CN111943727B - 一种微光大理石抛光瓷片的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，包括步骤素坯经淋底釉→淋柔光面釉→喷墨印花与喷印剥开墨水→淋亚光透明釉→烧成→抛光→成品。本发明利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成的凹陷大理石纹理，因釉面其本身是亚光的，在抛光后，抛面光泽强，凹陷大理石纹保留了原有板面亚光效果，抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差，对比之下凹陷大理石纹呈微光状。本发明相比原有的在有光透明釉上喷印下陷墨水形成的大理石纹效果，更接近于天然大理石细裂纹效果，大理石纹理做得更加细腻；合理调配柔光面釉与亚光透明釉的烧成温度、光泽度，防止了凹陷大理石纹理藏蜡而导致的吸污问题。

Description

一种微光大理石抛光瓷片的制造方法
技术领域
本发明属于陶瓷建筑装饰材料领域，具体涉及一种微光大理石抛光瓷片的制造方法。
背景技术
瓷片是瓷砖中的一种陶质砖，有内墙砖、釉面砖等多种叫法。瓷片属于陶质砖，吸水率在10％～20％间，目前市面上吸水率普遍在16％左右，主要使用场所是室内。
瓷砖都追求天然大理石纹理与效果，天然大理石经雨水的侵蚀其岩层的结合部会形成过渡纹或裂纹。在抛光过程中，过渡纹略有凹陷没抛到位或本身存在裂纹，在凹陷处或裂纹处与平面位就存在光泽差，形成一种自然的凹线纹。大理石瓷砖效果仿的就是大理石的凹线效果，其与图案纹理自然融合，手摸瓷砖表面光滑中又有阻滞感。
专利号CN106336247A公开了一种具凹线条的抛光瓷片的制造方法，其采用喷墨印花与喷印下陷墨水各采用一台喷墨机，其工艺流程是素坯经淋底釉→淋面釉→喷墨印花→淋透明釉→喷印下陷墨水→烧成→抛光→成品。其瓷片表面的大理石纹理是淋透明釉后喷印下陷墨水而产生的，此方法可以生产大理石纹理，但也存在缺陷。一方面一台喷墨机专用于打印下陷墨水，等于多增加一台喷墨机的成本，而且这台喷墨机没有最大化利用，且两台喷墨机共线生产存在花纹对位问题；另一方面利用下陷墨水做的大理石纹是基于有光面釉有光透明釉制作而成，其大理石纹与平面部位的光泽差不够大，下陷墨水靠腐蚀釉而成下陷，灰度细没腐蚀效果，灰度宽易扩开，所以形成的大理石纹不够精细。
发明内容
针对现有大理石纹抛光瓷片制造方法存在的不足，本发明的目的在于提供一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，包括步骤素坯经淋底釉→淋柔光面釉→喷墨印花与喷印剥开墨水→淋亚光透明釉→烧成→抛光→成品，工艺简单、容易控制，大理石纹理更加细腻。
为实现上述目的，本发明提供的技术方案如下：
一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，包括如下步骤：
S1.素坯经淋底釉；
S2.施柔光面釉；
所述柔光面釉原料按重量百分比计为：熔块71～90％、硅酸锆2～15％、煅烧高岭土0～5％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石10～14％、碳酸钡12～18％、钾长石32～40％、氧化锌4.5～7％、高岭土12～17％、硼酸钙4～7％、纯碱1～3％、石英砂9～11％；
S3.喷墨印花与喷印剥开墨水，喷墨印花与喷印剥开墨水采用一台喷墨机完成；
S4.施亚光透明釉；
所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；
S5.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟；
S6.经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。
本发明采用喷墨印花与喷印剥开墨水后淋一层亚光透明釉，利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成凹陷大理石纹理，该亚光透明釉烧成后光泽度为5～20°，经抛光后釉面光泽度达到80～95°，喷印剥开墨水位置呈凹陷状态光泽度5～20°，抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差，呈微光状态，此方法制得的微光大理石效果更接近于天然大理石细裂纹效果。
