CN109049300A - 一种负离子精雕砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种负离子精雕砖的制备方法，包括：分别制备底釉、坯体、面釉、喷墨墨水与精雕墨水，在坯体表面依次制备底釉、喷墨印刷、面釉、烘干、烧成后即得到成品。本发明通过喷墨渗花技术，在瓷砖砖面制备了丰富逼真的3D浮雕，其制备工艺简单，不用根据瓷砖的不同设计更换模具，大幅节省了生产成本。相应的，本发明还公开了一种负离子精雕砖，其表面光泽度低，纹理清晰，立体感强；且防污性能、防滑性能较高。

Description

一种负离子精雕砖及其制备方法
技术领域
本发明属于陶瓷砖制备领域，尤其涉及一种负离子精雕砖及其制备方法。
背景技术
随着人们生活水平的提升，对于家居的功能化需求也日益增长。如何赋予家居用品更多的功能，成为了重点的研究方向。负离子瓷砖作为一种可净化室内空气的产品颇受消费者欢迎。然而，现有的负离子瓷砖的，多是将少量的可产生负离子的物质添加在釉料或喷墨墨水中，以使得瓷砖具有释放负离子的效应。然而，当在面釉中添加负离子材料时，由于面釉不耐磨，导致面釉中的有效物质很快会被磨损掉，从而丧失相应的功能；当在喷墨墨水中添加负离子材料时，容易影响墨水的发色效果。
另一方面，随着制造技术的发展，瓷砖的装饰也越来越丰富。人们也越来越致力于模仿天然石材，然而，普通的仿石材砖，都是在表面印刷一层图案，不具有立体感，急需改进。
一种改善的方法是采用布料技术在瓷砖坯体表面营造仿石材的凹凸感；如中国专利CN104193415A就公开了一种采用二次布料来制造立体装饰效果瓷砖的方法。然而，这种工艺在日常生产之中限制巨大：每更换一个产品就需要设计不同样的模具，生产过程中还需要市场更换模具，不仅生产成本高、生产效率也低。
喷墨渗花技术作为一种新型技术，目前被广泛应用在瓷质砖的生产。其主要原理是，在瓷质砖坯体表面淋底釉或二次布料制备坯体，然后喷渗透墨水，使得图案渗透到底釉层或坯体之中，烧成后再进行抛光，就形成了立体装饰的视觉感。专利CN105330342B即采用底釉加渗透墨水加透明面釉的结构，制备得到了具有立体装饰效果的一次烧超平瓷质砖。然而，就目前而言，这种渗花技术多用于釉面具有很高光泽度的瓷质砖产品，如抛釉砖等；这也就要求在烧成之后进行抛光；以提升瓷质砖表面光泽度，使得立体装饰效果能够呈现，其工序十分麻烦；另一方面，为了提升釉面的光泽度，就需要对釉料的配方进行调节，使得其具有很高的透光性，也就降低了烧成后釉面中晶体的含量，降低了瓷质砖的耐磨性能，其莫氏硬度仅达到5-6；极易磨穿。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种负离子精雕砖的制备方法，其方法简单、效率高，制得的瓷砖表面光泽度低，防滑性能优良，且可释放负离子，净化空气。
本发明还要解决的技术问题在于，提供一种负离子精雕砖，其光泽度低，防滑性优良，且表面具有3D装饰效果。
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种负离子精雕砖的制备方法，包括：
(1)制备底釉：将钾长石37-55份，高岭土6-12份，烧高岭土5-7份，碳酸钡8-13份，石英4-8份，煅烧氧化锌1-3份，煅烧滑石3-6份，第一添加剂5-10份，水30-50份加入球磨机，球磨至预设细度后加入0.8-1.8份第二添加剂，混合均匀后得到底釉釉浆；
(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；
(3)在烘干的坯体表面施底釉釉浆以形成底釉层；
(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；
(5)将步骤(4)得到的坯体放置预设时间以使装饰图案渗透形成浮雕层；
(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；
