CN103332968B

CN103332968B - 一种全抛釉生产工艺及所制备的产品

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Publication number: CN103332968B
Application number: CN201310256696.XA
Authority: CN
Inventors: 林柱权
Original assignee: FOSHAN CITY GAOMING DISTRICT XINYUEFENG BUILDING MATERIAL Co Ltd
Current assignee: FOSHAN CITY GAOMING DISTRICT XINYUEFENG BUILDING MATERIAL Co Ltd
Priority date: 2013-06-25
Filing date: 2013-06-25
Publication date: 2015-06-17
Anticipated expiration: 2033-06-25
Also published as: CN103332968A

Abstract

本发明提供一种全抛釉生产工艺，包括如下步骤：（1）制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO₂60～70%、Al₂O₃15～25%、Fe₂O₃1～1.5%、TiO₂0.1～0.3%、CaO0.6～0.7%、MgO0.8～1.0%、K₂O2.5～3%、Na₂O2～3%，烧失量IL为5～6%；（2）制备化妆土料。（3）制备面釉料。（4）在步骤（1）的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面丝印或喷墨形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；（5）在步骤（4）后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜。本发明制备的产品具有釉面透感强、亮度高、防污好等特点。

Description

一种全抛釉生产工艺及所制备的产品

技术领域

本发明涉及釉面砖领域，具体涉及全抛釉面砖生产工艺。

背景技术

全抛釉是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，全抛釉产品集合了抛光砖、仿古砖、瓷片三种产品的优势，产品完全释放了釉面砖哑色暗光的含蓄性，解决了半抛砖易藏污的缺陷，具备了抛光砖的光泽度、瓷质硬度，同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果，以及瓷片釉面丰富的印刷效果。全抛釉是釉下彩，属于釉面砖，它是在施完底釉后就印花，再施一层面釉，烧制后把整个面釉抛去一部分，保留一部分面釉层、花釉层、底釉。现有的全抛釉生产工艺还存在不足，制作的产品存在釉面透感不突出、防污性有待提高等缺陷。

公开号为CN102584345A的中国专利申请公开了一种高温仿全抛釉透明熔块及其制备方法，该专利申请的高温仿全抛釉透明熔块由如下重量百分比的组分组成：Fe2O3：0.1～0.3％，MgO：1～3％，CaO：6～8％，TiO2：0.5～1.5％，Al2O3：7～9.5％，SiO2：49～54％，ZnO2：5～7％，B2O3：13～15％，K2O：2～4％，Na2O：1.5～3％，采用这种高温仿抛釉透明熔块制备的陶瓷釉面砖，抗污性比抛光的要好。

发明内容

本发明的目的在于提供一种全抛釉生产工艺，该工艺制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、防污好等特点。

本发明达到其目的所采用的技术方案为：

一种全抛釉生产工艺，包括如下步骤：

（1）制备坯体：将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～90目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；所述坯体的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂60～70%、Al₂O₃15～25%、Fe₂O₃1～1.5%、TiO₂0.1～0.3%、CaO0.6～0.7%、MgO0.8～1.0%、K₂O2.5～3%、Na₂O2～3%，烧失量IL为5～6%。在本技术领域，制备坯体的原料一般按照质地差异分为硬质原料和软质原料，制备坯体时常将硬质原料和软质原料搭配使用。

（2）制备化妆土料：称取化妆土原料，经球磨、过140～160目筛、1.5万高斯强度进行除铁、陈腐2～3天后备用。

（3）制备面釉料：称取面釉原料，经球磨、过140～160目筛、1.5万高斯强度进行除铁、陈腐2～3天后备用。

（4）在步骤（1）的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面丝印或喷墨形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；

（5）在步骤（4）后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜。

优选的，步骤（1）中的高铝矿物原料制成的坯体主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂66.05%、Al₂O₃20.15%、Fe₂O₃1.29%、TiO₂0.24%、CaO0.66%、MgO0.93%、K₂O2.83%、Na₂O2.42%，烧失量IL为5.34%。

进一步的，步骤（2）中的化妆土原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂65～75%、Al₂O₃15～24%、Fe₂O₃0.1～0.2%、TiO₂0.02～0.04%、CaO2.5～3.0%、MgO0.1～0.2%、K₂O1.5～2.0%、Na₂O2.0～2.5%，烧失量IL为2～4%。

优选的，步骤（2）中的化妆土原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂69.8%、Al₂O₃17.92%、Fe₂O₃0.13%、TiO₂0.03%、CaO2.73%、MgO0.17%、K₂O1.8%、Na₂O2.3%，烧失量IL为3%。

进一步的，步骤（3）中所述的面釉原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂45～50%、Al₂O₃12～22%、Fe₂O₃0.1～0.15%、TiO₂0.02～0.04%、CaO15～20%、MgO3.5～4.5%、K₂O0.4～0.5%、Na₂O2.0～2.5%，烧失量IL为10～11%。

优选的，步骤（3）中所述的面釉原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂47.5%、Al₂O₃16%、Fe₂O₃0.12%、TiO₂0.03%、CaO17%、MgO3.97%、K₂O0.43%、Na₂O2.2%，烧失量IL为10.5%。

