CN105330342B - 一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制造方法 - Google Patents

一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制造方法，该制造方法包括以下步骤：分别制备底坯层、底釉浆、半透明釉浆、透明釉浆；在底坯层上依次进行如下处理：淋底釉浆形成底釉层、喷印装饰图案、淋半透明釉浆形成半透明釉层、烘干；在所得的生坯上采用喷墨渗花墨水以及助渗剂喷印装饰图案，并静置5分钟以上；在所得的生坯上丝网印刷具有隔水性能的隔离釉、烘干、冷却；在所得的生坯上淋透明釉浆；将所得的坯体一次烧成，制得具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品；将所得的半成品采用非弹性模块工艺进行抛光，即制得所述具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖。

Description

一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制 造方法
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域，特别是涉及一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖的制造方法及其产品。
背景技术
随着近年来国外渗透墨水的引入，市场上又兴起了喷墨渗花砖的潮流。其主要特点是在坯体上淋一层底釉层或采用二次布料制坯，烘干后喷渗透墨水。由于墨水具有一定的渗透功能，其图案渗透到底釉层或坯中，因此烧成后可直接抛光。
专利文献CN102795892A公开了一种喷墨渗花瓷质砖及其生产方法，其技术方案是在坯体上淋一层底釉，烘干后喷渗透墨水，之后烧成抛光。专利文献CN104193407A公开了一种陶瓷砖泥坯的制造方法，其技术方案是采用二次布料制坯，喷渗透墨水后烧成抛光。专利文献CN104193415A公开了一种喷墨渗花瓷质砖及其生产方法，其技术方案为二次布料制坯后淋一层透明釉层，喷渗透墨水，之后烧成抛光。专利文献CN102795892A和专利文献CN104193407A在实际生产中都可以实现，但因渗透墨水在渗透过程中不可避免的存在横向扩散，以及抛光的越深，图案越模糊。因此其都采用弹性模块进行抛光，造成表面波浪纹明显的缺陷。又因渗透层不透明，造成立体感不佳。而专利文献CN104193415A由于淋透明釉层后未烘干，直接喷渗透墨水，导致墨水的横向扩散加大，烧成后的表面图案模糊不清，而且存在严重的色差问题。另外其各实例中的透明釉配方在实际生产中均未达到透明的效果，实际生产中都为乳白色，造成其立体感不佳。
发明内容
本发明的目的在于提出一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖及其制备方法，以解决现有技术中抛光波浪纹的问题，图案模糊不清且存在严重的色差问题，以及立体感差的问题。
在此，第一方面，本发明提供一种喷墨渗花瓷质砖坯体，其从下向上依次包括：
底坯层；
底釉层，所述底釉层具有装饰图案；
半透明釉层，所述半透明釉层从上表面向下具有墨水渗透层；
具有隔水性能的隔离釉层；和
透明釉层。
本发明的喷墨渗花瓷质砖坯体中，在墨水渗透层上具有隔离釉层，该隔离釉层具有隔水性能，因此可以防止半透明釉层的水分扩散至半透明釉层而导致装饰图案的墨水横向扩散，从而可以使得墨水渗透层图案清晰，且无色差。此外，由于本发明的喷墨渗花瓷质砖坯体中墨水装饰图案渗入半透明釉层中，因此其烧成后，可以采用非弹性模块进行抛光，从而避免了抛光波浪纹的问题，并且即使将整层透明釉抛完后再抛到半透明釉中上层，也不会造成局部露底。再加上底釉层的图案衬托，与半透明釉层本身的厚度形成一定的梯度，使得图案立体感强。
较佳地，所述半透明釉层的厚度为0.2～0.3mm，所述墨水渗透层的渗透深度为0.1～0.6mm，所述透明釉层的厚度为0.12～0.15mm；所述隔离釉层的厚度为0.02～0.03mm。
第二方面，本发明还提供上述喷墨渗花瓷质砖坯体的制造方法，包括以下步骤：
1)分别制备底坯层、底釉浆、半透明釉浆、透明釉浆；
2)在底坯层上依次进行如下处理：淋底釉浆形成底釉层、喷印装饰图案、淋半透明釉浆形成半透明釉层、烘干；
