CN107382377B - 易洁陶瓷砖的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于陶瓷技术领域，涉及一种易洁陶瓷砖的制备方法。本发明提供的易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：(a)制备坯体层；(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；(c)在面釉层上印花，形成印花层；(d)在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层；所述易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒90～110份、印油230～270份和透明釉20～40份。本发明提供的制备方法操作简单，易于实施，成本低，通过该方法制备得到的陶瓷砖具优异的抗污易洁性，即耐污染性能好，易于清洁。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷装技术领域，涉及一种易洁陶瓷砖的制备方法。
背景技术
随着科学技术的飞速发展，人们的生活日新月异，同时铸就了一个追求时尚，彰显个性的时代，建筑装饰材料领域也不例外。陶瓷砖以其优越的性能和装饰效果，受到越来越多的消费者的青睐，并在人们的日常生活中得到广泛的应用。而陶瓷仿古砖是近年流行起来的一种建筑装饰材料，它兼具了抛光砖的富丽堂皇和瓷片的图案丰富多彩、具有现代或复古韵味，及个性化等诸多优点，近年来深受市场欢迎和消费者的喜爱。
随着建筑陶瓷的迅猛发展以及新技术、新材料、新工艺等的不断运用，推动了建筑陶瓷产品不断地向着更好的方向发展，建筑陶瓷产品已突破过去仅限于耐用和装饰的范围，朝着功能多样化的方向发展，进而推动着建陶工业和陶瓷产品的不断发展。然而，现有的陶瓷产品开发过程中，多注重于如何提高产品的强度、耐磨耐用性、以及色彩丰富和图案质感好等方面的研发。对于现有的陶瓷产品中存在的表面清理困难、藏污、防污效果差、时间久了产品变黑等缺陷，还未找到很好的解决办法。因此，对于提高陶瓷产品的抗污易洁性的研发和设计还有很大的改善空间。
鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的目的在于提供一种易洁陶瓷砖的制备方法，该方法操作简单，易于实施，成本低，通过该方法制备得到的陶瓷砖具优异的抗污易洁性，即耐污染性能好，易于清洁。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案为：
本发明提供一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
(a)制备坯体层；
(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；
(c)在面釉层上印花，形成印花层；
(d)在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层；所述易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒90～110份、印油230～270份和透明釉20～40份；
其中，所述易洁保护颗粒主要由以下质量份数的组分构成：SiO2 60～70份、Al2O315～25份、Fe2O3 0.1～0.3份、Ti2O 15～25份、Na2O 4～8份、K2O 2～6份、MgO 0.05～0.3份、CaO 0.5～3份和烧失量0.05～0.3份。
作为进一步优选技术方案，所述步骤(a)包括以下步骤：
(a1)坯用原料经配料、球磨后，得到浆料；
(a2)所述浆料经除铁、过筛、陈腐、喷雾制粉后再过筛，得到坯料；
(a3)采用模具通过压机对所述坯料压制成型，得到所述坯体层。
作为进一步优选技术方案，所述步骤(a1)中，所述球磨为湿法球磨，球磨的时间为11～12小时，浆料的细度为过250目筛余为1％～3％；
优选地，所述步骤(a2)中，所述坯料的颗粒级配为：20目以上为0～1.5％，－20～+40目为30％～60％，－20～+60目为72％～88％，100目以下为0～6％，余下为－60～+100目；
优选地，所述步骤(a3)中，所述模具为凹凸模具，所述坯体层为具有凹凸表面的坯体层。
作为进一步优选技术方案，所述步骤(a)与步骤(b)之间，还包括将所述坯体层放入干燥窑进行干燥的步骤；
优选地，干燥的温度为100～160℃，干燥时间为50～70min。
作为进一步优选技术方案，所述步骤(b)中，采用淋釉的方式在坯体层上布施面釉，面釉的细度为过325目筛余为1％～1.5％，面釉比重1.75～1.85g/cm3，流速30～35秒；钟罩淋釉，面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为40～50g；
优选地，对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为4～5小时。