(7)将步骤(6)得到的坯体烘干；
(8)将步骤(7)得到的坯体烧成，得到负离子精雕砖成品。
作为上述技术方案的改进，所述第二添加剂的化学成分为：：SiO2 15-19％、Al2O35-8％、Fe2O3 2.5-4.5％、TiO2 4-6％、CaO 0.8-1.5％、MgO 0.2-0.6％、K2O 0.01-0.06％、Na2O 0.4-0.8％、ZnO 0.2-0.5％、CeO2 3-5％、ZrO2 14-17％、ThO2 25-29％、BaO 1.0-2.0％，余量为杂质。
作为上述技术方案的改进，步骤(1)中，所述第二添加剂平均粒径≤0.1μm。
作为上述技术方案的改进，其特征在于，所述负离子精雕砖释放负离子数为2000-3000个/cm2。
作为上述技术方案的改进，所述精雕墨水由以下重量份的原料制成：增粘剂25-50份和助渗剂5-20份；其中，所述增粘剂选用甘油、羧甲基纤维素、淀粉中的一种或组合物，所述助渗剂选用碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或组合。
作为上述技术方案的改进，所述面釉釉浆由以下重量份的原料制备而成：钠长石35-48份，高岭土6-10份，烧高岭土3-7份，煅烧氧化锌1-3份，滑石3-6份，碳酸锶7-15份，氧化锆10-15份，第一添加剂10-25份；
其中，第一添加剂的化学成分为SiO2 45-49％、Al2O3 15-17％、Fe2O3 0.2-0.7％、TiO2 0.2-0.5％、CaO 12.9-16.8％、MgO 1-3％、K2O 1.5-3.5％、Na2O 0.5-0.8％、ZnO12.7-15.9％，余量为杂质。
作为上述技术方案的改进，所述面釉釉浆的化学成分为：SiO2 45.6-52.7％、Al2O312-17％、Fe2O3 0.1-0.2％、TiO2 0.2-0.5％、CaO 5-7.5％、MgO 0.3-0.7％、K2O 2.7-5.8％、Na2O 3.6-5.3％、ZnO 3-5％、SrO 7-9％、ZrO2 3-5％，余量为杂质；
所述面釉釉浆的细度为325目筛筛余0.4-0.7％，比重为1.88-1.93g/ml，流速为30-38秒。
作为上述技术方案的改进，步骤(2)中，所述底釉釉浆的施釉量为350-400g/m2；步骤(5)中，面釉釉浆的施釉量为180-200g/m2。
作为上述技术方案的改进，所述防滑砖表面莫氏硬度≥6；吸水率≤0.1％；断裂模数≥45MPa；耐污染性为5级，摩擦系数≥0.6。
相应的，本发明还公开一种负离子精雕砖，其上述的制备方法制得。
本发明提供一种负离子精雕砖的制备方法，采用在施底釉、喷墨渗花、精雕、施面釉、烧成的工艺，制备得到了负离子精雕砖。实行本发明技术方案的有益效果如下：
1.本发明通过喷墨渗花技术，在瓷砖砖面制备了丰富逼真的3D浮雕，其制备工艺简单，不用根据瓷砖的不同设计更换模具，大幅节省了生产成本。
2.本发明将负离子有效成分添加在底釉之中，不仅防止了磨损问题，也不影响砖面发色；同时取得了瓷砖释放负离子的效果；同时，通过砖面3D结构有效提升了负离子材料与空气的接触面积，提升了负离子材料的利用效率。
3.本发明采用喷墨墨水与精雕墨水相结合的方式，加大了渗透的厚度，在表面营造了很强的立体感，且后期不进行抛光，保留了立体形状；表面立体结构对光线进行散射；有效降低了陶瓷砖表面的光泽度；且使得精雕墨水与面釉共同作用下产生了下陷与剥开的双重效果，在瓷砖表面形成了凹凸和明暗变化的纹理，手触感逼真，色泽柔和。
4.本发明通过合理的墨水配方，在瓷砖表面形成了浮雕结构；增强了瓷砖的防滑效果；同时由于浮雕下陷孔的孔径大，且孔深可控，故其防污性能优良。
5.本发明通过设计合理的精雕墨水配方体系，使得在图案渗透力强，且在渗透过程中不易分散，不形成晕染，保证图案清晰、不失真，且无色差。