3)在步骤2)所得的生坯上采用喷墨渗花墨水以及助渗剂喷印装饰图案，并静置5分钟以上；
4)在步骤3)所得的生坯上丝网印刷具有隔水性能的隔离釉、烘干、冷却；
5)在步骤4)所得的生坯上淋透明釉浆。
本发明中，渗入喷墨渗花墨水的半透明釉层进行了烘干处理，因此可以防止墨水横向扩散加大而造成烧成后的表面图案模糊不清且存在严重色差的问题，而且在渗有墨水的半透明釉层上丝网印刷隔离釉，因此可以防止透明釉浆的水分扩散至半透明釉层而导致墨水横向扩散加大进而造成烧成后的表面图案模糊不清且存在严重色差的问题。
较佳地，所述底坯层的水分控制在0.4％以下。
较佳地，所述底釉浆的配方如下：按重量计，钾长石35～60份，钠长石10～30份，高岭土3～12份，烧土5～20份，氧化铝：3～10份，石英5～15份，硅酸锆8～18份，添加剂A：0.1～1份，添加剂B：1～5份；其中
添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01％、Al2O3 2.89％、Fe2O3 0.03％、TiO293.05％、CaO 0.03％、MgO 0.09％、K2O 0.02％、Na2O 0.06％、余量为1.35％杂质；
添加剂B的化学成分分析为SiO2 94.41％、Al2O3 0.14％、Fe2O3 0.05％、TiO20.05％、CaO 0.08％、MgO 0.06％、K2O 0.04％、Na2O 0.21％、余量为4.59％杂质；
底釉浆化学成分分析为SiO2 51.2％～59.5％、Al2O3 20.5％～26％、Fe2O3 0.1％～0.5％、TiO2 0.2％～0.8％、CaO 0.1％～1％、MgO 0.1％～0.5％、K2O 4.0％～6.8％、Na2O 1.5％～3.3％、ZrO 5.5％～10.8％、余量为0.5％～4.2％杂质；
底釉浆细度要求325目筛余0.8～1.2，比重1.78～1.87，流速28～40秒。
较佳地，所述半透明釉浆的配方如下：按重量计，钾长石15～30份，钠长石25～50份，高岭土3～8份，烧土6～15份，石英5～15份，硅灰石0～6份，烧滑石3～13份，添加剂A：0.1～1份，添加剂B：1～5份；其中
添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01％、Al2O3 2.89％、Fe2O3 0.03％、TiO293.05％、CaO 0.03％、MgO 0.09％、K2O 0.02％、Na2O 0.06％、余量为1.35％杂质；
添加剂B的化学成分分析为SiO2 94.41％、Al2O3 0.14％、Fe2O3 0.05％、TiO20.05％、CaO 0.08％、MgO 0.06％、K2O 0.04％、Na2O 0.21％、余量为4.59％杂质；
半透明釉浆的化学成分分析为SiO2 60.2％～70.5％、Al2O3 14.5％～20％、Fe2O30.1％～0.5％、TiO2 0.2％～0.8％、CaO 0.1％～3％、MgO 1.0％～4.1％、K2O 2.0％～3.8％、Na2O 3.5％～5.8％、余量为0.5％～4.2％杂质；
半透明釉细度要求325目筛余0.3～0.6，比重1.78～1.87，流速28～40秒。
较佳地，步骤2)中，经所述烘干使生坯水分控制在0.8％以下。
较佳地，步骤3)中，喷墨渗花墨水中的助渗剂量为25wt％，墨水与助渗剂的喷量关系为墨水灰度加助渗剂灰度为100％。
较佳地，步骤4)中，所述隔离釉主要由乙二醇、甲基、乳膏、乳胶、利网剂、爽网膏、印刷粉中的一种或多种配比而成，烘干后形成致密的隔水薄膜层。
较佳地，所述透明釉浆中组成物质按重量计包括钾长石3～12份，钠长石30～50份，高岭土3～12份，煅烧高岭土5～15份，石英0～13份，碳酸钙5～15份，硅灰石5～20份，烧滑石4～15份，氧化锌1～5份；其化学成分分析如下：SiO2 42.9％～55.8％、Al2O3 17.5％～23％、Fe2O3 0.1％～0.5％、TiO2 0.1％～0.4％、CaO 6.8％～13.1％、MgO 0.8％～3.5％、K2O 1.0％～3.1％、Na2O 3.0％～6.3％、ZnO 1.5％～5.5％余量为3.9％～9.2％杂质；
透明釉的细度要求325目筛余0.4～0.8，比重1.8～1.85，流速28～44秒。