作为进一步优选技术方案，所述步骤(c)中，采用喷墨印刷设备进行装饰印花，得到所述印花层。
作为进一步优选技术方案，所述步骤(d)中，采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，施釉的流速为45～55秒，比重为1.2～1.5g/cm3；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为32～38g。
作为进一步优选技术方案，所述易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为50％～60％，120～200目为20％～30％，其余为200目以下。
作为进一步优选技术方案，所述印油主要由以下质量份数的组分构成：羧甲基纤维素钠1～2份、乙二醇20～40份、膨润土1～5份和水60～80份；
所述透明釉主要由以下质量份数的组分构成：钠长石12～16份、钾长石20～24份、高岭土6～10份、煅烧高岭土10～14份、石英10～14份、烧滑石13～17份、石灰石7～11份、碳酸钡8～12份和氧化锌1～5份。
作为进一步优选技术方案，在所述步骤(d)之后，还包括二次干燥、烧制、抛光和磨边的步骤；
优选地，所述二次干燥的温度为140～160℃；
优选地，所述烧制的温度为1175～1185℃，时间为60～70min。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：
本发明提供的易洁陶瓷砖的制备方法，通过先制备坯体层，然后在坯体层上布施面釉，在面釉层上印花，在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层的方式，实现了制备得到的陶瓷砖更为致密，并具有良好的耐污染性，易于清洁，便于日常的维护与打理，光泽度高，表面透明度高，立体层次感强的技术效果，极大提升了产品的抗污易洁性。
该方法不仅操作简单，易于实施，成本低，而且环境友好，绿色环保，效率高，生产出的最终产品稳定性好，容易实现工业化大规模生产，具有工业实用性。
具体实施方式
下面将结合实施方式和实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施方式和实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
第一方面，本实施方式提供本发明提供一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
(a)制备坯体层；
(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；
(c)在面釉层上印花，形成印花层；
(d)在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层；所述易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒90～110份、印油230～270份和透明釉20～40份；
其中，所述易洁保护颗粒主要由以下质量份数的组分构成：SiO2 60～70份、Al2O315～25份、Fe2O3 0.1～0.3份、Ti2O 15～25份、Na2O 4～8份、K2O 2～6份、MgO 0.05～0.3份、CaO 0.5～3份和烧失量0.05～0.3份。
本实施方式提供的易洁陶瓷砖的制备方法，通过先制备坯体层，然后在坯体层上布施面釉，在面釉层上印花，在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层的方式，实现了制备得到的陶瓷砖更为致密，具有良好的耐污染性，易于清洁，便于日常的维护与打理，光泽度高，表面透明度高，立体层次感强的技术效果，极大提升了产品的抗污易洁性。同时，该方法操作简单，易于实施，成本低，效率高，可操控性强，生产出的最终产品稳定性好，易于实现工业化的大规模生产。
尤为突出的是，本实施方式在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层，并且该易洁保护釉包括了特定的成分及配比，布施于陶瓷砖表面后能够均匀覆盖在陶瓷砖表面并有效填补陶瓷砖表面的缝隙，提高陶瓷砖的抗污易洁性，便于日常的清理与维护，独特的易洁保护干粒层结构使得陶瓷砖具有极好的耐污染性，独特的立体感，以及极佳的图案质感等。
需要说明的是，烧失量(Loss on ignition，缩写为LOI)是陶瓷领域内常用的技术用语，按照本领域的常规理解即可，指的是原料灼烧后的重量与烧成前的重量之比。
在一种可选的实施方式中，所述步骤(a)包括以下步骤：
(a1)坯用原料经配料、球磨后，得到浆料；
(a2)所述浆料经除铁、过筛、陈腐、喷雾制粉后再过筛，得到坯料；
(a3)采用模具通过压机对所述坯料压制成型，得到所述坯体层。
在一种可选的实施方式中，所述步骤(a1)中，所述球磨为湿法球磨，球磨的时间为11～12小时，浆料的细度为过250目筛余为1％～3％；
