CN108395101A - 一种低光细腻釉、釉浆制备方法、釉面砖及制备方法 - Google Patents

一种低光细腻釉、釉浆制备方法、釉面砖及制备方法 Download PDF

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    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions

Abstract

本发明公开了一种低光细腻釉，低光细腻釉的化学成分为：SiO2 33～55％、Al2O3 15～25％、Fe2O3＜1％、TiO2＜1％、CaO 10～18％、MgO 1～5％、K2O 3～6％、Na2O 2～5％、ZnO 1～2％、BaO 1～2.5％、B2O3 3～5％、ZrO2 3～9％。本发明还公开了一种低光细腻釉的釉浆制备方法、釉面砖、及釉面砖制备方法。通过本发明的低光细腻釉获得的釉面光泽度为4～18度，表面的质感为细腻，防污性能好，解决了行业内釉面不能达到低光细腻的技术难点。

Description

一种低光细腻釉、釉浆制备方法、釉面砖及制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域，尤其涉及一种低光细腻釉、釉浆制备方法、釉面砖及制备方法。
背景技术
陶瓷砖已经成为装饰材料市场最为普及的装饰材料，其中以有釉陶瓷砖以其釉面的质感丰富，花色的多样更是受到消费者的青睐，现在主流的有釉陶瓷砖习惯将光泽度8～12度的砖定义为缎光，30～80度定义为柔光，90度以上定义为亮光。不同的光泽给消费者带来不同的装饰效果。除了光泽，釉面的质感也是消费者选择釉面砖的一个很重要的参考因素。一般分为粗面，细腻面，滑面。粗面一般指的就是表面糙手，防滑效果较好，细腻面一般指的是给人仿丝绸，仿婴儿皮肤般的丝丝细滑的顺滑感，滑面一般指的是像打磨光亮后的石材表面，防滑效果差。根据市场调研结果显示，4～18度细腻面的有釉砖比较受消费者欢迎。
但是，在现有的釉料配方中，高钙配方析晶不够细腻；高镁配方釉面细腻，但发色不好；高钡高锌配方发色较好，但容易产生毛细孔，易吸污。目前光泽度的4～18度的釉面陶瓷砖的釉面是粗面，防污性能差，不能被消费者广泛接受。
发明内容
本发明的目的在于提出一种低光细腻釉，具有光泽度低的同时还具有细腻丝滑防污性强的特点。
本发明的另一目的在于提出一种低光细腻釉的釉浆制备方法，具有步骤简单的特点。
本发明的再一目的在于提出一种包含低光细腻釉的釉面砖，其釉面具有光泽度低的同时还具有细腻丝滑防污性强的特点。
本发明的又一目的在于提出一种包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法，制得产品釉面具有光泽度低的同时还具有细腻丝滑防污性强的特点。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种低光细腻釉，低光细腻釉的化学成分为：SiO2 33～55％、Al2O3 15～25％、Fe2O3＜1％、TiO2＜1％、CaO 10～18％、MgO 1～5％、K2O 3～6％、Na2O 2～5％、ZnO 1～2％、BaO 1～2.5％、B2O3 3～5％、ZrO2 3～9％。
进一步的，低光细腻釉以重量百分比计的原料包括：低光细腻釉配方重量份数为：钾长石10～20％、钠长石5～8％、高铝质粘土3～9％、石英20～40％、氧化铝15～21％、烧滑石3～8％、硅灰石3～8％、碳酸钡1～5％、氧化锌1～3％、硼砂6～10％、硅酸锆5～15％、玻璃碎渣8～15％。
一种低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.1～0.2％、三聚磷酸钠0.3～0.6％、低光细腻釉原料60.2～70％和水28～35％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
球磨后的浆料过140～180目筛；
之后浆料陈腐20～28小时，获得低光细腻釉的釉浆。
一种包含低光细腻釉的釉面砖，包括低光细腻釉层和坯层，低光细腻釉层位于坯层的顶面。
进一步的，还包括底釉层，底釉层位于低光细腻釉层和坯层之间。
进一步的，还包括位于底釉层与低光细腻油层之间的装饰层，装饰层通过丝网印花、滚筒印花、喷墨打印中的一种或多种方式获得。