较佳地，淋底釉浆时，单位面积所淋的底釉浆重量为350～450g/m2；淋半透明釉浆时，单位面积所淋的半透明釉浆重量为500～600g/m2；淋透明釉浆时，单位面积所淋的透明釉浆重量为350～460g/m2。
第三方面，本发明提供一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖的制造方法，包括以下步骤：
将上述喷墨渗花瓷质砖坯体一次烧成，制得具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品；
将所得的半成品采用非弹性模块工艺进行抛光，即制得所述具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖。
本发明中，由于喷墨渗花瓷质砖坯体如上所述可以防止墨水横向扩散，因此本发明制得的喷墨渗花瓷质砖图案非常清晰、无色差，而且烧成后墨水装饰图案渗入半透明釉层，因此可以采用非弹性模块工艺进行抛光，从而制得的喷墨渗花瓷质砖表面防污性能好，耐化学腐蚀性强，平整如镜，无波浪纹，磨边分级后即可打包入库。而且，即使采用非弹性模块进行抛光将整层透明釉抛完后再抛到半透明釉中上层，也不会造成局部露底。再加上底釉层的图案衬托，与半透明釉层本身的厚度形成一定的梯度，使得图案立体感强。
较佳地，烧成温度为1150～1230℃，烧成时间65～90分钟，升温速率为8～20℃/分钟。
较佳地，在制得的具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品中，半透明釉的厚度在0.2～0.3mm，透明釉的厚度在0.12～0.15mm，隔离釉层的厚度为0.02～0.03mm，墨水在半透明釉浆层中能够渗透0.1～0.6mm；步骤7)中，抛光切削厚度为0.18～0.25mm。
第四方面，本发明提供一种由上述制造方法制造的具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖。
本发明的喷墨渗花瓷质砖从下向上依次至少具有：底坯层；底釉层，该底釉层具有装饰图案；半透明釉层，半透明釉层中渗透有墨水装饰图案。
本发明的喷墨渗花瓷质砖具有如下优点：
表面防污性能好，耐化学腐蚀性强，平整如镜，无波浪纹，磨边分级后即可打包入库；
图案清晰、无色差；
半透明釉层中的装饰图案不会局部露底，再加上底釉层的图案衬托，与半透明釉层本身的厚度形成一定的梯度，使得图案立体感强。
附图说明
图1为具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖的结构示意图；
图2为丝网印特殊隔离釉烘干后形成一层薄膜层的效果照片；
图3为隔离釉薄膜层上水珠无法渗到底下的效果照片。
具体实施方式
以下结合附图和下述实施方式进一步说明本发明，应理解，附图及下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。
本发明提供了一种具有立体装饰效果的喷墨渗花瓷质砖坯体、以及由该坯体烧成和抛光后形成的具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖。图1示出本发明一个示例的喷墨渗花瓷质砖坯体及喷墨渗花瓷质砖的结构示意图。参见图1，本发明的喷墨渗花瓷质砖坯体从下向上依次包括：底坯层；底釉层，所述底釉层具有装饰图案；半透明釉层，所述半透明釉层从上表面向下具有墨水渗透层；具有隔水性能的隔离釉层；和透明釉层。
其中底坯层可以是按常规方法制备的瓷质砖生坯。其水分可控制在0.4％以下。
底釉层的化学成分可为：SiO2 51.2％～59.5％、Al2O3 20.5％～26％、Fe2O3 0.1％～0.5％、TiO2 0.2％～0.8％、CaO 0.1％～1％、MgO 0.1％～0.5％、K2O 4.0％～6.8％、Na2O 1.5％～3.3％、ZrO 5.5％～10.8％、余量为0.5％～4.2％杂质。底釉层中的装饰图案可以是由普通陶瓷墨水喷墨形成。
半透明釉层的化学成分可为：SiO2 60.2％～70.5％、Al2O3 14.5％～20％、Fe2O30.1％～0.5％、TiO2 0.2％～0.8％、CaO 0.1％～3％、MgO 1.0％～4.1％、K2O 2.0％～3.8％、Na2O 3.5％～5.8％、余量为0.5％～4.2％杂质。通过具有这样的化学成分，可以达到半透明的效果，从而增强立体感。半透明釉层的水分可控制在0.8％以下，这样可以防止墨水横向扩散加大而造成烧成后的表面图案模糊不清且存在严重的色差。