优选地，所述步骤(a2)中，所述坯料的颗粒级配为：20目以上为0～1.5％，－20～+40目为30％～60％，－20～+60目为72％～88％，100目以下为0～6％，余下为－60～+100目；
优选地，所述步骤(a3)中，所述模具为凹凸模具，所述坯体层为具有凹凸表面的坯体层。
在一个具体实施方式中，可选的，球磨的时间为11小时、11.5小时或12小时；浆料的细度为过250目筛余为1％、1.2％、1.5％、1.8％、2％、2.2％、2.5％、2.8％或3％。
在一个具体实施方式中，可选的，所述坯料的颗粒级配为：20目以上典型但非限制性的为0、0.2％、0.4％、0.6％、0.8％、1％、1.2％、1.4％或1.5％；－20～+40目典型但非限制性的为30％、32％、35％、38％、40％、42％、45％、48％、50％、52％、55％、58％或60％；－20～+60目典型但非限制性的为72％、73％、74％、75％、76％、77％、78％、79％、80％、81％、82％、83％、84％、85％、86％、87％或88％；100目以下典型但非限制性的为0、1％、2％、3％、4％、5％或6％；余下为－60～+100目。
目，经常作为衡量颗粒大小的单位，目数越大，表示颗粒越细。对于本领域技术人员来说，常在目数的阿拉伯数字前加入“－(负号)”来表示颗粒能够通过所选用的筛、“+(正号)”表示颗粒不能通过所选用的筛，如“－20目”则表示能够通过20目筛的颗粒；“+100目”则表示不能通过100目筛的颗粒。
本实施方式中的凹凸模具为与产品设计相匹配的纹理模具，通过凹凸模具制备出的具有凹凸表面的坯体层可以呈现不同颜色和质感的陶瓷砖，使得生产出来的产品表面层次更丰富；有助于提高产品的防滑效果和产品的层次感、厚实感。
可选地，坯料配方采用普通釉面陶瓷砖的坯体配方，本实施方式提供一个示例性的配方。为保证产品的平整度和波浪纹变形，坯体含铝量在21％左右，白度在35度左右。坯料包括以下质量份的原料：宜春砂10～30份、赣州低温钾钠砂10～20份、铅山水洗坭16～20份、广西白坭6～10份、吉安白坭1～5份、广昌钾砂25～35份、抚州膨润土0.5～1.5份和黑滑石2～3份。
可选地，坯料的含水率为6％～6.5％。
需要说明的是，本实施方式中的“％”，均指的是质量百分比，除非另有明确具体的限定。
在一种可选的实施方式中，所述步骤(a)与步骤(b)之间，还包括将所述坯体层放入干燥窑进行干燥的步骤；
优选地，干燥的温度为100～160℃，干燥时间为50～70min。
在一个具体实施方式中，可选的，干燥的温度为100℃、105℃、110℃、115℃、120℃、125℃、130℃、135℃、140℃、145℃、150℃、155℃或160℃；干燥时间为50min、52min、54min、55min、56min、58min、60min、62min、64min、65min、66min、68min或70min。
在一种可选的实施方式中，所述步骤(b)中，采用淋釉的方式在坯体层上布施面釉，面釉的细度为过325目筛余为1％～1.5％，面釉比重1.75～1.85g/cm3，流速30～35秒；钟罩淋釉，面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为40～50g；
优选地，对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为4～5小时。
本实施方式提供一个示例性的面釉配方。在保证产品烧结温度、砖型、效果花釉的立体效果的前提下，面釉主要由以下质量份的原料制备而成：钾长石20～30份、石英15～30份、霞石15～25份、煅烧高岭土5～10份、氧化铝5～15份、硅灰石1～8份、氧化锌0.1～2份、硅酸锆10～30份、柱状高岭土10～20份、腐殖酸钠0.1～0.3份、羧甲基纤维素钠0.1～0.3份和三聚磷酸钠0.1～0.3份。
面釉层能够提高易洁陶瓷砖的机械强度、降低坯体的吸水率。此外，采用上述方式制备得到的坯体层和面釉层能够使得产品的白度适宜，不仅保证了产品的内在和外在质量，提升产品的综合性能，而且降低了生产成本，具有良好的经济效益。
在一个具体实施方式中，可选的，面釉的细度为过325目筛余为1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％或1.5％；面釉比重为1.75g/cm3、1.76g/cm3、1.77g/cm3、1.78g/cm3、1.79g/cm3、1.80g/cm3、1.81g/cm3、1.82g/cm3、1.83g/cm3、1.84g/cm3或1.85g/cm3；流速为30秒、31秒、32秒、33秒、34秒或35秒；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为40g、41g、42g、43g、44g、45g、46g、47g、48g、49g或50g。
