CN113232136B - 立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在陶瓷岩板坯体表面喷墨打印精雕墨水；在喷墨打印精雕墨水后的坯体表面施底釉；在施底釉后的坯体上喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的坯体表面施第一窑变釉；在施第一窑变釉的坯体表面施第二窑变釉；烧成。该方法通过数码浮雕工艺与窑变釉的结合开发出一系列数码浮雕陶瓷岩板，板面立体感强，装饰效果丰富。

Description

立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法，属于建筑陶瓷生产制造技术领域。
背景技术
随着全球陶瓷行业进入飞速发展的大时代以及家装行业全屋定制的盛行，全国兴起岩板热潮，由此国内岩板形成百家争鸣的局势。目前模具面陶瓷岩板主要通过以下四种工艺实现：1、在平面砖坯表面辊筒印刷凸釉，该方式装饰效果单一且模纹精细程度局限；2、喷墨打印雕刻墨水后施保护釉，这虽然可以获得立体雕刻纹理，但是容易导致保护釉被剥开，而保护釉高温粘度大的特点使得保护釉施釉量相对较高时会导致釉面透感和发色较差，保护釉施釉量较低时则容易使得雕刻深度低而影响立体效果；3、采用传统模具以形成模纹效果，可是如需改变模纹纹理则必须相应更换模具，具有开模成本高、优等率低的缺陷；4、剥开底釉后喷普通釉料，此方式雕刻深度虽然可控但装饰效果单一。上述工艺例如可具体参见以下专利：
中国专利CN 105175027A公开一种具有立体装饰效果的陶瓷及其制备方法，所述陶瓷是利用布料器先将粉料布出与面釉上喷墨图案相对应的花纹再压制成型，经干燥后在坯体表面覆盖一层具有发色助剂的面浆，再次干燥处理后喷印渗透墨水，然后经烧成制得。所述方法制得的瓷砖中渗透墨水在面釉层中的渗透深度为0.2-0.5mm。
中国专利CN 108129026A公开一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体上施面釉；使用精雕墨水在面釉上喷墨打印图案；在打印有精雕墨水的坯体表面施哑光保护釉；以及将所得坯体烧成。
中国专利CN 110746203A公开一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体上打印模具效果纹理墨水，在墨水层表面施底釉再喷墨打印图案；在喷墨打印图案表面施保护釉/干粒釉；以及将所得坯体烧成。
发明内容
针对上述问题，本发明提供一种立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法，该方法通过数码浮雕工艺与窑变釉的结合开发出一系列数码浮雕陶瓷岩板，板面立体感强，装饰效果丰富。
第一方面，本发明提供一种立体浮雕陶瓷艺术板的制备方法。所述制备方法包括：
在陶瓷岩板坯体表面喷墨打印精雕墨水；
在喷墨打印精雕墨水后的坯体表面施底釉；
在施底釉后的坯体上喷墨打印图案；
在喷墨打印图案后的坯体表面施第一窑变釉；
在施第一窑变釉的坯体表面施第二窑变釉；
烧成。
本发明的制备方法通过精雕墨水剥开底釉再在表面施窑变釉来实现板面的艺术效果。
较佳地，第一窑变釉和第二窑变釉呈现不同颜色。如此形成多色流淌的颜色变化。
较佳地，所述精雕墨水在坯体表面的施加量为20～120g/m2。
较佳地，所述底釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、碱土金属氧化物：0.2～1%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、ZrO2：6.0～10.0%。
较佳地，所述底釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm3，施加量为300～1000 g/m2。
较佳地，所述第一窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48.0～55.0%、Al2O3：9.0～13.0%、碱土金属氧化物：6.5～11.5%、碱金属氧化物：7.0～9.0%、ZnO：9.0～12.0%、TiO2：3.0～7.0%。
较佳地，所述第一窑变釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/ m2。
较佳地，所述第二窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：8.0～12.0%、碱土金属氧化物：5.0～9.0%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、TiO2：8.0～12.0%、ZnO：10.0～14.0%、ZrO2：3.0～5.0%。
较佳地，所述第二窑变釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/ m2。
较佳地，第一窑变釉的始融温度为1070～1100℃，第二窑变釉的始融温度为1050～1080℃；第一窑变釉的始融温度高于第二窑变釉20～50℃。
