CN105272378B - 一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品 - Google Patents
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Abstract
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品，所述制备方法包括以下步骤：A、坯体成型，向坯体表面施面釉；B、喷墨印花；C、印花后喷墨打印下陷墨水；D、淋生料厚抛釉，所述生料厚抛釉的厚抛釉粉中含有重量百分比不少于50％的SiO2和不少于12％的Al2O3；E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉，烧成获得成品。本发明提出一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，有效的解决现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制，使陶瓷砖具备下陷纹理和仿大理石纹理，且其纹理各异，并让砖面局部区域产生下陷效果，形态各异，动静结合，凹凸有致，立体层次感更强的问题；其制备获得结合下陷纹理的仿大理石纹理新型厚釉砖，其立体层次感强、具有更逼真的下陷纹理效果。
Description
技术领域
本发明涉及抛釉砖技术领域，尤其涉及一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品。
背景技术
最近几年大理石抛釉砖瓷砖越来热火了，越来越多以大理石等品种为主的仿石材抛釉瓷砖进入市场上。因其较好的表现效果和质地，深受广大消费者欢迎。越来越多的消费者，都把装修的目标从天然大理石改为了仿大理石纹的瓷砖。随着消费者对产品品质的更高要求，普通模仿大理石色彩纹理的抛釉砖产品已经不能满足市场的需求，对瓷砖产品表面还原天然大理石更为立体化、更逼真的纹理效果的需求因此产生。
市场上现有仿天然大理石立体纹理的技术方式就是薄抛釉结合丝网印刷工艺生产，该技术方式工艺流程为：砖坯压制→干燥→喷水→淋面釉→印花→淋或印薄抛釉→丝网印刷下陷石纹纹理效果网→烧成。用该种方式生产的具有石纹下陷立体效果的抛釉砖存在的问题主要有：1、产品抛釉量约为250克干料，烧成后产生的釉层只有0.2-0.3MM，如此薄的釉层既不利于后期的抛光加工，又没有产生晶莹剔透的质感效果；2、丝网印刷下陷石纹纹理效果网，使得产生的下陷纹理不但片片相同，导致图案呆板；而且如果运用喷墨打印印花装饰瓷砖的话，瓷砖每片产品的图案都不一致，会造成下陷纹理并不能准确反应真实石材的纹理。会给消费者造成产品模仿度很低的感觉。
发明内容
本发明的目的在于提出一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，有效的解决现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制，使陶瓷砖具备仿大理石纹理，且其纹理各异，并让砖面局部区域产生下陷效果，形态各异，动静结合，凹凸有致，立体层次感更强的问题。
本发明的另一个目的在于提出一种立体层次感强、具有更逼真的下陷纹理效果的仿大理石新型厚釉砖。
为达上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉；
B、喷墨印花；
C、印花后喷墨打印下陷墨水；
D、淋生料厚抛釉，所述生料厚抛釉的厚抛釉粉中含有重量百分比不少于 50％的SiO2和不少于12％的Al2O3；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉，烧成获得成品。
更进一步的说明，所述SiO2的含量不大于55％，所述Al2O3的含量不大于15％。
更进一步的说明，所述生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉，其由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠： 0.27％，水：27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO2： 51.98％，Al2O3：12.19％，Fe2O3：0.10％，TiO2：0.01％，CaO：8.83％，MgO：3.09％， K2O：3.29％，Na2O：1.67％，ZrO2：0.20％，ZnO：8.10％。
更进一步的说明，所述喷墨打印下陷墨水工序中使用的下陷墨水含有以下质量百分比的组分：V2O520-30％、Bi2O350-60％、Ba2CO37-8％、ZnO3-4％、SiO23-4％、 Al2O33.5-4％、(K2O+Na2O)1.5-2.5％。
更进一步的说明，所述步骤C印花后按照前步骤的印花装饰图案设计下陷墨水的喷墨。
更进一步的说明，所述步骤E烧成后还包括抛磨和切割工序。
更进一步的说明，所述步骤D淋生料厚抛釉的厚度不少于4mm。
更进一步的说明，所述步骤A施面釉前对坯体先进行干燥处理。
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖，所述生料厚釉仿大理石纹理新型抛釉砖采用上述的方法制备而成。
本发明的有益效果：1、通过下陷墨水和生料厚抛釉的结合，使陶瓷砖具备仿大理石纹理，且其纹理各异，并让砖面局部区域产生下陷效果，形态各异，动静结合，凹凸有致，立体层次感更强的问题；2、选用生料厚抛，其烧后釉层达2mm以上，有利于后续的抛光加工，使砖面具有晶莹剔透的质感；3、解决原厚抛釉由于个体高温流动性大等因素造成下陷效果线虚，边缘釉塌陷的问题；4、解决了产品下陷效果呆板，不能随设计变化的问题。
具体实施方式
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉；
