CN107098584B - 一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法 - Google Patents

一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法，属于陶瓷制备技术领域；其制备方法为：首先是制备基础釉粉、表层釉料、底层釉料、陶瓷器胎体，然后采用日用陶瓷常规使用的转移印彩机，选用上述的底层釉料，对上述的泥质胎体进行表面的印彩，印制出线条状构成的花纹图案，烘干处理后采用手工浸釉方法，对经彩印及烘干的制品进行浸釉，经浸釉制品存放于通风干燥处8‑16小时；最后用烧成窑炉，将经施釉的制品进行烧成，制备出釉料隔离印彩的陶瓷器；采用本发明方法制备的产品表面釉层整体形成有轻微凹凸面的、带有颜色的花纹图案，立体效果好；釉料隔离印彩陶瓷器外观规整，釉面光滑，釉面中线条形状的花纹图案清晰；且该方法效率高，成本低。

Description

一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法
技术领域
本发明涉及一种彩陶瓷器的制备方法，具体涉及一种物美价廉的釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法，属于陶瓷制备技术领域。
背景技术
陶瓷器的品种较多，如餐具的盘、碗、碟等，通常都是在成型的胎体上施用瓷釉加以装饰。瓷釉可以处理成颜色釉，有些颜色釉可以通过烧成的温度处理形成窑变，使釉面产生不规则的图纹或结晶图案。目前，在行业中采用颜色釉装饰中，花纹图案不够清晰和美观，达不到设计的精细化要求，而且成本较高且生产效率低。而采用颜色料手工彩绘或印制成花纸，对陶瓷器进行装饰，不具备颜色釉装饰的效果。
近期以来，行业中已采用移印机对陶瓷器进行彩印，速度快、生产效率高。但是移印机彩印是采用颜色料，彩绘后再进行施釉，在陶瓷器上体现的是平整的图案，釉面层只是起到保护层作用；而且颜色料的光泽度较差，未能达到颜色釉的装饰效果。
如何采用转移印彩技术和设备，应用于颜色釉的装饰，使颜色釉的图案能达到设计的精细效果，制备出有别于传统釉面装饰的瓷器，是目前行业中工程技术人员和产品设计人员共同研究和创新的课题。
发明内容
本发明的目的是提供一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法，采用本发明方法制备的产品表面釉层整体形成有轻微凹凸面的、带有颜色的花纹图案，立体效果好；釉料隔离印彩陶瓷器外观规整，釉面光滑，釉面中线条形状的花纹图案清晰；且该方法效率高，成本低。
为实现上述发明目的，本发明采取的技术方案如下：
一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法，包括以下生产步骤：
（1）基础釉粉制备：将基础釉粉原料混和后加清水进行湿法球磨，经球磨原料通过除铁机进行除铁，过320目筛，然后过滤去水份后进行烘干，制备出基础釉粉；
（2）表层釉料制备：取步骤（1）制备的基础釉粉86-92重量份和色基料8-14重量份作为表层釉料的原料，混和后加清水进行湿法球磨，过320目筛，然后用清水调配成浓度为42波美度的表层釉料备用；
（3）底层釉料制备：取步骤（1）制备的基础釉粉58-62重量份、色基料8-14重量份，经混和后加清水进行湿法球磨，过320目筛，过滤去水份后烘干制成干粉；然后加入皂土4-6重量份、隔离剂12-16重量份、植物胶2-4重量份、煤油6-8重量份混和并搅拌均匀，制备出底层釉料；
（4）陶瓷器胎体制备：采用日用陶瓷器常规的坯料和成型方法、修坯方法，制作出泥质胎体；经制成的泥质胎体存放于通风处自然干燥，使泥质胎体的含水率达到1-1.5%；
（5）印彩：采用日用陶瓷常规使用的转移印彩机，选用上述的底层釉料，对上述的泥质胎体进行表面的印彩，印制出线条状构成的花纹图案；
（6）烘干：采用烘干炉对经印彩的制品进行烘干，存放于干燥处；
（7）浸釉：采用日用陶瓷常规的手工浸釉方法，采用上述的表层釉料，对经彩印及烘干的制品进行浸釉，经浸釉制品存放于通风干燥处8-16小时；
（8）烧成：采用日用陶瓷生产的烧成窑炉，将经施釉的制品进行烧成，制备出釉料隔离印彩的陶瓷器。
步骤（1）所述的基础釉粉原料为钾长石24-28重量份、石英28-32重量份、高岭土10-12重量份、方解石16-18重量份、烧滑石8-10重量份、硅酸锆6-8重量份、氧化锌2-4重量份。