第二方面，本发明提供上述任一项所述的制备方法获得的立体浮雕陶瓷艺术板。一些技术方案中，立体浮雕陶瓷艺术板的规格为宽（600～1800 mm）✕长（1200～9000 mm）✕厚度（6～20 mm）。所述立体浮雕陶瓷艺术板的图案纹理的雕刻深度为0.4～3mm。
附图说明
图1是本发明一实施方式立体浮雕陶瓷艺术板的制备流程图；
图2是实施例1立体浮雕陶瓷艺术板的底釉雕刻效果图；
图3是本发明实施例1立体浮雕陶瓷艺术板的板面效果图；
图4是本发明实施例1立体浮雕陶瓷艺术板的局部窑变效果图；
图5是本发明实施例1立体浮雕陶瓷艺术板的局部窑变效果放大60倍的效果图；
图6是对比例1的板面效果图；
图7是对比例2的板面效果图。
具体实施方式
通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
以下结合图1示例性说明本发明所述立体浮雕陶瓷艺术板的制备方法。
制备陶瓷岩板坯体。可通过干压成型制备陶瓷岩板坯体。陶瓷岩板坯体的化学组成不受限制，采用本领域常用的陶瓷岩板坯体配方即可。一些实施方式中，所述陶瓷岩板坯体的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：62.0～67.0%、Al2O3：20.0～25.0%、碱土金属氧化物：0.2～2%、碱金属氧化物：4～7%。例如，所述陶瓷岩板坯体的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：62.0～67.0%、Al2O3：20.0～25.0%、Fe2O3：0.06～0.10%、TiO2：0.10～0.50%、CaO：0.1～0.5%、MgO：0.1～1.0%、K2O：2.0～3.0%、Na2O：2.5～3.5%、烧失：4.5～6.5%。
将陶瓷岩板坯体干燥。可采用干燥窑干燥。干燥时间可为1～1.5h，干燥后坯体的水分控制在0.3～0.5wt%以内。
在干燥后的坯体表面喷墨打印精雕墨水。精雕墨水可商业化购得。喷墨打印精雕墨水的作用是剥开后续施加的底釉以形成浮雕纹理。
作为优选，精雕墨水在坯体表面的施加量为20～120g/m2。这会避免精雕墨水的施加量低而导致浮雕效果不明显，也可以在保证立体浮雕效果的情况下减少精雕墨水的浪费。精雕墨水的施加量可根据立体浮雕陶瓷艺术板的版面纹理和所需雕刻深度作适应性变化。
在喷墨打印精雕墨水后的坯体表面施底釉。普通锆白底釉的主要作用是遮盖坯体底色和瑕疵，因此对底釉的白度和发色要求较高。本发明底釉所起的作用是实现立体浮雕效果，故本发明的底釉优选具有较高的烧成温度以及高温粘度。
所述底釉的化学组成可包括，以质量百分比计：SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、碱土金属氧化物：0.2～1%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、ZrO2：6.0～10.0%。例如，所述底釉的化学组成可包括，以质量百分比计：SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、Fe2O3：0.16～0.46%、TiO2：0.15～0.25%、CaO：0.1～0.3%、MgO：0.1～0.3%、K2O：4.0～5.0%、Na2O：2.0～3.0%、ZrO2：6.0～10.0%、烧失：3.0～4.0%。
一些实施方式中，所述底釉的始融温度为1150～1180℃。
所述底釉的施加方式可为喷釉。一些实施方式中，所述底釉的比重为1.40～1.50g/cm3，施加量为300～1000 g/ m2。本发明将底釉的施加参数控制在上述范围内，可以避免底釉比重过高使得立体浮雕效果变差，这主要是由“物理排开”引起。精雕墨水具有有机特性（亲油性），底釉具有水性釉料的疏油性，故在精雕墨水和水性底釉的接触界面由于两者疏水疏油特性的差异从而形成物理排开作用并促使凹凸纹理的产生。
影响立体浮雕深度的主要因素是精雕墨水和底釉。可调整精雕墨水和底釉的施釉参数以适应性调整立体浮雕效果的深度。随着底釉的比重升高，釉料的“水性”逐渐下降，精雕墨水排开（水性）底釉的作用也就逐渐减弱。底釉的比重过低导致需要喷高含量的底釉才能达到立体的浮雕效果。可是高施加量的底釉会在岩板表面带入大量水分，易引起板坯强度下降造成釉线烂板或者窑内炸板。
精雕墨水主要起到排开（水性）底釉的作用，底釉施釉量则影响立体浮雕的深度。底釉的施加量越高，相应地浮雕效果越立体，可是同时也需要相应增加精雕墨水的施加量。精雕墨水和底釉的施加量同时增加会形成明显的浮雕立体效果。反之仅增加精雕墨水或者底釉的施加量，并不会达到优化立体浮雕效果的目的。甚至在仅增加底釉施加量的情况下立体浮雕效果会随着施釉量的增加先增强后逐渐减弱，这是因为随着底釉施加量的增加，立体浮雕效果增加，但是达到精雕墨水“物理排开”作用的极限后，精雕墨水不再排开继续增加的底釉施釉量，而继续增加的底釉因为表面干的速度及排开变差会逐渐填充下凹的部分导致立体浮雕效果变差。
由图2可知，喷墨打印精雕墨水后底釉形成了点阵式的立体浮雕效果。
在此说明，由于本发明底釉具有烧成温度高、高温粘度大的特点，烧成后艺术板的立体浮雕效果与烧成前并无明显差异。
