发明内容
本申请的主要目的是提供一种具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖,且提供一种具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖的制备方法,旨在解决波纹装修效果不够逼真的问题。
为实现上述目的,本申请提供一种具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖及其制备方法。
本申请提出一种具有波光粼粼装修效果陶瓷砖,其特征在于,瓷砖表面由瓷砖凹陷区域、瓷砖凸起区域和瓷砖凹凸过渡区域组成具有凹凸不平的波纹纹理;瓷砖表面光泽度≥40,瓷砖凸起区域光泽度≥瓷砖凹陷区域光泽度≥瓷砖凹凸过渡区域光泽度。
优选地,瓷砖凸起区域光泽度范围为≥90,瓷砖凹陷区域光泽度范围为:60-85,瓷砖凹凸过渡区域光泽度范围为:40-60。
不同区域光泽度不同,这种高低变化的光泽度,配合高低不同的波纹纹理,可以使陶瓷砖表面在太阳光下具有波光粼粼的装饰效果。
优选地,瓷砖凹陷区域面积≥瓷砖凹凸过渡区域面积≥瓷砖凸起区域面积。
优选地,瓷砖凹陷区域面积:瓷砖凸起区域面积=2.5-3:1。
本技术方案波纹砖的表面是由很多凹凸不平的波纹纹理组成,为了更清晰直观的理解和区分凹陷区域、凹凸过渡区域和凸起区域,将任意一凸起区域的凸点(最高区域中心点)与其相邻的凹陷区域的凹点(最低区域中心点)组成的弧线平均分为三个部分,与凸点最接近的弧线与凸点组成了凸起区域,所有凸起区域其投影在砖面的面积总和为凸起区域面积,与凹点最接近的弧线与对应的凹点组成了凹陷区域,所有凹陷区域其投影在砖面的面积总和为凹陷区域面积,剩余的中间弧线之间组成了凹凸过渡区域,所有凹凸过渡区域投影在砖面的面积总和为凹凸过渡区域面积。通过设置不同面积的凹陷区域和凸起区域,可以更好地更好地利用光影效果,使波光粼粼的装饰效果更加明显。
本申请还提出一种具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖的制备方法,包括以下步骤:
S1、设计具有波纹装饰效果的纹理图案,将纹理图案划分为纹理凹陷区域、纹理图案凸起区域和纹理图案凹凸过渡区域,纹理图案凹陷区域灰度≥纹理图案凹凸过渡区域灰度;
S2、制备陶瓷砖坯体,并且在坯体上施底釉,得到底釉层;
S3、在纹理图案凹陷区域和纹理图案凹凸过渡区域所对应步骤S2获得坯体的位置上喷墨打印具有排釉功能的1#墨水,得到1#墨水层;
S4、在步骤S3获得坯体上施中间釉,得到中间釉层;
S5、在纹理图案凹陷区域所对应步骤S4获得坯体的位置上喷墨打印具有增加光泽度的2#墨水,得到2#墨水层;
S6、在步骤S5获得坯体上施透明面釉,得到透明面釉层;
S7、将步骤S6获得坯体进行干燥、烧成得到和纹理图案一一对应的具有瓷砖凹陷区域、瓷砖凸起区域和瓷砖凹凸过渡区域组成的具有凹凸不平的波纹纹理的陶瓷砖;
S8、对陶瓷砖凸起区域进行抛光,得到具有波光粼粼装饰效果的陶瓷砖。
优选地,在步骤S1的纹理图案设计中,所述纹理图案凹陷区域灰度范围为:70-95;所述纹理图案凹凸过渡区域灰度范围为:15-65。
优选地,纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差范围为:1.5-3.5mm。
优选地,纹理图案凸起区域凸点与相邻纹理图案凹陷区域凹点组成的直线与水平面的夹角范围为:15-40度。
本技术方案步骤1为纹理图案设计,即设计出具有仿波浪的立体凹凸纹理的图案,其中纹理图案凹陷区域灰度≥纹理图案凹凸过渡区域灰度,在后续喷墨打印1#墨水的过程,喷墨机可以根据纹理图案不同部位的灰度在坯体对应的位置打印出不同量的墨水,也可以转化为喷墨量,即喷墨打印可以根据灰度值控制打印墨水的量,纹理图案凹陷部位灰度值最大,对应墨水量打印最多,通过纹理图案和喷墨打印可以精准的控制瓷砖的纹理效果。