本发明在喷墨印花与喷印剥开墨水之前淋有一层柔光面釉，该釉烧成后光泽度为15～35°，该釉层除了具有隔水增白、使釉更平功能外；柔光面釉的光泽度略高于亚光透明釉，烧成温度比亚光透明釉略低5℃；当剥开墨水剥开亚光透明釉形成凹槽立壁时，因为柔光面釉熔融温度略低于亚光透明釉，凹槽立壁会部分软化熔入柔光面釉，这保证剥开墨水剥开亚光透明釉时形成的凹槽不会太立，成倾斜状。剥开墨水剥开亚光透明釉有时呈裂纹状或凹槽太立，当凹陷部位出现裂纹状或凹槽太立时，在抛光打蜡时凹陷部位会藏蜡，藏蜡的部位在抗污试验会吸墨与吸附水泥，导致防污不过关。本发明的柔光面釉与亚光透明釉烧成温度、光泽度搭配形成的凹陷纹理立面成倾斜状，防止形成的微光大理石纹理吸污。
在本发明中，优选地，硅酸锆本身在其生产合成过程中已经焙烧过，并进行了漂洗净化除钛、铁杂质等。
在本发明中，优选地，S3所述的印花为喷墨印花、辊筒印花、丝网印花中的一种或两种以上混合。具体印花操作可采用本领域常规技术手段，优选喷墨印花。
在本发明中，优选地，所述柔光面釉的化学组成为：SiO2为44～51％、Al2O3为11～15％、MgO为0.1～0.4％、CaO为6.4～8％、Na2O为0.8～2.4％、K2O为3.4～4.2％、ZrO2为1.0～10％、BaO为8.4～14.3％、B2O3为1.6～3.2％、ZnO为4.2～6.2％，灼减为1.0～1.6％。
在本发明中，优选地，所述柔光面釉采用的熔块的化学组成为：SiO2为45～53％、Al2O3为9～14％、MgO为0.1～0.4％、CaO为7～10.5％、Na2O为1.0～3.0％、K2O为3.5～5％、BaO为10～16％、ZnO为5.0～8.0％、B2O3为2.0～4.0％、TiO2为0.0～0.3％、Fe2O3为0.0～0.3％。
在本发明中，优选地，所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为48～53％、Al2O3为13.5～15％、MgO为0.8～1.5％、CaO为7.3～11.7％、Na2O为1.0～2.4％、K2O为2.9～3.5％、SrO2为0.8～2.4％、BaO为7.7～11.6％、ZnO为3～11％，灼减为0.9～1.5％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。
在本发明中，优选地，所述亚光透明釉采用的熔块的化学组成为：SiO2为51～58％、Al2O3为13～15.5％、MgO为0.9～1.7％、CaO为8.5～13％、Na2O为1.1～2.8％、K2O为3～4％、SrO2为1～2.6％、BaO为9～13％、灼减为0.～0.3％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。
上述柔光面釉和亚光透明釉的原料选择和采用的熔块的原料选择，均是针对本发明柔光面釉层和亚光透明釉层需达到的技术效果设置的，原料组分间是相互配合的。本发明的柔光面釉和亚光透明釉的原料选择和含量设置，是发明人经过长期的理论研究和实验调整获得的，原料各组分间相互配合，使得柔光面釉与亚光透明釉烧成温度、光泽度搭配形成的凹陷纹理立面成倾斜状，防止形成的微光大理石纹理吸污。
在本发明中，优选地，所述柔光面釉和亚光透明釉的制备方法为：将原料混合均匀，然后加入水球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆过筛球磨得釉料，釉料过80～120目筛，然后陈腐12～48小时备用。具体地，所述水的加入量为干料重量的38～40％，釉浆过筛球磨的工艺为：釉浆先过80～120目筛，再用300～350目筛过筛，筛余控制在0.1～0.6％，视最终筛余情况进一步球磨。筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。釉料粉碎过细，则釉浆粘力过大，含水量过多，在干燥的坯体施釉后，釉面容易发生龟裂，釉层翘起与坯体脱离等现象。如果施釉较厚，这种缺陷更明显。但如釉料的粉碎不足，则釉浆粘附力过小，釉中的组分容易沉降。而且釉层与坯体的附着不牢固。
在本发明中，优选地，所述柔光面釉和亚光透明釉在淋釉时釉比重1.7～2.0g/m3，流速25～45秒，釉量300～600g/m2。在上釉时要适当选择釉浆的浓度。釉浆的浓度过低，则在坯体上容易形成釉层的过薄，造成烧成制品釉面上的痕迹粗糙，而且烧后的釉面光泽不良。但如釉浆的浓度太大，不但施釉操作不易掌握，且坯体内部有棱角的地方往往上不到釉。施釉后釉面较易开裂，烧后在制品表面上可能产生堆釉等现象。柔光面釉和亚光透明釉的淋釉规格，使釉料可以均匀延展开，均匀分布厚薄一致，烧制后釉面平整光滑。