在一个具体实施方式中，可选的，对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为4小时、4.1小时、4.2小时、4.3小时、4.4小时、4.5小时、4.6小时、4.7小时、4.8小时、4.9小时或5小时。
在一种可选的实施方式中，所述步骤(c)中，采用喷墨印刷设备进行装饰印花，得到所述印花层。
一方面，采用喷墨打印的方式对陶瓷砖进行图案装饰，使得印花层纹理变化丰富生动，色彩自然逼真，尽显个性张扬魅力。另一方面，印花层与易洁保护干粒层的图案纹理相互交错，图案若隐若现，不仅具有透视的美感，立体层次感强，平整洁净，纹理清晰雅致，色彩鲜艳不失真，而且光泽度好，透明度高，耐污染性能好，丰富了产品的层次，提升了产品档次，具有良好的装饰效果。
在一种可选的实施方式中，所述步骤(d)中，采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，施釉的流速为45～55秒，比重为1.2～1.5g/cm3；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为32～38g。
在一种可选的实施方式中，所述易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为50％～60％，120～200目为20％～30％，其余为200目以下。
在一种可选的实施方式中，所述印油主要由以下质量份数的组分构成：羧甲基纤维素钠1～2份、乙二醇20～40份、膨润土1～5份和水60～80份；
所述透明釉主要由以下质量份数的组分构成：钠长石12～16份、钾长石20～24份、高岭土6～10份、煅烧高岭土10～14份、石英10～14份、烧滑石13～17份、石灰石7～11份、碳酸钡8～12份和氧化锌1～5份。
本发明中，所述的易洁保护颗粒可以由含有元素Si、Al、Fe、Ti、Na、K、Mg和Ca的硅酸盐材料进行熔融，然后水淬并粉碎得到。可选地，所述硅酸盐材料主要由以下质量份的原料组成：氧化铝粉10～20份、钾长石36～45份、纯碱8～16份、氧化锌5～15份和石英15～35份。进一步地，氧化铝粉13份、钾长石42份、纯碱10份、氧化锌10份和石英25份。
在一些具体实施方式中，按质量份数计，氧化铝粉典型但非限制性的含量为：10份、11份、12份、13份、14份、15份、16份、17份、18份、19份或20份；钾长石典型典型但非限制性的含量为：36份、37份、38份、39份、40份、41份、42份、43份、44份或45份；纯碱典型但非限制性的为：8份、9份、10份、11份、12份、13份、14份、15份或16份；氧化锌典型但非限制性的为：5份、6份、7份、8份、9份、10份、11份、12份13份、14份或15份；石英典型但非限制性的为：15份、16份、17份、18份、19份、20份、21份、22份、23份、24份、25份、26份、27份、28份、29份、30份、31份、32份、33份、34份或35份。
本实施方式提供的易洁保护釉主要由易洁保护颗粒、印油和透明釉组成，一方面，上述易洁保护颗粒具有较高的熔融温度和较宽的烧成范围，能够在1175～1185℃温度下，较好熔融并有较高光泽度以保证陶瓷砖易洁的目的；另一方面，上述印油主要起到提高易洁保护釉高温粘度的作用，使其在高温下不至于融平，以提高陶瓷砖表面的立体效果；此外，上述透明釉主要起到提高易洁保护釉透明度和光泽度的效果，采用以上配方的透明釉，其透明度更高、发色能力更好，且光亮度高，确保了产品的花色和清晰度。
本实施方式提供的易洁保护釉，通过该易洁保护颗粒、印油和透明釉的合理配合，并采用上述操作方式布施于印花层上形成的易洁保护干粒层，既解决了陶瓷砖表面容易藏污问题达到了易洁的目的，也改善了表面质感，丰富了产品层次，还能进一步增强产品的耐磨性能，提高了产品的档次，具有良好的经济效益。
需要说明的是，本发明中的易洁保护釉的制备方法没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的技术方案进行制备即可。
在一个具体实施方式中，可选的，施釉的流速为45秒、46秒、47秒、48秒、49秒、50秒、51秒、52秒、53秒、54秒或55秒。易洁保护釉的比重为1.2g/cm3、1.25g/cm3、1.3g/cm3、1.35g/cm3、1.4g/cm3、1.45g/cm3或1.5g/cm3。面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为32g、33g、34g、35g、36g、37g或38g。
在一个具体实施方式中，可选的，易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为60％，120～200目为30％，200目以下为10％；或者，80目～120目为55％，120～200目为30％，200目以下为15％。
在一种可选的实施方式中，在所述步骤(d)之后，还包括二次干燥、烧制、抛光和磨边的步骤；
优选地，所述二次干燥的温度为140～160℃；
优选地，所述烧制的温度为1175～1185℃，时间为60～70min。
