CN102795895A

CN102795895A - 立体幻彩陶瓷产品及其制备方法

Info

Publication number: CN102795895A
Application number: CN2012102951322A
Authority: CN
Inventors: 刘一军; 潘利敏; 汪庆刚; 饶培文; 赵勇
Original assignee: GUANGDONG MONALISA NEW MATERIAL GROUP CO Ltd
Current assignee: GUANGDONG MONALISA NEW MATERIAL GROUP CO Ltd
Priority date: 2012-08-17
Filing date: 2012-08-17
Publication date: 2012-11-28

Abstract

本发明涉及一种立体幻彩陶瓷产品及其制备方法，包括以下步骤：将配制好的砖坯粉料通过粉体多管布料设备布出设计的图案，然后经压机压制成砖坯；对经干燥的所述砖坯利用抛坯机进行抛坯处理；在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉；在所述底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层；并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，得生坯制品；将所述生坯制品干燥、经窑炉高温烧成、抛光后得所述立体幻彩陶瓷产品。本发明的方法采用多道装饰手段，结合了粉体图案粗犷、质感真实以及釉面图案丰富细腻的特点，使产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强。

Description

立体幻彩陶瓷产品及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种建筑装饰材料制备方法，特别涉及一种粉体布料立体幻彩陶瓷产品的生产方法。

背景技术

陶瓷产品因其吸水率低，强度硬度高、结构致密、耐磨、产品理化性能优越而广泛应用于家装和建筑领域。抛釉砖是近年来发展非常迅速的一种建筑装饰产品，因其装饰图案丰富，色彩多变，表面光泽度高等特点深受人们的喜爱，逐渐成为市场上的主流产品。目前抛釉砖制备工艺都是在砖坯表面喷淋底釉（化妆土）后进行印花装饰，然后上一层透明釉，经烧成、抛光磨边后得到最终产品。但是，通过该工艺制备的抛釉砖三维立体感不强，特别是近距离观察会发现产品层次感不够丰富。

公开号101747020B公开一种抛釉砖的生产方法，其通过在砖坯上覆盖熔块粉，烧制形成熔块层；在所述已烧成的熔块层上覆盖釉层并再次烧制而成，在第二次烧制过程中熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案。该现有技术通过控制熔块粉、釉料的布料、组分以及二次烧成以使熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案。其提供的产品不具有三维幻彩立体感。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术的不足而提供的一种釉下幻彩三维立体陶瓷板的生产方法。

在此，本发明提供一种立体幻彩陶瓷产品的制备方法，包括以下步骤：将配制好的砖坯粉料通过粉体多管布料设备布出设计的图案，然后经压机压制成砖坯；对经干燥的所述砖坯利用抛坯机进行抛坯处理；在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉；在所述底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层；并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，得生坯制品；将所述生坯制品干燥、经窑炉高温烧成、抛光后得所述立体幻彩陶瓷产品。需要说明的是，在本发明中，无论是权利要求还是说明书中述及的原料百分比，如无特别说明，均指质量百分比。

本发明的方法采用多道装饰手段，结合了粉体图案粗犷、质感真实以及釉面图案丰富细腻的特点，使产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强。

本发明的制备方法中通过粉体多管布料设备将砖坯粉料布出设计的图案。若从经济性以及砖坯性能等方面来考虑，其中的砖坯粉体还可以包括底料和面料，优选使底料和面料分二次布料，其中将具有不同颜色带半透明质感的粉体作为面料通过所述粉体多管布料设备布出设计的图案。更优选地，所述面料粉体包括80～95%的具有半透明质感的低温料和质量百分含量为5～15%的高温不透明料。使用包含高温不透明料的面料形成图案可对比承托出面料层的通透感。面料和底料除了组成可以不同，还可以使其细度也有区别，优选地底料的粒度分布为0.18mm～0.85mm，以偏上限为主。面料的粒度分布为0.1mm～0.85mm，以偏下限为主。

优选地，在抛坯处理之前，使经干燥的所述砖坯强度为1.2MPa~1.8MPa。

优选地，抛坯处理过程中的抛坯厚度为0.2～0.6mm。过薄抛后坯体呈现的图案不清晰，过厚砖坯破损大，造成浪费。

在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉，可以提高花釉发色的稳定性，并使制备的产品呈现立体感。本发明的方法优选地选择使用比重为1.25～1.45g/cm³的透明底釉，并其施釉量优选控制在180～400g/m²。

本发明的方法还在所述透明底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层，并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉。应理解，形成花釉层可以通过公知的印花方式，例如丝网印刷、辊筒印刷和喷墨印刷中的一种或几种。而优选地通过在所述花釉层上布透明熔块粉的方式形成所述全抛透明釉层。应理解，也可以通过钟罩淋釉方式在所述花釉层上布上一层全抛透明釉。

依本发明的方法制备的陶瓷产品，从底到面依次具备带图案层的砖坯层，透明釉层，花釉层和最上层的全抛透明釉层。因而结合了粉体图案粗犷、质感真实以及印花图案丰富细腻的特点，使产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强。

优选地，本发明的制备方法在所述花釉层上印刷第二透明釉层和第二花釉层，之后在所述第二花釉层上布上一层全抛透明釉。所制得的陶瓷产品从底到面依次具备带图案层的砖坯层，透明釉层，花釉层，第二透明釉层，第二花釉层和最上层的全抛透明釉层。这样形成的产品立体感和层次感将更加强烈。

