CN113998993B - 一种精雕仿石瓷抛砖及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种精雕仿石瓷抛砖及制备方法。所述制备方法包括以下步骤：使用坯体粉料制备成坯体；在坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水；在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉；将施深刻保护釉后的坯体烧成以及抛光，得到所述精雕仿石瓷抛砖。

Description

一种精雕仿石瓷抛砖及制备方法
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷领域，特别涉及一种精雕仿石瓷抛砖及制备方法。
背景技术
随着建筑陶瓷的发展，传统抛光砖与抛釉砖越来越普遍化。抛光砖的表面耐磨性好，但表面图案较为单调。抛釉砖有着丰富的图案装饰，多样花色选择得到大家的青睐，但釉面耐磨性差，质感不够细腻，容易产生划痕，使用时间长会导致釉面磨损影响观感。喷墨打印技术的发展极大丰富了陶瓷表面装饰。近年来，喷墨打印用陶瓷功能墨水成为行业研究的热点。相比于传统渗花釉，含金属有机衍生物的油溶性功能墨水更加稳定，色系丰富，扩散梯度均匀。功能墨水尤其渗透墨水渗透到砖坯内部，经烧成和抛光后坯体表层直至内部均存在渗透墨水的颜色。
发明内容
本发明提供一种精雕仿石瓷抛砖及制备方法，所述方法在坯体上喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后再施薄层的深刻保护釉，烧成后得到图案清晰、纹理凹凸有致的瓷抛砖。
第一方面，本发明提供一种精雕仿石瓷抛砖的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：使用坯体粉料制备成坯体；在坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水；在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉；将施深刻保护釉后的坯体烧成以及抛光，得到所述精雕仿石瓷抛砖。
较佳地，所述坯体为白度62～75度的高白坯体。
较佳地，所述坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：68.0～70.5％、Al2O3：17.0～18.0％、碱土金属氧化物：0.5～0.8％、碱金属氧化物：7.6～9.5％。
较佳地，所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：64.5～67.5％、Al2O3：21.0～23.0％、碱土金属氧化物：5.2～7.3％、碱金属氧化物：6.1～10.0％。
较佳地，所述深刻保护釉的矿物组成包括：以质量百分比计，硅灰石5～7％、高岭土8～12％、石英20～30％、霞石12～15％、碳酸锶2～4％、钾长石和/或钠长石12～16％、高温哑光熔块15～30％、刚玉13～18％。
较佳地，所述高温哑光熔块的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48～56％；Al2O3：15.5～19.0％；碱土金属氧化物：9.8～16.6％；碱金属氧化物：8.0～10.0％；ZnO：3.8～5.5％；ZrO2：3.2～4.2％。
较佳地，所述深刻保护釉的比重为1.43～1.45g/cm3，施釉量为70～150g/m2。
较佳地，最高烧成温度为1160～1180℃，烧成周期为45～60分钟。
较佳地，精雕墨水在坯体中的雕刻深度和/或渗透墨水在坯体中的渗透深度为1.2～2.0mm。
第二方面，本发明还提供上述任一项所述的制备方法获得的精雕仿石瓷抛砖。
附图说明
图1示出本发明所述精雕仿石瓷抛砖的砖面效果图。
具体实施方式
通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。烧失指的是被检测材料灼烧过程中排出的结晶水、碳酸盐分解出的CO2、硫酸盐分解出的SO2以及其他有机杂质被灼烧气化等所剩净物质的损失量。
以下示例性说明本发明所述精雕仿石瓷抛砖的制备方法。
使用坯体粉料制备坯体。所述坯体可为高白坯体。所述坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：68.0～70.5％、Al2O3：17.0～18.0％、碱土金属氧化物：0.5～0.8％、碱金属氧化物：7.6～9.5％。一些实施方式中，所述坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：68.0～70.5％、Al2O3：17.0～18.0％、Fe2O3：0.15～0.30％、TiO2：0.05～0.15％、CaO：0.4～0.6％、MgO：0.1～0.2％、K2O：4.8～5.5％、Na2O：2.8～4.0％、烧失：2.5～3.5％。所述坯体粉料减少了铁、钛等呈色元素的含量，利于提高坯体白度。另外，该坯体粉料还提供了高含量的钾钠，降低熔融温度，在烧成过程中容易生成玻璃相，这利于后续功能墨水尤其是渗透墨水在在坯体上的呈色表现。不仅如此，玻璃相的液相通过Al2O3和SiO2之间的相互作用，能够促进莫来石晶体的形成和成大，从而赋予坯体高力学强度和优异的化学稳定性。作为示例，坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：69.5％、Al2O3：17.5％、Fe2O3：0.15％、TiO2：0.12％、CaO：0.46％、MgO：0.13％、K2O：5.1％、Na2O：2.9％、烧失：3.5％。
