CN110550958A - 一种细腻柔和哑光黑砖及其制备方法 - Google Patents

一种细腻柔和哑光黑砖及其制备方法 Download PDF

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关伟洪
关伟铿
段锦霞
梁耀联
张庆刚
廉光
赵令逸
黄建忠
李焰红
莫炳基
张青波
冯裕海
黎泽逸
辛肖桃
梁文勇
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Abstract

本发明公开了一种细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层，其制备方法包括以下步骤：（1）将粉料压制成素坯，并在100~200℃下对素坯进行烘干，烘干时间为1~1.5小时；（2）清扫素坯表面，并在素坯表面喷水使素坯表面湿润；（3）在素坯表面施加底釉；（4）在底釉上施加哑光釉；（5）使用丝网印刷黑花釉；（6）把步骤（5）的素坯入窑烧制，温度为1155℃~1165℃，烧制时间为60~80分钟。本申请制得的黑砖砖形规整，烧制过程中不易变形，黑色釉面发色纯正，釉面耐磨、防污、硬度高，且整体呈现出细腻柔和的哑光光泽，砖面表面能够展现不同纹理图案的黑色效果，显得更有质感，填补了市场上高质量纯黑哑光砖的空白。

Description

一种细腻柔和哑光黑砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷砖制备技术领域，尤其涉及的是一种细腻柔和哑光黑砖及其制备方法。
背景技术
随着经济的快速发展和人们生活水平的不断提高，纯黑色砖消费者对陶瓷砖的要求多样化。在现有的陶瓷砖生产工艺中，由于在生产时容易出现发色不纯、白点多、毛孔多、砖形难以控制等问题，废品率较高，因此市面上大多厂家难以生产或不愿生产黑砖，这导致消费者在选择黑色瓷砖时选择面非常有限。针对黑砖的需求市场，也有少量厂家尝试生产一些黑色系列的黑砖，但也只能生产出一些亮光面的抛釉黑砖或粗面的仿古黑砖，其质感、色泽、品质都难以完全满足消费者的需求。尤其是细腻柔和的哑光黑砖，市场上几乎没有。
因此，现有技术有待改进和发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种细腻柔和哑光黑砖及其制备方法，旨在解决现有市面上几乎没有细腻柔和的哑光黑砖的技术问题。
本发明的技术方案如下：
一种细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其中，包括以下步骤：
（1）将粉料压制成素坯，并在100~200℃下对素坯进行烘干，烘干时间为1~1.5小时；
（2）清扫素坯表面，并在素坯表面喷水使素坯表面湿润；
（3）在素坯表面施加底釉；
（4）在底釉上施加哑光釉；
（5）使用丝网印刷黑花釉；
（6）把步骤（5）的素坯入窑烧制，温度为1155℃~1165℃，烧制时间为60~80分钟。
所述的细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其中，步骤（5）中使用的丝网为140目图案网版。
所述的细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其中，在步骤（5）中使用不同图案的图案网版进行连续叠加印刷。
一种细腻柔和哑光黑砖，其中，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层，底釉层使用的底釉包括按重量份计的10~15份石英、13~18份霞石、30~40份钾长石、5~10份气刀土、5~10份煅烧高岭土、15~20份煅烧氧化铝粉、1~3份烧滑石、0.1~0.4份甲基纤维素、0.3~0.6份三聚磷酸钠、5~12份硅酸锆和38~45份水。
所述的细腻柔和哑光黑砖，其中，底釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨6~8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.7%~1.0%，比重：1.88~1.95g/ml，流速为70~90秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
所述的细腻柔和哑光黑砖，其中，哑光釉层使用的哑光釉包括按重量份计的30~40份钾长石、10~20份烧滑石、8~15份方解石、1~5份石英、6~11份碳酸钡、3~8份煅烧氧化铝、5~10份气刀土、2~6份氧化锌、0.1~0.4份甲基纤维素、0.3~0.6份三聚磷酸钠和38~45份水。
所述的细腻柔和哑光黑砖，其中，哑光釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨6~8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.3%~0.6%，比重：1.88~1.95g/ml，流速为70~90秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
所述的细腻柔和哑光黑砖，其中，黑花釉层使用的黑花釉包括按重量份计的30~40份钾长石、10~20份烧滑石、8~15份方解石、1~5份石英、5~12份碳酸钡、3~8份煅烧氧化铝、4~11份气刀土、2~6份氧化锌、10~15份钴黑、0~3份钴兰、0.3~0.6份三聚磷酸钠、100~150份印膏、30~50份水。
所述的细腻柔和哑光黑砖，其中，黑花釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨6~8小时，球磨至细度为325目筛，筛余小于0.1%，比重：1.3~1.45g/ml，流速为70~90秒，从球磨机放浆时过140目筛。
有益效果：
本申请提出了一种细腻柔和哑光黑砖配方及其制备方法，并提出“釉上彩”的发明构思，使制得的黑砖砖形规整，烧制过程中不易变形，黑色釉面发色纯正，釉面耐磨、防污、硬度高，且整体呈现出细腻柔和的哑光光泽，砖面表面能够展现不同纹理图案的黑色效果，显得更有质感，填补了市场上高质量纯黑哑光砖的空白，能够满足消费者对于纯黑哑光砖的需求。
具体实施方式
下面通过优选的实施例来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
细腻柔和哑光黑砖的制备方法包括以下步骤：
一种细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）将粉料压制成素坯，并在150℃下对素坯进行烘干，烘干时间为1小时；
（2）清扫素坯表面，并在素坯表面喷水使素坯表面湿润；
（3）在素坯表面施加底釉；
（4）在底釉上施加哑光釉；
（5）使用丝网印刷黑花釉, 使用的丝网优选为140目图案网版。根据实际需求，可以使用不同图案的图案网版进行连续叠加印刷，以展现不同纹理图案的黑色效果；
（6）把步骤（5）的素坯入窑烧制，烧制温度为以“德国福禄测温环”计：1160℃，烧制时间为65分钟。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
具体的，底釉层使用的底釉包括按重量份计的13份石英、13份霞石、35份钾长石、10份气刀土、8份煅烧高岭土、18份煅烧氧化铝粉、2份烧滑石、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠、8份硅酸锆和42份水。底釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.9%，比重：1.90g/ml，流速为80秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
具体的，哑光釉层使用的哑光釉包括按重量份计的35份钾长石、15份烧滑石、14份方解石、3份石英、8份碳酸钡、5份煅烧氧化铝、8份气刀土、4份氧化锌、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠和42份水。哑光釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.5%，比重：1.90g/ml，流速为80秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