一种包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
制备低光细腻釉的釉浆；
制作砖坯；
将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上；
入窑烧制。
进一步的，在入窑烧制步骤中，布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1150℃～1250℃烧制65～75min。
进一步的，在入窑烧制步骤中，在将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上步骤之前，还包括在砖坯上布施底釉步骤。
进一步的，在将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上步骤之前，还包括表面装饰步骤：在布施有底釉的砖坯上布施表面装饰层。
本发明的有益效果为：
1、低光细腻釉的配方是一个完整的体系，将钙、镁、钡、锌作为亚光剂，钾、钠、硅、铝、硼作为助熔溶剂，锆作为乳浊剂，通过钙、镁、钡、锌等元素在配方体系中结晶产生，使釉面达到一个较好的细腻面，同时又兼顾较好的发色和较少的毛细孔，实现釉面光泽度在4～18度、表面细腻丝滑、防污性能好；
2、低光细腻釉的配方中通过玻璃碎渣作为较好的助熔剂，帮助釉中成分较好的融合，且成本较低；
3、低光细腻釉的氧化铝含量在15％-25％，在拥有足够的保温时间的条件下，很好的解决了针孔及小毛细孔，烧成后的防污效果很好。
因此，通过本发明的低光细腻釉获得的釉面光泽度为4～18度，表面的质感为细腻，防污性能好，解决了行业内釉面不能达到低光细腻的技术难点。
具体实施方式
下面结合具体实施方式进一步说明本发明的技术方案。
一种低光细腻釉，低光细腻釉的化学成分为：SiO2 33～55％、Al2O3 15～25％、Fe2O3＜1％、TiO2＜1％、CaO 10～18％、MgO 1～5％、K2O 3～6％、Na2O 2～5％、ZnO 1～2％、BaO 1～2.5％、B2O3 3～5％、ZrO2 3～9％。
优选的，低光细腻釉以重量百分比计的原料包括：低光细腻釉配方重量份数为：钾长石10～20％、钠长石5～8％、高铝质粘土3～9％、石英20～40％、氧化铝15～21％、烧滑石3～8％、硅灰石3～8％、碳酸钡1～5％、氧化锌1～3％、硼砂6～10％、硅酸锆5～15％、玻璃碎渣8～15％。
低光细腻釉采用1150℃～1250℃烧制65～75分钟，较高的烧成温度，较长的保温时间，有助于产生细腻面釉。
在现有的釉料配方中，高钙配方析晶不够细腻；高镁配方釉面细腻，但发色不好；高钡高锌配方发色较好，但容易产生毛细孔，易吸污。这些缺陷主要是由于釉料在窑炉高温区烧成时高温粘度过大，气体不易排出，残留釉面，或是气体排出后，釉面没有及时熔平修复。因此，釉面的形成对配方与窑炉烧成制度的配合是很关键的。
本发明综合各成分的优缺点，调配出优选的方案。本发明的低光细腻釉的配方是一个完整的体系，将钙、镁、钡、锌作为亚光剂，钾、钠、硅、铝、硼作为助熔溶剂，锆作为乳浊剂，通过钙、镁、钡、锌等元素在配方体系中结晶产生，使釉面达到一个较好的细腻面，同时又兼顾较好的发色和较少的毛细孔，实现釉面光泽度在4～18度、表面细腻丝滑、防污性能好。
低光细腻釉的氧化铝含量在15％-25％，在拥有足够的保温时间的条件下，很好的解决了针孔及小毛细孔，烧成后的防污效果很好。
需要说明的是，在实际生产需要时，低光细腻釉的配方中可以加入色料，色料与其他原料的重量比为1～20:100。
上述的低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.1～0.2％、三聚磷酸钠0.3～0.6％、低光细腻釉原料60.2～70％和水28～35％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
球磨后的浆料过140～180目筛；
之后浆料陈腐20～28小时，获得低光细腻釉的釉浆。
将羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、水与低光细腻釉原料共同加入球磨机进行球磨，能够提高各原料分布均匀性，浆料有更好的均化效果。浆料陈腐较长时间，有利使浆料中的有机物充分分解，也有利于使浆料中原料有更好的均化效果。具体的，球磨后浆料过双层140～180目筛，能更好截留浆料中的大颗粒，提高浆料粒度的均匀性。浆料中的颗粒有较小的粒径，有利于釉面效果的一致性，避免釉面出现瑕疵，进而提高釉面的细腻程度，提高釉面防污性能。
本发明还提供了一种包含低光细腻釉的釉面砖，包括低光细腻釉层和坯层，低光细腻釉层位于坯层的顶面。
低光细腻釉直接施于坯层的表面，当坯层为玻化砖坯层且坯层原料中包含色料时，能够获得具有低光细腻面的通体砖；当坯层的原料中包含溶洞料时，能够获得具有溶洞效果及低光细腻面的陶瓷砖。
当在低光细腻釉中添加与坯体色料相对应的色料后，使得釉面与坯体颜色一致，具有更好的装饰效果。
在其他实施方式中，釉面砖还包括底釉层，底釉层位于低光细腻釉层和坯层之间。
底釉层的作用是遮盖坯体颜色。底釉层中还可以添加色料，当低光细腻釉中无色料时，底釉层的色彩自低光细腻釉层中透出，获得多样化的产品。底釉层可以采用化妆土。
低光细腻釉和底釉的施釉过程均可以采用传动的钟罩淋釉或直线淋釉工艺。淋釉工艺能够使釉面平整、厚实，有利于获得细腻釉面。
在其他实施方式中，釉面砖还包括位于底釉层与低光细腻油层之间的装饰层，装饰层通过丝网印花、滚筒印花、喷墨打印中的一种或多种方式获得。
上述包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
制备低光细腻釉的釉浆；
制作砖坯，该步骤采用现有的布料工序和坯体压制工序；
将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上；
入窑烧制。布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1150℃～1250℃烧制65～75min。
在其他实施方式中，在将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上步骤之前，还包括在砖坯上布施底釉步骤。低光细腻釉和底釉的施釉过程均可以采用传动的钟罩淋釉或直线淋釉工艺。淋釉工艺能够使釉面平整、厚实，有利于获得细腻釉面。
在其他实施方式中，在将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上步骤之前，还包括表面装饰步骤：在布施有底釉的砖坯上布施表面装饰层。装饰层通过丝网印花、滚筒印花、喷墨打印中的一种或多种方式获得。
实施例1
本实施例的低光细腻釉的化学成分如下表所示：
本实施例的低光细腻釉以重量百分比计的原料如下表所示：
钾长石 钠长石 高铝质粘土 石英 氧化铝 烧滑石
10％ 8％ 3％ 20％ 15％ 3％
硅灰石 碳酸钡 氧化锌 硼砂 硅酸锆 玻璃碎渣
3％ 5％ 2％ 8％ 15％ 8％
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖，包括低光细腻釉层和坯层，低光细腻釉层位于坯层的顶面。
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法包括步骤S1～S4：
S1、制备低光细腻釉的釉浆。
低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
S101、将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.1％、三聚磷酸钠0.3％、低光细腻釉原料70％和水28.6％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
S102、球磨后的浆料过160目筛；
S103、之后浆料陈腐24小时，获得低光细腻釉的釉浆。
S2、制作砖坯。
S3、将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上。
S4、入窑烧制。布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1150℃℃烧制75min。
实施例2
本实施例的低光细腻釉的化学成分如下表所示：
SiO2 Al2O3 Fe2O3 TiO2 CaO MgO
37.23％ 24.68％ ＜1％ ＜1％ 15.63％ 4.98％