6.本发明通过合理的面釉配方体系，使得面釉在保证较高透明度的情况下，也具有了较高的硬度，有效增强了瓷砖的耐磨效果；其表面莫氏硬度≥6。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明作进一步地详细描述。
(1)制备底釉：将钾长石37-55份，高岭土6-12份，烧高岭土5-7份，碳酸钡8-13份，石英4-8份，煅烧氧化锌1-3份，煅烧滑石3-6份，第一添加剂5-10份，水30-50份加入球磨机，球磨至预设细度后加入0.8-1.8份第二添加剂，混合均匀后得到底釉釉浆；
本发明的底釉釉浆由以下重量份的原料制备而成：钾长石37-55份，高岭土6-12份，烧高岭土5-7份，碳酸钡8-13份，石英4-8份，煅烧氧化锌1-3份，煅烧滑石3-6份，第一添加剂5-10份，第二添加剂0.8-1.8份；其中，碳酸钡与氧化锌能够起到非常好的乳浊作用，能够较好的遮盖坯体表面的缺陷，同时也有利于后期墨水的发色；形成具有丰富装饰作用的瓷砖。采用烧高岭土、煅烧氧化锌、煅烧滑石能有效去除高岭土、氧化锌、滑石粉中的杂质，制备得到性质优良的釉料。
所述第一添加剂化学成分为：SiO2 45-49％、Al2O3 15-17％、Fe2O3 0.2-0.7％、TiO2 0.2-0.5％、CaO 12.9-16.8％、MgO 1-3％、K2O 1.5-3.5％、Na2O 0.5-0.8％、ZnO12.7-15.9％，余量为杂质。添加剂为熔块，熔块的加入降低了烧成温度，扩大了烧成范围，同时也提升了釉料的稳定性。
所述第二添加剂中含有氧化钍，能够有效的释放负离子。第二添加剂的加入重量份为0.8-1.8份，优选的为0.8-1.5份。优选的，第二添加剂的化学成分为：SiO2 15-19％、Al2O3 5-8％、Fe2O3 2.5-4.5％、TiO2 4-6％、CaO 0.8-1.5％、MgO 0.2-0.6％、K2O 0.01-0.06％、Na2O 0.4-0.8％、ZnO 0.2-0.5％、CeO2 3-5％、ZrO2 14-17％、ThO2 25-29％、BaO1.0-2.0％，余量为杂质；第二添加剂中含有的氧化钍能够有效的释放负离子，达到净化空气的作用；氧化钍常与氧化锆共生，而底釉中通常需要加入氧化锆作为乳浊剂，将氧化钍作为释放负离子的有效成分，降低了选料的难度，降低了选料成本。本发明在第二添加剂中还添加了少量的氧化铈，其能够有效促进氧化钍的作用，释放更多的负离子，优选的，本发明中的负离子精雕砖释放负离子数为2000-3000个/cm3，进一步优选为20500-3000个/cm3。另一方面，氧化铈的加入也会促进氧化锆的析晶作用，提升底釉的乳浊效果。
其中，所述预设细度为325目筛筛余0.5-0.9％；第二添加剂的平均粒径＜0.1μm；后续加入第二添加剂可有效防止研磨过程中第二添加剂的损失，确保效果。
需要说明的是，目前常用的负离子砖，一般是将负离子成分添加在面釉或墨水之中；添加在面釉中，由于面釉硬度较低，容易磨损，有效作用时间短；添加在墨水中，容易影响其发色。本发明将负离子有效成分添加在底釉釉浆中，并在底釉釉浆中相应添加了较高量的高岭土、烧高岭土、石英，提升了底釉硬度，有效防止了磨损问题。同时，本发明中的负离子作用成分配方合理，不仅能够有效释放负离子，还能够促进底釉的析晶，提升乳浊作用。
(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；
其中，对于坯体的具体配方以及采用的原料没有特殊的限制，本领域技术人员可根据相应的生产情况选择；优选的，采用瓷质砖坯体配方，且坯体热膨胀系数与本发明釉料相适配，以保证不发生釉裂的缺陷。
优选的，所述面釉釉浆由以下重量份的原料制备而成：钠长石35-48份，高岭土6-10份，烧高岭土3-7份，煅烧氧化锌1-3份，滑石3-6份，碳酸锶7-15份，氧化锆10-15份，第一添加剂10-25份。本发明采用以钠长石、滑石为主要助熔剂的釉料配方体系，其能在较低温度下熔化，制备得到良好的釉面；且本发明中的釉面为透明釉面，能够更好的展示装饰的效果。