步骤（5）所述的印彩的线条宽度为1-2mm，厚度为0.3-0.5mm。
步骤（6）所述的烘干温度为80-90℃，烘干时间为1-3小时。
步骤（7）所述的制品在表层釉料釉液中停留时间为3-5秒钟，制品表面吸附釉层厚度为0.3-0.5 mm。
步骤（8）所述的烧成气氛为氧化气氛，烧成最高温度为1290-1330℃，烧成时间为12-14小时。
本发明的有益效果是：
（1）制品装饰采用的是釉料，不同于常规彩绘用的颜色料。釉料分为底层釉料和面层釉料，主要成份都是基础釉料，可使底层釉料和面层釉料在烧成中能亲和，形成一个釉层整体，并与制品胎体表面良好结合。
（2）底层釉料中加入隔离剂、煤油等油性物质，使底层釉料成为油性釉料；加入皂土、植物胶使釉料粘度提高且，适用于转移印彩。底层釉料经转移印彩之后，在泥质胎体表面形成占位性的花纹图案线条，花纹图案线条经烘干之后，线条表面形成憎水性能。
（3）面层釉料在浸釉时，制品表面已存在的花纹图案线条不会吸釉，而线条间隔空间部分能吸附釉，釉料自然地在花纹图案线条的隔离空间处吸釉，近似于填彩。
（4）采用印彩和浸釉的结合方式，与传统的彩绘后施釉方式有异曲同工之处，但其生产效率高，可应用于自动化和机械化生产的转移印彩，而且生产成本低，制品釉面具有独特艺术效果。
（5）制品在烧成过程中，在窑温达到800℃之前，底层釉料中的高分子材料和有机物质（如隔离剂等）分解挥发并离开制品，在窑温达到1100℃之后，底层釉料与面层釉料中的矿化物质熔融连成一体。由于底釉釉料印刷的线条中部分物质分解挥发，线条厚度变小，面层釉料挥发物少，厚度较高，经烧成制品釉层面形成线条浅、空间釉层高的立体感效果。
具体实施方式
下面通过实例对本发明做进一步详细说明，这些实例仅用来说明本发明，并不限制本发明的范围。
实施例1
一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法，包括以下生产步骤：
（1）基础釉粉制备：选取钾长石26重量份、石英30重量份、高岭土11重量份、方解石17重量份、烧滑石8重量份、硅酸锆6重量份、氧化锌2重量份作为基础釉粉原料，将其混和后加清水进行湿法球磨，经球磨原料通过除铁机进行除铁，过320目筛，然后过滤去水份后进行烘干，制备出基础釉粉；
（2）表层釉料制备：取步骤（1）制备的基础釉粉90重量份和色基料10重量份作为表层釉料的原料，混和后加清水进行湿法球磨，过320目筛，然后用清水调配成浓度为42波美度的表层釉料备用；
（3）底层釉料制备：取步骤（1）制备的基础釉粉60重量份、色基料10重量份，经混和后加清水进行湿法球磨，过320目筛，过滤去水份后烘干制成干粉；然后加入皂土5重量份、隔离剂14重量份、植物胶3重量份、煤油8重量份混和并搅拌均匀，制备出底层釉料；
（4）陶瓷器胎体制备：采用日用陶瓷器常规的坯料和成型方法、修坯方法，制作出泥质胎体；经制成的泥质胎体存放于通风处自然干燥，使泥质胎体的含水率达到1-1.5%；
（5）印彩：采用日用陶瓷常规使用的转移印彩机，选用上述的底层釉料，对上述的泥质胎体进行表面的印彩，印制出线条状构成的花纹图案；印彩的线条宽度为1-2mm，厚度为0.3-0.5mm；
（6）烘干：采用烘干炉对经印彩的制品进行烘干，烘干温度为80℃，烘干时间为3小时，然后存放于干燥处；
（7）浸釉：采用日用陶瓷常规的手工浸釉方法，采用上述的表层釉料，对经彩印及烘干的制品进行浸釉，制品在表层釉料釉液中停留时间为4秒钟，制品表面吸附釉层厚度为0.4 mm；经浸釉制品存放于通风干燥处8小时；
（8）烧成：采用日用陶瓷生产的烧成窑炉，将经施釉的制品进行烧成，烧成气氛为氧化气氛，烧成最高温度为1300℃，烧成时间为14小时，制备出釉料隔离印彩的陶瓷器。
实施例2
根据本发明技术的制备方法，特进行了对比试验，结果如下：
（1）与实施例不同的是，底层釉料中不加入隔离剂，经印彩的图纹线条不具备憎水性，导致制品烧成后釉面的图纹线条不清晰，制品釉面不具备艺术效果。
（2）与实施例不同的是，底层釉料中不加入皂土，印制的线条不干整和有断缺现象。
（3）与实施例不同的是，浸釉时制品在釉液中停留时间为2秒，经浸釉制品吸附釉层厚度不足，使制品烧成后的釉面艺术效果下降。
（4）与实施例不同的是，制品的最高烧成温度为1100℃，经烧成制品的釉面光泽度差。