在设计波纹纹理图案时优选纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差范围为:1.5-3.5mm。本技术方案波纹砖的表面是由很多凹凸不平的波纹纹理组成,在波纹纹理图案设计的时候通过最优设置纹理图案凸起区域与纹理图案凹陷区域的高度差范围,最终可以实现瓷砖表面不同高度获得凸起区域,在同一水平高度呈现凸起区域和/或凹陷区域和/或凹凸过渡区域多种区域,多种区域之间存在光泽度差异,使波纹砖在太阳光下具有更加丰富的波光粼粼的装饰效果。进一步优选纹理图案凸起区域凸点与相邻纹理图案凹陷区域凹点组成的直线与水平面的夹角范围为:15-40度。在波纹纹理图案设计的时候通过纹理图案凸起区域凸点与相邻纹理图案凹陷区域凹点组成的直线与水平面形成的夹角反映了纹理图案凸点的凸起程度,通过最优设置该范围值,最终可以实现瓷砖表面波纹具有合理的凸起程度,同时在具有丰富的凹凸不一致的纹理下,波光粼粼的装修效果会更加明显。在波纹纹理设计的时候可以通过这些参数控制波纹的纹理丰富程度,波纹在合适范围内越丰富,波光粼粼的装饰效果更加明显。
步骤2为坯体制备并且在坯体上施一层底釉,可控制底釉的厚度尽量薄,以减少釉浆及水分进入坯体影响坯体的强度,同时又能辅助墨水的定位及后续墨水的颜色发色,可以通过控制施釉量来控制釉层的厚度。
步骤3为纹理图案凹陷区域及纹理图案凹凸过渡区域所对应的步骤2获得坯体的位置上打印具有排釉功能的1#墨水。具有排釉功能的墨水指墨水与釉料相接触的时候墨水和釉料不能相溶,即釉料不能覆盖在墨水上。1#墨水为具有排釉功能的油性墨水,也具有一定的光泽度,1#墨水有两个作用,第一为根据设计制备凹凸合理的凹凸纹理,第二为协助提供凹陷区域的光泽度;喷墨打印1#墨水在不同的点对应的墨水量根据纹理图案的灰度来控制,打印时,对应纹理图案凹陷区域灰度值高,1#墨水的量多,排釉功能也更好,能完全把步骤4的中间釉排开,使其不会覆盖在1#墨水上,对于1#墨水,纹理图案灰度值大于等于70时,打印1#墨水后1#墨水能将步骤4的中间釉完全排开;对应纹理图案凹凸过渡区域灰度值会低,1#墨水的量少,排釉功能也降低,不会完全把步骤4的中间釉排开,即步骤4的中间釉能够部分覆盖在的1#墨水上;同时可以进一步优选纹理图案凹陷区域灰度范围为:70-95,纹理图案凹凸过渡区域灰度范围为:15-65。
步骤4为施中间釉,中间釉有两个作用,第一与步骤3协同作用使陶瓷砖获得的波纹纹理,步骤3是在坯体对应的纹理图案凹陷区域和纹理图案凹凸过渡区域根据纹理图案对应的灰度值打印了不同量的1#墨水,油性1#墨水与步骤4的中间釉在不同区域有不同的排釉功能,在步骤S3获得的坯体凹陷区域有灰度值高的1#墨水,则中间釉不覆盖其上,在此区域形成步骤S4获得坯体的凹陷区域;在纹理图案凹凸过渡区域灰度值低且不同区域有灰度值变化的1#墨水,与步骤4的中间釉出现不同程度的不相溶,以此形成具有倾斜坡度的在步骤S4获得的坯体的凹凸过渡区域;在步骤S3获得坯体凸起区域没有打印1#墨水,步骤4的中间釉能很好地覆盖在步骤2的底釉上从而形成步骤S4获得的坯体的凸起区域,从而实现整个坯体表面的波纹纹理,第二为协助控制凸起区域及凹凸过渡区域的光泽度。
步骤5为在纹理图案凹陷区域所对应步骤S4获得坯体的位置上打印具有增加光泽度的2#墨水,2#墨水为透明度高的具有高光泽度和一定排釉功能的墨水,2#墨水的主要作用第一是与步骤3的1#墨水协同控制瓷砖凹陷区域的光泽度,第二是协同控制瓷砖凹凸过渡区域的光泽度,第三是由于具有一定的排釉功能,可与步骤6的透明釉协助作用进一步控制波纹纹理。