B、喷墨印花；
C、印花后喷墨打印下陷墨水；
D、淋生料厚抛釉，所述生料厚抛釉的厚抛釉粉中含有重量百分比不少于 50％的SiO2和不少于12％的Al2O3；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉，烧成获得成品。
本发明将喷墨打印下陷墨水与生料厚抛釉相结合制备具立体石纹纹理抛釉产品的方法，有效的解决现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制，通过下陷墨水和生料厚抛釉的结合，使陶瓷砖具备仿大理石纹理，且其纹理各异，并让砖面局部区域产生下陷效果，形态各异，动静结合，凹凸有致，立体层次感更强的问题。更优的，选用生料厚抛，其烧后釉层达0.5mm以上，有利于后续的抛光加工，使砖面具有晶莹剔透的质感。
通过提高现有生料厚釉配方中高岭土和石英的含量，增加抛釉层的高温粘度，降低抛釉层的表面张力、收缩性和浸润角，解决原厚抛釉由于个体高温流动性大等因素造成下陷效果线虚，边缘釉塌陷，下陷线条图案粗犷，不细腻，下陷纹理细节不受设计控制的问题，使下陷效果可明显区分，其下陷线条图案变细腻，本发明喷墨打印下陷墨水与生料厚抛釉相结合制备的新型抛釉砖具有更为立体化、更逼真的纹理效果。
更进一步的说明，SiO2和Al2O3的含量过大，会使釉层烧成所需的温度大大提高，甚至会影响到坯体的质量和强度，因此，所述SiO2的含量不大于55％，所述Al2O3的含量不大于15％。
更进一步的说明，所述生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉，其由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠： 0.27％，水：27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO2： 51.98％，Al2O3：12.19％，Fe2O3：0.10％，TiO2：0.01％，CaO：8.83％，MgO：3.09％， K2O：3.29％，Na2O：1.67％，ZrO2：0.20％，ZnO：8.10％。
更进一步的说明，所述喷墨打印下陷墨水工序中使用的下陷墨水含有以下质量百分比的组分：V2O520-30％、Bi2O350-60％、Ba2CO37-8％、ZnO3-4％、SiO23-4％、 Al2O33.5-4％、(K2O+Na2O)1.5-2.5％。
需要说明的是，下陷墨水可参考现有技术中的下陷墨水生产方式进行制备，优选的，下陷墨水含有以下质量百分比的组分：V2O520-30％、Bi2O350-60％、Ba2CO3 7-8％、ZnO3-4％、SiO23-4％、Al2O33.5-4％、(K2O+Na2O)1.5-2.5％，对其组分作更进一步的限定，使下陷墨水与厚抛釉之间具有明显的互斥作用，即使厚抛釉在高温作用下流动性变大了，其边缘釉也不会出现凹陷或塌陷的现象，确保下陷线条的清晰细腻感。
更进一步的说明，所述步骤C印花后按照前步骤的印花装饰图案设计下陷墨水的喷墨。用于产生立体层次感石纹下陷效果的功能型下陷墨水由喷墨打印机在喷墨印花装饰后，按照图案效果喷墨施印在坯体表面，下陷纹理的粗细和深度根据设计效果，通过喷墨下陷墨水线条粗细和喷墨量来实现，解决了产品下陷效果呆板，不能随设计变化的问题。
更进一步的说明，所述步骤E烧成后还包括抛磨和切割工序。
更进一步的说明，所述步骤D淋生料厚抛釉的厚度不少于4mm。
更进一步的说明，所述步骤A施面釉前对坯体先进行干燥处理。干燥后的坯体在上釉前，坯体温度控制在70-85℃之间，其中，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa。
实施例1
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉：按质量百分比计，将球土：5.4％，原矿泥：18.00％，中温砂：32.07％，水磨石粉：21.06％，长石：20.06％，高铝砂： 2.01％，滑石：1.4％称量配料，作为坯体配方，球磨过筛陈腐获得泥浆，对泥浆进行喷雾干燥获得粉料，均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，对坯体进行干燥后采用钟罩淋釉方式进行施面釉；
B、喷墨印花：在面釉层表面喷墨印刷大理石的纹理图案，其线条各有粗细；
C、对应印花图案的大理石线条纹理喷墨打印下陷墨水，线条粗的喷墨量加大，细的减少喷墨量；其中，下陷墨水含有以下质量分数的组分：V2O525％、Bi2O3 55％、Ba2CO38％、ZnO 3％、SiO24％、Al2O33％、(K2O+Na2O)2％。
D、淋生料厚抛釉，厚度为0.5mm，所述厚抛釉由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠：0.27％，水： 27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO2：51.98％，Al2O3： 12.19％，Fe2O3：0.10％，TiO2：0.01％，CaO：8.83％，MgO：3.09％，K2O：3.29％， Na2O：1.67％，ZrO2：0.20％，ZnO：8.10％，烧失5.18％；淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/ 片，细度(325目筛余)0.7％～1.0％；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉进行烧制，其中产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃，烧成后釉层的厚度为0.45mm，抛磨切割获得成品。
设计不同的大理石纹理采用实施例1的方式来制备，获得砖面效果各异，仿大理石逼真效果的抛釉砖，其形态各异，下陷效果逼真，动静结合，凹凸有致，立体层次感强。
