CN106007800B - 一种背景墙砖的制备方法及背景墙的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：1)坯体成型，对坯体进行干燥处理，得到干燥坯体；2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；4)对第二坯砖进行干燥处理，得到第三坯砖；5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；6)对第四坯砖进行干燥处理，得到第五坯砖；7)对第五坯砖进行高温煅烧，得到第六坯砖；8)对第六坯砖进行抛光处理，得到背景墙砖。该背景墙砖莫氏硬度和抗折强度大，且吸水率低。本发明还提供了一种背景墙的制备方法，该背景墙衔接性好，美观大方。

Description

一种背景墙砖的制备方法及背景墙的制备方法
技术领域
本发明涉及瓷砖技术领域，具体涉及一种背景墙砖的制备方法及背景墙的制备方法。
背景技术
釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料(长石、石英、滑石、高岭土等)和化工原料按一定比例配合(部分原料可先制成熔块)经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。釉经过窑火焙烧后，就紧紧附着在瓷胎上，使瓷器致密化、光泽柔和，又不透水和气，给人明亮如镜的感觉。同时可以提高制品的强度和化学稳定性，起到防止污染，便于清洗，减小腐蚀等作用。
釉面砖是指砖体表面经过烧釉处理的砖。釉面砖的色彩和图案比较丰富，防污能力强，因此受到广大消费者的欢迎。而超平釉面砖是釉面砖的一种，它是一款极具天然石材效果和微晶石质感的仿石材瓷砖，在陶瓷市场上又称为全平釉砖、超晶石、高晶石等。超平釉面砖是一款非常受欢迎的背景墙砖。超平釉面砖最突出的特点是采用了硬抛技术，制造出顺滑平整的砖面，弥补了普通全抛釉产品带有水波纹、平整度不高的缺陷。虽然超平釉面砖品质比全抛釉面砖的品质好，但是存在生产工艺较复杂，制作成本高，且成品容易产生类似“水波纹”的现象，莫氏硬度较低，容易磨花；当贴成背景墙时，成型效果不是一副衔接性好的完整图案，极大的影响了背景空间的整体美观性。
发明内容
为了避免现有技术的不足之处，本发明的目的之一在于提供一种背景墙砖的制备方法，该制备方法简单，且制得的背景墙砖莫氏硬度高、抗折强度高、吸水率低。
本发明的另一目的在于提供一种背景墙的制备方法。
本发明的第一个目的可以通过采取以下技术方案得到：
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，对坯体进行干燥处理，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；
4)对第二坯砖进行干燥处理，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；
6)对第四坯砖进行干燥处理，得到第五坯砖；
7)对第五坯砖进行高温煅烧，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，得到背景墙砖。
优选地，还包括步骤9)，第六坯砖进行抛光处理后，依次磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
优选地，步骤1)中，坯体的干燥时间为90min，干燥温度为100-350℃；
优选地，步骤2)中，所述底釉包括按重量份以下成分：
Al2O3 20-33份； SiO2 50-65份； CaO 1-5份；
MgO 1-4份； ZnO 2-6份； K2O 2-4份；
Na2O 4-8份； ZrO2 12-18份；
底釉经过球磨检测，达到预设指标才能使用。
施加底釉的方式为蘸釉、荡釉、浇釉、刷釉、洒釉和轮釉中的其中一种；具体参数为：底釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.04g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％。
优选地，步骤3)中，在进行喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm。
优选地，步骤4)中，第二坯砖的干燥时间为1-2min，干燥温度为100-200℃；
优选地，步骤5)中，所述面釉由按重量百分比以下成分组成：厚抛釉粉68.61％、羧甲基纤维素钠0.15％、三聚磷酸钠0.26％和水30.98％；其中，所述厚抛釉粉包括熔块和生料；所述熔块和所述生料的质量百分比为(5-20)：100；
所述生料包括按重量份计以下成分：
Al2O3 6-12份； SiO2 48-60份； K2O 3-8份；
Na2O 1-5份； ZnO 4-8份； BaO 5-10份、
MgO 4-8份； CaO 6-12份；
所述熔块包括按重量份计以下成分：
Al2O3 15-20份； SiO2 50-60份； CaO 10-15份；
K2O 2-5份； MgO 5-10份； B2O3 4-8份；
熔块即为熔块釉，把熔块釉的原料按比例称量，混合均匀后，投掷到熔块炉/坩埚中，进行熔融制成玻璃液后，急速投入到水中淬成小块状的熔块。而熔块原料一般为本领域技术人员所熟知的钾长石、钠长石、白云石、石灰石、碳酸钠、氧化铝等。
面釉的获得方法具体如下：把配方量的熔块和配方量的生料混合并放入球磨机中，然后加入配方量的水、配方量的羧甲基纤维素钠和配方量的三聚磷酸钠，球磨8-12h后，得到面釉。
施加面釉的方式为蘸釉、荡釉、浇釉、刷釉、洒釉和轮釉中的其中一种；具体参数为：面釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.04g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％。
优选地，步骤6)中，第四坯砖的干燥时间为1-2min，干燥温度为150-250℃；
优选地，步骤7)中，高温煅烧时间为1h，煅烧温度为1170-1240℃。
优选地，步骤8)中，抛光处理的具体参数为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头。
一般地，抛光磨具包括普通模块、弹性模块、硬性模块、抛粙磨片、哑光模块等。其中，弹性模块是装于普通抛光机上，可以用于仿古砖、粙面砖等进行砖面的全抛光或半抛光加工，且弹性模块具有仿形好、磨削力强、抛光光泽度高、无磨痕及使用寿命长的特点。而硬性模块同样适用于抛光处理。在超平釉面砖抛光机中，一组磨头由6个磨块组成，磨块目数从120目到2000目不等。
本发明的另一个目的可以通过采取以下技术方案得到：
一种背景墙的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，对坯体进行干燥处理，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；
3)喷墨印花，把预设图案分割成若干部分，每一部分图案分别喷印在一块第一坯砖上，得到若干块第二坯砖；若干块第二坯砖按照预设方式摆设时，若干块第二坯砖上的喷墨印花能够组成完整的预设图案；