具体的，黑花釉层使用的黑花釉包括按重量份计的35份钾长石、18份烧滑石、10份方解石、3份石英、8份碳酸钡、5份煅烧氧化铝、8份气刀土、4份氧化锌、13份钴黑、2份钴兰、0.5份三聚磷酸钠、120份印膏、40份水。黑花釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨8小时，球磨至细度为325目筛，筛余为0.08%，比重：1.40g/ml，流速为80秒，从球磨机放浆时过140目筛。
实施例2
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例1相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
其中，底釉层使用的底釉包括按重量份计的13份石英、15份霞石、35份钾长石、8份气刀土、8份煅烧高岭土、18份煅烧氧化铝粉、2份烧滑石、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠、8份硅酸锆和42份水。底釉的制备方法与实施例1相同。
哑光釉的配方及制备方法与实施例1相同。
黑花釉的配方及制备方法与实施例1相同。
实施例3
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例1相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
其中，底釉层使用的底釉包括按重量份计的13份石英、18份霞石、35份钾长石、5份气刀土、8份煅烧高岭土、18份煅烧氧化铝粉、2份烧滑石、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠、8份硅酸锆和42份水。底釉的制备方法与实施例1相同。
哑光釉的配方及制备方法与实施例1相同。
黑花釉的配方及制备方法与实施例1相同。
对比例1
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例1相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
其中，底釉层使用的底釉包括按重量份计的13份石英、35份钾长石、23份气刀土、8份煅烧高岭土、18份煅烧氧化铝粉、2份烧滑石、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠、8份硅酸锆和42份水。底釉的制备方法与实施例1相同。
哑光釉的配方及制备方法与实施例1相同。
黑花釉的配方及制备方法与实施例1相同。
实施例1、2、3的区别在于底釉配方中霞石和气刀土的配比不同，实施例1、2、3制得的底釉细腻柔和，且具有高膨胀系数，均匀地淋在素坯上时，在坯与釉之间形成良好的坯釉结合层，可用以控制砖形，克服了现有工艺中黑砖砖形难以控制的缺点，有助于保证黑砖成品的品质。
现有工艺中，出于保护色彩的考虑，黑砖一般采用“釉中彩”工艺，即将黑釉施在底釉和面釉之间，因此，底釉需要利于发色。而霞石中由于含铝量较高，不利于发色，因此一般不会在底釉中使用霞石。如对比例1中没有加入霞石，更利于发色，但釉料的细腻程度较低，釉面呈现的效果也不够有质感。
本申请打破行业偏见，提出了“釉上彩”工艺，即将黑釉施在底釉和哑光面釉之上，因此不需要底釉利于发色。从这个发明构思出发，本申请在底釉配方中搭配使用适量的霞石和气刀土，霞石中钾、钠、钙的含量都比较高，加入霞石在底釉中，与气刀土及其他材料配合反应，可以大大增加底釉的细腻度，使釉面呈现柔和的质感。
实施例4
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例2相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
底釉的配方及制备方法与实施例2相同。
其中，哑光釉层使用的哑光釉包括按重量份计的35份钾长石、15份烧滑石、14份方解石、3份石英、6份碳酸钡、5份煅烧氧化铝、10份气刀土、4份氧化锌、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠和42份水。哑光釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.5%，比重：1.90g/ml，流速为80秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
黑花釉的配方及制备方法与实施例2相同。
实施例5
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例2相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
底釉的配方及制备方法与实施例2相同。
其中，哑光釉层使用的哑光釉包括按重量份计的35份钾长石、15份烧滑石、14份方解石、3份石英、11份碳酸钡、5份煅烧氧化铝、5份气刀土、4份氧化锌、0.3份甲基纤维素、0.5份三聚磷酸钠和42份水。哑光釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.5%，比重：1.90g/ml，流速为80秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
黑花釉的配方及制备方法与实施例2相同。
实施例2、4、5的区别在于哑光釉配方中碳酸钡和气刀土的配比不同。碳酸钡助熔范围宽，折光率高，利于发色。但当碳酸钡的用量过高时，反而使釉变得难熔。因此，本申请基于“釉上彩”工艺的发明构思，在哑光釉配方中加入适量碳酸钡，与气刀土及其他材料配合反应后，得到的哑光釉细腻柔和，有利于后续黑花釉的发色。其中，实施例2得到的哑光釉能最大限度减少釉面浪纹和微孔等缺陷。
实施例6
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例2相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
底釉的配方及制备方法与实施例2相同。
哑光釉的配方及制备方法与实施例2相同。
黑花釉层使用的黑花釉包括按重量份计的35份钾长石、18份烧滑石、10份方解石、3份石英、5份碳酸钡、5份煅烧氧化铝、11份气刀土、4份氧化锌、13份钴黑、2份钴兰、0.5份三聚磷酸钠、120份印膏、40份水。
实施例7
细腻柔和哑光黑砖的制备方法与实施例2相同。
细腻柔和哑光黑砖，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层。
底釉的配方及制备方法与实施例2相同。
哑光釉的配方及制备方法与实施例2相同。
黑花釉层使用的黑花釉包括按重量份计的35份钾长石、18份烧滑石、10份方解石、3份石英、12份碳酸钡、5份煅烧氧化铝、4份气刀土、4份氧化锌、13份钴黑、2份钴兰、0.5份三聚磷酸钠、120份印膏、40份水。
实施例2、6、7的区别在于黑花釉配方中碳酸钡和气刀土的配比不同。在传统的“釉中彩”工艺中，由于黑釉位于面釉下层，因此无论是制备亮光黑砖还是哑光黑砖，在调制黑釉时都倾向于尽可能提高黑釉的亮度和光泽度，以显得成品发色更纯，但这样依然难以避免黑色“发蒙”、“发兰”等发色不纯的现象。而碳酸钡折光率高，会大幅度消减黑釉的光泽度，因此一般不会考虑在黑釉中添加。
但本申请基于“釉上彩”工艺的发明构思，由于黑花釉位于最上层，因此黑花釉的调制需要考虑耐磨性、防污性和硬度等性能，并且黑砖最后呈现的效果直接取决于黑花釉的釉面效果。因此，本申请在黑花釉配方中加入适量碳酸钡，与气刀土及其他材料配合反应后，得到的黑花釉的釉面耐磨性按照GB/T3810.7~2006《陶瓷砖试验方法》第7部分（有釉砖表面耐磨性的测定）所规定的方法做测试，耐磨度均能达到4级(耐磨性的分级为1~5级，5级是耐磨度最高级)，莫氏硬度均达6级。黑砖釉面效果整体呈哑光，但具有细腻柔和的光泽（光泽度约为8~18°），发色纯正，克服了传统“釉中彩”工艺中黑色“发蒙”、“发兰”等发色不纯的现象，并且多层叠加之后依然纹理清晰，能够更好地展现不同纹理图案的黑色效果。其中，实施例7得到的黑花釉，哑光效果更细腻，使瓷砖整体质感更加柔和、有质感。
本申请提出了一种细腻柔和哑光黑砖配方及其制备方法，并提出“釉上彩”的发明构思，使制得的黑砖砖形规整，烧制过程中不易变形，黑色釉面发色纯正，釉面耐磨、防污、硬度高，且整体呈现出细腻柔和的哑光光泽，砖面表面能够展现不同纹理图案的黑色效果，显得更有质感，填补了市场上高质量纯黑哑光砖的空白，能够满足消费者对于纯黑哑光砖的需求。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (9)