Claims (1)

1.一种釉料隔离印彩陶瓷器的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
（1）基础釉粉制备：将基础釉粉原料混和后加清水进行湿法球磨，经球磨的原料通过除铁机进行除铁，过320目筛，然后过滤去水份后进行烘干，制备出基础釉粉；
（2）表层釉料制备：取步骤（1）制备的基础釉粉86-92重量份和色基料8-14重量份作为表层釉料的原料，混和后加清水进行湿法球磨，过320目筛，然后用清水调配成浓度为42波美度的表层釉料备用；
（3）底层釉料制备：取步骤（1）制备的基础釉粉58-62重量份、色基料8-14重量份，经混和后加清水进行湿法球磨，过320目筛，过滤去水份后烘干制成干粉；然后加入皂土4-6重量份、隔离剂12-16重量份、植物胶2-4重量份、煤油6-8重量份混和并搅拌均匀，制备出底层釉料；
（4）陶瓷器胎体制备：采用日用陶瓷器常规的坯料和成型方法、修坯方法，制作出泥质胎体；制成的泥质胎体存放于通风处自然干燥，使泥质胎体的含水率达到1-1.5%；
（5）印彩：采用日用陶瓷常规使用的转移印彩机，选用上述的底层釉料，对上述的泥质胎体进行表面的印彩，印制出线条状构成的花纹图案；
（6）烘干：采用烘干炉对经印彩的制品进行烘干，存放于干燥处；
（7）浸釉：采用日用陶瓷常规的手工浸釉方法，用上述的表层釉料，对经彩印及烘干的制品进行浸釉，经浸釉的制品存放于通风干燥处8-16小时；
（8）烧成：采用日用陶瓷生产的烧成窑炉，将经施釉的制品进行烧成，制备出釉料隔离印彩的陶瓷器；
步骤（1）所述的基础釉粉原料为钾长石24-28重量份、石英28-32重量份、高岭土10-12重量份、方解石16-18重量份、烧滑石8-10重量份、硅酸锆6-8重量份、氧化锌2-4重量份；
步骤（5）所述的印彩的线条宽度为1-2mm，厚度为0.3-0.5mm；
步骤（6）所述的烘干温度为80-90℃，烘干时间为1-3小时；
步骤（7）所述的制品在表层釉料釉液中停留时间为3-5秒钟，制品表面吸附釉层厚度为0.3-0.5 mm；
步骤（8）所述的烧成气氛为氧化气氛，烧成最高温度为1290-1330℃，烧成时间为12-14小时。
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