其中，第一添加剂的化学成分为SiO2 45-49％、Al2O3 15-17％、Fe2O3 0.2-0.7％、TiO2 0.2-0.5％、CaO 12.9-16.8％、MgO 1-3％、K2O 1.5-3.5％、Na2O 0.5-0.8％、ZnO12.7-15.9％，余量为杂质。
优选的，所述面釉釉浆的化学成分为：SiO2 45.6-52.7％、Al2O3 12-17％、Fe2O30.1-0.2％、TiO2 0.2-0.5％、CaO 5-7.5％、MgO 0.3-0.7％、K2O 2.7-5.8％、Na2O 3.6-5.3％、ZnO 3-5％、SrO 7-9％、ZrO2 3-5％，余量为杂质。从面釉釉浆的化学成分可以看出，本发明中Na2O、ZnO、SrO等碱金属氧化物含量较高，因此其能够在较低温度下熔融。同时本发明的釉料中还含有少量的MgO，其能够显著降低釉面的熔融温度，但过高含量的MgO或作为矿化剂是的锆析出，形成乳浊效应，因此本发明中控制滑石的加入量。优选的，所述面釉釉浆的细度为325目筛筛余0.4-0.7％，比重为1.88-1.93g/ml，流速为30-38秒。此细度范围内的釉浆具有比较好的流动性，在施釉过程中，能够均匀分散在瓷砖坯体表面；制备得到具有良好性能的釉面。
需要说明的是：为了提升本发明中瓷砖的精雕效果，就需要使得釉面在较低温度下熔融，以使得面釉能与精雕墨水共同作用，形成3D精雕效果；同时，也要使得面釉尽量具有更高的透明性。为了保障以上效果，一种方法是采用后期抛光的方法，但工艺较为麻烦；生产效率低；另一种方法是改变釉料配方，降低其中Al2O3的含量，以降低釉料中晶体的含量，即降低釉料中乳化剂的含量，以使得釉料足够透明；但这种釉面的耐磨性特别差，因此导致砖面的整体耐磨性降低。本发明通过釉料配方以及工艺的改善克服了上述两种缺陷：首先，本发明通过降低Al的含量整体降低了釉面的熔融温度，但为了提升釉面硬度，在配方中引入氧化锆，其能有效提升釉面的耐磨性能；但引入氧化锆会使得釉料熔化点提升；因此，其次，本发明通过引入少量的滑石以及采用低温熔点的钠长石，保证在引入氧化锆以后，不提升釉面的熔融温度；最后，本发明还精确控制了氧化镁的含量，使得面釉在引入氧化锆以后在烧成过程中不矿化，不形成乳浊效应；保证了面釉具有足够的透明度可以呈现3D效果，但同时也保证釉料具有哑光效应，使得砖面的光泽度进一步降低，3D精雕的纹理更加逼真，更加适合于仿石材、布纹、地毯砖的生产。总而言之，通过面釉配方的合理设计，有效提升了瓷砖的3D效果，降低了光泽度，且提升了砖面的硬度，使得瓷砖更加耐磨，本发明中瓷砖表面莫氏硬度≥6，进一步优选的，表面莫氏硬度≥7。
其中，所述喷墨墨水采用市场上常见的墨水，如卡罗比亚公司生产的TSG-40001型号的喷墨墨水等，本领域技术人员可根据砖面具体的色彩效果选择相适应的墨水。
其中，所述精雕墨水由以下重量份的原料制成：增粘剂25-50份和助渗剂5-20份；增粘剂能够保证墨水迅速渗入底釉层而不散开，晕染；助渗剂则能够使得喷墨墨水中的色料渗入一定深度，形成浮雕图案。优选的，所述增粘剂选用甘油、羧甲基纤维素、淀粉中的一种或组合物，进一步优选为甘油与羧甲基纤维素的组合物，其比例为甘油：羧甲基纤维素＝1:3；此配比浓度的增粘剂能够有效的提升喷墨墨水的粘度，使得着色剂不散开。优选的，所述助渗剂为碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氟酸中的一种或其组合，进一步有选为碳酸钠与氢氧化钠的组合，且碳酸钠：氢氧化钠＝1:1；碳酸钠与氢氧化钠能够与着色金属离子有效络合，使得渗透色料的渗透能力明显加强。
(3)在烘干的坯体表面施底釉釉浆以形成底釉层；