在本发明中，优选地，所述柔光面釉和亚光透明釉采用的熔块的制备方法为：称取熔块原料，原料混合后加入熔块炉经1450～1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉经水淬制备而成。
本发明另一目的是提供由上述微光大理石抛光瓷片的制造方法制造获得的瓷片以及含有该瓷片的相关产品。
本发明的有益效果：
1、本发明采用一台喷墨机完成了印花与喷印剥开墨水，节省了花机同时解决了对位问题。
2、本发明利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成的凹陷大理石纹理，因釉面其本身是亚光的，在抛光后，抛面光泽强，凹陷大理石纹保留了原有板面亚光效果，抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差，对比之下凹陷大理石纹呈微光状。
3、采用本发明制作的微光大理石抛光瓷片，相比原有的在有光透明釉上喷印下陷墨水形成的大理石纹效果，本发明更接近于天然大理石细裂纹效果，大理石纹理做得更加细腻。
4、本发明合理调配柔光面釉与亚光透明釉的烧成温度、光泽度，防止了凹陷大理石纹理藏蜡而导致的吸污问题。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，对本发明进一步详细说明，但本发明要求的保护范围并不局限于实施例。
下述实施例所采用的原料如无特殊说明，均为市售。
实施例1:
微光大理石抛光瓷片的制造，步骤如下：
a、按照熔块原料重量百分比为：方解石：12％、碳酸钡15％，钾长石36％，氧化锌6％、高岭土15％、硼酸钙4％、纯碱2％、石英砂10％称取原料。原料经混合后，加入熔块炉经1450℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。
所述熔块的化学组成为：SiO2为50.7％、Al2O3为11.45％、MgO为0.35％、CaO为8.9％、Na2O为1.6％、K2O为4.6％、BaO为13.4％、ZnO为6.5％、B2O3为2.2％、TiO2为0.1％、Fe2O3为0.2％。
按照柔光面釉原料称取步骤a的熔块71.5％、硅酸锆15％、煅烧高岭土5％、气刀土8％、甲基纤维素0.15％、三聚磷酸钠0.35％，水份按干料重量的39％，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。
所述柔光面釉化学组成为：SiO2为48.2％、Al2O3为13.5％、MgO为0.25％、CaO为6.4％、Na2O为1.1％、K2O为3.4％、ZrO2为9.75％、BaO为9.5％、ZnO为4.7％，B2O3为1.6％，灼减为1.6％。
c、按照熔块原料重要百分比：石英砂17.1％、高岭土25.4％、白云石3.5％、方解石15.2％、纯碱2.5％、钾长石23.2％、碳酸钡11.9％、碳酸锶1.2％。称取原料经混合后，加入熔块炉经1530℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。所述熔块的化学组成为：SiO2为55.7％、Al2O3为14.5％、MgO为1.4％、CaO为11％、Na2O为1.8％、K2O为3.5％、SrO2为1％、BaO为10.7％、灼减为0.3％，Fe2O3+TiO2为0.1％。
d、按照亚光透明釉原料称取步骤c的熔块80.5％、煅烧氧化锌11％、气刀土8％、甲基纤维素0.15％、三聚磷酸钠0.35％，水份按干料重量的39％添加，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为49.1％、Al2O3为14.6％、MgO为1.1％、CaO为8.9％、Na2O为1.5％、K2O为3.0％、SrO2为0.8％、BaO为8.7％、ZnO为10.9％，灼减为1.2％，Fe2O3+TiO2为0.2％。
e、按常规方法制备素坯与底釉，素坯经施底釉后，淋或喷柔光面釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.7g/m3，流速25秒，釉量400g/m2。
f、施有柔光面釉的砖坯经印花并喷印剥开墨水，本发明采用陶丽西陶瓷釉色料有限公司的CZN00078剥开墨水。
g、印花并喷印剥开墨水后，淋或喷亚光透明面釉，淋釉时釉比重1.83g/m3,流速45秒，釉量450g/m2。