可选地，二次干燥采用30米窑前干燥器干燥，利用余热结合热风炉供热。在一个具体实施方式中，可选的，二次干燥的温度为140℃、142℃、144℃、145℃、146℃、148℃、150℃、152℃、154℃、155℃、156℃、158℃、159℃或160℃。
在一个具体实施方式中，可选的，烧制的温度为1175℃、1176℃、1178℃、1179℃、1180℃、1181℃、1182℃、1183℃、1184℃或1185℃；时间为60min、61min、62min、63min、64min、65min、66min、67min、68min、69min或70min。
为使产品的质感更加圆润、厚重和易洁，在二次干燥和烧制后进行抛光和磨边。
可选地，所述抛光采用软模刷抛工艺，抛光模具排列顺序如下：采用3～5组325～500目软胶仿形模具加2.5～3.5公斤压力，5～7组500～800目软胶仿形模具加压1.5～2.5公斤压力，5～7组600～1000目软胶仿形模具加压0.5～1.5公斤压力，5～7组115～125目研磨刷不加压，5～7组180～230目研磨刷不加压，3～5组300～400目研磨刷不加压，3～5组90～115目海绵模具不加压，7～9组800～1340目软胶仿形模具不加压，线速度为8～12厘米/秒。采用软模刷抛工艺能够使该易洁陶瓷砖的质感更加圆润立体、厚重和易洁，进一步提升了产品档次，装饰效果更好。
上述各操作步骤的配合使用，以及各操作步骤中参数的设置，能够使得制备出的产品具有良好的耐污染性，易于清洁，并且光泽度高，表面透明度高，立体层次感强，提高了产品的装饰效果，具有良好的经济效益和社会效益。
下面结合具体实施例，对本发明作进一步说明。
实施例1
一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
(a)制备坯体层；
(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；
(c)在面釉层上印花，形成印花层；
(d)在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层；易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒100份、印油250份和透明釉30份。
其中，易洁保护颗粒主要由以下质量份数的组分构成：SiO2 66份、Al2O3 21份、Fe2O3 0.15份、TiO2 0.06份、、Na2O 6份、K2O 4份、MgO 0.15份、CaO 1.5份和烧失量0.15份。
易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为60％，120～200目为30％，200目以下为10％。
印油主要由以下质量份数的组分构成：羧甲基纤维素钠1.2份、乙二醇30份、膨润土3份和水70份。
透明釉主要由以下质量份数的组分构成：钠长石14份、钾长石22份、高岭土8份、煅烧高岭土12份、石英12份、烧滑石15份、石灰石9份、碳酸钡10份和氧化锌3份。
实施例2
一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
(a)制备坯体层；
(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；
(c)在面釉层上印花，形成印花层；
(d)采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，形成易洁保护干粒层；施釉的流速为50秒，比重为1.3g/cm3；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为35g。
易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒110份、印油260份和透明釉40份。
其中，易洁保护颗粒主要由以下质量份数的组分构成：SiO2 70份、Al2O3 25份、Fe2O3 0.3份、TiO2 0.1份、、Na2O 8份、K2O 6份、MgO 0.3份、CaO 3份和烧失量0.3份。
易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为55％，120～200目为30％，200目以下为15％。
印油主要由以下质量份数的组分构成：羧甲基纤维素钠2份、乙二醇35份、膨润土5份和水80份。
透明釉主要由以下质量份数的组分构成：钠长石16份、钾长石24份、高岭土10份、煅烧高岭土14份、石英13份、烧滑石17份、石灰石10份、碳酸钡12份和氧化锌5份。
实施例3
一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
(a)制备坯体层：
(a1)坯用原料经配料、湿法球磨11小时后，得到浆料，浆料的细度为过250目筛余为2％；