将上述坯体粉料的对应原料、水和其他助剂球磨混合均匀，喷雾干燥，得到坯体粉料。所述助剂包括硅酸锆、解胶剂、三聚磷酸钠、增韧剂等添加剂。例如，所述硅酸锆为坯料粉料的0.5～1.5wt％，所述解胶剂为坯料粉料的0.3～0.6wt％，所述三聚磷酸钠为坯料粉料的0.15～0.3wt％。又，所述增韧剂为坯料粉料的0.8～1.2wt％。
将坯体粉料压制成型得到坯体。成型方式不受限制，包括但不限于干压成型等。例如通过31000±20N的压力将坯体粉料压制成型制得所需高白坯体。
所述高白坯体的白度可为62～75度，从而为后续喷墨渗透装饰提供良好载体。
所述坯体也可以为使用坯体粉料和颜色颗粒制备的颗粒纹理坯体。颜色颗粒包括但不限于黄、绿、黑、灰、棕等高对比度的颗粒。将坯体粉料和颜色颗粒按照版面设计布料。例如颜色颗粒占坯体粉料的质量百分比为8～12％。将完成布料的坯料经压机压制成型，获得颗粒纹理坯体。
在坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水。一些实施方式中，在坯体表面打印上述功能墨水(包括精雕墨水和/或渗透墨水)之前，打磨坯体表面并对坯体进行吸尘处理。
根据与图案纹理对应的设计文件在坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水。呈色和渗透性是评价功能墨水的关键指标。墨水浓度、粘度和表面张力等理化性质均会影响功能墨水的性能。渗透墨水能够均匀渗透至坯体内部。一些实施方式中，精雕墨水在坯体中的雕刻深度和/或渗透墨水在坯体中的渗透深度为1.2～2.0mm。
在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉。
所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：64.5～67.5％、Al2O3：21.0～23.0％、碱土金属氧化物：5.2～7.3％、碱金属氧化物：6.1～10.0％。所述深刻保护釉中硅铝的总含量达到80％以上，使保护釉有较低的膨胀系数。上述组成的保护釉还具有较大的高温粘度和表面张力，在高温熔融下不会产生过多液相，避免液相熔融到精雕纹理中，而是生成较多的莫来石晶相，保证精雕效果不会粗狂，纹理不会太粗太深，而是有细腻的触感。优选地，上述深刻保护釉的始融温度为950～1020℃。
作为示例，所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：64.5～67.5％、Al2O3：21.0～23.0％、Fe2O3：0～0.3％、TiO2：0～0.2％、CaO：3.8～5.0％、MgO：0.4～0.8％、K2O：3.5～4.5％、Na2O：2.6～5.5％、SrO：1.0～1.5％、烧失：1.0～2.0％。
所述深刻保护釉的矿物组成包括：以质量百分比计，硅灰石5～7％、高岭土8～12％、石英20～30％、霞石12～15％、碳酸锶2～4％、钾长石和/或钠长石12～16％、高温哑光熔块15～30％、刚玉13～18％。本发明通过引入高含量的刚玉，并使用大量高岭土、石英、硅灰石等原料，霞石、碳酸锶作为熔融原料，提高始熔温度，从而使保护釉有较低的膨胀系数、较大的高温粘度和表面张力，在高温熔融情况下不会产生过多液相，不会熔融到精雕纹理中，而是生成较多的莫来石晶相，保证精雕效果不会太粗狂，纹理不会太粗太深，配合上精雕图案设计，具有细腻的触感。若保护釉使用高含量的钾钠长石和低含量的SiO2+Al2O3含量，虽然能够解决雕刻深度和精雕效果的立体性，但是烧成过程中产生液相过多，且过多的玻璃相导致釉面不耐磨。作为优选，上述深刻保护釉在4～600℃的膨胀系数为7.2×10-6～8.1×10-6。
所述高温哑光熔块的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48～56％；Al2O3：15.5～19.0％；碱土金属氧化物：9.8～16.6％；碱金属氧化物：8.0～10.0％；ZnO：3.8～5.5％；ZrO2：3.2～4.2％。一些实施方式中，所述高温哑光熔块的化学组成包括：以质量百分比计，烧失：0～0.15％；SiO2：48～56％；Al2O3：15.5～19.0％；CaO：2.0～3.5％；MgO：2.1～3.0％；K2O：5.4～6.5％；Na2O：2.6～3.5％；ZnO：3.8～5.5％；BaO：3.0～6.3％；SrO：2.7～3.8％；ZrO2：3.2～4.2％。高温哑光熔块中的“高温”是指高始融温度。例如，高温哑光熔块的始融温度可为870～950℃，烧后光泽度可为6～10度。此时釉面透感良好，可降低釉面光泽度，防污性能提高，同时使精雕效果细腻。
制备深刻保护釉的釉浆时，将深刻保护釉的矿物组成和水混合均匀得到浆料。必要时，还可以在浆料中加入助剂以调整浆料的比重和悬浮性能等。所述深刻保护釉的釉浆比重可为1.85～1.90g/cm3，流速60～90s，过325目网的筛余为0.6～0.8wt％。
所述深刻保护釉的比重为1.43～1.45g/cm3，施釉量为70～150g/m2。深刻保护釉的施釉量低于70g/m2时，精雕效果不明显，纹理浅；深刻保护釉的施釉量高于150g/m2，精雕线条明显变粗，纹理不够细腻。更重要地，纹理的细腻程度和釉面光泽度与保护釉的烧结温度以及始熔温度有关，烧结温度越高，光泽度越低，纹理越细腻；始熔温度越高，纹理越细腻。
喷墨打印精雕墨水的位置呈现下陷，深刻保护釉的纹理剥开是物理过程，施釉的过程中由于精雕墨水是油性的，深刻保护釉是水性的，精雕墨水纹理处不沾釉，形成天然的剥开效果，在后续的烧制过程中发生收缩，呈弧状凹槽，形成精雕效果。深刻保护釉有较低的膨胀系数，较大的高温粘度和表面张力，在高温熔融情况下不会产生过多液相，不会熔融到精雕纹理中，而是生成较多的莫来石晶相，提高表面耐磨性能。