h、烧成，烧成温度1150℃、烧成周期50分钟。
j、经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。
实施例2:
微光大理石抛光瓷片的制造，步骤如下：
a、按照熔块原料重量百分比为：方解石：10％、碳酸钡18％，钾长石36％，氧化锌5％、高岭土15％、硼酸钙4％、纯碱2％、石英砂10％称取原料。原料经混合后，加入熔块炉经1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。
所述熔块的化学组成为：SiO2为50.55％、Al2O3为11.5％、MgO为0.35％、CaO为7.0％、Na2O为1.5％、K2O为4.5％、BaO为16％、ZnO为6.0％、B2O3为2.3％、TiO2为0.1％、Fe2O3为0.2％。
b、按照柔光面釉原料称取步骤a的熔块89.6％、硅酸锆2％、煅烧高岭土4％、气刀土4％、甲基纤维素0.1％、三聚磷酸钠0.3％，水份按干料重量的39％，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。
所述柔光面釉化学组成为：SiO2为50％、Al2O3为13％、MgO为0.32％、CaO为6.38％、Na2O为1.4％、K2O为4.2％、ZrO2为1.3％、BaO为14.4％、B2O3为2.1％、ZnO为5.4％，灼减为1.5％。
c、按照熔块原料重要百分比：石英砂15％、高岭土23％、白云石3.5％、方解石17％、纯碱2.5％、钾长石23.2％、碳酸钡12.8％、碳酸锶3％。称取原料经混合后，加入熔块炉经1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。所述熔块的化学组成为：SiO2为53％、Al2O3为13.5％、MgO为1.4％、CaO为12.3％、Na2O为1.8％、K2O为3.5％、SrO2为2.6％、BaO为11.5％、灼减为0.2％，Fe2O3+TiO2为0.2％。
d、按照亚光透明釉原料称取步骤c的熔块92.7％、煅烧氧化锌3％、气刀土4％、甲基纤维素0.1％、三聚磷酸钠0.2％，水份按干料重量的39％添加，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为50.9％、Al2O3为14％、MgO为1.3％、CaO为11.4％、Na2O为1.7％、K2O为3.4％、SrO2为2.4％、BaO为10.8％、ZnO为3.1％，灼减为0.9％，Fe2O3+TiO2为0.1％。
e、按常规方法制备素坯与底釉，素坯经施底釉后，淋或喷柔光面釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重2.0g/m3，流速45秒，釉量400g/m2。
f、施有柔光面釉的砖坯经印花并喷印剥开墨水，本发明采用陶丽西陶瓷釉色料有限公司的CZN00078剥开墨水。
g、印花并喷印剥开墨水后，淋或喷亚光透明面釉，淋釉时釉比重1.79g/m3,流速25秒，釉量400g/m2。
h、烧成，烧成温度1170℃、烧成周期45分钟。
j、经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。
实施例3:
微光大理石抛光瓷片的制造，步骤如下：
a、按照熔块原料重量百分比为：方解石：14％、碳酸钡12％，钾长石40％，氧化锌7％、高岭土12％、硼酸钙4％、纯碱1％、石英砂10％称取原料。原料经混合后，加入熔块炉经1500℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。
所述熔块的化学组成为：SiO2为52.25％、Al2O3为10％、MgO为0.35％、CaO为10.5％、Na2O为1.0％、K2O为5.0％、BaO为10.5％、ZnO为7.7％、B2O3为2.3％、TiO2为0.1％、Fe2O3为0.3％。
b、按照柔光面釉原料称取步骤a的熔块79.5％、硅酸锆12％、气刀土8％、甲基纤维素0.2％、三聚磷酸钠0.3％，水份按干料重量的39％，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过60～100目筛陈腐12～48小时备用。
所述柔光面釉化学组成为：SiO2为49.8％、Al2O3为11.4％、MgO为0.4％、CaO为8.6％、Na2O为0.8％、K2O为4.4％、ZrO2为7.9％、BaO为8.6％、ZnO为6.5％，灼减为1.6％。