在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案。喷墨打印图案的颜色和图案纹理依据设计效果作适应性变化。
在喷墨打印图案后的坯体表面施第一窑变釉。第一窑变釉主要是作为第一道效果釉与后续的第二窑变釉互相融合反应，提供窑变的主色调。
所述第一窑变釉的化学组成可包括：以质量百分比计，SiO2：48.0～55.0%、Al2O3：9.0～13.0%、碱土金属氧化物：6.5～11.5%、碱金属氧化物：7.0～9.0%、ZnO：9.0～12.0%、TiO2：3.0～7.0%。上述化学组成的第一窑变釉有助于降低釉料的高温粘度，同时ZnO、TiO2在这该范围可以较好地与第二窑变釉相互融合反应并在釉层中析出小晶花。
一些实施方式中，所述第一窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48.0～55.0%、Al2O3：9.0～13.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：3.0～7.0%、CaO：4.0～7.0%、MgO：1.0～2.0%、K2O：4.0～5.0%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：9.0～12.0%、BaO：1.5～2.5%、烧失：5.5～6.5%。可以在第一窑变釉的化学组成中添加着色氧化物。着色氧化物包括但不限于CoO、CuO、MnO、NiO等。添加着色氧化物后的第一窑变釉可以形成不同颜色的窑变效果。
所述第一窑变釉的施加方式可为喷釉。一些实施方式中，所述第一窑变釉的比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/ m2。第一窑变釉的施釉参数控制在上述范围所呈现的窑变结晶效果相对较好，低于上述范围第一窑变釉容易被第二窑变釉覆盖，窑变结晶效果变差。当第一窑变釉的施加量高于上述范围，釉面容易出现针孔等缺陷，这主要是因为施釉量的增加，釉面排气相对困难。
在施第一窑变釉的坯体表面施第二窑变釉。第二窑变釉主要是作为第二道效果釉与第一窑变釉互相融合反应，提供窑变的次色调。如果仅施第一窑变釉而不施加第二窑变釉，则无法形成本发明的窑变结晶效果，这是因为需要两道窑变釉互相反应融合才可促进釉层析晶。
所述第二窑变釉的化学组成可包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：8.0～12.0%、碱土金属氧化物：5.0～9.0%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、TiO2：8.0～12.0%、ZnO：10.0～14.0%、ZrO2：3.0～5.0%。上述组成的第二窑变釉有助于降低釉料的高温粘度，同时ZnO、TiO2该范围可以较好地与第一窑变釉相互融合反应并在釉层中析出小晶花。
一些实施方式中，所述第二窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：8.0～12.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：8.0～12.0%、CaO：4.0～7.0%、MgO：1.0～2.0%、K2O：3.0～4.0%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：10.0～14.0%、ZrO2：3.0～5.0%、烧失：2.5～4.5%。可以根据着色需要在第一窑变釉的化学组成中添加着色氧化物。着色氧化物包括但不限于CoO、CuO、MnO、NiO等。添加着色氧化物后的第一窑变釉可以形成不同颜色的窑变效果。
所述第二窑变釉的施加方式为喷釉。一些实施方式中，所述第二窑变釉的比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/ m2。第一窑变釉和第二窑变釉控制在相同的施釉量可以实现较好的窑变结晶效果。
第一窑变釉和第二窑变釉的化学组成较为接近，都属于锌钛结晶体系。但是第二窑变釉的锌钛含量高于第一窑变釉。作为优选，第二窑变釉的氧化锌含量高于第一窑变釉2～5%，二氧化钛含量高于第一窑变釉1～9%。更优选地，第二窑变釉的氧化锆含量高于第一窑变釉3.0～5.0%。如此第一窑变釉和第二窑变釉的色彩反差大，结晶窑变效果的艺术感更好。
此外，第一窑变釉的始融温度为1070～1100℃，第二窑变釉的始融温度为1050～1080℃。优选地，第一窑变釉的始融温度高于第二窑变釉20～50℃。这样更有利于釉面气泡的排出，可以防止釉面针孔、痱子等缺陷。
窑变釉是在高温烧成过程中多色组分相互流淌或扩散出窑后呈现出色差、花纹变化莫测图案的色釉料。本发明窑变釉区别于常规窑变釉的是，本发明的窑变釉既具有多色组成的相互流淌也有锌钛析晶，且形成的晶花受限于釉料高温粘度，只能形成微观尺度的小晶花。一些实施方式中，所述小晶花的直径为0.1～2.0mm。
将施第二窑变釉后的坯体干燥。可以使用电干燥或者热风干燥箱干燥。干燥温度100～150℃，干燥后的板坯水分控制在0.9wt%以内。
烧成。最高烧成温度可为1180～1220℃，烧成周期可为60～180分钟。