其中，每一块第一坯砖上的喷墨印花均包括印花本体和设置在所述印花本体外围的重复印花；重复喷印第一坯砖上印花本体外围12-15mm处的印花，得到所述重复印花；
4)分别对每一块第二坯砖进行干燥处理，得到若干块第三坯砖；
5)分别向每一块第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到若干块第四坯砖；
6)分别对每一块第四坯砖进行干燥处理，得到若干块第五坯砖；
7)分别对每一块第五坯砖进行高温煅烧，得到若干块第六坯砖；
8)分别对每一块第六坯砖进行抛光处理，得到若干块第七坯砖；
9)分别对每一块第七坯砖依次进行磨边和打蜡处理，得到若干块第八坯砖；
10)分别把每一块第八坯砖按照预设方式铺贴在墙壁上，得到背景墙。
本发明所提供的技术方案可以包括以下有益效果：
(1)本发明所提供的背景墙砖，面釉包括大部分生料和少部分在高温情况下流动性好的熔块，熔块能使面釉在高温下快速地流平整，熔融性能好；且面釉中添加了羧甲基纤维素钠和三聚磷酸钠，使得釉面高温粘度小，便于釉层气体排出，保证釉面平整光滑，釉层气泡小且少。另外，熔块和生料的质量百分比为(5-20)：100；配方稳定和灵活，生料和熔块的配比可以在此比例范围内根据窑炉的烧成范围进行调节，以减少成品中气泡的量。窑炉温度较高时，可以增加生料添加量，减少熔块添加量；而窑炉温度较低时，可以增加熔块添加量，减少生料添加量。即面釉的配方适用范围大，适合工业生产。
(2)本发明所提供的背景墙砖，其底釉和面釉中Al2O3成分含量比普通全抛釉面砖中的Al2O3成分高，而Al2O3有利提高釉层的莫氏硬度，使得该背景墙砖的莫氏硬度较高，耐磨，不易刮花。且底釉中含有ZrO2，ZrO2能提高底釉的白度，使喷墨印花时图案颜色不会受底釉发色影响；并且ZrO2使底釉的温度提高，从而使喷墨印花在高温烧成时发色受温度影响较小。
(3)本发明所提供的背景墙砖，底釉的施加量为590g/m2,面釉的施加量为1300g/m2使得最终形成的釉层厚度合理，有利于提高釉面白度和遮盖力。且采用硬性模块与弹性模块相结合的方法进行抛光处理，使得最终的背景墙砖发色鲜艳，层次和立体感强，平整度好、莫氏硬度更高；避免了只采用弹性模块进行抛光，成品铺贴后在灯管下容易观察到砖面不平整，容易产生类似“水波纹”的现象。
(4)本发明所提供的背景墙，连续在若干块背景墙砖上打印不同印花，这些不同的印花组成一幅完整的图案，且每一块砖上的印花在连接处均设置有12-15mm的重复印花。因为在制备背景墙砖时，需要经过煅烧和磨边步骤，设计12-15mm的重复印花，使得最后的成品铺贴误差最小，避免铺贴时出现错位的情况，使得最终形成的背景墙图案拼接完整，连接过渡性好，大方美观。
具体实施方式
下面，结合具体实施方式，对本发明做进一步描述：
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，对坯体进行干燥处理，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；
4)对第二坯砖进行干燥处理，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；
6)对第四坯砖进行干燥处理，得到第五坯砖；
7)对第五坯砖进行高温煅烧，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理后，依次进行磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
根据上述操作步骤，获取了实施例1-5的背景墙砖，对相关成分进行修改，获取了对比例1-2的背景墙砖。实施例1-5和对比例1-2中所用底釉的具体成分见表1；实施例1-5和对比例1-2中所用面釉中的厚抛釉粉的具体成分见表2。
表1 实施例1-5和对比例1-2背景墙砖底釉的成分表
Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> SiO<sub>2</sub> CaO MgO ZnO K<sub>2</sub>O Na<sub>2</sub>O ZrO<sub>2</sub>
实施例1 20 50 1 1 2 2 4 12
实施例2 23 52 4 2 3 4 6 18
实施例3 25 65 2 3 4 2 5 13
实施例4 30 60 3 4 5 4 8 15
实施例5 33 55 5 3 6 3 7 14
对比例1 15 63 4 3 5 3 7 15
对比例2 21 45 5 4 5 3 7 0
表2 实施例1-5和对比例1-2背景墙砖面釉中厚抛釉粉的成分表
实施例1-5中，所用面釉均包括厚抛釉粉68.61％、羧甲基纤维素钠0.15％、三聚磷酸钠0.26％和水30.98％；上述成分的质量百分比为100％。
实施例1
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，把坯体在105℃的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm；把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上(当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙)，且相邻的第一坯砖在连接处设置重复印花；重复印花为印花本体外围0-14mm处的印花；
4)把第二坯砖在165℃的条件下干燥1.6min，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；面釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；
6)把第四坯砖在155℃的条件下干燥2min，得到第五坯砖；
7)把第五坯砖放置于1195℃的窑炉中，高温煅烧1h，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头。随后依次进行磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
把实施例1得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块背景墙砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
实施例2
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，把坯体在150℃的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4％；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm；把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上(当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙)，且相邻的第一坯砖在连接处设置重复印花；重复印花为印花本体外围0-13mm处的印花；