c、按照熔块原料重要百分比：石英砂19％、高岭土25.3％、白云石5％、方解石15.2％、纯碱2.5％、钾长石20％、碳酸钡12％、碳酸锶1％。称取原料经混合后，加入熔块炉经1500℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。所述熔块的化学组成为：SiO2为55％、Al2O3为13.2％、MgO为1.7％、CaO为12.7％、Na2O为1.7％、K2O为3.3％、SrO2为0.9％、BaO为11％、灼减为0.1％，Fe2O3+TiO2为0.4％。
d、按照亚光透明釉原料称取步骤c的熔块84.6％、煅烧氧化锌7％、气刀土8％、甲基纤维素0.1％、三聚磷酸钠0.3％，水份按干料重量的38％添加，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为50.5％、Al2O3为14％、MgO为1.5％、CaO为10.7％、Na2O为1.5％、K2O为2.9％、SrO2为0.8％、BaO为9.3％、ZnO为6.9％，灼减为1.4％，Fe2O3+TiO2为0.5％。
e、按常规方法制备素坯与底釉，素坯经施底釉后，淋或喷柔光面釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.84g/m3，流速35秒，釉量390g/m2。
f、施有柔光面釉的砖坯经印花并喷印剥开墨水，本发明采用陶丽西陶瓷釉色料有限公司的CZN00078剥开墨水。
g、印花并喷印剥开墨水后，淋或喷亚光透明面釉，淋釉时釉比重1.82g/m3,流速35秒，釉量440g/m2。
h、烧成，烧成温度1125℃、烧成周期50分钟。
j、经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。
实施例4:
微光大理石抛光瓷片的制造，步骤如下：
a、按照熔块原料重量百分比为：方解石：12％、碳酸钡14％，钾长石32％，氧化锌6％、高岭土17％、硼酸钙7％、纯碱3％、石英砂9％称取原料。原料经混合后，加入熔块炉经1500℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。
所述熔块的化学组成为：SiO2为45％、Al2O3为14％、MgO为0.35％、CaO为10％、Na2O为3％、K2O为3.5％、BaO为13.35％、ZnO为6.5％、B2O3为4％、TiO2为0.1％、Fe2O3为0.2％。
b、按照柔光面釉原料称取步骤a的熔块80％、硅酸锆10.15％、煅烧高岭土3％、气刀土6.3％、甲基纤维素0.15％、三聚磷酸钠0.4％，水份按干料重量的39％，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。
所述柔光面釉化学组成为：SiO2为45.9％、Al2O3为15.9％、MgO为0.3％、CaO为8.6％、Na2O为2.4％、K2O为3.9％、BaO为11.7％、ZnO为5.9％、B2O3为3.8％、TiO2为0.1％、Fe2O3为0.2％、灼减1.3％。
c、按照熔块原料重要百分比：石英砂15％、高岭土23％、白云石4％、方解石17％、纯碱1.5％、钾长石22.5％、碳酸钡14％、碳酸锶3％。称取原料经混合后，加入熔块炉经1550℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。所述熔块的化学组成为：SiO2为51.2％、Al2O3为13％、MgO为1.6％、CaO为13.3％、Na2O为1.1％、K2O为3.4％、SrO2为2.7％、BaO为13.2％、灼减为0.2％，Fe2O3+TiO2为0.3％。
d、按照亚光透明釉原料称取步骤c的熔块87.5％、煅烧氧化锌5.7％、气刀土5.8％、甲基纤维素0.4％、三聚磷酸钠0.6％，水份按干料重量的40％添加，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为48％、Al2O3为13.6％、MgO为1.4％、CaO为11.7％、Na2O为1.0％、K2O为3.1％、SrO2为2.4％、BaO为11.6％、ZnO为5.9％，灼减为1.0％，Fe2O3+TiO2为0.3％。
e、按常规方法制备素坯与底釉，素坯经施底釉后，淋或喷柔光面釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.9g/m3，流速36秒，釉量500g/m2。