在半透明釉层中从其上表面向下具有墨水渗透层。即墨水装饰图案渗入半透明釉层。墨水渗透层可由喷墨渗花墨水及助渗剂形成。墨水渗透层的渗透深度可至少为所述半透明釉层厚度的1/2，这样即使将该坯体烧成后抛光时抛到半透明釉层的中上层，也不会造成局部露底。墨水渗透层还可以完全渗透半透明釉层，并进入底釉层中。在一个示例中，所述半透明釉层的厚度为0.2～0.3mm，所述墨水渗透层的渗透深度为0.1～0.6mm。本示例中墨水渗透层的渗透深度为0.1～0.6mm与CN104193415A的渗透层的厚度(1.0-2.5mm)对比，虽然渗透深度较浅，但在喷墨装饰图案非常清晰，立体。而渗的越深，清晰度越差。
半透明釉层上设置有具有隔水性能的隔离釉层。隔离釉可主要由乙二醇、甲基、乳膏、乳胶、利网剂、爽网膏、印刷粉、等其中一种或多种配比而成。隔离釉层可为一层致密的薄膜层，具有隔水性能。隔离釉层的厚度可为0.02～0.03mm。通过设置隔离釉层，可以防止透明釉层的水分扩散至半透明釉层而导致墨水横向扩散加大进而造成烧成后的表面图案模糊不清且存在严重色差的问题。图2示出隔离釉层的效果照片；图3示出隔离釉薄膜层上水珠无法渗到底下的效果照片，可以看出通过设置隔离釉层，可以很好地防止水分渗入至半透明釉层。另外，该隔离釉层优选为不影响装饰图案的呈现，例如为透明或半透明。
透明釉层的化学成分可为：SiO2 42.9％～55.8％、Al2O3 17.5％～23％、Fe2O30.1％～0.5％、TiO2 0.1％～0.4％、CaO 6.8％～13.1％、MgO 0.8％～3.5％、K2O 1.0％～3.1％、Na2O 3.0％～6.3％、ZnO 1.5％～5.5％，余量为3.9％～9.2％杂质。透明釉层的厚度可为0.12～0.15mm。
本发明的喷墨渗花瓷质砖可由上述坯体烧成和抛光后形成。根据抛光切削厚度不同，本发明的喷墨渗花瓷质砖的结构也可不同。具体而言，当抛光至半透明釉层时，本发明的喷墨渗花瓷质砖从下向上依次具有：底坯层；底釉层，该底釉层具有装饰图案；半透明釉层，半透明釉层中渗透有墨水装饰图案。当仅抛光至透明釉层时，本发明的喷墨渗花瓷质砖还包括隔水釉层和透明釉层。本发明中抛光厚度优选为0.18～0.25mm，因此抛光后最终无隔离釉层和透明釉层。
以下，作为示例，说明本发明的喷墨渗花瓷质砖坯体及喷墨渗花瓷质砖的制造方法。本发明中，如无特别说明，所述及的配方中各成分的含量均为重量百分含量。
1：底釉的制备：为配合普通陶瓷墨水的发色，釉浆中不加入钙、镁、钡等原料。其配方如下：钾长石35～60份，钠长石10～30份，高岭土3～12份，烧土5～20份，氧化铝：3～10份，石英5～15份，硅酸锆8～18份，添加剂A：0.1～1份，添加剂B：1～5份。添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01％、Al2O3 2.89％、Fe2O3 0.03％、TiO2 93.05％、CaO 0.03％、MgO0.09％、K2O 0.02％、Na2O 0.06％、余量为1.35％杂质。添加剂B的化学成分分析为SiO294.41％、Al2O3 0.14％、Fe2O3 0.05％、TiO2 0.05％、CaO 0.08％、MgO 0.06％、K2O 0.04％、Na2O 0.21％、余量为4.59％杂质。底釉化学成分分析为SiO2 51.2％～59.5％、Al2O320.5％～26％、Fe2O3 0.1％～0.5％、TiO2 0.2％～0.8％、CaO 0.1％～1％、MgO 0.1％～0.5％、K2O 4.0％～6.8％、Na2O 1.5％～3.3％、ZrO 5.5％～10.8％、余量为0.5％～4.2％杂质。底釉细度要求325目筛余0.8～1.2，比重1.78～1.87，流速28～40秒，备用。
2：坯体的制备及烘干：按常规方法制备瓷质砖生坯并烘干，烘干后水分控制在0.4％以下。
3：淋底釉：将步骤1制得的底釉淋在步骤2中的生坯上。单位面积所淋的底釉重量为350～450g/m2。
4：普通陶瓷墨水喷墨装饰：将步骤4制得的瓷质砖坯体用数码喷墨机喷印已设计好的装饰图案。