其中，对于施底釉至坯体表面的工艺没有特殊限制，可采用淋釉、喷釉、甩釉等方式进行。优选的，采用淋釉的施釉方式，具体的采用钟罩进行淋釉。钟罩淋釉能有效确保釉料的均匀分布，且能回收利用多余的釉浆，节省成本。
优选的，底釉的施釉量为350-400g/m2，进一步优选为380-400g/m2，适宜的施釉量能使得在精雕墨水渗透过程中形成富有立体感的图案。
(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；
优选的，在40-60℃之间进行喷墨印刷；进一步优选的，在50-60℃下进行喷墨印刷，控制喷墨印刷的温度能够加快砖面对于喷墨墨水以及精雕墨水的吸收速度，减少墨水晕染效应，使得渗透线条更加逼真。
(5)将步骤(4)得到的坯体放置预设时间以使装饰图案渗透形成浮雕层；
优选的，将坯体放置3-10分钟，以使得精雕墨水充分作用，形成浮雕层；进一步优选的，将坯体放置3-5分钟，过长的放置时间会影响生产效率。
(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；
其中，对于施面釉至坯体表面的工艺没有特殊限制，可采用淋釉、喷釉、甩釉等方式进行。优选的，采用喷釉的施釉方式，具体的采用水刀喷釉机进行喷釉。由于经过精雕之后的砖面具有较多的微3D结构，采用喷釉可确保釉料均匀分散，且形成较薄的，适应微3D结构的釉面，确保3D效果。
优选的，面釉釉浆的施釉量为180-200g/m2，过多的施釉量会遮挡3D图案，且浪费原料。过少的面釉则不能起到增强表面耐磨性能的效果。
(7)将步骤(6)得到的坯体进行烘干；
优选的，烘干后，所述坯体的含水率≤1％，进一步优选的，含水率≤0.8％；由于本发明中的瓷砖的釉面较厚，因此在进入窑炉烧成之前，需要对其充分烘干，以防止砖面开裂等缺陷。
(8)将步骤(7)得到的坯体进行烧成，得到负离子精雕砖成品；
优选的，烧成温度为1155-1200℃，烧成周期为55-65分钟。在此温度下烧成，能够使得坯体、釉面充分烧结，得到性能稳定的瓷质砖。
所述浮雕层的渗入厚度为0.2-1mm；优选为0.5-1mm，进一步优选为0.8-1mm。采用较深的渗入厚度，能够有效的在低光泽度的条件下凸显3D效果。本发明通过喷墨渗花技术，在瓷砖砖面制备了丰富逼真的3D浮雕，其制备工艺简单，不用更换生产模具，大幅节省了生产成本。
需要说明的是，现有的喷墨渗花技术，都是在烧结之后进行抛光，以提升表面光泽度，使得3D效果更加逼真。为了保障釉面光泽度以及降低抛光过程中磨头的损耗，常采用含铝较低的面釉配方，这就降低了釉面的硬度，降低了瓷砖的耐磨性能；另一方面，抛光将釉面进一步去粗糙化，使得瓷砖的防滑性能大大下降；抛光也暴露了隐藏在釉面的微小气孔(直径10-100μm)，这种孔洞在进入污渍以后非常不容易清洗。
本发明通过完全不同的工艺以及配方克服了上述问题。首先，本发明通过加深精雕层的渗入深度，保障了其视觉效果。本发明取消了抛光工艺，保留了砖面的真立体结构，这种结构通过对于光线的散射，形成了哑光效果，有效降低了陶瓷砖表面的光泽度；且精雕墨水与面釉共同作用下产生了下陷与剥开的双重效果，在瓷砖表面形成了凹凸和明暗变化的纹理，手触感逼真，色泽柔和。进一步的，本发明中瓷砖所形成的微3D浮雕效果使得砖面粗糙度提升，有效增强了瓷砖的防滑效果；同时由于浮雕下陷孔的孔径大，且孔深可控，即使有脏污渗入，也容易清理，故其防污性能优良。
相应的，本发明还公开了一种负离子精雕砖，其采用上述方法制备而成；优选的，所述负离子精雕砖表面莫氏硬度≥6；吸水率≤0.1％；断裂模数≥45MPa；耐污染性为5级，摩擦系数≥0.6，表面光泽度为12-16度。
下面以具体实施例来进一步阐述本发明：
实施例1
(1)制备底釉釉浆；
其中，底釉釉浆配方：钾长石37份；高岭土6份，烧高岭土5份，碳酸钡13份，石英4份，煅烧氧化锌1份，煅烧滑石3份，第一添加剂5份，第二添加剂0.8份；