(a2)所述浆料经除铁、过筛、陈腐、喷雾制粉后再过筛，得到坯料，坯料的颗粒级配为：20目以上为1％，－20～+40目为30％，－20～+60目为72％，100目以下为6％，余下为－60～+100目；
(a3)采用凹凸模具通过压机对所述坯料压制成型，得到所述坯体层。
(b)将坯体层放入干燥窑进行干燥，干燥的温度为150℃，干燥时间为60min。
(c)采用淋釉的方式在坯体层上布施面釉，形成面釉层；对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为4小时；面釉的细度为过325目筛余为1.5％，面釉比重1.75g/cm3，流速30秒；钟罩淋釉，面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为40g。
(d)采用喷墨印刷设备进行装饰印花，形成印花层。
(e)采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，形成易洁保护干粒层；施釉的流速为55秒，比重为1.4g/cm3；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为38g。
其中，易洁保护釉的原料组成与配比与实施例1相同。
(f)二次干燥、烧制、抛光和磨边：
其中，二次干燥的温度为150℃；烧制的温度为1175℃，时间为60min；采用普通瓷质釉面陶瓷砖的烧成曲线进行烧制即可；抛光和磨边按照陶瓷生产的常规工艺进行操作即可。
实施例4
一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
(a)制备坯体层：
(a1)坯用原料经配料、湿法球磨12小时后，得到浆料，浆料的细度为过250目筛余为1％；
(a2)所述浆料经除铁、过筛、陈腐、喷雾制粉后再过筛，得到坯料，坯料的颗粒级配为：20目以上为1.5％，－20～+40目为60％，－20～+60目为75％，100目以下为0，余下为－60～+100目；
(a3)采用凹凸模具通过压机对所述坯料压制成型，得到所述坯体层。
(b)将坯体层放入干燥窑进行干燥，干燥的温度为140℃，干燥时间为70min。
(c)采用淋釉的方式在坯体层上布施面釉，形成面釉层；对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为5小时；面釉的细度为过325目筛余为1％，面釉比重1.85g/cm3，流速35秒；钟罩淋釉，面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为50g。
(d)采用喷墨印刷设备进行装饰印花，形成印花层。
(e)采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，形成易洁保护干粒层；施釉的流速为45秒，比重为1.3g/cm3；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为32g。
其中，易洁保护釉的原料组成与配比与实施例1相同。
(f)二次干燥、烧制、抛光和磨边：
其中，二次干燥的温度为160℃；烧制的温度为1185℃，时间为70min；采用普通瓷质釉面陶瓷砖的烧成曲线进行烧制即可；抛光和磨边按照陶瓷生产的常规工艺进行操作即可。
实施例5
一种易洁陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤(a)、(b)、(c)、(d)、(e)，均与实施例3相同，与实施例3不同的是步骤(f)。
(f)二次干燥、烧制、抛光和磨边：
其中，二次干燥的温度为150℃；烧制的温度为1185℃，时间为60min；抛光采用软模刷抛工艺，抛光模具排列顺序如下：采用4组400目软胶仿形模具加3公斤压力，6组600目软胶仿形模具加压2公斤压力，6组800目软胶仿形模具加压1公斤压力，6组120目研磨刷不加压，6组200目研磨刷不加压，4组320目研磨刷不加压，4组100目海绵模具不加压，8组1000目软胶仿形模具不加压，线速度为10厘米/秒。然后上哑光蜡水，磨边，经质检和包装即制得易洁陶瓷砖。
实施例3－5中的坯料配方为：以质量份数计，宜春砂20份、赣州低温钾钠砂15份、铅山水洗坭18份、广西白坭8份、吉安白坭3份、广昌钾砂30份、抚州膨润土1份和黑滑石2.5份。
实施例3－5中面釉配方为：以质量份数计，钾长石25份、石英20份、霞石20份、煅烧高岭土7份、氧化铝10份、硅灰石5份、氧化锌1份、硅酸锆20份、柱状高岭土15份、腐殖酸钠0.2份、羧甲基纤维素钠0.15份和三聚磷酸钠0.15份。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (16)
1.一种易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(a)制备坯体层；
(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；
(c)在面釉层上印花，形成印花层；