对比实施例1-厚抛釉的组分限定
一种生料厚釉仿大理石纹理抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉：按质量百分比计，将球土：5.4％，原矿泥：18.00％，中温砂：32.07％，水磨石粉：21.06％，长石：20.06％，高铝砂： 2.01％，滑石：1.4％称量配料，作为坯体配方，球磨过筛陈腐获得泥浆，对泥浆进行喷雾干燥获得粉料，均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，对坯体进行干燥后采用钟罩淋釉方式进行施面釉；
B、喷墨印花：在面釉层表面喷墨印刷大理石的纹理图案，其线条各有粗细；
C、对应印花图案的大理石线条纹理喷墨打印下陷墨水，线条粗的喷墨量加大，细的减少喷墨量；其中，下陷墨水含有以下质量分数的组分：V2O525％、Bi2O3 55％、Ba2CO38％、ZnO 3％、SiO24％、Al2O33％、(K2O+Na2O)2％。
D、淋生料厚抛釉，厚度为0.46mm，所述厚抛釉由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠：0.27％，水： 27.94％。其中，厚抛釉粉含有以下重量百分比的化学组分：SiO2：48.28％，Al2O3：11.52％，Fe2O3：0.12％，TiO2：0.01％，CaO：10.12％，MgO：3.56％，K2O：3.69％， Na2O：1.92％，ZrO2：0.21％，ZnO：9.32％，烧失：4.96％。淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/ 片，细度(325目筛余)0.7％～1.0％；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉进行烧制，烧成后釉层的厚度为0.4mm，抛磨切割获得成品。所获得的抛釉砖其砖面下陷纹理效果比实施例1中的砖面下陷效果要线虚，下陷线条不细腻，逼真感不强。
实施例组2-下陷墨水的组分限定
采用与实施例1相同的工序和坯体配方，不同的是选用的下陷墨水，其含有的组分按下表进行调配备用，用于下陷墨水的喷墨。
| 组分(％) | 实施例2-1 | 实施例2-2 | 实施例2-3 | 实施例2-4 | 实施例2-5 |
| V<sub>2</sub>O<sub>5</sub> | 15 | 20 | 25 | 30 | 35 |
| Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub> | 65 | 60 | 55 | 50 | 45 |
| Ba<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> | 9 | 7 | 8 | 7 | 5 |
| ZnO | 5 | 3 | 4 | 3 | 5 |
| SiO<sub>2</sub> | 2 | 3.5 | 3 | 4 | 4.5 |
| Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> | 3 | 4 | 3.5 | 3.5 | 4.5 |
| K<sub>2</sub>O+Na<sub>2</sub>O | 1 | 2.5 | 1.5 | 2.5 | 1 |
对实施例2-1至2-5获得砖面效果进行观察，实施例2-2、2-3、2-4比实施例2-1或实施例2-5的砖面内的下陷效果更加的清晰细腻，可见对下陷墨水组分作更进一步的限定，V2O520-30％、Bi2O350-60％、Ba2CO37-8％、ZnO3-4％、 SiO23-4％、Al2O33.5-4％、(K2O+Na2O)1.5-2.5％，使下陷墨水与厚抛釉之间具有一定的互斥作用，厚抛釉不会影响到下陷墨水的使用效果，即使厚抛釉在高温作用下流动性变大了，其边缘釉也不会出现凹陷或塌陷的现象，确保下陷线条的清晰细腻感。此外，该限定的下陷墨水在下陷纹理的细节处理上具有更加良好的可控性。
实施例3
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉：按质量百分比计，将球土：5.4％，原矿泥：18.00％，中温砂：32.07％，水磨石粉：21.06％，长石：20.06％，高铝砂： 2.01％，滑石：1.4％称量配料，作为坯体配方，球磨过筛陈腐获得泥浆，对泥浆进行喷雾干燥获得粉料，均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，对坯体进行干燥后采用钟罩淋釉方式进行施面釉；
B、喷墨印花：在面釉层表面喷墨印刷大理石的纹理图案，其线条各有粗细；
C、对应印花图案的大理石线条纹理喷墨打印下陷墨水，线条粗的喷墨量加大，细的减少喷墨量；其中，下陷墨水含有以下质量分数的组分：V2O525％、Bi2O3 55％、Ba2CO38％、ZnO 3％、SiO24％、Al2O33％、(K2O+Na2O)2％。
D、淋生料厚抛釉，厚度为0.5mm，所述厚抛釉由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠：0.27％，水： 27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO2：50％，Al2O3： 12％，Fe2O3：0.09％，TiO2：0.02％，CaO：8.85％，MgO：3.07％，K2O：3.49％，Na2O： 1.57％，ZrO2：0.10％，ZnO：8.00％，烧失5.48％；淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/片，细度(325目筛余)0.7％～1.0％；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉进行烧制，其中产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃，烧成后釉层的厚度为0.45mm，抛磨切割获得成品。