步骤6为在步骤S5获得坯体上施一层透明釉,优选具有一定光泽度的透明釉,其作用为协助控制凸起区域的光泽度。步骤8为对陶瓷砖凸起区域进行抛光,抛光可以增加抛光区域的光泽度,因此可以进一步控制凸起区域的光泽度,整个工艺流程可以实现波纹凹凸纹理和控制凹凸不同区域的光泽度,使制备得到的陶瓷砖达到具有波光粼粼装修效果。
进一步说明,本技术方案通过预先软件设计具有可控波纹纹理的纹理图案,将纹理图案划分为纹理图案凹陷区域、纹理图案凸起区域和纹理图案凹凸过渡区域,通过打印排开墨水和施釉最终实现由瓷砖凹陷区域、瓷砖凸起区域和瓷砖凹凸过渡区域组成的瓷砖波纹纹理,其中纹理图案、坯体压制、各步骤得到的坯体与最后的瓷砖尺寸一一对应,所有的凹陷区域、凸起区域和凹凸过渡区域都是一一对应的,通过纹理图案设计到最终瓷砖的波纹纹理呈现都属于精确可控的过程。
优选地,在步骤S4和S5之间还包括步骤S4-1,在步骤S4的坯体上喷墨打印装饰图案,获得图案装饰层。
优选地,装饰图案与纹理图案的凹凸区域位置一一对应,装饰图案中的装饰图案凹凸过渡区域灰度≥装饰图案凸起区域灰度≥装饰图案凹陷区域灰度。
优选地,装饰图案中装饰图案凹凸过渡区域灰度范围为50-65,装饰图案凹陷区域灰度范围为20-30,装饰图案凸起区域灰度范围为35-45。
本技术方案波纹砖的表面是由很多凹凸不平的波纹纹理组成,也可以在波纹上设置渐变颜色,例如灰色、橙红色、蓝色、绿色或者蓝绿相间等颜色,经过发明人的创造性劳动发现,同时进一步优选对装饰图案与波纹问题的凹凸区域位置一一对应时,装饰图案中装饰图案凹凸过渡区域灰度≥装饰图案凸起区域灰度≥装饰图案凹陷区域灰度时,由于喷墨打印装饰图案时是根据图案设计得灰度值在不同的点对应打印不同量的颜色墨水,故打印凹凸过渡区域时灰度较大,颜色墨水打印量较多,产品图案呈深色,打印凸起区域时灰度居中,颜色墨水打印量相比较于装饰图案凹凸过渡区域打印量减少,产品图案颜色相比与凹凸过渡区域浅一些,同理装饰图案凹陷区域灰度值最低,颜色墨水打印量最少,颜色最浅,这种颜色设置配合光泽度差异和纹理差异,波光粼粼的装饰效果最为明显逼真,就像平静大海的水波纹一样波光粼粼,更具有意境,效果更加逼真。
以上制备具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖的制备方法只是一种较为优选的实施方式,实现波纹纹理的制备方法包括很多种,可以通过设置磨具和多次布料等方式设置波纹纹理,再通过对不同区域进行喷墨、施釉和打印装饰图案等单一或者复合的方式实现不同区域光泽度的差异,从而实现具有波光粼粼装修效果的陶瓷砖都属于本方案的保护范围。
综上所述,本申请技术方案具有如下有益效果:本申请通过控制凹凸纹理不同区域的光泽度使陶瓷砖表面在太阳光下具有波光粼粼的装饰效果。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
一种具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖的制备方法,包括以下步骤:
S1、设计具有波纹装饰效果的纹理图案,可将纹理图案划分为纹理图案凹陷区域、纹理图案凸起区域和纹理图案凹凸过渡区域,纹理图案凹陷区域灰度≥纹理图案凹凸过渡区域灰度;具体的纹理图案凹陷区域的灰度范围值为70-95,纹理图案凹凸过渡区域灰度范围为15-65;通过AutoCAD和Photoshop两个制图软件配合对波纹纹理进行设计,在纹理图案设计中模拟实际瓷砖的纹理图案,故在纹理图案中将任意一凸起区域的凸点(最高区域中心点)与其相邻的凹陷区域的凹点(最低区域中心点)组成的弧线平均分为三个部分,与凸点最接近的弧线与凸点组成了纹理图案凸起区域,所有凸起区域其投影在水平面的面积总和为凸起区域面积,与凹点最接近的弧线与对应的凹点组成了纹理图案凹陷区域,所有凹陷区域其投影在水平面的面积总和为凹陷区域面积,剩余的中间弧线之间组成了纹理图案凹凸过渡区域,所有凹凸过渡区域投影在水平面的面积总和为凹凸过渡区域面积。