第一添加剂化学成分为：SiO2 45.87％、Al2O3 15.22％、Fe2O3 0.24％、TiO20.26％、CaO 13.48％、MgO 1.48％、K2O 2.5％、Na2O 0.66％、ZnO 13.45％，余量为杂质；第二添加剂的化学成分为：SiO2 18％、Al2O3 7％、Fe2O3 3.5％、TiO2 5％、CaO 1.3％、MgO0.2％、K2O 0.02％、Na2O 0.4％、ZnO 0.2％、CeO2 4.5％，ZrO2 16％，ThO2 29％，BaO 2％，余量为杂质。底釉325目筛筛余为0.55％，比重为1.90g/mL，流速为35秒。
(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；
面釉配方为：钠长石35份，高岭土10份，烧高岭土7份，煅烧氧化锌3份，滑石6份，碳酸锶9份，氧化锆15份，第一添加剂15份；
面釉化学成分为：SiO2 50.14％、Al2O3 15.55％、Fe2O3 0.11％、TiO2 0.32％、CaO5.8％、MgO 0.4％、K2O3.5％、Na2O 5％、ZnO 3.44％、SrO 7.68％、ZrO2 4.65％，余量为杂质。面釉325目筛筛余为0.65％，比重为1.92g/mL，流速为30秒。
其中，所述精雕墨水由以下重量份的原料制成：增粘剂5-10份和助渗剂50-80份；增粘剂能够保证墨水迅速渗入底釉层而不散开，晕染；助渗剂则能够使得喷墨墨水中的色料渗入一定深度，形成浮雕图案。优选的，所述增粘剂选用甘油、羧甲基纤维素、淀粉中的一种或组合物，进一步优选为甘油与羧甲基纤维素的组合物，其比例为甘油：羧甲基纤维素＝1:3；此配比浓度的增粘剂能够有效的提升喷墨墨水的粘度，使得着色剂不散开。优选的，所述助渗剂为碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氟酸中的一种或其组合，进一步有选为碳酸钠与氢氧化钠的组合，且碳酸钠：氢氧化钠＝1:1；碳酸钠与氢氧化钠能够与着色金属离子有效络合，使得渗透色料的渗透能力明显加强。
精雕墨水配方为50份增粘剂，5份助渗剂；其中，增粘剂为羧甲基纤维素，助渗剂为碳酸钠。
(3)在烘干的坯体表面采用钟罩淋底釉釉浆以形成底釉层；
(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；
(5)将步骤(4)得到的坯体放置5分钟以使装饰图案渗透形成浮雕层；
(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；
(7)将步骤(6)得到的坯体进行烘干，烘干后坯体水分≤0.8％；
(8)将步骤(7)得到的坯体在1200℃下烧成后得到负离子精雕砖；烧成周期为55分钟；所述浮雕层渗透厚度为0.8mm。
实施例2
(1)制备底釉釉浆；
其中，底釉釉浆配方：钾长石48份；高岭土12份，烧高岭土6份，碳酸钡10份，石英6份，煅烧氧化锌3份，煅烧滑石6份，第一添加剂9份，第二添加剂1.2份；
第一添加剂化学成分为：SiO2 48.32％、Al2O3 16.25％、Fe2O3 0.22％、TiO20.48％、CaO 12.99％、MgO 2.5％、K2O 2.68％、Na2O 0.55％、ZnO 12.8％，余量为杂质；第二添加剂化学成分为：SiO2 17.5％、Al2O3 7.68％、Fe2O3 4.57％、TiO2 5.58％、CaO 1.4％、MgO 0.5％、K2O 0.05％、Na2O 0.67％、ZnO 0.44％、CeO2 4.8％，ZrO2 16.21％，ThO228.87％，BaO 1.82％，余量为杂质。底釉325目筛筛余为0.53％，比重为1.90g/mL，流速为32秒。
(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；
面釉配方为：钠长石41份，高岭土8份，烧高岭土7份，煅烧氧化锌2.5份，滑石3.5份，碳酸锶8份，氧化锆12份，第一添加剂18份；