4)把第二坯砖在150℃的条件下干燥1min，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；面釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；
6)把第四坯砖在150℃的条件下干燥1min，得到第五坯砖；
7)把第五坯砖放置于1170℃的窑炉中，高温煅烧1h，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头；随后依次进行磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
把实施例2得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块背景墙砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
实施例3
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，把坯体在200℃的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为1.85g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm；把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上(当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙)，且相邻的第一坯砖在连接处设置重复印花；重复印花为印花本体外围0-12mm处的印花；
4)把第二坯砖在110℃的条件下干燥1.5min，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；面釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6％；
6)把第四坯砖在160℃的条件下干燥1.5min，得到第五坯砖；
7)把第五坯砖放置于1200℃的窑炉中，高温煅烧1h，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头；随后依次进行磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
把实施例3得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块背景墙砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
实施例4
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，把坯体在300℃的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为1.91g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm；把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上(当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙)，且相邻的第一坯砖在连接处设置重复印花；重复印花为印花本体外围0-15mm处的印花；
4)把第二坯砖在200℃的条件下干燥2min，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；面釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4％；
6)把第四坯砖在170℃的条件下干燥1min，得到第五坯砖；
7)把第五坯砖放置于1190℃的窑炉中，高温煅烧1h，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头；随后依次进行磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
把实施例4得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块背景墙砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
实施例5
一种背景墙砖的制备方法，包括以下步骤：
1)坯体成型，把坯体在250℃的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为1.87g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4％；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm；把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上(当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙)，且相邻的第一坯砖在连接处设置重复印花；重复印花为印花本体外围0-14mm处的印花；
4)把第二坯砖在195℃的条件下干燥1.2min，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；面釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6％；
6)把第四坯砖在240℃的条件下干燥1.3min，得到第五坯砖；
7)把第五坯砖放置于1230℃的窑炉中，高温煅烧1h，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头；随后依次进行磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
把实施例5得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块背景墙砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对比例1
对比例1中所用底釉的具体成分见表1；所用面釉包括厚抛釉粉68.61％、羧甲基纤维素钠0.15％、三聚磷酸钠0.26％和水30.98％；其中，厚抛釉粉的具体成分见表2。
对比例1的背景墙砖的制备方法与实施例1相同。
对对比例1得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例1制备的背景墙砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对比例2
对比例2中所用底釉的具体成分见表1；所用面釉包括厚抛釉粉68.61％、羧甲基纤维素钠0.15％、三聚磷酸钠0.26％和水30.98％；其中，厚抛釉粉的具体成分见表2。
对比例2的背景墙砖的制备方法与实施例2相同。