5：半透明釉的制备：为达到半透明的效果，且配合渗透墨水的发色，釉浆中加入少量的钙、镁原料。其配方如下：钾长石15～30份，钠长石25～50份，高岭土3～8份，烧土6～15份，石英5～15份，硅灰石0～6份，烧滑石3～13份，添加剂A：0.1～1份，添加剂B：1～5份。添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01％、Al2O3 2.89％、Fe2O3 0.03％、TiO2 93.05％、CaO0.03％、MgO 0.09％、K2O 0.02％、Na2O 0.06％、余量为1.35％杂质。添加剂B的化学成分分析为SiO294.41％、Al2O30.14％、Fe2O30.05％、TiO20.05％、CaO 0.08％、MgO 0.06％、K2O0.04％、Na2O 0.21％、余量为4.59％杂质。半透明釉的化学成分分析为SiO2 60.2％～70.5％、Al2O3 14.5％～20％、Fe2O3 0.1％～0.5％、TiO2 0.2％～0.8％、CaO 0.1％～3％、MgO 1.0％～4.1％、K2O 2.0％～3.8％、Na2O 3.5％～5.8％、余量为0.5％～4.2％杂质。半透明釉细度要求325目筛余0.3～0.6，比重1.78～1.87，流速28～40秒，备用。
6：将步骤5制得的半透明釉淋在步骤4中的生坯上。单位面积所淋的半透明釉重量为500～600g/m2。
7：再次烘干：将步骤6制得的瓷质砖坯体再次烘干，水分控制在0.8％以下。
8：再次喷墨装饰：将步骤7制得的瓷质砖坯体用数码喷墨机定点喷印已设计好的装饰图案。墨水采用市面上墨水公司提供的喷墨渗花墨水以及助渗剂。其提供的颜色主要为棕色、黄色、蓝色、黑色。具体颜色可根据需要形成的图案来选择。其主要特征为：渗花墨水中的助渗剂量为25wt％时，墨水在釉浆层中能够渗透0.1～0.6mm的深度，墨水与助渗剂的喷量关系为墨水灰度加助渗剂灰度为100％。
9：静置：将步骤8制得的坯体静置5或5分钟以上，以达到渗透效果。
10：丝网印特殊隔离釉层：将特殊隔离釉通过丝网印刷印在步骤9制得的坯体上。隔离釉主要由乙二醇、甲基、乳膏、乳胶、利网剂、爽网膏、印刷粉、等其中一种或多种配比而成。其主要特点为烘干后形成一层致密的薄膜层，具有隔水性能。
11：第三次烘干：将步骤10制得的砖坯再次烘干，烘干至隔离釉层形成一层致密的薄膜层。
12：冷却：将步骤11制得的坯体表面冷却至面温低于55℃。
13：透明釉的制备：透明釉浆料中组成物质包括钾长石3～12份，钠长石30～50份，高岭土3～12份，煅烧高岭土5～15份，石英0～13份，碳酸钙5～15份，硅灰石5～20份，烧滑石4～15份，氧化锌1～5份。其化学成分分析如下：SiO2 42.9％～55.8％、Al2O3 17.5％～23％、Fe2O3 0.1％～0.5％、TiO2 0.1％～0.4％、CaO 6.8％～13.1％、MgO 0.8％～3.5％、K2O 1.0％～3.1％、Na2O 3.0％～6.3％、ZnO 1.5％～5.5％、余量为3.9％～9.2％杂质。透明釉的细度要求325目筛余0.4～0.8，比重1.8～1.85，流速28～44秒。
14：淋透明釉层：将步骤13制得的透明釉淋在步骤12制得的坯体上，单位面积所淋的透明釉重量为350～460g/m2。
15：烧成：将步骤14制得的坯体一次烧成，烧成温度为1150～1230℃，烧成时间65—90分钟，升温速率为8—20℃/分钟。制得具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品，其中烧成后半透明釉的厚度在0.2～0.3mm，透明釉的厚度在0.12～0.15mm，隔离釉层的厚度为0.02～0.03mm，墨水在半透明釉浆层中能够渗透0.1～0.6mm。
16：抛光磨边打包入库：采用非弹性模块工艺进行抛光，如采用金钢石树脂硬磨块抛光。抛光切削厚度为0.18～0.25mm，若该厚度过薄，则可能造成砖坯表面还存在波浪纹，达不到超平的效果，若过厚，则可能将半透明釉中的装饰图案抛的过深，使图案变的模糊，影响装饰效果。抛光后的表面防污性能好，耐化学腐蚀性强，平整如镜，无波浪纹，磨边分级后即可打包入库。
因水分对墨水的渗透能力影响很大，在喷渗透墨水后不能直接淋透明釉，因此在淋透明釉前先印一道隔离釉，烘干后形成一层隔薄膜层，可隔离透明釉中的水分。若喷墨后直接淋透明釉，因为水分的扩散，装饰图案的墨水横向，纵向扩散加大，造成图案完全不清晰，色差非常严重。
