CN106699146A - 一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法，所述制造方法包括以下步骤：(1)制备素坯；(2)施底釉；(3)施面釉；(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。所获得的半抛陶瓷釉面砖莹光质感强且产品质量稳定。

Description

一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法
技术领域
本发明属于陶瓷建筑领域，具体涉及一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，并且还涉及通过所述制造方法制造的具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。
背景技术
陶瓷釉面砖是目前家庭厨房、卫生间、阳台、客厅灯装修场合不可或缺的建筑装饰材料之一，因其具有较高的强度和耐磨度，且易清洁打理、品种多样等多方面优势而深受广大消费者喜爱。
目前，市售的陶瓷釉面砖因面釉配方种类的限制以亮光和亚光两种釉面的产品居多，同质化现象普遍存在，使用效果单一，已无法满足消费者个性化及多元化的需求。故而，为满足市场要求，需要研发一种区别于现存釉面效果的具有新型釉面效果的陶瓷釉面砖，而研发一种具有莹光效果的陶瓷釉面砖是当今世界陶瓷装饰材料的最新潮流。
迄今为止，大规模生产具有或类似于莹光效果的陶瓷釉面砖的方法主要有两种：第一种方法是通过丝网印刷在普通亮光面釉之上印刷一道闪光花釉，烧成后产品表面呈现闪光效果以达到类似于莹光效果；另一种方法是利用数码喷墨打印方式在普通亚光面釉之上打印一道亮光墨水，形成图案的局部位置具有亮光效果以达到类似于莹光效果。然而，这两种方法只能在形成图案的局部位置产生不同于面釉的光泽差异，莹光质感不明显，并且由于缺少半抛工艺而导致产品手感差。
承上可知，现有技术制造具有莹光效果的陶瓷釉面砖均是在面釉上施加一层光泽效果不同于面釉的釉层以利用光泽效果差异实现莹光效果，但是均存在莹光质感不足且手感差的问题，故而许多研究者致力于开发出一种表面莹光效果质感强且制造工艺简单的陶瓷釉面砖。CN 102557751 A公开了一种艺术瓷用荧光釉，其由下列组分按重量份数制备而成：钾长石20-30份、钠长石5-10份、红丹6-10份、硼酸5-10份、锂辉石3-8份、石英20-30份、方解石2-6份、碳酸钡3-8份、滑石2-5份、氧化锌2-5份、骨灰2-5份、硅酸锆0.5-1.0份、五氧化二钒0.5-1.0份、氧化铜1.0-2.0份、三氧化二铁1.0-2.0份、氧化锰3-8份。该艺术瓷用荧光釉含有成分不稳定的骨灰，故而易导致荧光釉性质不稳定。
由此可见，现今并没有一种简单易行的方法能够制造表面莹光效果质感强且稳定的陶瓷釉面砖。
发明内容
鉴于上述问题，本发明发明人对陶瓷釉面砖生产工艺进行反复研究和分析，开发出一种能够简单便利地制造具有莹光效果的陶瓷釉面砖的方法，所述方法通过在喷淋莹光干粒釉浆并对陶瓷釉面砖半成品表面进行半抛光处理使得所制备的陶瓷釉面砖能够克服现有技术在制备具有莹光效果的陶瓷釉面砖方面的莹光质感不足且手感差的缺陷，同时该方法成本低且制造过程简单易行。
为了实现上述目的，本发明提供一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，其包括以下步骤：
(1)制备素坯；
(2)施底釉；
(3)施面釉；
(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；
(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；
(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖，
其中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆包含莹光干粒，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO2 66％-71％、Al2O3 13％-16％、Fe2O3 0％-0.2％、TiO2 0％-0.1％、CaO 6％-8％、MgO 0.1％-0.5％、K2O 3.5％-4.5％、Na2O 0.5％-1％、ZnO 1％-2％、BaO0％-0.5％。
在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，通过淋施包含莹光干粒的莹光干粒釉浆并对釉烧后的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理以制备具有莹光效果半抛陶瓷釉面砖，其莹光质感强且产品质量稳定。