优选的，步骤（5）中进行烧制的温度为1150～1200℃。

优选的，步骤（5）中的抛光为采用抛光机进行软抛处理。

制备坯体用的硬质原料或软质原料中含有高铝矿物（铝含量＞25%），如高铝泥、高铝钾砂、65#水洗坭等。优选的，制备坯体的原料中，软质原料包含有高铝泥、水洗泥、膨润土、铝矾土、混合泥等，硬质原料包含有高铝钾砂、石粉、滑石粒、钠石粉等。优选的，原料中软质原料占有22～26wt%。

优选的，制备坯体的原料中，以质量百分含量计，软质原料为高铝泥3.5～4.0%、水洗泥7.2～7.8%、博罗泥1.7～2.2%、惠东精选泥2.8～3.2%、膨润土1.2～1.7%、65^#水洗泥6.2～6.8%；硬质原料为中山石粉12～17%、盛发石粉8～12%、高铝钾砂8～12%、B89砂4～6%、东平砂28～32%、新丰石粉2.5～3.0%、滑石粒2.5～3.0%。

进一步优选的，制备坯体的原料中，以质量百分含量计，软质原料为高铝泥3.8%、水洗泥7.6%、博罗泥2%、惠东精选泥3%、膨润土1.5%、65^#水洗泥6.6%；硬质原料为中山石粉15%、盛发石粉10%、高铝钾砂10%、B89砂5%、东平砂30%、新丰石粉2.7%、滑石粒2.8%。

本发明第二方面提供一种如上文所述的全抛釉生产工艺所制备的全抛釉产品。

本发明的技术方案具有如下有益效果：

本发明的全抛釉生产工艺制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、防污好等特点。进一步在工艺中应用特定的化妆土配方及面釉配方，可获得强度高（强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右）、釉面透感强、亮度高（亮度＞100度）、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。本发明的工艺制备的产品吸水率小于0.05%，在1150～1200℃即可烧成。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明。

实施例1

一种全抛釉生产工艺，具有如下步骤：

（1）制备坯体：将坯用的硬质原料破碎，破碎后与其它坯用软质原料混合球磨、过80目筛、用自动电磁除铁器除铁、浆池匀浆、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用。其中，所述软质原料为高铝泥3.8%，水洗泥7.6%，博罗泥2%，惠东精选泥3%，膨润土1.5%，65^#水洗泥6.6%；所述硬质原料为中山石粉15%，盛发石粉10%，高铝钾砂10%，B89砂5%，东平砂30%，新丰石粉2.7%，滑石粒2.8%（以上均以质量百分含量计）。

制成的坯体主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂66.05%、Al₂O₃20.15%、Fe₂O₃1.29%、TiO₂0.24%、CaO0.66%、MgO0.93%、K₂O2.83%、Na₂O2.42%，烧失量IL为5.34%，其余为杂质。

（2）制备化妆土料：称取化妆土原料，化妆土原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂69.8%、Al₂O₃17.92%、Fe₂O₃0.13%、TiO₂0.03%、CaO2.73%、MgO0.17%、K₂O1.8%、Na₂O2.3%，烧失量IL为3%，其余为杂质。化妆土原料经球磨、过140目筛、1.5万高斯强度除铁、陈腐2天后备用；

（3）制备面釉料：称取面釉原料，面釉原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂47.5%、Al₂O₃16%、Fe₂O₃0.12%、TiO₂0.03%、CaO17%、MgO3.97%、K₂O0.43%、Na₂O2.2%，烧失量IL为10.5%，其余为杂质。面釉原料经球磨、过140目筛、1.5万高斯强度除铁、陈腐2天后备用；

（4）在步骤（1）的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面经丝印形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；

（5）1150～1200℃烧制、水冷、抛光机软抛处理进行抛光、打高洁亮液、打防污蜡、贴膜、下线包装入库。

经上述全抛釉生产工艺步骤制备的产品具有强度高、釉面透感强、亮度高、发色艳丽、层次丰富、防污效果好，制备的产品吸水率小于0.05%。

实施例2

一种全抛釉生产工艺，具有如下步骤：

（1）制备坯体：将坯用的硬质原料破碎，破碎后与其它坯用软质原料混合球磨、过80目筛、用自动电磁除铁器除铁、浆池匀浆、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用。其中，软质原料为高铝泥3.5%、水洗泥7.2%、博罗泥1.7%、惠东精选泥2.8%、膨润土1.2%、65^#水洗泥6.2%；硬质原料为中山石粉17%、盛发石粉12%、高铝钾砂11.4%、B89砂4%、东平砂28%、新丰石粉2.5%、滑石粒2.5%（均以质量百分含量计）。

制成坯体的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂62%、Al₂O₃16%、Fe₂O₃1%、TiO₂0.1%、CaO0.6%、MgO0.8%、K₂O2.5%、Na₂O2%，烧失量IL为5%，其余为杂质。