f、施有柔光面釉的砖坯经印花并喷印剥开墨水，本发明采用陶丽西陶瓷釉色料有限公司的CZN00078剥开墨水。
g、印花并喷印剥开墨水后，淋或喷亚光透明面釉，淋釉时釉比重1.85g/m3,流速32秒，釉量460g/m2。印花的花纹部分可以采用喷墨、辊筒、丝网或其组合，后喷印剥开墨水，优选喷墨印花，喷墨印花可与喷印剥开墨水放在一台喷墨机完成。
h、烧成，烧成温度1100℃、烧成周期52分钟。
j、经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。
实施例5:
微光大理石抛光瓷片的制造，步骤如下：
a、按照熔块原料重量百分比为：方解石11％、碳酸钡16.5％，钾长石36％，氧化锌4.5％、高岭土14％、硼酸钙5％、纯碱2％、石英砂11％称取原料。原料经混合后，加入熔块炉经1550℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。
所述熔块的化学组成为：SiO2为53％、Al2O3为10.4％、MgO为0.2％、CaO为8.2％、Na2O为1.4％、K2O为4.4％、BaO为14.3％、ZnO为5.1％、B2O3为2.7％、TiO2为0.1％、Fe2O3为0.2％。
b、按照柔光面釉原料称取步骤a的熔块82.45％、硅酸锆8％、煅烧高岭土3％、气刀土6％、甲基纤维素0.15％、三聚磷酸钠0.4％，水份按干料重量的39％，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。
所述柔光面釉化学组成为：SiO2为52.1％、Al2O3为12.6％、MgO为0.2％、CaO为6.9％、Na2O为1.2％、K2O为3.9％、ZrO2为5.7％、BaO为11.9％、ZnO为4.5％，灼减为1.0％。
c、按照熔块原料重要百分比：石英砂16.8％、高岭土27％、白云石2％、方解石13％、纯碱4％、钾长石26％、碳酸钡10％、碳酸锶1.2％。称取原料经混合后，加入熔块炉经1450℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。所述熔块的化学组成为：SiO2为58％、Al2O3为15.5％、MgO为0.9％、CaO为8.5％、Na2O为2.8％、K2O为3.9％、SrO2为1％、BaO为9％、灼减为0.2％，Fe2O3+TiO2为0.2％。
d、按照亚光透明釉原料称取步骤c的熔块85.4％、煅烧氧化锌7％、气刀土7％、甲基纤维素0.2％、三聚磷酸钠0.4％，水份按干料重量的39％添加，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为53.4％、Al2O3为15.8％、MgO为0.8％、CaO为7.3％、Na2O为2.4％、K2O为3.5％、SrO2为0.9％、BaO为7.7％、ZnO为6.9％，灼减为1.1％，Fe2O3+TiO2为0.2％。
e、按常规方法制备素坯与底釉，素坯经施底釉后，淋或喷柔光面釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.83g/m3，流速42秒，釉量550g/m2。
f、施有柔光面釉的砖坯经印花并喷印剥开墨水，本发明采用陶丽西陶瓷釉色料有限公司的CZN00078剥开墨水。
g、印花并喷印剥开墨水后，淋或喷亚光透明面釉，淋釉时釉比重1.79g/m3,流速38秒，釉量410g/m2。
h、烧成，烧成温度1150℃、烧成周期49分钟。
j、抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片。
防污性能测试
对上述实施例1～5制备的微光大理石抛光瓷片进行防污性能测试，用标准的易产生痕迹的污染物涂在瓷片的表面，然后用湿布或者湿纸巾擦除，看是否存在肉眼可见的痕迹。测试结果如下表1所示：
(1)采用蓝色黑色红色油性笔分别在微光大理石抛光瓷片表面进行划痕测试；
(2)采用蓝色红色水性墨水对微光大理石抛光瓷片进行涂抹测试；
(3)采用水泥与黑色墨水质量比1:1混合物涂抹在微光大理石抛光瓷片上进行测试；
(4)胶锤印测试。
表1防污性能测试结果
Figure BDA0002626943800000111
综上所述，本发明微光大理石抛光瓷片更接近于天然大理石细裂纹效果，大理石纹理做得更加细腻。合理调配柔光面釉与亚光透明釉的烧成温度、光泽度，防止了凹陷大理石纹理藏蜡而导致的吸污问题。