由于烧成后墨水装饰图案渗入半透明釉层，因此采用非弹性模块进行抛光将整层透明釉抛完后再抛到半透明釉中上层，也不会造成局部露底。再加上底釉层的图案衬托，与半透明釉层本身的厚度形成一定的梯度，使得图案立体感强。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
1：底釉的制备：为配合普通陶瓷墨水的发色，釉浆中不加入钙、镁、钡等原料。其配方如下：钾长石41份，钠长石14份，高岭土10份，烧土10份，氧化铝：8份，石英5份，硅酸锆10份，添加剂A：0.5份，添加剂B：4份。添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01％、Al2O3 2.89％、Fe2O3 0.03％、TiO2 93.05％、CaO 0.03％、MgO 0.09％、K2O 0.02％、Na2O 0.06％、余量为1.35％杂质。添加剂B的化学成分分析为SiO2 94.41％、Al2O3 0.14％、Fe2O3 0.05％、TiO20.05％、CaO 0.08％、MgO 0.06％、K2O 0.04％、Na2O 0.21％、余量为4.59％杂质。底釉化学成分分析为SiO2 56.5％、Al2O3 24.6％、Fe2O3 0.23％、TiO2 0.66％、CaO 0.32％、MgO0.17％、K2O 4.7％、Na2O 2.6、ZrO 6.4％、余量为3.77％杂质。底釉细度要求325目筛余0.8～1.2，比重1.78～1.87，流速28～40秒，备用。
2：坯体的制备及烘干：按常规方法制备瓷质砖生坯并烘干，烘干后水分控制在0.4％以下。
3：淋底釉：将步骤1制得的底釉淋在步骤2中的生坯上。单位面积所淋的底釉重量为350～450g/m2。
4：普通陶瓷墨水喷墨装饰：将步骤4制得的瓷质砖坯体用数码喷墨机喷印已设计好的装饰图案。
5：半透明釉的制备：为达到半透明的效果，且配合渗透墨水的发色，釉浆中加入少量的钙、镁原料。其配方如下：钾长石25份，钠长石40份，高岭土5份，烧土8份，石英10份，硅灰石3，烧滑石10份，添加剂A：0.5份，添加剂B：4份。添加剂A的化学成分分析为SiO22.01％、Al2O3 2.89％、Fe2O3 0.03％、TiO2 93.05％、CaO 0.03％、MgO 0.09％、K2O 0.02％、Na2O 0.06％、余量为1.35％杂质。添加剂B的化学成分分析为SiO2 94.41％、Al2O3 0.14％、Fe2O3 0.05％、TiO2 0.05％、CaO 0.08％、MgO 0.06％、K2O 0.04％、Na2O 0.21％、余量为4.59％杂质。半透明釉的化学成分分析为SiO2 68.82％、Al2O3 16.51％、Fe2O3 0.19％、TiO20.69％、CaO 1.72％、MgO 3.35％、K2O 2.86％、Na2O 4.42％、余量为1.44％杂质。半透明釉细度要求325目筛余0.3～0.6，比重1.78～1.87，流速28～40秒，备用。
6：将步骤5制得的半透明釉淋在步骤4中的生坯上。单位面积所淋的半透明釉重量为590±10g/m2。
7：再次烘干：将步骤6制得的瓷质砖坯体再次烘干，水分控制在0.8％以下。
8：再次喷墨装饰：将步骤7制得的瓷质砖坯体用数码喷墨机定点喷印已设计好的装饰图案。墨水采用市面上墨水公司提供的喷墨渗花墨水(厂家：上海美高色料有限公司)以及助渗剂(厂家：上海美高色料有限公司，型号：MET FLUID BS)。其提供的渗花墨水颜色主要为棕色(型号：INKMET L253MB1)、黄色(型号：INKMET L237YB3)、蓝色(型号：INKMETL023CB1)、黑色(型号：INKMET L073HB1)。其主要特征为：渗花墨水中的助渗剂量为25wt％时，墨水在底釉浆层中能够渗透0.1～0.6mm的深度，墨水与助渗剂的喷量关系为墨水灰度加助渗剂灰度为100％。
9：静置：将步骤8制得的坯体静置5或5分钟以上，以达到渗透效果。
10：丝网印特殊隔离釉层：将特殊隔离釉通过100目全通网印刷印在步骤9制得的坯体上。隔离釉主要由乙二醇、甲基、乳膏、乳胶、利网剂、爽网膏、印刷粉、等其中一种或多种配比而成。其主要特点为烘干后形成一层致密的薄膜层，具有隔水性能。
11：第三次烘干：将步骤10制得的砖坯再次烘干，烘干至隔离釉层形成一层致密的薄膜层。