1.一种细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将粉料压制成素坯，并在100~200℃下对素坯进行烘干，烘干时间为1~1.5小时；（2）清扫素坯表面，并在素坯表面喷水使素坯表面湿润；（3）在素坯表面施加底釉；（4）在底釉上施加哑光釉；（5）使用丝网印刷黑花釉；（6）把步骤（5）的素坯入窑烧制，温度为1155℃~1165℃，烧制时间为60~80分钟。
2.根据权利要求1所述的细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其特征在于，步骤（5）中使用的丝网为140目图案网版。
3.根据权利要求2所述的细腻柔和哑光黑砖的制备方法，其特征在于，在步骤（5）中使用不同图案的图案网版进行连续叠加印刷。
4.一种细腻柔和哑光黑砖，其特征在于，从下往上包括素坯层、底釉层、哑光釉层和黑花釉层；所述底釉层使用的底釉包括按重量份计的10~15份石英、13~18份霞石、30~40份钾长石、5~10份气刀土、5~10份煅烧高岭土、15~20份煅烧氧化铝粉、1~3份烧滑石、0.1~0.4份甲基纤维素、0.3~0.6份三聚磷酸钠、5~12份硅酸锆和38~45份水。
5.根据权利要求4所述的细腻柔和哑光黑砖，其特征在于，所述底釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨6~8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.7%~1.0%，比重：1.88~1.95g/ml，流速为70~90秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
6.根据权利要求4所述的细腻柔和哑光黑砖，其特征在于，所述哑光釉层使用的哑光釉包括按重量份计的30~40份钾长石、10~20份烧滑石、8~15份方解石、1~5份石英、6~11份碳酸钡、3~8份煅烧氧化铝、5~10份气刀土、2~6份氧化锌、0.1~0.4份甲基纤维素、0.3~0.6份三聚磷酸钠和38~45份水。
7.根据权利要求6所述的细腻柔和哑光黑砖，其特征在于，所述哑光釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨6~8小时，球磨至细度为325目筛，筛余0.3%~0.6%，比重：1.88~1.95g/ml，流速为70~90秒，从球磨机放浆时进行除铁操作并过140目筛。
8.根据权利要求4所述的细腻柔和哑光黑砖，其特征在于，所述黑花釉层使用的黑花釉包括按重量份计的30~40份钾长石、10~20份烧滑石、8~15份方解石、1~5份石英、5~12份碳酸钡、3~8份煅烧氧化铝、4~11份气刀土、2~6份氧化锌、10~15份钴黑、0~3份钴兰、0.3~0.6份三聚磷酸钠、100~150份印膏、30~50份水。
9.根据权利要求8所述的细腻柔和哑光黑砖，其特征在于，所述黑花釉的制备方法为：将各原料按份数加入球磨机中，球磨6~8小时，球磨至细度为325目筛，筛余小于0.1%，比重：1.3~1.45g/ml，流速为70~90秒，从球磨机放浆时过140目筛。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111943724A (zh) * 2020-08-11 2020-11-17 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种亚光透明釉瓷片的制造方法
CN112062468A (zh) * 2020-08-26 2020-12-11 广东嘉联企业陶瓷有限公司 一种应用于岩板表面的质感釉层及其制备方法
CN112390529A (zh) * 2020-12-02 2021-02-23 重庆唯美陶瓷有限公司 一种瓷质哑光仿古砖及其制造方法
CN112876077A (zh) * 2021-03-05 2021-06-01 广东新润成陶瓷有限公司 一种用于哑光仿古砖的保护釉及仿古砖及其制备方法
CN113213764A (zh) * 2021-05-25 2021-08-06 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种熔岩黑砖釉及其制备方法、应用
CN114195480A (zh) * 2021-12-23 2022-03-18 新明珠集团股份有限公司 一种细腻耐污的抗菌砖及其制备方法