面釉化学成分为：SiO2 51.33％、Al2O3 15.45％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.25％、CaO6.5％、MgO 0.6％、K2O 5.35％、Na2O 3.7％、ZnO 3.45％、SrO 8.05％、ZrO2 3.25％，余量为杂质。面釉325目筛筛余为0.45％，比重为1.88g/mL，流速为30秒。
精雕墨水配方为增粘剂35份，助渗剂7份；其中，所述增粘剂为羧甲基纤维素与淀粉的组合物，且羧甲基纤维素：淀粉＝2:1；注射剂为碳酸钠与氢氧化钾的组合物，且碳酸钠：氢氧化钾＝1:1。
(3)在烘干的坯体表面采用钟罩淋底釉釉浆以形成底釉层；
(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；
(5)将步骤(4)得到的坯体放置4分钟以使装饰图案渗透形成浮雕层；
(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；
(7)将步骤(6)得到的坯体进行烘干，烘干后坯体水分≤0.8％；
(8)将步骤(7)得到的坯体在1185℃下烧成后得到负离子精雕砖；烧成周期为50分钟；所述浮雕层渗透厚度为0.5mm。
实施例3
(1)制备底釉釉浆；
其中，底釉釉浆配方：钾长石50份；高岭土12份，烧高岭土7份，碳酸钡9份，石英4份，煅烧氧化锌3份，煅烧滑石6份，第一添加剂9份，第二添加剂1.5份；
第一添加剂化学成分为：SiO2 48.32％、Al2O3 16.25％、Fe2O3 0.22％、TiO20.48％、CaO 12.99％、MgO 2.5％、K2O 2.68％、Na2O 0.55％、ZnO 12.8％，余量为杂质；第二添加剂化学成分为：SiO2 17.5％、Al2O3 7.68％、Fe2O3 4.57％、TiO2 5.58％、CaO 1.4％、MgO 0.5％、K2O 0.05％、Na2O 0.67％、ZnO 0.44％、CeO2 4.8％，ZrO2 16.21％，ThO228.87％，BaO 1.82％，余量为杂质。底釉325目筛筛余为0.52％，比重为1.91g/mL，流速为32秒。
(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；
其中，底釉釉浆配方：钾长石50份；高岭土12份，烧高岭土7份，碳酸钡9份，石英4份，煅烧氧化锌3份，煅烧滑石6份，第一添加剂9份；
第一添加剂化学成分为：SiO2 48.32％、Al2O3 16.25％、Fe2O3 0.22％、TiO20.48％、CaO 12.99％、MgO 2.5％、K2O 2.68％、Na2O 0.55％、ZnO 12.8％，余量为杂质；底釉化学成分为：SiO2 57.68％、Al2O3 12.11％、Fe2O3 0.35％、TiO2 0.35％、CaO 1.25％、MgO8.05％、K2O 5.35％、Na2O 1.55％、ZnO 8.5％、BaO 3.46％，余量为杂质。底釉325目筛筛余为0.52％，比重为1.91g/mL，流速为32秒。
面釉配方为：钠长石43份，高岭土10份，烧高岭土5份，煅烧氧化锌2份，滑石3.5份，碳酸锶8.5份，氧化锆12份，第一添加剂16份；
面釉化学成分为：SiO2 50.45％、Al2O3 14.87％、Fe2O3 0.12％、TiO2 0.38％、CaO6.55％、MgO 0.6％、K2O 3.65％、Na2O 5.2％、ZnO 4％、SrO 8％、ZrO2 4.2％，余量为杂质。面釉325目筛筛余为0.45％，比重为1.9g/mL，流速为30秒。
精雕墨水配方为：增粘剂45份，助渗剂7份；其中增粘剂为甘油与羧甲基纤维素的组合物，且甘油：羧甲基纤维素＝1:3；助渗剂为碳酸钠与氢氧化钠的混合物，碳酸钠：氢氧化钠＝1:1.