(d)在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层；所述易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒90～110份、印油230～270份和透明釉20～40份；
其中，所述易洁保护颗粒主要由以下质量份数的组分构成：SiO260～70份、Al2O3 15～25份、Fe2O3 0.1～0.3份、Ti2O 15～25份、Na2O 4～8份、K2O 2～6份、MgO 0.05～0.3份、CaO0.5～3份和烧失量0.05～0.3份。
2.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a)包括以下步骤：
(a1)坯用原料经配料、球磨后，得到浆料；
(a2)所述浆料经除铁、过筛、陈腐、喷雾制粉后再过筛，得到坯料；
(a3)采用模具通过压机对所述坯料压制成型，得到所述坯体层。
3.根据权利要求2所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a1)中，所述球磨为湿法球磨，球磨的时间为11～12小时，浆料的细度为过250目筛余为1％～3％。
4.根据权利要求2所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a2)中，所述坯料的颗粒级配为：20目以上为0～1.5％，－20～+40目为30％～60％，－20～+60目为72％～88％，100目以下为0～6％，余下为－60～+100目。
5.根据权利要求2所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a3)中，所述模具为凹凸模具，所述坯体层为具有凹凸表面的坯体层。
6.根据权利要求1～5任一项所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a)与步骤(b)之间，还包括将所述坯体层放入干燥窑进行干燥的步骤。
7.根据权利要求6所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，干燥的温度为100～160℃，干燥时间为50～70min。
8.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(b)中，采用淋釉的方式在坯体层上布施面釉，面釉的细度为过325目筛余为1％～1.5％，面釉比重1.75～1.85g/cm3，流速30～35秒；钟罩淋釉，面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为40～50g。
9.根据权利要求8所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为4～5小时。
10.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(c)中，采用喷墨印刷设备进行装饰印花，得到所述印花层。
11.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(d)中，采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，施釉的流速为45～55秒，比重为1.2～1.5g/cm3；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为32～38g。
12.根据权利要求1或11所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为50％～60％，120～200目为20％～30％，其余为200目以下。
13.根据权利要求1或11所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述印油主要由以下质量份数的组分构成：羧甲基纤维素钠1～2份、乙二醇20～40份、膨润土1～5份和水60～80份；
所述透明釉主要由以下质量份数的组分构成：钠长石12～16份、钾长石20～24份、高岭土6～10份、煅烧高岭土10～14份、石英10～14份、烧滑石13～17份、石灰石7～11份、碳酸钡8～12份和氧化锌1～5份。
14.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在所述步骤(d)之后，还包括二次干燥、烧制、抛光和磨边的步骤。
15.根据权利要求14所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述二次干燥的温度为140～160℃。
16.根据权利要求14所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述烧制的温度为1175～1185℃，时间为60～70min。
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