其中纹理图案各区域的面积、纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差和纹理图案凸起区域凸点与相邻纹理图案凹陷区域凹点组成的直线与水平面形成的夹角可根据AutoCAD软件计算得出,进而设计出合理的纹理图案。由于纹理图案能够通过喷墨打印等工艺参数精准控制瓷砖的纹理效果,故本申请实施例中将纹理图案凸起区域面积、纹理图案凹陷区域面积和纹理图案凹凸过渡区域面积等同于瓷砖凸起区域面积、瓷砖凹陷区域面积和瓷砖凹凸过渡区域面积。
S2、制备陶瓷砖坯体1,并且在坯体1上施底釉,得到底釉层2;采用陶瓷行业常用的方法压制坯体,坯体的化学成分主要包含:SiO2:62.9~64.7%、Al2O3:21.9~22.3%、CaO:0.3~0.8%、K2O:3.2~4.7%、Na2O:2.9~4.3%、烧失:5.5~5.7%;本实施例坯体的原料组成按份数包含:原矿坭12.2-14.5份、膨润土1.8-3.3份、高岭土8.2-10.5份、水洗泥10-11.5份、石粉30.5-32.6份、钾钠砂27.2-31.6份、坯体增强剂0.2份;压制厚度可为6-10mm,压制尺寸可按需随意设置,干燥后对坯体施底釉,底釉的化学成分主要包含SiO2:55.1~57.3%、Al2O3:26.8~27.9%、ZrO:5.7~6.3%、CaO:1.1~2.5% 、MgO:0.4~1.5%、K2O:2.3~3.9%、Na2O:2.4~3.5%、烧失:1.2~1.6%;本申请实施例底釉的原料按质量份数计,主要包括:钾长石22-24份、钠长石11-14份、霞石粉7.5-9.0份、石英粉13-17份、超细刚玉粉15-16份、煅烧高岭土7-8.5份、水洗高岭土8.5-10.3份、烧滑石粉1-2.5份、硅灰石粉1.5-2.5份、硅酸锆4-8份。底釉采用研磨机研磨至细度≤1000目,本方案实施例中底釉中采用超细刚玉粉,两个技术特征协同作用可在减少釉浆的使用情况下延长釉层的强度,同时能减少釉浆的水分延伸至坯体中降低坯体的强度和辅助墨水定位,同时底釉中同时含有适量的ZrO、CaO、MgO、K2O和Na2O也能辅助墨水发色。采用以上釉料配方体系可将底釉的釉浆比重控制为1.20-1.22g/cm3,施釉量减少至120-160g/m2。
S3、在纹理图案凹陷区域和纹理图案凹凸过渡区域所对应步骤S2获得坯体的位置上喷墨打印具有排釉功能的1#墨水,得到1#墨水层3;本申请实施例1#墨水主要采购于埃思玛格拉斯意达加集团编号为DP1130墨水,其主要原料以质量百分比为计包含:氧化铝 6~7.5%、1#熔块 30~38%、溶剂 45~53%、分散剂 5~10%、消泡剂0.5~1%;其中,其中1#熔块由以下重量百分比的氧化物组成:SiO2 64.3%、Al2O3 15.2%、SrO 1.2%、K2O 5.5%、Na2O5.1%、CaO 1.6%、BaO 1.2%、ZnO 5.9%。溶剂为有机溶剂,本方案实施例为乙醇和乙二醇的混合物,质量百分含量为:乙醇30-70%和乙二醇30-70%,分散剂为羧甲基纤维素钠与聚乙二醇和乙醇的混合物,质量百分含量为:羧甲基纤维素钠10-15%、聚乙二醇70-80%和乙醇5-20%,消泡剂为丙三醇。1#墨水协同控制凹凸纹理,本技术方案中根据图案的灰度值优选1#墨水的喷墨量为55-110g/m2,1#墨水协同控制凹陷区域的光泽度,本技术方案中优选1#墨水的光泽度范围为50-70。