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(1)中制备的素坯的表面具有1.5mm-2.0mm的高低落差，以致所制备的陶瓷釉面砖具有较佳的凹凸感。
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(3)与步骤(4)之间还包括在素坯的表面上进行印花，形成印花层，从而使所制备的陶瓷釉面砖具有各种各样的图案，满足消费者个性化及多元化的需求。
更优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述形成印花层的方式为丝网印花、辊筒印花、喷墨印花中的任意一种。
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(1)制备素坯的流程为：精选原料；配料；球磨；除铁；喷雾制粉；压制成型；及高温素烧。
更优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(1)中原料包含石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石。
最优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石的重量基于所述原料的总重量的百分比为：
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆中的莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO2 70.49％、Al2O315.58％、Fe2O3 0.09％、TiO2 0.01％、CaO 6.99％、MgO 0.08％、K2O 3.82％、Na2O 0.94％、ZnO 1.98％、BaO 0.02％。
更优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆还包括印膏，其中所述莹光干粒和印膏的重量比为3：7。
最优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆由莹光干粒和印膏组成，其中所述莹光干粒和印膏的重量基于所述莹光干粒釉浆的重量的百分比为：
莹光干粒 30％；
印膏 70％。
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中莹光干粒釉浆的淋施量为70-90克/片砖，其中每片砖的规格为600mm×300mm。
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(5)中进行釉烧的条件为：在900℃-1150℃，优选900℃-1100℃的温度条件下烧制40-150分钟，优选40-90分钟，更优选40-60分钟。
优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(6)进行半抛光处理所采用的半抛光设备的半抛光磨块目数为600目-3000目。
此外，本发明还提供一种通过上述方法制造的具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。
所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖莹光质感强且手感好。
相对于现有技术，本发明的优点和有益效果是：
(1)本发明的制造方法制造方法简捷，劳动强度低，技术要求和成本均较低，通过淋施包含莹光干粒的莹光干粒釉浆并对釉烧后的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理而使制备的陶瓷釉面砖具有莹光效果，其能够改变现有陶瓷釉面砖品种繁多但同质化现象的问题，为陶瓷釉面砖行业提供一种新型釉面砖产品，丰富了釉面砖种类，满足了消费者个性化和多元化的需求；
(2)本发明的制造方法采用了独特的配方的莹光干粒，其具有较为适宜的物理性能和高温烧结性能，以致所制造的陶瓷釉面砖具有较佳的莹光效果，并且本发明发明利用半抛光工艺对陶瓷釉面砖半成品进行半抛光处理以使所获得产品具有较好的凹凸手感，同时本发明产品质量稳定。
附图说明
图1为本发明一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法的流程图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本发明做进一步地详细描述。
在本发明中，所述莹光干粒是指高温烧成后具有莹光效果的陶瓷釉用干粒。
具体地，如图1所示，本发明实施例提供了一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，依次包括以下步骤：
S1，制备素坯。
优选地，制备素坯的流程为：精选原料；配料；球磨；除铁；喷雾制粉；压制成型；及高温素烧。
