CN110357669A - 一种立体拉丝釉及生产工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种立体拉丝釉及其生产工艺，属于陶瓷釉料技术领域，其工艺包括：（1）下陷料制备；（2）下陷印釉制备；（3）胚体成型，采用传统滚压成型及修胚方法制成胚体；（4）上第一层釉，采用普通皓白釉，施釉采用浸釉方法，使产品表面吸附釉液；（5）釉层烘干，将一次施釉后的坯体烘干；（6）印上下陷料，采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉转移到第一层釉面上；（7）二次施釉；（8）烧成，对二次施釉的坯体进行烧成，烧成后即制得产品；该方法制备的立体拉丝釉可以使釉面呈现出不同图案的立体效果，使花面图案更加生动、美观，提高产品的艺术效果，使产品更有市场竞争取力。

Description

一种立体拉丝釉及生产工艺
技术领域
本发明涉及一种釉及其生产工艺，具体涉及一种立体拉丝釉及其生产工艺，属于陶瓷釉料技术领域。
背景技术
日用陶瓷装饰主要是釉下贴花、釉上贴花、色釉等工艺，但是立体感不强，随着人们生活水平的提高，对日用陶瓷的要求更高、更加多元化，带有立体感的陶瓷产品越来越受欢迎。目前，在表面呈现立体画面制作各种凹凸线条、板块、图案或浮雕的生产方式方法大致两种，一种是在制作陶瓷素坯时形成凹凸线条、曲面，这种做法线条简单，缺少自然感，另一种是烧制过程在釉面上窑变形成凹凸，但凹凸位置随机出现，不能进行预期和控制。
发明专利：ZL201310314655.1，公开了一种高温立体釉及其制备方法，该高温立体釉的原料配比中含有钾长石10～20份，麦饭石22～32份，石英18～28份，方解石5～12份，毛土8～18份，氧化锆3～9份，氧化钛3～10份和锻滑石1～5份。其制备方法是将称取的各种原料混合配料，然后进行球磨，球磨后所得物料过200目筛，将过筛后的物料在制品坯体上进行上釉，上釉后的制品在1300℃条件下进行烧成，烧成时间为12小时，烧成后自然冷却，冷却后得到高温立体釉产品。该立体釉流动性好，施釉工艺操作简单，烧成后立体效果明显。本发明通过釉料配比，在高温下釉烧，形成立体感比较强的产品。
本发明旨在研发一种立体拉丝釉及其生产工艺，使釉面能呈现出不同的图案的立体效果，使花面图案更加生动、美观，提高产品的艺术效果，使产品更有市场竞争力。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术不足，提供一种立体拉丝釉面的生产工艺，使釉面能呈现出不同的图案的立体效果，使花面图案更加生动、美观，提高产品的艺术效果。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种立体拉丝釉，该立体拉丝釉由下陷料与转移印彩用的印釉组成，各组分的组成为：
①下陷料配比为：灼减32-38份、三氧化二铝0.1-0.2份、二氧化硅4.5-5.0份、三氧化二铁0.014-0.016份、氧化钙0.04-0.08份、氧化镁0.14-0.18份、氧化钾0.2-0.3份、氧化钠0.75-0.8份、二氧化钛0.5-0.8份、氧化锶0.03-0.04份、二氧化锆0.08-0.1份、五氧化二钒55-60份；
②下陷印釉：下陷料与转移印彩用的印釉按配比100：30-35得到下陷印釉，即立体拉丝釉。
一种立体拉丝釉的生产工艺，包括如下步骤：
（1）下陷印釉的制备：
①下陷料配比为：灼减32-38份、三氧化二铝0.1-0.2份、二氧化硅4.5-5.0份、三氧化二铁0.014-0.016份、氧化钙0.04-0.08份、氧化镁0.14-0.18份、氧化钾0.2-0.3份、氧化钠0.75-0.8份、二氧化钛0.5-0.8份、氧化锶0.03-0.04份、二氧化锆0.08-0.1份、五氧化二钒55-60份；
②下陷印釉制备：取下陷料和转移印彩用的印釉，配比为100：30-35用快速球磨机研磨2小时后倒出得立体拉丝釉，备用；
（2）胚体成型：胚体滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）上第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入釉料重量的1-1.5%的镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡2-3秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.2-0.3mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为90-100%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中于100-120℃烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印下陷印釉：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉布置到图案模板上，再利用硅胶头转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡2-3秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.2-0.3mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛于1220-1240℃烧成16小时；烧成后即制得产品。
本发明的有益效果是：采用本发明生产的下陷印釉，通过无纸转移印彩工艺转印在第一层釉面上，后再复盖第二层釉，能使釉面按不同图案呈现出不同图型的立体效果，使花面图案更加生动、美观，提高产品的艺术效果，使产品更有市场竞争力。