12：冷却：将步骤11制得的坯体表面冷却至面温低于55℃。
13：透明釉的制备：透明釉浆料中组成物质包括钾长石11份，钠长石45份，高岭土6份，煅烧高岭土8份，石英4份，碳酸钙10份，硅灰石6份，烧滑石6份，氧化锌4份。其化学成分分析如下：SiO2 50.07％、Al2O3 20.08％、Fe2O3 0.14％、TiO2 0.10％、CaO9.32％、MgO1.63％、K2O 1.84％、Na2O 5.08％、ZnO 3.97％、余量为7.10％杂质。透明釉的细度325目筛余0.57，比重1.80。流速35秒。
14：淋透明釉层：将步骤13制得的透明釉淋在步骤12制得的坯体上，单位面积所淋的透明釉重量为450±10g/m2。
15：烧成：将步骤14制得的坯体一次烧成，烧成温度为1150～1230℃，烧成时间65—90分钟，升温速率为8—20℃/分钟。制得具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品，其中烧成后半透明釉的厚度在0.25～0.27mm，透明釉的厚度在0.14～0.15mm，隔离釉层的厚度为0.02～0.03mm，墨水在半透明釉浆层中能够渗透0.1～0.6mm。
16：抛光磨边打包入库：
采用非弹性模块工艺进行抛光，如采用金钢石树脂硬磨块抛光。抛光切削厚度为0.18～0.25mm。抛光后的表面防污性能好，耐化学腐蚀性强，平整如镜，无波浪纹，磨边分级后即可打包入库。
对比例1
按照实施例1所述步骤去掉其中10，11，12三个步骤，即未印特殊隔离釉层，不采取隔水措施。烧成后的砖图案完全不清晰，色差非常严重，无法达到生产要求。
由上可知，因水分对墨水的渗透能力影响很大，在喷渗透墨水后不能直接淋透明釉，因此在淋透明釉前先印一道隔离釉，烘干后形成一层隔薄膜层，可隔离透明釉中的水分。若喷墨后直接淋透明釉，因为水分的扩散，装饰图案的墨水横向，纵向扩散加大，造成图案完全不清晰，色差非常严重。
此外，实施例1中由于烧成后墨水装饰图案渗入半透明釉层，因此采用非弹性模块进行抛光将整层透明釉抛完后再抛到半透明釉中上层，也不会造成局部露底。再加上底釉层的图案衬托，与半透明釉层本身的厚度形成一定的梯度，使得图案立体感强。

Claims (12)

1.一种具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）分别制备底坯层、底釉浆、半透明釉浆、透明釉浆；
2）在底坯层上依次进行如下处理：淋底釉浆形成底釉层、喷印装饰图案、淋半透明釉浆形成半透明釉层、烘干；
3）在步骤2）所得的生坯上采用喷墨渗花墨水以及助渗剂喷印装饰图案，并静置5分钟以上；
4）在步骤3）所得的生坯上丝网印刷具有隔水性能的隔离釉、烘干、冷却；
5）在步骤4）所得的生坯上淋透明釉浆；
6）将步骤5）所得的坯体一次烧成，制得具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品；
7）将步骤6）所得的半成品采用非弹性模块工艺进行抛光，即制得所述具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述底坯层的水分控制在0.4%以下。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述底釉浆的配方如下：按重量计，钾长石35～60份，钠长石10～30份，高岭土3～12份，烧土5～20份，氧化铝：3～10份，石英5～15份，硅酸锆8～18份，添加剂A：0.1～1份，添加剂B：1～5份；其中
添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01%、Al2O3 2.89%、Fe2O3 0.03%、TiO2 93.05%、CaO0.03%、MgO 0.09%、K2O 0.02%、Na2O 0.06%、余量为1.35%杂质；
添加剂B的化学成分分析为SiO2 94.41%、Al2O3 0.14%、Fe2O3 0.05%、TiO2 0.05%、CaO0.08%、MgO 0.06%、K2O 0.04%、Na2O 0.21%、余量为4.59%杂质；
底釉浆化学成分分析为SiO2 51.2%～59.5%、Al2O3 20.5%～26%、Fe2O3 0.1%～0.5%、TiO2 0.2%～0.8%、CaO 0.1%～1%、MgO 0.1%～0.5%、K2O 4.0%～6.8%、Na2O 1.5%～3.3%、ZrO5.5%～10.8%、余量为0.5%～4.2%杂质；