优选地，所述原料由石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石组成，进一步优选地，石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石的重量基于所述原料的总重量的百分比为：
优选地，所述除铁之后原料的细度为250目筛余1-3％，更优选250目筛余1.9-2.1％。
优选地，所述压制成型的压力为20-60MPa。
更优选地，所述压制成型的压力为32MPa。
优选地，所述高温素烧的条件为：在1200℃-1500℃的温度条件下烧制1-5小时。
优选地，所制备的素坯的表面具有1.5mm-2.0mm的高低落差，以致所制备的陶瓷釉面砖具有较高的凹凸感。
S2，施底釉，即在素坯的表面施加底釉。
优选地，所述施底釉是通过淋釉器、丝网或辊筒印制进行的。
S3，施面釉，即在施加过面釉的素坯的表面施加面釉。
优选地，所述施面釉是通过淋釉器、丝网或辊筒印制进行的。
S4，淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品。
优选地，所述莹光干粒釉浆包含莹光干粒，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO2 66％-71％、Al2O3 13％-16％、Fe2O3 0％-0.2％、TiO2 0％-0.1％、CaO 6％-8％、MgO 0.1％-0.5％、K2O 3.5％-4.5％、Na2O 0.5％-1％、ZnO 1％-2％、BaO 0％-0.5％。
进一步优选地，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO2 70.49％、Al2O315.58％、Fe2O3 0.09％、TiO2 0.01％、CaO 6.99％、MgO 0.08％、K2O 3.82％、Na2O0.94％、ZnO 1.98％、BaO 0.02％。
本发明创造性地使用了包含具有独特化学组成的莹光干粒的的莹光干粒釉浆，由此保证釉面砖产品经高温烧成后，其表面达到较佳的莹光效果，且产品质量稳定，制造成本低。
优选地，所述莹光干粒釉浆还包括印膏，其中所述莹光干粒和印膏的重量比为3：7。
进一步优选地，所述莹光干粒釉浆由莹光干粒和印膏组成，其中所述莹光干粒和印膏的重量基于所述莹光干粒釉浆的重量的百分比为：
莹光干粒 30％；
印膏 70％。
优选地，所述莹光干粒釉浆的淋施量为70-90克/片砖，其中每片砖的规格为600mm×300mm。
S5，对陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品。
优选地，所述釉烧的条件为：在900℃-1150℃，优选900℃-1100℃的温度条件下烧制40-150分钟，优选40-90分钟，更优选40-60分钟。
最优选地，所述釉烧的条件为：在1100±5℃即1092-1105℃的温度条件下烧制55分钟。
S6，对陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。
优选地，所述半抛光处理所采用的半抛光设备的半抛光磨块目数为600目-3000目
优选地，所述步骤S3与步骤S4之间还包括在素坯的表面上进行印花，形成印花层，从而使所制备的陶瓷釉面砖具有各种各样的图案，满足消费者个性化及多元化的需求。
本发明通过调节原料的配方并淋施莹光干粒釉浆，同时进行半抛光处理而制造具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖，其能够改变现有陶瓷釉面砖品种繁多但同质化现象的问题，为陶瓷釉面砖行业提供一种新型釉面砖产品，丰富了釉面砖种类，满足了消费者个性化和多元化的需求。
为了使本发明的目的及优点更加简洁明了，本发明将用以下具体实施例进行阐明，但本发明绝非仅限于这些实施例。以下实施例仅为本发明较优选的实施例，且仅用于阐述本发明，不能理解为对本发明的范围的限制。应当指出的是，凡在本发明的实质和原则之内所做的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
实施例1
首先，将35kg石英、15kg长石、5kg硬质粘土和25kg可塑性粘土混合并搅拌均匀，随后加入20kg石灰粉并搅拌均匀，然后将原料放入球磨机中进行球磨并除铁，直至原料的细度达到250目筛余2.0％。之后利用喷雾干燥塔将原料喷成粉状并将粉料的含水率控制为4.5％，随后将粉料通过压力为32MPa的压机进行成型形成规格为600×300mm的坯体，然后将坯体放入素烧窑中在1500℃的温度下素烧2小时，得到素坯，备用。