附图说明
图1为釉面效果图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的说明，这些实施例仅用来说明本发明，并不限制本发明的保护范围。
实施例1
一种立体拉丝釉的生产工艺，该生产工艺包括如下步骤：
（1）下陷印釉的制备：
①下陷料配比为：灼减35份、三氧化二铝0.1份、二氧化硅4.8份、三氧化二铁0.015份、氧化钙0.06份、氧化镁0.16份、氧化钾0.25份、氧化钠0.78份、二氧化钛0.7份、氧化锶0.035份、二氧化锆0.1份、五氧化二钒58份；
②下陷印釉制备：取下陷料和转移印彩用的印釉，配比为100：30-35用快速球磨机研磨2小时后倒出得立体拉丝釉，备用；
（2）成型：滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入釉料重量的1%的镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡2秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.2mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为90%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中于100℃烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印上下陷料：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡2秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.2mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛于1220℃烧成16小时；坯体烧成后即制得产品。
实施例2
一种立体拉丝釉的生产工艺，该生产工艺包括如下步骤：
①下陷料配比为：灼减32份、三氧化二铝0.1份、二氧化硅4.5份、三氧化二铁0.014份、氧化钙0.04份、氧化镁0.148份、氧化钾0.2份、氧化钠0.75份、二氧化钛0.5份、氧化锶0.03份、二氧化锆0.08份、五氧化二钒55份；
（2）成型：滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入釉料重量的1.5%的镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡3秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.3mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为100%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中于120℃烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印上下陷料：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡3秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.3mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛于1240℃烧成16小时；坯体烧成后即制得产品。
实施例3
一种立体拉丝釉的生产工艺，该生产工艺包括如下步骤：
（1）下陷印釉的制备：
①下陷料配比为：灼减38份、三氧化二铝0.2份、二氧化硅5.0份、三氧化二铁0.016份、氧化钙0.08份、氧化镁0.18份、氧化钾0.3份、氧化钠0.8份、二氧化钛0.8份、氧化锶0.04份、二氧化锆0.1份、五氧化二钒60份；
②下陷印釉制备：取下陷料和转移印彩用的印釉，配比为100：30-35用快速球磨机研磨2小时后倒出得立体拉丝釉，备用；
（2）成型：滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入釉料重量的1.2%的镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡2.5秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.25mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为95%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中于110℃烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印上下陷料：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡2.5秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.25mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛于1230℃烧成16小时；坯体烧成后即制得产品。
实施例4
一种立体拉丝釉的生产工艺，该生产工艺包括如下步骤：
（1）下陷印釉的制备：
①下陷料配比为：灼减33份、三氧化二铝0.12份、二氧化硅4.6份、三氧化二铁0.015份、氧化钙0.05份、氧化镁0.15份、氧化钾0.22份、氧化钠0.76份、二氧化钛0.6份、氧化锶0.033份、二氧化锆0.085份、五氧化二钒56份；