底釉浆细度要求325目筛余0.8～1.2，比重1.78～1.87，流速28～40秒。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述半透明釉浆的配方如下：按重量计，钾长石15～30份，钠长石25～50份，高岭土3～8份，烧土6～15份，石英5～15份，硅灰石0～6份，烧滑石3～13份，添加剂A：0.1～1份，添加剂B：1～5份；其中
添加剂A的化学成分分析为SiO2 2.01%、Al2O3 2.89%、Fe2O3 0.03%、TiO2 93.05%、CaO0.03%、MgO 0.09%、K2O 0.02%、Na2O 0.06%、余量为1.35%杂质；
添加剂B的化学成分分析为SiO2 94.41%、Al2O3 0.14%、Fe2O3 0.05%、TiO2 0.05%、CaO0.08%、MgO 0.06%、K2O 0.04%、Na2O 0.21%、余量为4.59%杂质；
半透明釉浆的化学成分分析为SiO2 60.2%～70.5%、Al2O3 14.5%～20%、Fe2O3 0.1%～0.5%、TiO2 0.2%～0.8%、CaO 0.1%～3%、MgO 1.0%～4.1%、K2O 2.0%～3.8%、Na2O 3.5%～5.8%、余量为0.5%～4.2%杂质；
半透明釉浆细度要求325目筛余0.3～0.6，比重1.78～1.87，流速28～40秒。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，步骤2）中，经所述烘干使生坯水分控制在0.8%以下。
6.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，步骤3）中，喷墨渗花墨水中的助渗剂量为25wt%，墨水与助渗剂的喷量关系为墨水灰度加助渗剂灰度为100%。
7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，步骤4）中，所述隔离釉主要由乙二醇、乳胶、利网剂、爽网膏、印刷粉中的一种或多种配比而成，烘干后形成致密的隔水薄膜层。
8.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述透明釉浆中组成物质按重量计包括钾长石3～10份，钠长石30～50份，高岭土3～12份，煅烧高岭土5～15份，石英0～13份，碳酸钙5～15份，硅灰石5～20份，烧滑石4～15份，氧化锌1～5份；其化学成分分析如下：SiO242.9%～55.8%、Al2O3 17.5%～23%、Fe2O3 0.1%～0.5%、TiO2 0.1%～0.4%、CaO 6.8%～13.1%、MgO 0.8%～3.5%、K2O 1.0%～3.1%、Na2O 3.0%～6.3%、ZnO 1.5%～5.5%余量为3.9%～9.2%杂质；
透明釉浆的细度要求325目筛余0.4～0.8，比重1.8～1.85，流速28～44秒。
9.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，淋底釉浆时，单位面积所淋的底釉浆重量为350～450g/m2；淋半透明釉浆时，单位面积所淋的半透明釉浆重量为500～600g/m2；淋透明釉浆时，单位面积所淋的透明釉浆重量为350～460g/m2。
10.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，烧成温度为1150～1230℃，烧成时间65～90分钟，升温速率为8～20℃/分钟。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的制造方法，其特征在于，在制得的具有立体装饰效果的一次烧成喷墨渗花瓷质砖半成品中，半透明釉的厚度在0.2～0.3mm，透明釉的厚度在0.12～0.15mm，墨水在半透明釉浆层中能够渗透0.1～0.6mm；步骤7）中，抛光切削厚度为0.18～0.25mm。
12.一种由权利要求1至11中任一项所述的制造方法制造的具有立体装饰效果的一次烧超平喷墨渗花瓷质砖。
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