K2O Na2O ZnO BaO B2O3 ZrO2
3.12％ 4.91％ 1.05％ 1.01％ 3.58％ 3.05％
本实施例的低光细腻釉以重量百分比计的原料如下表所示：
钾长石 钠长石 高铝质粘土 石英 氧化铝 烧滑石
10％ 5％ 3％ 21％ 21％ 8％
硅灰石 碳酸钡 氧化锌 硼砂 硅酸锆 玻璃碎渣
3％ 1％ 1％ 7％ 5％ 15％
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖，包括低光细腻釉层和坯层，低光细腻釉层位于坯层的顶面。
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法包括步骤S1～S4：
S1、制备低光细腻釉的釉浆。
低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
S101、将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.2％、三聚磷酸钠0.4％、低光细腻釉原料69.4％和水28％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
S102、球磨后的浆料过140目筛；
S103、之后浆料陈腐28小时，获得低光细腻釉的釉浆。
S2、制作砖坯。
S3、将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上。
S4、入窑烧制。布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1250℃烧制65min。
实施例3
本实施例的低光细腻釉的化学成分如下表所示：
SiO2 Al2O3 Fe2O3 TiO2 CaO MgO
54.85％ 15.08％ ＜1％ ＜1％ 11.98％ 2.58％
K2O Na2O ZnO BaO B2O3 ZrO2
3.13％ 2.01％ 1.04％ 1.62％ 3.08％ 3.02％
本实施例的低光细腻釉以重量百分比计的原料如下表所示：
钾长石 钠长石 高铝质粘土 石英 氧化铝 烧滑石
10％ 5％ 3％ 40％ 15％ 3％
硅灰石 碳酸钡 氧化锌 硼砂 硅酸锆 玻璃碎渣
3％ 1％ 1％ 6％ 5％ 8％
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖，包括由上至下依次设置的低光细腻釉层、底釉层和坯层。
底釉层的作用是遮盖坯体颜色。底釉层中还可以添加色料，当低光细腻釉中无色料时，底釉层的色彩自低光细腻釉层中透出，获得多样化的产品。底釉层可以采用化妆土。
低光细腻釉和底釉的施釉过程均可以采用传动的钟罩淋釉或直线淋釉工艺。淋釉工艺能够使釉面平整、厚实，有利于获得细腻釉面。
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法包括步骤S1～S5：
S1、制备低光细腻釉的釉浆。
低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
S101、将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.1％、三聚磷酸钠0.5％、低光细腻釉原料65％和水31.4％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
S102、球磨后的浆料过180目筛；
S103、之后浆料陈腐20小时，获得低光细腻釉的釉浆。
S2、制作砖坯。
S3、砖坯上布施底釉。
S4、将低光细腻釉的釉浆布施于具有底釉的砖坯上。
S5、入窑烧制。布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1200℃烧制70min。
实施例4
本实施例的低光细腻釉的化学成分如下表所示：
SiO2 Al2O3 Fe2O3 TiO2 CaO MgO
37.52％ 21.33％ ＜1％ ＜1％ 17.95％ 1.32％
K2O Na2O ZnO BaO B2O3 ZrO2
3.58％ 4.16％ 1.96％ 1.01％ 4.96％ 3.1％
本实施例的低光细腻釉以重量百分比计的原料如下表所示：