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;中间釉化学成分主要包含如下:SiO2:56.1~58.3%、Al2O3:25.2~25.8%、ZrO:5.7~6.3%CaO:1.1~2.5% 、MgO 0.4~1.5%、K2O:2.3~3.9%、Na2O:2.4~3.5%、烧失:1.2~1.6%,本申请实施例中间釉的原料按质量份数计,主要包括:钾长石23-25份、钠长石13-15份、霞石粉7-9.0份、石英粉15-17份、煅烧氧化铝13-14.6份、煅烧高岭土6.5-8.5份、水洗高岭土8.5-10.3份、烧滑石粉1-2.5份、硅灰石粉1.5-2.5份、硅酸锆4-7份;中间釉与底釉化学成分相近,是为了降低不同釉料叠加在一起造成的差异性,有利于保持砖型的稳定,同时中间釉用煅烧氧化铝替代超细刚玉粉是为了保证中间釉的熔融温度要低于底釉的熔融温度;同时中间釉与步骤3的1#墨水相互作用,由于1#墨水和中间釉料不相溶,因此打印1#墨水的部位对中间釉料起到排斥作用,从而实现1#墨水区域为凹陷区域,其他区域为凸起区域和凹凸过渡区域,根据凹凸程度和面积来控制中间釉料的施釉工艺参数,釉浆比重控制为1.47-1.48g/cm3,施釉量根据凹凸程度、凹凸区域面积等可控制为440-600g/m2;中间釉协助控制凸起区域及凹凸过渡区域的光泽度,本技术方案中优选中间釉的光泽度范围20-30。
S5、在纹理图案凹陷区域所对应步骤S4获得坯体的位置上喷墨打印具有增加光泽度的2#墨水,得到2#墨水层5;本申请实施例2#墨水主要采购于埃思玛格拉斯意达加集团编号为GL1219墨水,其主要原料以质量百分比为计包含:2#熔块 43-48%、溶剂45-50%、分散剂6-10%、消泡剂0.5-1%,其中,2#熔块由以下重量百分比的氧化物组成:SiO2 65.5%、Al2O35.2%、SrO 5.3% 、K2O 4.3%、CaO 6.6%、ZnO 5.1%、Na2O 6.2%、BaO 1.8%,溶剂为有机溶剂,本方案实施例为乙醇和乙二醇的混合物,质量百分含量为:乙醇30-70%和乙二醇30-70%,分散剂为羧甲基纤维素钠与聚乙二醇的混合物,质量百分含量为:羧甲基纤维素钠10-15%、聚乙二醇70-80%和乙醇5-20%,消泡剂为丙三醇。2#墨水协同控制凹凸纹理,本技术方案中具体的2#墨水的喷墨量为40-70g/m2,2#墨水协同控制凹陷区域和凹凸过渡区域的光泽度,本技术方案中优选2#墨水的光泽度范围为80-90。
S6、在步骤S5获得坯体上施一层透明面釉,得到透明面釉层6;透明面釉的化学成分为:SiO2 55.1-57.3%、Al2O3 11.2-13.2%、SrO 1.9-2.4%、K2O 3.5-4.5%、Na2O 2.1-3.4%、CaO 4.6-6.7%、ZnO 1.5-2.9%、BaO 2.4-3.5%、MgO 2.2-3.3%,烧失4.3-7.6%,本申请实施例透明面釉的原料按质量份数计,主要包括:钾长石40-45份、钠长石8-15份、石英粉5-8份、煅烧高岭土1-3份、水洗高岭土5-7份、白云石粉3-8份、烧滑石粉3-5份、硅灰石粉5-7份、煅烧氧化锌2-3份、碳酸钡5-8份和碳酸锶2-3份。透明面釉本身具有通透性,同时透明面釉与步骤5的透光墨水协同作用,本方案实施例中透光墨水也具有较弱的排釉性,在凹陷区域打印有透光墨水,因此在凹陷区域透明面釉层相对其他位置会薄一些,因此呈现出来的光泽度更高,通透感更强。故透明面釉协助控制凸起区域的光泽度,本技术方案中优选透明面釉的光泽度范围为:55-60;透明釉协助控制凹凸纹理,优选透明釉浆比重控制为1.45-1.46g/cm3,施釉量可控制为220-280g/m2。
S7、将步骤S6获得坯体进行干燥、烧成得到和纹理图案一一对应的具有瓷砖凹陷区域、瓷砖凸起区域和瓷砖凹凸过渡区域组成的具有凹凸不平的波纹纹理的陶瓷砖;