烧成。最高烧成温度为1160～1180℃，烧成周期为45～60分钟。
抛光。抛光可使用常规的柔抛工艺，例如先粗抛，中抛，精抛，磨边倒角。采用柔抛工艺利于获得触感细腻的釉面质感。磨边，打包分级。
所述制备方法得到的精雕仿石瓷抛砖具有哑光质感，呈现出大理石纹理结合细腻的精雕效果，装饰效果优异。一些实施方式中，所述精雕仿石瓷抛砖的表面光泽度为4～6度。另外，瓷抛砖完全烧结，致密性高，体密度在2.36～2.37的范围内，吸水率≦0.5wt％，断裂模数可达42MPa以上，耐磨系数可达莫式6级。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
精雕仿石瓷抛砖的制备方法包括以下步骤：
步骤1.使用坯体粉料制备高白坯体；坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：69.5％、Al2O3：17.5％、Fe2O3：0.15％、TiO2：0.12％、CaO：0.46％、MgO：0.13％、K2O：5.1％、Na2O：2.9％、烧失：3.5％；将坯体经干燥窑干燥；所述高白坯体的白度为62度；
步骤2.在干燥后的坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水；
步骤3.在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉；所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：64.8％、Al2O3：21.2％、Fe2O3：0.1％、TiO2：0.14％、CaO：3.8％、MgO：0.58％、K2O：4.1％、Na2O：2.7％、SrO：1.2％、烧失：1.3％；所述深刻保护釉的矿物组成包括：以质量百分比计，硅灰石5％、高岭土10％、石英23％、霞石12％、碳酸锶2％、钾长石和/或钠长石15％、高温哑光熔块18％、刚玉15％；所述深刻保护釉的比重为1.43～1.45g/cm3，施釉量为150g/m2；
步骤4.将施深刻保护釉后的坯体烧成，最高烧成温度为1164℃，烧成周期为53分钟；
步骤5.采用柔抛工艺抛光，磨边分级，打包。
所述精雕仿石瓷抛砖具有精雕效果，图案呈现出大自然天然石材的效果，表面光泽度为4～6度。
实施例2
精雕仿石瓷抛砖的制备方法包括以下步骤：
步骤1.使用坯体粉料和颜色颗粒制备坯体；坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：69.5％、Al2O3：17.5％、Fe2O3：0.15％、TiO2：0.12％、CaO：0.46％、MgO：0.13％、K2O：5.1％、Na2O：2.9％、烧失：3.5％；颜色颗粒包括但不限于黄、绿、黑、灰、棕等高对比度的颗粒；将坯体粉料和颜色颗粒按照版面设计布料，颜色颗粒占坯体粉料的质量百分比为8～12％；将完成布料后的坯料经压机压制成型，获得有颗粒纹理的坯体；将坯体经干燥窑干燥；
步骤2.在干燥后的坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水；具体是根据Photoshop设计图案，搭配细点状渗透图案与精雕细纹，以呈现大自然天然石材的效果；
步骤3.在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉；所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：64.8％、Al2O3：21.2％、Fe2O3：0.1％、TiO2：0.14％、CaO：3.8％、MgO：0.58％、K2O：4.1％、Na2O：2.7％、SrO：1.2％、烧失：1.3％；所述深刻保护釉的比重为1.43～1.45g/cm3，施釉量为150g/m2；
步骤4.将施深刻保护釉后的坯体烧成，最高烧成温度为1164℃，烧成周期为53分钟；
步骤5.采用柔抛工艺抛光，磨边分级，打包。
所述精雕仿石瓷抛砖中，不同颜色颗粒类似色彩斑斓的石头，精雕效果类似石头的裂缝纹理，两者相辅相成，获得不同效果的颗粒石系列精雕仿石瓷抛砖。该瓷抛砖表面呈磨砂颗粒状，颗粒无序排列形成逼真图案，随意泼洒，质感极强而不密集。
对比例1
仿石瓷抛砖的制备方法包括以下步骤：
步骤1.使用坯体粉料制备高白坯体；坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：69.5％、Al2O3：17.5％、Fe2O3：0.15％、TiO2：0.12％、CaO：0.46％、MgO：0.13％、K2O：5.1％、Na2O：2.9％、烧失：3.5％；将坯体经干燥窑干燥；所述高白坯体的白度为62度；
步骤2.在干燥后的坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水；
步骤3.在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施常规保护釉；所述常规保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：58.7％、Al2O3：17.8％、Fe2O3：0.2％、TiO2：0.2％、CaO：4.2％、MgO：5.5％、K2O：4.1％、Na2O：5.0％、SrO：1.5％、烧失：2.8％；所述常规保护釉的比重为1.43～1.45g/cm3，施釉量为150g/m2；
步骤4.将施深刻保护釉后的坯体烧成，最高烧成温度为1164℃，烧成周期为53分钟；