本发明所述方法获得的立体浮雕陶瓷艺术板，通过精雕墨水剥开底釉再在表面施窑变釉来实现板面的艺术效果。在烧成过程中第一窑变釉和第二窑变釉相互融合促进锌钛结晶，从而产生窑变结晶效果。还可设计为第一窑变釉和第二窑变釉呈现不同颜色，如此形成多色流淌的颜色变化。一些实施方式中，立体浮雕陶瓷艺术板的图案（从艺术板表面向底部）的雕刻深度为0.4～3mm。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
步骤（1）：通过干压成型制备陶瓷岩板坯体；
步骤（2）：将坯体干燥，干燥时间1～1.5h，干燥坯水分0.3～0.5wt%；
步骤（3）：在干燥后的坯体表面喷墨打印精雕墨水；
步骤（4）：在喷墨打印精雕墨水后的坯体表面喷底釉，底釉的比重为1.40～1.50g/cm3，施加量为300～1000 g/m2；底釉的化学组成包括，以质量百分比计：SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、Fe2O3：0.16～0.46%、TiO2：0.15～0.25%、CaO：0.1～0.3%、MgO：0.1～0.3%、K2O：4.0～5.0%、Na2O：2.0～3.0%、ZrO2：6.0～10.0%、烧失：3.0～4.0%；
步骤（5）：在喷底釉后的坯体表面喷墨打印图案；
步骤（6）：在喷墨打印图案后的坯体表面喷第一窑变釉；第一窑变釉的比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/ m2；第一窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48.0～55.0%、Al2O3：9.0～13.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：3.0～7.0%、CaO：4.0～7.0%、MgO：1.0～2.0%、K2O：4.0～5.0%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：9.0～12.0%、BaO：1.5～2.5%、烧失：5.5～6.5%；
步骤（7）：在喷第一窑变釉后的坯体表面喷第二窑变釉，第二窑变釉的比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/m2；所述第二窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：8.0～12.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：8.0～12.0%、CaO：4.0～7.0%、MgO：1.0～2.0%、K2O：3.0～4.0%、Na2O：3.0～4.0%、ZnO：10.0～14.0%、ZrO2：3.0～5.0%、烧失：2.5～4.5%；
步骤（8）：将喷完第二窑变釉后的坯体干燥；干燥温度100～150℃，干燥后坯体水分控制在0.9wt%以内；
步骤（9）：烧成；最高烧成温度1180～1220℃，烧成周期60～180分钟。
步骤（10）：磨边分级；
步骤（11）：打包入库。
从图2可以看出喷墨打印精雕墨水后再喷底釉后形成了非常立体的点阵式的浮雕效果。
从图3可以看出板面形成具有凹凸纹理的窑变结晶效果。
从图4可以看出窑变结晶效果特别，具有艺术感。
从图5可以看出经过放大镜放大60倍后板面能够明显看到窑变结晶纹理效果。
对比例1
与实施例1基本相同，区别仅在于：省略步骤（7），即仅施加第一窑变釉。
对比例1的板面效果如图6所示。板面只呈现蓝色透明效果，没有窑变结晶。这主要是因为第一窑变釉的施釉量和锌钛含量过低，难以形成晶花；且第一窑变釉为单色调，无法形成窑变效果。
对比例2
与实施例1基本相同，区别仅在于：省略步骤（6），即仅施加第二窑变釉。
对比例2的板面效果如图7所示。板面呈现白色乳浊效果，没有窑变，只有少许结晶。这同样是第二窑变釉也为单色调，因此不满足窑变的条件。
对比例3
与实施例1基本相同，区别仅在于：调换步骤（6）和步骤（7）的施釉顺序。
对比例3的釉面产生较多针孔、痱子，这主要是因为将始融温度低的第二窑变釉置于下层，第二窑变釉层中的气泡难以排出从而导致板面缺陷。
对比例4
与实施例1基本相同，区别仅在于：省略步骤（4）。
对比例4采用精雕墨水直接剥开第一窑变釉，然后施第二窑变釉，此时釉面没有任何剥开效果，这是因为第一窑变釉的高温粘度低，烧成后完全流平，导致无法实现立体浮雕效果。

Claims (5)

1.一种立体浮雕陶瓷艺术板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
在陶瓷岩板坯体表面喷墨打印精雕墨水；
在喷墨打印精雕墨水后的坯体表面施底釉；所述底釉的始融温度为1150～1180℃；
在施底釉后的坯体上喷墨打印图案；
在喷墨打印图案后的坯体表面施第一窑变釉；第一窑变釉的始融温度为1070～1100℃；所述第一窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48.0～55.0%、Al2O3：9.0～13.0%、碱土金属氧化物：6.5～11.5%、碱金属氧化物：7.0～9.0%、ZnO：9.0～12.0%、TiO2：3.0～7.0%；所述第一窑变釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/m2；