S8、对瓷砖凸起区域进行抛光,得到具有波光粼粼装饰效果的陶瓷砖。通过对凸起区域表面进行微抛处理,将局部纹理光泽度进一步提高至90度以上,进一步控制实现所需的不同区域的光泽度差异。优选抛光工序采用的是3000目的弹性模块。
有的实施例需要呈现碧绿的或湛蓝色的或其他颜色的波纹效果,可以在步骤S4和S5之间还包括步骤S4-1、在步骤S4的坯体上喷墨打印装饰图案,获得图案装饰层7,其中装饰图案的与纹理图案的凹凸区域位置一一对应,不同区域的颜色灰度优选为装饰图案凹凸过渡区域灰度≥装饰图案凸起区域灰度≥装饰图案凹陷区域灰度,也可以进一步优选装饰图案凹凸过渡区域灰度范围为50-65,装饰图案凹陷区域灰度范围为20-30,装饰图案凸起区域灰度范围为35-45。
本说明书中1#墨水、中间釉、2#墨水、透明面釉的光泽度为单独在相同坯体上获得相同厚度的墨水层或釉层后单独烧成后得到的各产品的光泽度。
将得到的产品进行检测和效果表征,性能检测和效果表征方法如下:
性能检测:
1、光泽度检测:用光泽度仪器进行检测。
2、区域面积:用AutoCAD软件自动计算。
3、凸起区域凸点与凹陷区域凹点的高度差值:用AutoCAD软件自动计算。
4、凸起区域凸点与相邻凹陷区域凹点组成的直线与水平面形成的夹角度数:用AutoCAD软件自动计算。
效果表征:
1、波光粼粼的装饰效果:在太阳光下,将产品和水波纹进行比对,将相应的装饰效果按等级分为6个等级,装饰效果最好标记为5级,没有波光粼粼的装饰效果则标记为0级,介于两者之间的分别按照波光粼粼装修效果的从强到弱分别标记为4级、3级、2级和1级。
以上实施例中的配方组成为范围值,包括端点和范围内的任意值,都是可实施的方案,下面以具体点值来介绍部分实施例。
实施例1
一种具有波光粼粼装饰效果陶瓷砖的制备方法,包括以下步骤:
S1、设计具有波纹装饰效果的纹理图案,可将纹理图案划分为纹理图案凹陷区域、纹理图案凸起区域和纹理图案凹凸过渡区域,纹理图案凹陷区域灰度范围为:70-95,纹理图案凹凸过渡区域灰度范围为15-65。
通过AutoCAD和Photoshop两个制图软件配合对波纹纹理进行设计,要获得0.9m*1.8m规格的瓷砖产品,需要将图案的尺寸相对应的设计为1m*2m的规格,将纹理图案凹陷区域面积为:0.9m2;纹理图案凸起区域面积为:0.32m2;纹理图案凹凸过渡区域面积为:0.78m2,;纹理图案凹陷区域面积:纹理图案凸起区域面积=2.8:1;其中面积为系统计算四舍五入保留小数点两位数为计。纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差范围为:1.5-3mm。纹理图案凸起区域凸点与相邻纹理图案凹陷区域凹点组成的直线与水平面形成的夹角范围为:15-40。
S2、制备陶瓷砖坯体1,并且在坯体1上施底釉,得到釉层2;
采用陶瓷行业常用的方法压制坯体,本实施例坯体的原料组成按份数包含:原矿坭14份、膨润土2.8份、高岭土10份、水洗泥11.2份、石粉32.2份、钾钠砂29.6份、坯体增强剂0.2份;压制厚度可为9mm,压制尺寸为1m*2m。
干燥后对坯体施底釉,本实施例底釉的原料组成按份数计包括:钾长石23份、钠长石13份、霞石粉8份、石英粉15份、超细刚玉粉16份、煅烧高岭土7.5份、水洗高岭土9份、烧滑石粉2份、硅灰石粉1.5份、硅酸锆5份。底釉采用研磨机研磨至细度≤1000目,釉浆比重控制为1.20-1.22g/cm3,施釉量为140g/m2。
S3、在纹理图案凹陷区域和纹理图案凹凸过渡区域所对应步骤S2获得坯体的位置上喷墨打印具有排釉功能的1#墨水,得到1#墨水层3;