对对比例2得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例2制备的背景墙砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对比例3
对比例3与实施例3所用原料的不同之处在于，厚抛釉粉中熔块与生料的质量比为25:100。
对比例3的背景墙砖的制备方法与实施例3相同。
对对比例3得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例3制备的背景墙砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对比例4
对比例4与实施例4所用原料的不同之处在于，面釉包括厚抛釉粉58.61％、羧甲基纤维素钠0.15％、三聚磷酸钠0.26％和水40.98％；
对比例4的背景墙砖的制备方法与实施例4相同。
对对比例4得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例4制备的背景墙砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对比例5
对比例5所用底釉和所用面釉均与实施例5相同。
对比例5的背景墙砖的制备方法与实施例5的不同之处在于，在喷墨印花时，没有喷印重复印花。
对对比例5得到的背景墙砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例5制备的背景墙砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对比例6
取市售的某品牌背景墙砖，对其相关性能进行测试，测试结果详见表3；并将此款带有喷墨印花的背景墙砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
对实施例1-5和对比例1-6的背景墙砖的相关性能进行测试，测试的指标包括釉层厚度、莫氏硬度、抗折强度和吸水率，上述4个指标的测试方法均与常规测试方法相同，评价指标参照《GB/T4100-2015》。当把实施例1-5和对比例1-6的背景墙砖贴成背景墙时，用人工评价的方法对其“衔接性”进行评价，每个实施例和对比例均由相同的20人进行打分，满分为10分，若平均分为8-10分(不包括8分)则记为优；若平均分为6-8(不包括6分)则记为良；若平均分为4-6分(不包括4分)则记为中；若平均分为1-4分则记为差。测试结果详见表3。
表3 实施例1-5和对比例1-6相关性能记录表
从表1的数据可得，实施例1-5所获得的背景墙砖，其釉层厚度均在0.6mm以上，较厚的釉层使得釉面砖的光泽度更好，层次和立体感更强；且实施例1-5的背景墙砖的莫氏硬度大，不易刮花，而对比例1-4和对比例6的莫氏硬度均较小，容易刮花，特别是对比例1，因为对比例1所用釉料中的Al2O3的含量较少。实施例1-5所获得的背景墙砖，其抗折强度和吸水率均比对比例优，表明了实施例1-5的背景墙砖经久耐用，不易被损坏。另外，由于实施例1-5的背景墙砖在制备喷墨印花时，均设置有重复印花，铺贴成背景墙时，其“衔接性”均获得了“优”等级，表明了铺贴误差小，没有出现错位的情况，最终形成的背景墙图案拼接完整，连接过渡性好，大方美观。
对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种背景墙砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)坯体成型，对坯体进行干燥处理，得到干燥坯体；
2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；
3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖；
4)对第二坯砖进行干燥处理，得到第三坯砖；
5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖；
6)对第四坯砖进行干燥处理，得到第五坯砖；
7)对第五坯砖进行高温煅烧，得到第六坯砖；
8)对第六坯砖进行抛光处理，得到背景墙砖；
步骤5)中，所述面釉由按重量百分比以下成分组成：厚抛釉粉68.61％、羧甲基纤维素钠0.15％、三聚磷酸钠0.26％和水30.98％；
其中，所述厚抛釉粉包括熔块和生料；所述熔块和所述生料的质量百分比为(5-20)：100；
所述熔块包括按重量份计以下成分：
所述生料包括按重量份计以下成分：
2.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，还包括步骤9)，第六坯砖进行抛光处理后，依次磨边和打蜡处理，得到背景墙砖。
3.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，步骤1)中，坯体的干燥时间为90min，干燥温度为100-350℃；
步骤4)中，第二坯砖的干燥时间为1-2min，干燥温度为100-200℃；
步骤6)中，第四坯砖的干燥时间为1-2min，干燥温度为150-250℃；
步骤7)中，高温煅烧时间为1h，煅烧温度为1170-1240℃。
4.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述底釉包括按重量份以下成分：
施加底釉的方式为蘸釉、荡釉、浇釉、刷釉、洒釉和轮釉中的其中一种；具体参数为：底釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.04g/ml，底釉施加量为590g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％。
5.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，步骤3)中，在进行喷墨印花时，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910×910mm。
6.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，步骤5)中，施加面釉的方式为蘸釉、荡釉、浇釉、刷釉、洒釉和轮釉中的其中一种；具体参数为：面釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.04g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％。
7.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，把配方量的熔块和配方量的生料混合并放入球磨机中，然后加入配方量的水、配方量的羧甲基纤维素钠和配方量的三聚磷酸钠，球磨8-12h后，得到面釉。
8.根据权利要求1所述的背景墙砖的制备方法，其特征在于，步骤8)中，抛光处理的具体参数为：抛光机皮带速度20m/mim；依次用以下磨头进行抛光处理：9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组2000目弹性模块组成的磨头。
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