将3kg莹光干粒和7kg印膏混合并机械搅拌均匀以制成莹光干粒釉浆备用，其中莹光干粒的化学组成质量百分数为：SiO2 70.49％、Al2O3 15.58％、Fe2O3 0.09％、TiO20.01％、CaO 6.99％、MgO 0.08％、K2O 3.82％、Na2O 0.94％、ZnO 1.98％、BaO 0.02％。
随后在规格为600×300mm的素坯的表面喷水4g并淋底釉，其中施底釉量为110g，然后淋面釉，其中施面釉量为210g，之后淋莹光干粒釉浆，其中莹光干粒釉浆的淋施量为70g，然后进窑进行釉烧，其中釉烧温度为1100℃,烧制时间为55min。将釉烧完成后的半成品采用半抛光磨块目数为1000目的半抛光设备进行表面半抛光处理，即得本发明半抛陶瓷釉面砖。
通过观察，发现采用上述工序所制得的半抛陶瓷釉面砖具有较好的莹光光泽效果，亦具备较佳的凹凸手感且手感温和，表面细腻，具有非常好的视觉效果。
实施例2
首先，将35kg石英、15kg长石、5kg硬质粘土和25kg可塑性粘土混合并搅拌均匀，随后加入20kg石灰粉并搅拌均匀，然后将原料放入球磨机中进行球磨并除铁，直至原料的细度达到250目筛余2.0％。之后利用喷雾干燥塔将原料喷成粉状并将粉料的含水率控制为4.5％，随后将粉料通过压力为32MPa的压机进行成型形成规格为600×300mm的坯体，然后将坯体放入素烧窑中在1500℃的温度下素烧2小时，得到素坯，备用。
将3kg莹光干粒和7kg印膏混合并机械搅拌均匀以制成莹光干粒釉浆备用，其中莹光干粒的化学组成质量百分数为：SiO2 70.49％、Al2O3 15.58％、Fe2O3 0.09％、TiO20.01％、CaO 6.99％、MgO 0.08％、K2O 3.82％、Na2O 0.94％、ZnO 1.98％、BaO 0.02％。
随后在规格为600×300mm的素坯的表面喷水4g并淋底釉，其中施底釉量为110g，然后淋面釉，其中施面釉量为210g，之后用喷墨打印机将设计好的图案打印在釉面上，然后淋莹光干粒釉浆，其中莹光干粒釉浆的淋施量为70g，然后进窑进行釉烧，其中釉烧温度为1100℃,烧制时间为55min。将釉烧完成后的半成品采用半抛光磨块目数为1000目的半抛光设备进行表面半抛光处理，即得本发明半抛陶瓷釉面砖。
通过观察，发现采用上述工序所制得的半抛陶瓷釉面砖具有较好的莹光光泽效果，亦具备较佳的凹凸手感且手感温和，表面细腻，配合设计好的图案，满足了消费者的个性化和多元化需求，同时趣味性十足，具有非常好的视觉效果。
实施例3
首先，将35kg石英、15kg长石、5kg硬质粘土和25kg可塑性粘土混合并搅拌均匀，随后加入20kg石灰粉并搅拌均匀，然后将原料放入球磨机中进行球磨并除铁，直至原料的细度达到250目筛余2.0％。之后利用喷雾干燥塔将原料喷成粉状并将粉料的含水率控制为4.5％，随后将粉料通过压力为32MPa的压机进行成型形成规格为600×300mm的坯体，然后将坯体放入素烧窑中在1500℃的温度下素烧2小时，得到素坯，备用。
将3kg莹光干粒和7kg印膏混合并机械搅拌均匀以制成莹光干粒釉浆备用，其中莹光干粒的化学组成质量百分数为：SiO2 70.49％、Al2O3 15.58％、Fe2O3 0.09％、TiO20.01％、CaO 6.99％、MgO 0.08％、K2O 3.82％、Na2O 0.94％、ZnO 1.98％、BaO 0.02％。
随后在规格为600×300mm的素坯的表面喷水4g并淋底釉，其中施底釉量为110g，然后淋面釉，其中施面釉量为210g，之后用喷墨打印机将设计好的图案打印在釉面上，然后淋莹光干粒釉浆，其中莹光干粒釉浆的淋施量为90g，然后进窑进行釉烧，其中釉烧温度为1100℃,烧制时间为55min。将釉烧完成后的半成品采用半抛光磨块目数为1000目的半抛光设备进行表面半抛光处理，即得本发明半抛陶瓷釉面砖。
通过观察，发现采用上述工序所制得的半抛陶瓷釉面砖莹光光泽效果质感强烈，且具备较佳的凹凸手感，同时手感温和，表面细腻，配合设计好的图案，具有非常好的视觉效果。
此外，本发明制造方法产率高，实施过程中没有失败的案例，且产品质量稳定，99％的陶瓷釉面砖具有较佳的莹光效果，可见本发明制造方法所制造的釉面砖质量稳定。
对比实施例
对比实施例1
首先，将35kg石英、15kg长石、5kg硬质粘土和25kg可塑性粘土混合并搅拌均匀，随后加入20kg石灰粉并搅拌均匀，然后将原料放入球磨机中进行球磨并除铁，直至原料的细度达到250目筛余2.0％。之后利用喷雾干燥塔将原料喷成粉状并将粉料的含水率控制为4.5％，随后将粉料通过压力为32MPa的压机进行成型形成规格为600×300mm的坯体，然后将坯体放入素烧窑中在1500℃的温度下素烧2小时，得到素坯，备用。
随后在规格为600×300mm的素坯的表面喷水4g并淋底釉，其中施底釉量为110g，然后淋面釉，其中施面釉量为210g，之后用喷墨打印机将设计好的图案打印在釉面上，然后进窑进行釉烧，其中釉烧温度为1100℃,烧制时间为55min。将釉烧完成后的半成品采用半抛光磨块目数为1000目的半抛光设备进行表面半抛光处理，即得釉面砖。