钾长石 钠长石 高铝质粘土 石英 氧化铝 烧滑石
13％ 5％ ％ 20％ 15％ 3％
硅灰石 碳酸钡 氧化锌 硼砂 硅酸锆 玻璃碎渣
8％ 1％ 3％ 10％ 5％ 8％
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖，包括由上至下依次设置的低光细腻釉层、装饰层、底釉层和坯层。装饰层通过丝网印花、滚筒印花、喷墨打印中的一种或多种方式获得。
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法包括步骤S1～S6：
S1、制备低光细腻釉的釉浆。
低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
S101、将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.2％、三聚磷酸钠0.6％、低光细腻釉原料60.2％和水35％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
S102、球磨后的浆料过180目筛；
S103、之后浆料陈腐24小时，获得低光细腻釉的釉浆。
S2、制作砖坯。
S3、砖坯上布施底釉。
S4、在底釉层上布施装饰层。
S5、将低光细腻釉的釉浆布施于具有底釉和装饰层的砖坯上。
S6、入窑烧制。布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1200℃烧制70min。
实施例5
本实施例的低光细腻釉的化学成分如下表所示：
SiO2 Al2O3 Fe2O3 TiO2 CaO MgO
41.86％ 19.54％ ＜1％ ＜1％ 15.32％ 3.76％
K2O Na2O ZnO BaO B2O3 ZrO2
5.89％ 2.91％ 1.05％ 1.92％ 3.08％ 3.04％
本实施例的低光细腻釉以重量百分比计的原料如下表所示：
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖，包括由上至下依次设置的低光细腻釉层、装饰层、底釉层和坯层。装饰层通过丝网印花、滚筒印花、喷墨打印中的一种或多种方式获得。
本实施例的包含低光细腻釉的釉面砖的制备方法包括步骤S1～S6：
S1、制备低光细腻釉的釉浆。
低光细腻釉的釉浆制备方法，包括以下步骤：
S101、将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.1％、三聚磷酸钠0.5％、低光细腻釉原料62.4％和水32％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
S102、球磨后的浆料过140目筛；
S103、之后浆料陈腐28小时，获得低光细腻釉的釉浆。
S2、制作砖坯。
S3、砖坯上布施底釉。
S4、在底釉层上布施装饰层。
S5、将低光细腻釉的釉浆布施于具有底釉和装饰层的砖坯上。
S6、入窑烧制。布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1250℃烧制65min。
将实施例1～5的釉面砖进行防污等级测试。
污染剂：“3.25号”干水泥粉，“英雄牌”红墨水和蓝墨水，铺地砖用的胶锤，油性记号笔(蓝、红、黑)，黑色填缝剂。
测试步骤：
(1)将待测釉面砖的砖面分成9个区域；
(2)将将干水泥粉放入其中一个区域，用手压住干水泥粉正反方向打圆圈擦拭各数十次；
(3)将干水泥粉与清水1：1混合，放入其中一个区域，用手压住泥浆正反方向打圆圈擦拭各数十次；
(4)将红墨水和蓝墨水用胶头滴管分别滴入釉面砖的不同区域，各3-4滴即可；
(5)将蓝红黑油性记号笔，分别在釉面砖三个不同的区域用力划出10±2mm的痕迹；
(6)将黑色填缝剂与清水1:1混合，放入其中一个区域，用手压住泥浆正反方向打圆圈擦拭各数十次；
(7)将黑色胶锤圆边位均匀用力斜敲试样其中一个区域，斜敲角度为45±3度。
污染试剂在釉面砖上停留30min，用用白色抹布和清水用力擦拭清除污染剂，烘干试样，观察结果。
观察结果是：将清洗后烘干的釉面砖放置于80w荧光灯下垂直距离0.5米处，用肉眼距离砖面0.8米处观察。
评测标准如下：
其中：