②下陷印釉制备：取下陷料和转移印彩用的印釉，配比为100：30-35用快速球磨机研磨2小时后倒出得立体拉丝釉，备用；
（2）成型：滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入釉料重量的1.4%的镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡2.5秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.22mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为95%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中于105℃烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印上下陷料：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡2.5秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.22mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛于1225℃烧成16小时；坯体烧成后即制得产品。
实施例5
一种立体拉丝釉的生产工艺，该生产工艺包括如下步骤：
①下陷料配比为：灼减37份、三氧化二铝0.18份、二氧化硅4.9份、三氧化二铁0.0155份、氧化钙0.07份、氧化镁0.17份、氧化钾0.28份、氧化钠0.77份、二氧化钛0.7份、氧化锶0.038份、二氧化锆0.095份、五氧化二钒59份；
②下陷印釉制备：取下陷料和转移印彩用的印釉，配比为100：30-35用快速球磨机研磨2小时后倒出得立体拉丝釉，备用；
（2）成型：滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入釉料重量的1.1%的镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡2.5秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.28mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为95%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中于118℃烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印上下陷料：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡2.5秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.28mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛于1228℃烧成16小时；坯体烧成后即制得产品。

Claims (5)

1.一种立体拉丝釉，其特征在于：该立体拉丝釉由下陷料与转移印彩用的印釉组成，各组分的组成为：
①下陷料配比为：灼减32-38份、三氧化二铝0.1-0.2份、二氧化硅4.5-5.0份、三氧化二铁0.014-0.016份、氧化钙0.04-0.08份、氧化镁0.14-0.18份、氧化钾0.2-0.3份、氧化钠0.75-0.8份、二氧化钛0.5-0.8份、氧化锶0.03-0.04份、二氧化锆0.08-0.1份、五氧化二钒55-60份；
②下陷印釉：下陷料与转移印彩用的印釉按配比100：30-35得到下陷印釉，即立体拉丝釉。
2.一种立体拉丝釉的生产工艺，其特征在于：该生产工艺包括如下步骤：
（1）下陷印釉的制备：
①下陷料配比为：灼减35份、三氧化二铝0.1份、二氧化硅4.8份、三氧化二铁0.015份、氧化钙0.06份、氧化镁0.16份、氧化钾0.25份、氧化钠0.78份、二氧化钛0.7份、氧化锶0.035份、二氧化锆0.1份、五氧化二钒58份；
②下陷印釉制备：取下陷料和转移印彩用的印釉，配比为100：30-35用快速球磨机研磨2小时后倒出得立体拉丝釉，备用；
（2）胚体成型：胚体滚压成型后采用日用陶瓷生产的常规修坯工艺，对成型坯体表面进行修整；
（3）上第一层釉：对经修整后的坯体进行施釉，釉料采用普通皓白釉，在皓白釉中加入镁胶，施釉采用浸釉方法，坯体浸入浓度为52波美度的釉液中浸泡2-3秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.2-0.3mm的釉层；
（4）釉层烘干：将一次施釉后的坯体置于相对空气湿度为90-100%的常温环境内保湿30分钟，再置于窑炉中烘干20分钟，然后自然降温至常温；
（5）印下陷印釉：采用转移印彩机，把调好备用的下陷印釉布置到图案模板上，再利用硅胶头转移到第一层釉面上；
（6）二次施釉：将印彩后的坯体干燥后，再次浸入浓度为52波美度的色釉釉液中浸泡2-3秒钟，使产品表面吸附釉液，形成厚度为0.2-0.3mm的二次釉层；
（7）烧成：对经二次施釉的坯体进行烧成，在隧道窑内采用氧化气氛烧成16小时；烧成后即制得产品。
3.根据权利要求2所述的一种立体拉丝釉的生产工艺，其特征在于：步骤（3）所述的镁胶的加入量为釉料重量的1-1.5%。
4.根据权利要求2所述的一种立体拉丝釉的生产工艺，其特征在于：步骤（4）所述的烘干是在100-120℃条件下烘干。
5.根据权利要求2所述的一种立体拉丝釉的生产工艺，其特征在于：步骤（7）所述的烧成温度为1220-1240℃。
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