通过观察，发现所制得的釉面砖不具有莹光效果。
对比实施例2
首先，将35kg石英、15kg长石、5kg硬质粘土和25kg可塑性粘土混合并搅拌均匀，随后加入20kg石灰粉并搅拌均匀，然后将原料放入球磨机中进行球磨并除铁，直至原料的细度达到250目筛余2.0％。之后利用喷雾干燥塔将原料喷成粉状并将粉料的含水率控制为4.5％，随后将粉料通过压力为32MPa的压机进行成型形成规格为600×300mm的坯体，然后将坯体放入素烧窑中在1500℃的温度下素烧2小时，得到素坯，备用。
将3kg莹光干粒和7kg印膏混合并机械搅拌均匀以制成莹光干粒釉浆备用，其中莹光干粒的化学组成质量百分数为：SiO2 50.21％、Al2O3 18.53％、Fe2O3 4.48％、TiO24.51％、CaO 8.96％、MgO 3.58％、K2O 5.80％、Na2O 0.94％、ZnO 1.97％、BaO 1.02％。
随后在规格为600×300mm的素坯的表面喷水4g并淋底釉，其中施底釉量为110g，然后淋面釉，其中施面釉量为210g，之后用喷墨打印机将设计好的图案打印在釉面上，然后淋莹光干粒釉浆，其中莹光干粒釉浆的淋施量为90g，然后进窑进行釉烧，其中釉烧温度为1100℃,烧制时间为55min。将釉烧完成后的半成品采用半抛光磨块目数为1000目的半抛光设备进行表面半抛光处理，即得釉面砖。
通过观察，发现所制得的釉面砖不具有莹光光泽效果。
根据上述说明书的揭示和教导，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。

Claims (7)

1.一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，其包括以下步骤：
(1)制备素坯；
(2)施底釉；
(3)施面釉；
(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；
(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；
(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖，
其中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆包含莹光干粒，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO2 66％-71％、Al2O3 13％-16％、Fe2O3 0％-0.2％、TiO2 0％-0.1％、CaO6％-8％、MgO 0.1％-0.5％、K2O 3.5％-4.5％、Na2O 0.5％-1％、ZnO 1％-2％、BaO 0％-0.5％，优选地，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO2 70.49％、Al2O3 15.58％、Fe2O3 0.09％、TiO2 0.01％、CaO 6.99％、MgO 0.08％、K2O 3.82％、Na2O 0.94％、ZnO1.98％、BaO 0.02％。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)与步骤(4)之间还包括在素坯的表面上进行印花，形成印花层。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(1)制备素坯的流程为：精选原料；配料；球磨；除铁；喷雾制粉；压制成型；及高温素烧。
4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述原料包含石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石，优选地，所述石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石的重量基于所述原料的总重量的百分比为：
5.根据权利要求1-4中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(4)中莹光干粒釉浆的淋施量为70-90克/片砖，其中每片砖的规格为600×300mm。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(5)中进行釉烧的条件为：在900-1150℃，优选900-1100℃的温度条件下烧制40-150分钟，优选40-90分钟，更优选40-60分钟。
7.一种通过权利要求1-6中任一项所述的制造方法而制造的具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。
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