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1470735A1 (ru) * 1987-08-31 1989-04-07 Государственный Научно-Исследовательский Институт Строительной Керамики "Ниистройкерамика" Нефриттованна глазурь
CN1460655A (zh) * 2003-01-24 2003-12-10 淄博德惠来装饰瓷板有限公司 超薄纤瓷板及其成型工艺和设备
CN101182239A (zh) * 2006-11-14 2008-05-21 霍炳祥 一种花釉及其制造方法
CN101407434A (zh) * 2008-08-26 2009-04-15 陈明辉 使用珠光云母颜料制造墙地砖方法
CN102329153A (zh) * 2011-07-08 2012-01-25 晋江恒达陶瓷有限公司 一种印花瓷砖的生产方法
CN102390933A (zh) * 2011-08-10 2012-03-28 广东道氏技术股份有限公司 一种抛晶砖用干粒及抛晶砖的制备方法
CN102731169A (zh) * 2012-07-13 2012-10-17 佛山市科捷制釉有限公司 全抛釉瓷片及其制备方法
CN102951932A (zh) * 2012-12-06 2013-03-06 广东金牌陶瓷有限公司 一种瓷片及其制造方法
CN104140297A (zh) * 2014-08-26 2014-11-12 广东宏陶陶瓷有限公司 浮雕幻影釉面砖的釉及制备
CN105293912A (zh) * 2015-11-20 2016-02-03 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种具有磨砂表面的釉面砖制造方法
CN107814587A (zh) * 2017-09-22 2018-03-20 山东狮子王陶瓷科技有限公司 七彩云墨石的制备方法
CN107892589A (zh) * 2018-01-05 2018-04-10 高安市陶瓷工程中心 一种用于陶瓷薄板中的柔光釉
CN109369220A (zh) * 2018-05-30 2019-02-22 佛山唯思创意产品策划股份有限公司 一种干粒柔抛瓷砖生产工艺