在施第一窑变釉的坯体表面施第二窑变釉；第二窑变釉的始融温度为1050～1080℃；第一窑变釉的始融温度高于第二窑变釉20～50℃；所述第二窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：8.0～12.0%、碱土金属氧化物：5.0～9.0%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、TiO2：8.0～12.0%、ZnO：10.0～14.0%、ZrO2：3.0～5.0%；所述第二窑变釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm3，施釉量为300～500 g/m2；
烧成，获得所述立体浮雕陶瓷艺术板；所述立体浮雕陶瓷艺术板的图案纹理的雕刻深度为0.4～3mm。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述精雕墨水在坯体表面的施加量为20～120g/m2。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、碱土金属氧化物：0.2～1%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、ZrO2：6.0～10.0%。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的施加方式为喷釉，比重为1.40～1.50 g/cm3，施加量为300～1000 g/m2。
5.立体浮雕陶瓷艺术板，其特征在于，根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法获得。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113754473B (zh) * 2021-09-07 2022-11-22 广东东唯新材料有限公司 一种金属釉岩板的制备方法
CN113896570B (zh) * 2021-09-26 2022-11-18 蒙娜丽莎集团股份有限公司 数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法
CN113998993B (zh) * 2021-10-12 2022-12-27 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 一种精雕仿石瓷抛砖及制备方法
CN113968753A (zh) * 2021-10-21 2022-01-25 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法
CN113666772B (zh) * 2021-10-21 2022-02-22 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种具有深刻凹凸纹理的陶瓷岩板及其制备方法
CN113999051A (zh) * 2021-11-05 2022-02-01 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种釉面超平、质感细腻的磨砂面薄型陶瓷板及其制备方法
CN114656289B (zh) * 2022-04-19 2023-04-28 德化县厚德陶瓷厂 可控铁锈斑状纹路釉下窑变釉陶瓷及其制备方法
CN115385657B (zh) * 2022-07-18 2023-10-13 广东嘉联企业陶瓷有限公司 一种浮雕质感的超薄岩板

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2937226A1 (de) * 2014-04-22 2015-10-28 Steuler-Fliesen GmbH Nassdruckverfahren für keramikfliesen
CN107722726A (zh) * 2017-11-30 2018-02-23 佛山市华力达材料科技有限公司 一种哑光精雕墨水及其制备方法
CN110746203A (zh) * 2019-10-24 2020-02-04 广东萨米特陶瓷有限公司 一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制作方法
CN111635259B (zh) * 2020-05-12 2022-02-11 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有数码立体效果金色纹理大理石陶瓷砖及其制备方法
CN111548012A (zh) * 2020-05-20 2020-08-18 福建省德化县瓷言坊陶瓷工艺有限公司 低温环保浅棕白窑变釉瓷器及其制备工艺

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