很明显，指污染剂在表面清洗后几乎无变化；
明显，指污染剂在表面清洗后颜色减半；
不明显，指污染剂在表面清洗后为明显的减半；
微痕，指污染剂在表面清洗后隐约可见；
不可见，指污染剂在表面清洗后完全清洗干净。
参照上述的测试过程和评测标准，实施例1～5的釉面砖的测试结果如下：
污染源名称 很明显 明显 不明显 微痕 不可见
干水泥 - - - - 5
湿水泥 - - - - 5
红墨水 - - - - 5
蓝墨水 - - - - 5
红色记号笔 - - - 4 -
蓝色记号笔 - - - 4 -
黑色记号笔 - - - 4 -
胶锤印 - - - - 5
填缝剂 - - - - 5
结论，实施例1～5的釉面砖防污测试结果为4级，即低光细腻釉面的防污等级为4级。
对比例
本对比例的釉料是专利201711194809.2公开的一种无光釉料，以重量份计的原料为：熔块6份、熟滑石23份、铝粉10份、石英18份、石灰石10份、硅酸锆10份、高岭土6份、硅微粉4份、钾石13份。釉浆通过湿法球磨获得。
与该对比例相比：
1、低光细腻釉的配方中增加了钠长石、碳酸钡、氧化锌和硼砂，本发明的低光细腻釉的配方是一个完整的体系，将钙、镁、钡、锌作为亚光剂，钾、钠、硅、铝、硼作为助熔溶剂，锆作为乳浊剂，通过钙、镁、钡、锌等元素在配方体系中结晶产生，使釉面达到一个较好的细腻面，同时又兼顾较好的发色和较少的毛细孔。
2、低光细腻釉的配方中氧化铝占比达到了15～25％，在拥有足够的保温时间的条件下，很好的解决了针孔及小毛细孔，烧成后的防污效果很好。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种低光细腻釉，其特征在于，所述低光细腻釉的化学成分为：SiO2 33～55％、Al2O315～25％、Fe2O3＜1％、TiO2＜1％、CaO 10～18％、MgO 1～5％、K2O 3～6％、Na2O 2～5％、ZnO 1～2％、BaO 1～2.5％、B2O3 3～5％、ZrO2 3～9％。
2.根据权利要求1所述的低光细腻釉，其特征在于，所述低光细腻釉以重量百分比计的原料包括：低光细腻釉配方重量份数为：钾长石10～20％、钠长石5～8％、高铝质粘土3～9％、石英20～40％、氧化铝15～21％、烧滑石3～8％、硅灰石3～8％、碳酸钡1～5％、氧化锌1～3％、硼砂6～10％、硅酸锆5～15％、玻璃碎渣8～15％。
3.一种权利要求2所述低光细腻釉的釉浆制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
将以重量百分数计的羧甲基纤维素钠0.1～0.2％、三聚磷酸钠0.3～0.6％、低光细腻釉原料60.2～70％和水28～35％加入球磨机进行湿法球磨，其中：低光细腻釉原料按配比加入球磨机；
球磨后的浆料过140～180目筛；
之后浆料陈腐20～28小时，获得低光细腻釉的釉浆。
4.一种包含权利要求1或2所述低光细腻釉的釉面砖，包括低光细腻釉层和坯层，所述低光细腻釉层位于坯层的顶面。
5.根据权利要求4所述的釉面砖，其特征在于，还包括底釉层，所述底釉层位于低光细腻釉层和坯层之间。
6.根据权利要求4所述的釉面砖，其特征在于，还包括位于底釉层与低光细腻油层之间的装饰层，所述装饰层通过丝网印花、滚筒印花、喷墨打印中的一种或多种方式获得。
7.一种包含权利要求2所述低光细腻釉的釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
制备低光细腻釉的釉浆；
制作砖坯；
将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上；
入窑烧制，所述布施有低光细腻釉浆的砖坯在温度1150℃～1250℃烧制65～75min。
8.根据权利要求7所述的釉面砖的制备方法，其特征在于，在入窑烧制步骤中，在所述将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上步骤之前，还包括在砖坯上布施底釉步骤。
9.根据权利要求7所述的釉面砖的制备方法，其特征在于，在所述将低光细腻釉的釉浆布施于砖坯上步骤之前，还包括表面装饰步骤：在布施有底釉的砖坯上布施表面装饰层。
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