改进上是极大的进步。
附图简要说明
图1为本发明的一种高硬度耐磨的低光岩板任意侧剖面示意图。
附图标记:
1:表示高硬度耐磨的低光岩板的坯体层;
2:表示高硬度耐磨的低光岩板的底釉层;
3:表示高硬度耐磨的低光岩板的喷印图案层;
4:表示高硬度耐磨的低光岩板品的保护釉层;
5:表示高硬度耐磨的低光岩板的干粒釉层。
具体实施方式
下面结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法,其具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如下。
【实施例】
(1)、选用高岭土、长石、石英等坭沙原料,按常规陶瓷工艺制备坯体瓷质粉料,备用。
(2)、配备常规陶瓷喷墨机并按顺序配装好蓝、棕色、黄、黑、桔、包裹红墨水,备用;
配备底釉,按配方组成重量百分比是SiO2:57,Al2O3:14,CaO:0.5,MgO:0.25,Na2O:2,K2O:4.4,ZnO:1.8,BaO:14.7,其他为灼减和微量杂质(较佳的该灼减和微量杂质的重量百分比小于6),调整比重为1.45g/cm3,备用;
配备保护釉,按配方组成重量百分比是SiO2:40,Al2O3:19.4,CaO:1.5,MgO:0.6,Na2O:5,K2O:1.5,ZnO:6,BaO:17.7,SrO:5,其他为灼减和微量杂质(较佳的该灼减和微量杂质的重量百分比小于3.5),调整比重为1.3g/cm3,备用;
配备干粒釉,由110±30目数范围固态干粒15%,200±50目数范围固态干粒15%,印油70%的配比混合配制,其中固态干粒按配方组成重量百分比是SiO2:51,Al2O3:19.5,CaO:6,MgO:1.2,Na2O:3.5,K2O:3.2,ZnO:8,SrO:6,其他为灼减和微量杂质(较佳的该灼减和微量杂质的重量百分比小于2),备用;
配备生产线设施,备用。
(3)、压制陶瓷岩板底坯并对其进行干燥。
(4)、将步骤(1)中的底釉喷施坯体表面,喷施量为460g/m2。
(5)、按预先输入在陶瓷喷墨机中的设计图案,喷印在底釉层表面。
(6)、将步骤(1)中的保护釉喷施在砖坯的图案层表面,喷施量为410g/m2。
(7)、将步骤(1)中的干粒釉喷施在上述步骤(5)的保护釉层表面,,喷施量为140g/m2。
(8)、在最高温达1150℃-1190℃的窑炉中烧制而成。
(9)、磨边后,得到如图1所述的一种高硬度耐磨的低光岩板。
其中,上述步骤(4)中单位面积的底釉喷施量范围为400~500 g/m2;步骤(6)中单位面积的保护釉喷施量范围为350~450 g/m2;步骤(7)中单位面积的干粒釉喷施量范围为100~150 g/m2,在实际生产中可根据生产情况或制品特性选择适时的喷施量。同时,制品从常温状态下进入窑炉烧制时,先后经历低温区、中温区、高温区,在本发明中为获得较佳的高硬度的耐磨的低光岩板,其高温区的温度控制在1150℃-1190℃为较佳操作温度。
以上所述,仅是为了说明本发明的较佳优选实施例而已,然而其并非是对本发明的保护范围有任何限制,任何熟悉本项技术的人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或修饰为等同变化的等效实施例,都可以按不同要求和性能实施一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法。可见,凡是未脱离本发明技术方案的内容,尤其是权利要求之内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改,等同变化与修饰,均仍属本发明技术方案的范围内。
Claims (7)
1.一种高硬度耐磨的低光岩板,其特征在于:所述低光岩板从下到上依次为坯体层、底釉层、喷印图案层、保护釉层,干粒釉层;
其中,所述干粒釉层中的固态干粒的配方组成按重量百分比如下:
SiO2 49~53
Al2O3 18~21
CaO 5~7.5
MgO 0.8~1.4
Na2O 3~4
K2O 2.8~3.5
ZnO 6.5~9
SrO 5.5~7
灼减和微量杂质 <2。
2.根据权利要求1所述的一种高硬度耐磨的低光岩板,其特征在于:所述低光岩板表面莫氏硬度≥5级,表面光泽度小于4度。
3.根据权利要求1所述的一种高硬度耐磨的低光岩板,其特征在于:所述保护釉层中的保护釉配方组成按重量百分比如下:
SiO2 37~43
Al2O3 18~21
CaO 1~2
MgO 0.2~0.8
Na2O 2~7
K2O 0.8~2.2
ZnO 4~8
BaO 16~19
SrO 5~7
灼减和微量杂质 <3.5。
4.一种高硬度耐磨的低光岩板的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)、配备常规陶瓷喷墨机并按顺序配装好蓝、棕色、黄、黑、桔、包裹红墨水,备用;
配备底釉,固含量百分比是SiO2:55~60,Al2O3:12~16,CaO:0.1~1,MgO:0.1~0.5,Na2O:1~3,K2O:3.5~5.5,ZnO:1~3,BaO:13~16,灼减和微量杂质:<6,比重为1.42~1.48g/cm3,备用;
配备保护釉,比重为1.27~1.33g/cm3,备用;
配备干粒釉,干粒釉层由按权利要求1所述的固态干粒25%~35%,用于调配固态干粒的溶剂,即:印油65%~75%混合配制,备用;
配备生产设施,备用;
(2)、压制陶瓷岩板底坯并对其进行干燥;
(3)、对干燥后的底坯表面喷施底釉;
(4)、按预先输入在陶瓷喷墨机中的设计图案,喷印在底釉层表面;
(5)、将保护釉喷施在砖坯的图案层表面;
(6)、将干粒釉喷施在上述步骤(5)的保护釉层表面;
(7)、在最高温达1150℃-1190℃的窑炉中烧制而成;
(8)、磨边后,得到一种高硬度耐磨的低光岩板。
5.根据权利要求4所述的一种高硬度耐磨的低光岩板的制备方法,其特征在于:步骤(1)中的干粒釉采用110±30目数范围的固态干粒与印油混合配制或是110±30目数范围与200±50目数范围的固态干粒采取1:1的组合再与印油混合配制而成。
6.根据权利要求4所述的一种高硬度耐磨的低光岩板的制备方法,其特征在于:步骤(3)中单位面积的底釉喷施量为400~500 g/m2;步骤(5)中单位面积的保护釉喷施量为350~450 g/m2;步骤(6)中单位面积的干粒釉喷施量为100~150 g/m2。
7.根据权利要求4所述的一种高硬度耐磨的低光岩板的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的固态干粒是通过预定配方配置的原料,在1400℃~1800℃高温中熔制,再流经冷水淬火,再破碎成不同粒径级配的颗粒配制而成的。
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