步骤5.采用柔抛工艺抛光，磨边分级，打包。
该常规保护釉的烧成温度(始熔温度)偏低，经烧成后产生过量玻璃相，玻璃相熔融在精雕线条处，精雕线条较宽且塌，不够细腻。另外，所得瓷抛砖的釉面光泽度为35～40度。
对比例2
仿石瓷抛砖的制备方法包括以下步骤：
步骤1.使用坯体粉料制备高白坯体；坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：69.5％、Al2O3：17.5％、Fe2O3：0.15％、TiO2：0.12％、CaO：0.46％、MgO：0.13％、K2O：5.1％、Na2O：2.9％、烧失：3.5％；将坯体经干燥窑干燥；所述高白坯体的白度为62度；
步骤2.在干燥后的坯体表面喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水；
步骤3.在喷墨打印精雕墨水和/或喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉；所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：61.8％、Al2O3：20.8％、Fe2O3：0.2％、TiO2：0.18％、CaO：4.0％、MgO：3.7％、K2O：4.6％、Na2O：2.0％、烧失：2.6％；所述深刻保护釉的比重为1.43～1.45g/cm3，施釉量为150g/m2；
步骤4.将施深刻保护釉后的坯体烧成，最高烧成温度为1164℃，烧成周期为53分钟；
步骤5.采用柔抛工艺抛光，磨边分级，打包。
该对比例相较于实施例1经烧成后的精雕线条不够细腻，釉面光泽度为18～25度。

Claims (7)

1.一种精雕仿石瓷抛砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
使用坯体粉料制备成坯体；
在坯体表面喷墨打印精雕墨水和喷墨打印渗透墨水；
在喷墨打印精雕墨水和喷墨打印渗透墨水后的坯体表面施深刻保护釉；所述深刻保护釉的矿物组成包括：以质量百分比计，硅灰石5～7%、高岭土8～12%、石英20～30%、霞石12～15%、碳酸锶2～4%、钾长石和/或钠长石12～16%、高温哑光熔块15～30%、刚玉13～18%；所述高温哑光熔块的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：48～56%；Al2O3：15.5～19.0%；碱土金属氧化物：9.8～16.6%；碱金属氧化物：8.0～10.0%；ZnO：3.8～5.5%；ZrO2：3.2～4.2%；所述深刻保护釉的比重为1.43～1.45 g/cm3，施釉量为70～150g/m2；
将施深刻保护釉后的坯体烧成以及抛光，得到精雕仿石瓷抛砖；所述精雕仿石瓷抛砖的表面光泽度为 4～6 度。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述坯体为白度62～75度的高白坯体。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述坯体粉料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：68.0～70.5%、Al2O3：17.0～18.0%、碱土金属氧化物：0.5～0.8%、碱金属氧化物：7.6～9.5%。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述深刻保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：64.5～67.5%、Al2O3：21.0～23.0%、碱土金属氧化物：5.2～7.3%、碱金属氧化物：6.1～10.0%。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，最高烧成温度为1160～1180℃，烧成周期为45～60分钟。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，精雕墨水在坯体中的雕刻深度和渗透墨水在坯体中的渗透深度为1.2～2.0mm。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法获得的精雕仿石瓷抛砖。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116924783B (zh) * 2023-07-20 2024-07-09 高安市蒙娜丽莎新材料有限公司 一种具有珠光质感柔光的超白坯体瓷质砖及其制备方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104591804A (zh) * 2015-01-26 2015-05-06 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种具有立体装饰效果的陶瓷砖的制造方法
CN105330342A (zh) * 2015-10-15 2016-02-17 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制造方法
CN106800423A (zh) * 2015-11-26 2017-06-06 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种渗花瓷砖的制备方法
CN108394008A (zh) * 2018-03-23 2018-08-14 广东萨米特陶瓷有限公司 无水釉线全数码喷印工艺的陶瓷大板及其制作方法