根据上述说明书的揭示和教导，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。

Claims (8)

1.一种微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1.素坯经淋底釉；
S2.施柔光面釉；
所述柔光面釉原料按重量百分比计为：熔块71～90％、硅酸锆2～15％、煅烧高岭土0～5％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石10～14％、碳酸钡12～18％、钾长石32～40％、氧化锌4.5～7％、高岭土12～17％、硼酸钙4～7％、纯碱1～3％、石英砂9～11％；
S3.喷墨印花与喷印剥开墨水，喷墨印花与喷印剥开墨水采用一台喷墨机完成；
S4.施亚光透明釉；
所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；
S5.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟；
S6.经抛光、磨边得到微光大理石抛光瓷片；
所述柔光面釉的化学组成为：SiO2为44～51％、Al2O3为11～15％、MgO为0.1～0.4％、CaO为6.4～8％、Na2O为0.8～2.4％、K2O为3.4～4.2％、ZrO2为1.0～10％、BaO为8.4～14.3％、B2O3为1.6～3.2％、ZnO为4.2～6.2％，灼减为1.0～1.6％；
所述亚光透明釉的化学组成为：SiO2为48～53％、Al2O3为13.5～15％、MgO为0.8～1.5％、CaO为7.3～11.7％、Na2O为1.0～2.4％、K2O为2.9～3.5％、SrO2为0.8～2.4％、BaO为7.7～11.6％、ZnO为3～11％，灼减为0.9～1.5％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。
2.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述柔光面釉采用的熔块的化学组成为：SiO2为45～53％、Al2O3为9～14％、MgO为0.1～0.4％、CaO为7～10.5％、Na2O为1.0～3.0％、K2O为3.5～5％、BaO为10～16％、ZnO为5.0～8.0％、B2O3为2.0～4.0％、TiO2为0.0～0.3％、Fe2O3为0.0～0.3％。
3.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述亚光透明釉采用的熔块的化学组成为：SiO2为51～58％、Al2O3为13～15.5％、MgO为0.9～1.7％、CaO为8.5～13％、Na2O为1.1～2.8％、K2O为3～4％、SrO2为1～2.6％、BaO为9～13％、灼减为0.～0.3％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。
4.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述柔光面釉和亚光透明釉的制备方法为：原料混合均匀，加入水球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆过筛球磨得釉料，釉料过80～120目筛，然后陈腐12～48小时备用；所述水的加入量为原料干料重量的38～40％。
5.根据权利要求4所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，釉浆过筛球磨的工艺为：釉浆先过80～120目筛，再用300～350目筛过筛，筛余控制在0.1～0.6％，视最终筛余情况进一步球磨。
6.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述柔光面釉和亚光透明釉采用的熔块的制备方法为：称取原料，原料混合后加入熔块炉经1450～1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉经水淬制备而成。
7.根据权利要求1所述微光大理石抛光瓷片的制造方法，其特征在于，所述柔光面釉和亚光透明釉在淋釉时釉比重1.7～2.0g/m3，流速25～45秒，釉量300～600g/m2。
8.权利要求1-7任一所述微光大理石抛光瓷片的制造方法制造获得的瓷片。
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