（2）制备化妆土料：称取化妆土原料，化妆土原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂66%、Al₂O₃16%、Fe₂O₃0.1%、TiO₂0.02%、CaO2.5%、MgO0.1%、K₂O1.5%、Na₂O2.0%，烧失量IL为2%，其余为杂质。化妆土原料经球磨、过150目筛、1.5万高斯强度除铁、陈腐3天后备用；

（3）制备面釉料：称取面釉原料，面釉原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂45%、Al₂O₃13%、Fe₂O₃0.1%、TiO₂0.02%、CaO15%、MgO3.5%、K₂O0.4%、Na₂O2.0%，烧失量IL为10%，面釉原料经球磨、过150目筛、1.5万高斯强度除铁、陈腐3天后备用；

（4）在步骤（1）的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面经丝印（或喷墨）形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；

实施例3

一种全抛釉生产工艺，具有如下步骤：

（1）制备坯体：将坯用的硬质原料破碎，破碎后与其它坯用软质原料混合球磨、过80目筛、用自动电磁除铁器除铁、浆池匀浆、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用。其中，软质原料为高铝泥4.0%、水洗泥7.2%、博罗泥2.1%、惠东精选泥3.2%、膨润土1.7%、65^#水洗泥6.8%；硬质原料为中山石粉14%、盛发石粉9%、高铝钾砂9%、B89砂5%、东平砂32%、新丰石粉3.0%、滑石粒3.0%（以质量百分含量计）。

制成坯体的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂65%、Al₂O₃20%、Fe₂O₃1.1%、TiO₂0.3%、CaO0.65%、MgO1.0%、K₂O3%、Na₂O3%，烧失量IL为5.5%，其余为杂质。

（2）制备化妆土料：称取化妆土原料，化妆土原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂69%、Al₂O₃20%、Fe₂O₃0.2%、TiO₂0.04%、CaO2.8%、MgO0.2%、K₂O1.8%、Na₂O2.2%，烧失量IL为3.5%，其余为杂质。化妆土原料经球磨、过160目筛、1.5万高斯强度除铁、陈腐3天后备用；

（3）制备面釉料：称取面釉原料，面釉原料的主要化学成分为（以质量百分含量计）：SiO₂46%、Al₂O₃18%、Fe₂O₃0.15%、TiO₂0.04%、CaO18%、MgO4.0%、K₂O0.5%、Na₂O2.4%，烧失量IL为10.8%，其余为杂质。面釉原料经球磨、过160目筛、1.5万高斯强度除铁、陈腐3天后备用；

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，故凡未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims

1.一种全抛釉生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：

(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 60～70％、Al₂O₃ 15～25％、Fe₂O₃ 1～1.5％、TiO₂ 0.1～0.3％、CaO 0.6～0.7％、MgO 0.8～1.0％、K₂O 2.5～3％、Na₂O 2～3％，烧失量IL为5～6％，各成分的百分比为质量百分比；

(2)制备化妆土料：称取化妆土原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述化妆土原料的主要化学成分为：SiO₂ 65～75％、Al₂O₃ 15～24％、Fe₂O₃ 0.1～0.2％、TiO₂ 0.02～0.04％、CaO 2.5～3.0％、MgO 0.1～0.2％、K₂O 1.5～2.0％、Na₂O 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；

(3)制备面釉料：称取面釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述面釉原料的主要化学成分为：SiO₂ 45～50％、Al₂O₃ 12～22％、Fe₂O₃ 0.1～0.15％、TiO₂0.02～0.04％、CaO 15～20％、MgO 3.5～4.5％、K₂O 0.4～0.5％、Na₂O 2.0～2.5％，烧失量IL为10～11％，各成分的百分比为质量百分比；

(4)在步骤(1)的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面丝印或喷墨形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；

(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。

2.根据权利要求1所述的全抛釉生产工艺，其特征在于，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 66.05％、Al₂O₃ 20.15％、Fe₂O₃ 1.29％、TiO₂ 0.24％、CaO 0.66％、MgO 0.93％、K₂O 2.83％、Na₂O 2.42％，烧失量IL为5.34％，各成分的百分比为质量百分比。

3.根据权利要求1所述的全抛釉生产工艺，其特征在于，步骤(2)中的化妆土原料的主要化学成分为：SiO₂ 69.8％、Al₂O₃ 17.92％、Fe₂O₃ 0.13％、TiO₂ 0.03％、CaO 2.73％、MgO 0.17％、K₂O 1.8％、Na₂O 2.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比。

4.根据权利要求1所述的全抛釉生产工艺，其特征在于，步骤(3)中所述的面釉原料的主要化学成分为：SiO₂ 47.5％、Al₂O₃ 16％、Fe₂O₃ 0.12％、TiO₂ 0.03％、CaO 17％、MgO 3.97％、K₂O 0.43％、Na₂O 2.2％，烧失量IL为10.5％，各成分的百分比为质量百分比。

5.根据权利要求1所述的全抛釉生产工艺，其特征在于，步骤(5)中的抛光为采用抛光机进行软抛处理。

6.一种如权利要求1～5任一项所述的全抛釉生产工艺所制备的全抛釉产品。