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1470735A1 (ru) * 1987-08-31 1989-04-07 Государственный Научно-Исследовательский Институт Строительной Керамики "Ниистройкерамика" Нефриттованна глазурь
CN1460655A (zh) * 2003-01-24 2003-12-10 淄博德惠来装饰瓷板有限公司 超薄纤瓷板及其成型工艺和设备
CN101182239A (zh) * 2006-11-14 2008-05-21 霍炳祥 一种花釉及其制造方法
CN101407434A (zh) * 2008-08-26 2009-04-15 陈明辉 使用珠光云母颜料制造墙地砖方法
CN102329153A (zh) * 2011-07-08 2012-01-25 晋江恒达陶瓷有限公司 一种印花瓷砖的生产方法
CN102390933A (zh) * 2011-08-10 2012-03-28 广东道氏技术股份有限公司 一种抛晶砖用干粒及抛晶砖的制备方法
CN102731169A (zh) * 2012-07-13 2012-10-17 佛山市科捷制釉有限公司 全抛釉瓷片及其制备方法
CN102951932A (zh) * 2012-12-06 2013-03-06 广东金牌陶瓷有限公司 一种瓷片及其制造方法
CN104140297A (zh) * 2014-08-26 2014-11-12 广东宏陶陶瓷有限公司 浮雕幻影釉面砖的釉及制备
CN105293912A (zh) * 2015-11-20 2016-02-03 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种具有磨砂表面的釉面砖制造方法
CN107814587A (zh) * 2017-09-22 2018-03-20 山东狮子王陶瓷科技有限公司 七彩云墨石的制备方法
CN107892589A (zh) * 2018-01-05 2018-04-10 高安市陶瓷工程中心 一种用于陶瓷薄板中的柔光釉
CN109369220A (zh) * 2018-05-30 2019-02-22 佛山唯思创意产品策划股份有限公司 一种干粒柔抛瓷砖生产工艺

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111943724A (zh) * 2020-08-11 2020-11-17 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种亚光透明釉瓷片的制造方法
CN112062468A (zh) * 2020-08-26 2020-12-11 广东嘉联企业陶瓷有限公司 一种应用于岩板表面的质感釉层及其制备方法
CN112390529A (zh) * 2020-12-02 2021-02-23 重庆唯美陶瓷有限公司 一种瓷质哑光仿古砖及其制造方法
CN112876077A (zh) * 2021-03-05 2021-06-01 广东新润成陶瓷有限公司 一种用于哑光仿古砖的保护釉及仿古砖及其制备方法
CN112876077B (zh) * 2021-03-05 2022-05-27 广东新润成陶瓷有限公司 一种用于哑光仿古砖的保护釉及仿古砖及其制备方法
CN113213764A (zh) * 2021-05-25 2021-08-06 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种熔岩黑砖釉及其制备方法、应用
CN113213764B (zh) * 2021-05-25 2022-09-02 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种熔岩黑砖釉及其制备方法、应用
CN114195480A (zh) * 2021-12-23 2022-03-18 新明珠集团股份有限公司 一种细腻耐污的抗菌砖及其制备方法

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