CN109049300A (zh) * 2018-10-09 2018-12-21 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种负离子精雕砖及其制备方法
CN109293397A (zh) * 2018-10-09 2019-02-01 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种具有3d浮雕的仿古砖及其制备方法
WO2020177248A1 (zh) * 2019-03-01 2020-09-10 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 一种喷墨干粒装饰陶瓷砖及其制造方法
CN112358326A (zh) * 2021-01-14 2021-02-12 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN112358187A (zh) * 2020-11-27 2021-02-12 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种仿大理石超耐磨柔光砖的生产工艺及制品
CN113232136A (zh) * 2021-07-13 2021-08-10 蒙娜丽莎集团股份有限公司 立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法
CN113305993A (zh) * 2021-06-24 2021-08-27 广东协进陶瓷有限公司 一种镂雕丝光釉面砖及其生产方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2937226A1 (de) * 2014-04-22 2015-10-28 Steuler-Fliesen GmbH Nassdruckverfahren für keramikfliesen
CN107010976B (zh) * 2017-03-24 2020-01-10 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种利用墨水吸光装饰的半透光陶瓷薄板及其制备方法
KR101798885B1 (ko) * 2017-05-12 2017-11-17 대동산업 주식회사 잉크젯프린팅 인쇄적성이 우수한 도자타일용 유약 조성물 및 이를 이용한 잉크젯프린팅 도자타일의 제조방법
CN110627510B (zh) * 2019-09-12 2022-03-25 山东国瓷康立泰新材料科技有限公司 一种图案立体感可调的陶瓷砖及其制备方法
CN113248150B (zh) * 2021-06-22 2021-10-12 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 一种可提升雕刻深度的精雕保护釉、瓷砖及其制备方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104591804A (zh) * 2015-01-26 2015-05-06 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种具有立体装饰效果的陶瓷砖的制造方法
CN105330342A (zh) * 2015-10-15 2016-02-17 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制造方法
CN106800423A (zh) * 2015-11-26 2017-06-06 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种渗花瓷砖的制备方法
CN108394008A (zh) * 2018-03-23 2018-08-14 广东萨米特陶瓷有限公司 无水釉线全数码喷印工艺的陶瓷大板及其制作方法
CN109049300A (zh) * 2018-10-09 2018-12-21 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种负离子精雕砖及其制备方法
CN109293397A (zh) * 2018-10-09 2019-02-01 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种具有3d浮雕的仿古砖及其制备方法
WO2020177248A1 (zh) * 2019-03-01 2020-09-10 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 一种喷墨干粒装饰陶瓷砖及其制造方法
CN112358187A (zh) * 2020-11-27 2021-02-12 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种仿大理石超耐磨柔光砖的生产工艺及制品
CN112358326A (zh) * 2021-01-14 2021-02-12 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN113305993A (zh) * 2021-06-24 2021-08-27 广东协进陶瓷有限公司 一种镂雕丝光釉面砖及其生产方法
CN113232136A (zh) * 2021-07-13 2021-08-10 蒙娜丽莎集团股份有限公司 立体浮雕陶瓷艺术板及其制备方法

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