设计不同的大理石纹理采用实施例3的方式来制备，获得砖面效果各异，仿大理石逼真效果的抛釉砖，其形态各异，下陷效果逼真，动静结合，凹凸有致，立体层次感强。
实施例4
一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉：按质量百分比计，将球土：5.4％，原矿泥：18.00％，中温砂：32.07％，水磨石粉：21.06％，长石：20.06％，高铝砂： 2.01％，滑石：1.4％称量配料，作为坯体配方，球磨过筛陈腐获得泥浆，对泥浆进行喷雾干燥获得粉料，均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，对坯体进行干燥后采用钟罩淋釉方式进行施面釉；
B、喷墨印花：在面釉层表面喷墨印刷大理石的纹理图案，其线条各有粗细；
C、对应印花图案的大理石线条纹理喷墨打印下陷墨水，线条粗的喷墨量加大，细的减少喷墨量；其中，下陷墨水含有以下质量分数的组分：V2O525％、Bi2O3 55％、Ba2CO38％、ZnO 3％、SiO24％、Al2O33％、(K2O+Na2O)2％。
D、淋生料厚抛釉，厚度为0.5mm，所述厚抛釉由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠：0.27％，水： 27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO2：55％，Al2O3： 15％，Fe2O3：0.12％，TiO2：0.01％，CaO：8.73％，MgO：2.89％，K2O：3.59％，Na2O： 1.87％，ZrO2：0.20％，ZnO：8.10％，烧失6.08％；淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/片，细度(325目筛余)0.7％～1.0％；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉进行烧制，其中产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃，烧成后釉层的厚度为0.45mm，抛磨切割获得成品。
设计不同的大理石纹理采用实施例4的方式来制备，获得砖面效果各异，仿大理石逼真效果的抛釉砖，其形态各异，下陷效果逼真，动静结合，凹凸有致，立体层次感强。
需要说明的是坯体可选用公知常识中的配料组分来配料造粒压制，本领域技术人员可按生产要求选用不同的坯体或面釉也可实现本发明方案。以上给出的实施例为优选实验方式，对于其它组分或烧成工艺中只需做适用性调整即可，这是本领域技术人员可以参考工作经验进行适当调整。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
A、坯体成型，向坯体表面施面釉；
B、喷墨印花；
C、印花后喷墨打印下陷墨水，所述喷墨打印下陷墨水工序中使用的下陷墨水含有以下质量百分比的组分：V2O5 20-30％、Bi2O3 50-60％、Ba2CO3 7-8％、ZnO3-4％、SiO2 3-4％、Al2O3 3.5-4％、(K2O+Na2O) 1.5-2.5％；
D、淋生料厚抛釉；
E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉，烧成获得成品；
其中，所述生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉，其由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠：0.27％，水：27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO2：51.98％，Al2O3：12.19％，Fe2O3：0.10％，TiO2：0.01％，CaO：8.83％，MgO：3.09％，K2O：3.29％，Na2O：1.67％，ZrO2：0.20％，ZnO：8.10％。
2.根据权利要求1所述的一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：所述步骤C中按照前步骤的印花装饰图案设计下陷墨水的喷墨。
3.根据权利要求1所述的一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：所述步骤E烧成后还包括抛磨和切割工序。
4.根据权利要求1所述的一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：所述步骤A施面釉前对坯体先进行干燥处理。
5.一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖，其特征在于：采用如权利要求1-4任一项所述的方法制备。
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Citations (3)
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| CN103965687A (zh) * | 2014-04-22 | 2014-08-06 | 佛山市道氏科技有限公司 | 一种具有下陷效果的陶瓷墨水及其制备方法 |
| CN104961502A (zh) * | 2015-06-10 | 2015-10-07 | 佛山欧神诺陶瓷股份有限公司 | 一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法 |
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