本实施例1#墨水的主要采购于埃思玛格拉斯意达加集团编号为DP1130墨水,主要原料按照质量百分比为计包含:氧化铝 7%、1#熔块33%、溶剂50%、分散剂9%、消泡剂1%;溶剂为乙醇30-70%和乙二醇30-70%混合,分散剂为羧甲基纤维素钠10-15%、聚乙二醇70-80%和乙醇5-20%混合,消泡剂为丙三醇。1#墨水的光泽度为:60,1#墨水对应各个点的打印量范围为:55-110g/m2。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;
本实施例中间釉的原料按质量份数计,主要包括:钾长石24份、钠长石14份、霞石粉8份、石英粉16份、煅烧氧化铝13.5份、煅烧高岭土7.5份、水洗高岭土9份、烧滑石粉1.5份、硅灰石粉2份、硅酸锆4.5份;根据凹凸程度和面积来控制中间釉料的施釉工艺参数,中间釉的光泽度为:26,釉浆比重控制为1.47-1.48g/cm3,施釉量为:540g/m2。
S5、在纹理图案凹陷区域所对应步骤S4获得坯体的位置上喷墨打印具有增加光泽度的2#墨水,得到2#墨水层5;
本申请实施例2#墨水主要采购于埃思玛格拉斯意达加集团编号为GL1219墨水,其主要原料包含:2#熔块46%、溶剂 46%、分散剂 7%、消泡剂1%,溶剂为乙醇30-70%和乙二醇30-70%混合,分散剂为羧甲基纤维素钠10-15%、聚乙二醇70-80%和乙醇5-20%混合,消泡剂为丙三醇。2#墨水的光泽度为:85,2#墨水对应各个点的打印量范围为:50-60g/m2。
S6、在步骤S5的坯体上施透明面釉,得到透明面釉层6;
本实施例透明面釉的原料按质量份数计,主要包括:钾长石43份、钠长石14份、石英粉6份、煅烧高岭土2份、水洗高岭土6份、白云石粉7份、烧滑石粉5份、硅灰石粉6份、煅烧氧化锌2份、碳酸钡7份和碳酸锶2份。透明面釉的光泽度为:58,透明面釉浆比重控制为1.45-1.46g/cm3,施釉量为250g/m2。
S7、将步骤S6获得坯体进行干燥、烧成得到和纹理图案一一对应的具有瓷砖凹陷区域、瓷砖凸起区域和瓷砖凹凸过渡区域组成的具有凹凸不平的波纹纹理的陶瓷砖;
S8、对瓷砖凸起区域进行抛光,得到具有波光粼粼装饰效果的陶瓷砖。本实施例选用3000目的弹性模块进行抛光处理,使凸起区域的光泽度达到90以上。
实施例2
本实施例所有步骤和各步骤所采用的坯体、各种釉料和墨水的配方组成和实施例1一致,不同之处在于以下:
S1、波纹图案中纹理图案凹陷区域面积为:0.9m2,灰度范围为80-90;纹理图案凸起区域面积为:0.36m2;凹凸过渡区域面积为:0.74m2,灰度范围为15-65;即纹理图案凹陷区域面积:纹理图案凸起区域面积=2.5:1。纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差范围为:1.5-3.5mm。纹理图案凸起区域凸点与水平面夹角范围为:15-40。
S3、在纹理图案凹陷区域所对应步骤S2获得坯体的位置上喷墨打印1#墨水,得到1#墨水层3;1#墨水对应各个点的打印量范围为:90-110g/m2。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;施釉量为560g/m2。
实施例3
本实施例所有步骤和各步骤所采用的坯体、各种釉料和墨水的配方组成和实施例1一致,不同之处在于以下:
S1、波纹图案中纹理图案凹陷区域面积为:1.02m2,灰度范围为70-80;纹理图案凸起区域面积为:0.34m2;纹理图案凹凸过渡区域面积为:0.64m2,灰度范围为15-60;纹理图案凹陷区域面积:纹理图案凸起区域面积=3:1。纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差范围为:1.5-2.5mm。纹理图案凸起区域凸点与水平面夹角范围为:15-35。