(3)在烘干的坯体表面采用钟罩淋底釉釉浆以形成底釉层；
(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；
(5)将步骤(4)得到的坯体放置4分钟以使装饰图案渗透形成浮雕层；
(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；
(7)将步骤(6)得到的坯体进行烘干，烘干后坯体水分≤0.8％；
(8)将步骤(7)得到的坯体进行在1150℃下烧成后得到负离子精雕砖；烧成周期为55分钟；
所述浮雕层渗透厚度为0.5mm。
将实施例1-3中的负离子精雕砖做检测，其中，采用GB/T 3810.3-2006中的方法测试其吸水率；采用GB/T 3810.3-2006中的方法测试其断裂模数，采用GB/T3810.6-2006中的方法测试其表面耐磨性能；采用GB/T 3810.14-2006中的测试方法测试其耐污性能；采用GB/T 4100-2015中的方法测试其吸水率；采用GB/T 3810.3-2006中的方法测试其断裂模数；采用表面光泽度计测试其光泽度其结果如下表：
综上，本发明制备的负离子精雕砖的吸水率≤0.1％，断裂模数≥45MPa，光泽度≤16，摩擦系数≥0.6，耐污染性为5级，耐磨性为5级，表面莫氏硬度≥6；本发明中的负离子精雕砖具有良好的耐污染性、耐磨性以及防滑性能。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，包括：
(1)制备底釉：将钾长石37-55份，高岭土6-12份，烧高岭土5-7份，碳酸钡8-13份，石英4-8份，煅烧氧化锌1-3份，煅烧滑石3-6份，第一添加剂5-10份，水30-50份加入球磨机，球磨至预设细度后加入0.8-1.8份第二添加剂，混合均匀后得到底釉釉浆；
(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；
(3)在烘干的坯体表面施底釉釉浆以形成底釉层；
(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；
(5)将步骤(4)得到的坯体放置预设时间以使装饰图案渗透形成浮雕层；
(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；
(7)将步骤(6)得到的坯体烘干；
(8)将步骤(7)得到的坯体烧成，得到负离子精雕砖成品。
2.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述第二添加剂的化学成分为：SiO2 15-19％、Al2O3 5-8％、Fe2O3 2.5-4.5％、TiO2 4-6％、CaO 0.8-1.5％、MgO0.2-0.6％、K2O 0.01-0.06％、Na2O 0.4-0.8％、ZnO 0.2-0.5％、CeO2 3-5％、ZrO2 14-17％、ThO2 25-29％、BaO 1.0-2.0％，余量为杂质。
3.如权利要求1或2所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述第二添加剂平均粒径≤0.1μm。
4.如权利要求1-3任一项所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述负离子精雕砖释放负离子数为2000-3000个/cm2。
5.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述精雕墨水由以下重量份的原料制成：增粘剂25-50份和助渗剂5-20份；其中，所述增粘剂选用甘油、羧甲基纤维素、淀粉中的一种或组合物，所述助渗剂选用碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或组合。
6.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述面釉釉浆由以下重量份的原料制备而成：钠长石35-48份，高岭土6-10份，烧高岭土3-7份，煅烧氧化锌1-3份，滑石3-6份，碳酸锶7-15份，氧化锆10-15份，第一添加剂10-25份；
其中，第一添加剂的化学成分为SiO2 45-49％、Al2O3 15-17％、Fe2O3 0.2-0.7％、TiO20.2-0.5％、CaO 12.9-16.8％、MgO 1-3％、K2O 1.5-3.5％、Na2O 0.5-0.8％、ZnO 12.7-15.9％，余量为杂质。
7.如权利要求3所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述面釉釉浆的化学成分为：SiO2 45.6-52.7％、Al2O3 12-17％、Fe2O3 0.1-0.2％、TiO2 0.2-0.5％、CaO 5-7.5％、MgO 0.3-0.7％、K2O 2.7-5.8％、Na2O 3.6-5.3％、ZnO 3-5％、SrO 7-9％、ZrO2 3-5％，余量为杂质；
所述面釉釉浆的细度为325目筛筛余0.4-0.7％，比重为1.88-1.93g/ml，流速为30-38秒。
8.如权利要求1、2或5所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述底釉釉浆的施釉量为350-400g/m2；步骤(5)中，面釉釉浆的施釉量为180-200g/m2。
9.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述负离子精雕砖表面莫氏硬度≥6；吸水率≤0.1％；断裂模数≥45MPa；耐污染性为5级，摩擦系数≥0.6。
10.一种负离子精雕砖，其特征在于，其采用如权利要求1-9任一项所述的制备方法制得。
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