S3、在纹理图案凹陷区域所对应步骤S2获得坯体的位置上喷墨打印1#墨水,得到1#墨水层3;1#墨水对应各个点的打印量范围为:55-95g/m2。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;施釉量为480g/m2。
实施例4
本实施例所有步骤和各步骤所采用的坯体、各种釉料和墨水的配方组成和实施例1一致,不同之处在于以下:
S1、波纹图案中纹理图案凹陷区域面积为:1.04m2,灰度范围为75-85;纹理图案凸起区域面积为:0.4m2;纹理图案凹凸过渡区域面积为:0.56m2,灰度范围为25-65;即纹理图案凹陷区域面积:纹理图案凸起区域面积=2.6:1。纹理图案凸起区域凸点与纹理图案凹陷区域凹点的高度差范围为:2.5-3.5mm。纹理图案凸起区域凸点与水平面夹角范围为:25-35。
S3、在纹理图案凹陷区域所对应步骤S2获得坯体的位置上喷墨打印1#墨水,得到1#墨水层3;1#墨水对应各个点的打印量范围为:70-100g/m2。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;施釉量为580g/m2。
实施例5
本实施例所有步骤和各步骤所采用的坯体、各种釉料和墨水的配方组成和实施例1一致,不同之处在于以下:
在步骤S4和S5之间还包括步骤S4-1,即在步骤S4的坯体上喷墨打印装饰图案,获得图案装饰层7,其中装饰图案的与纹理图案一一对应,装饰图案的色系为碧绿的,不同区域的颜色灰度为:装饰图案凹凸过渡区域灰度范围为55-60,装饰图案凹陷区域灰度范围为24-27,装饰图案凸起区域灰度范围为39-42。
将以上实施例的产品各区域进行光泽度及波纹效果检测,同时为了对效果有更直观的感受,本申请购买了市场上的现有波纹产品同时检测,测试结果如下表所示:
对比例1
本对比例中各项条件与实施例5相同,不同之处在于:
S1、波纹图案中纹理图案凹陷区域面积为:0.9m2;纹理图案凸起区域面积为:0.6m2;纹理图案凹凸过渡区域面积为:0.5m2;纹理图案凹陷区域面积:纹理图案凸起区域面积=1.5:1。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;施釉量为650g/m2。
对比例2
本对比例中各项条件与实施例5相同,不同之处在于:
S1、波纹图案中纹理图案凹陷区域面积为:0.8m2;纹理图案凸起区域面积为:0.2m2;纹理图案凹凸过渡区域面积为:1.0m2;纹理图案凹陷区域面积:纹理图案凸起区域面积=4:1。
S4、在步骤S3获得坯体上施一层中间釉,得到中间釉层4;施釉量为520g/m2。
对比例3
本对比例中各项条件与实施例5相同,不同之处在于:
在步骤S4和S5之间的步骤S4-1,不同区域的颜色灰度为:装饰图案凹凸过渡区域灰度范围为24-27,装饰图案凹陷区域灰度范围为55-60,装饰图案凸起区域灰度范围为39-42。
对比例4
本对比例中各项条件与实施例5相同,不同之处在于:
在步骤S4和S5之间的步骤S4-1,不同区域的颜色灰度为:装饰图案凹凸过渡区域灰度范围为55-60,装饰图案凹陷区域灰度范围为39-42,装饰图案凸起区域灰度范围为55-60。
对比例5
本对比例中各项条件与实施例5相同,不同之处在于:无步骤S5,即不对凹陷区域打印2#墨水,即无2#墨水层。
对比例6
本对比例中各项条件与实施例5相同,不同之处在于:无步骤S8,即不对陶瓷砖凸起区域进行抛光处理。
将以上对比例的产品各区域进行光泽度及波纹效果检测,测试结果如下表所示:
以上仅为本申请的优选实施例,并非因此限制本申请的专利范围,凡是在本申请的发明构思下,利用本申请说明书及附图内容所做的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本申请的专利保护范围内。