附图说明

图1为现有技术的全抛釉陶瓷产品的制备方法示意流程图

图2为本发明一个示例实施例的立体幻彩陶瓷产品的制备方法示意流程图；

图3为本发明另一个示例实施例的立体幻彩陶瓷产品的制备方法示意流程图。

具体实施方式

参照说明书附图，并结合下述实施方式进一步说明本发明，应理解，说明书附图及下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。。

陶瓷制品包括釉面砖和无釉砖，本发明主要涉及釉面砖。釉面砖表面可以做各种图案和花纹，相比无釉抛光砖，釉面砖可以实现色彩和图案丰富。根据原材料的不同，釉面砖可以分为陶制釉面砖和瓷制釉面砖两大类。陶制釉面砖，由陶土烧制而成，吸水率较高，强度相对较低。瓷制釉面砖，由瓷土烧制而成，吸水率较低，强度相对较高。要注意的是，上面所说的吸水率和强度的比较都是相对的，也有一些陶制釉面砖的吸水率和强度比瓷制釉面砖高。坯料和釉料的原材料选择通常依需要的制品而定。

釉面陶瓷砖生产过程，公知的通常包括原料制备工序、素坯成型工序、上面釉（化妆土）工序、印花工序以及烧成工序。成型制得的素坯在施釉之前通常还需要进行干燥使之含水率小于1.5%。一般通过淋、撒、喷等方式布上面釉。上面釉（化妆土）后进行印花工序，印花可以是多道印花，可以是丝网或滚筒印花，以此在砖坯上形成花釉层。印花后通常还需要经过二道干燥工序再入窑烧成。烧成温度和烧成时间根据坯、釉料的原料及其配比确定。烧成制度对釉面发生的缺陷也有较大的影响。冷却带冷、热配比要适当，正确掌握不同阶段的温度与气氛要求。防止因氧化不足，还原气氛过强，还原时间过长等而使制品烟熏。温度也要控制在釉料所允许的温度范围内或提高溶剂的熔融温度。

在此，本发明提供一种立体幻彩陶瓷产品的制备方法。参看图1，其包括常规的粉料制备工序，压制工序，上釉工序，烧成工序和抛光工序。

参看图2和图3，本发明还包括布料工序。其可以是一次布料也可以是二次布料。二次布料是使底料和面料分二次，其中将具有不同颜色不同质感的粉体作为砖坯表层的面料通过所述粉体多管布料设备布出设计的图案。砖坯表层所用的面料至少含有两种以上不同颜色的粉料。无论是一次布料还是二次布料均可采用多管布料，将不同颜色的面层粉料通过不同料管落到料车格栅内作为面料层，依据格栅图案的不同形成具有不同纹路的图案效果。采用多管布料的方式所用的粉料通常是喷雾干燥过程形成的不同颗粒级配的粉料粒子。在本发明的一个示例中粉料的粒度分布为0.18mm～0.85mm。此外，若分二次布料时面料可以根据需要利用磨粉机磨细再使用，面料层厚度可占砖坯厚度的四分之一到二分之一。砖坯底层粉料（底料）是较粗的粉料，在本发明的一个示例中其粒度分布为0.18mm～0.85mm。布料完成后可以采用常规的干法压制成型法将粉料压制成砖坯。在一个示例中，本发明使底料和面料分二次布料，其中将具有不同颜色带半透明质感的粉体作为面料通过所述粉体多管布料设备布出设计的图案；所述面料粉料由质量百分含量为80～95%的具有半透明质感的低温料和质量百分含量为5～15%的高温不透明料构成，高温不透明料可用来对比承托出面料层的通透感。面料和底料除了组成可以不同，还可以使其细度也有区别。在本发明的一个示例中使底料的粒度分布为0.18mm～0.85mm，以偏上限为主；面料的粒度分布为0.1mm～0.85mm，以偏下限为主。

本发明的制备方法还包括对砖坯进行打磨处理的打磨工序。打磨处理可以使不同颜色不同质感的粉体经多管布料形成的图案凸显，使其纹理清晰，并还有利于后期的上釉工序。在这里，打磨厚度可以为0.2～0.6mm。

作为第一示例方案，本发明的上釉工序包括依次在经压制成的砖坯上施以透明底釉层、花釉层和最上面的全抛釉层的工序（参看图2）。本发明使用透明底釉层代替常规的用以覆盖或遮蔽砖坯本色的面釉（化妆土），并采用喷淋工艺将透明底釉施以经打磨处理的砖坯表面。而且本发明使用比重为1.25～1.45g/cm³的透明底釉，并其施釉量控制在180～400g/m²，形成的釉层厚度为0.1～0.5mm。此外，其粒度分布可以为0.03～0.05mm。这样提高了花釉发色的稳定性，并使制备的产品呈现立体感。该透明底釉层釉料的配比为：钾长石30~45%，钠长石10~20%，高岭土6~8%，方解石12~20%，烧滑石12~20%，煅烧高岭土8~15%。

本发明的上釉工序还包括在所述透明底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层的工序，以及在所述花釉层上布上一层全抛透明釉层的工序。形成花釉层可以通过公知的印花方式，例如丝网印刷、辊筒印刷和喷墨印刷中的一种或几种。花釉层的厚度可以为0.1～0.3mm，其依设计的图案以及印刷的方式不同将会有所不同。

全抛釉是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层。本发明在一个实施例中通过在所述花釉层上布透明熔块粉的方式形成所述全抛透明釉层。这里可以使熔块粉的粒度为0.1~0.8mm。而在另一个实施例中本发明通过钟罩淋釉方式在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，这里可以使釉料的粒度分布为0.03～0.05mm。此外，该全抛透明釉层釉料其主要成份为：SiO₂60~68%，Al₂O₃12~16%，CaO5~10%，MgO1~3%，K₂O2~4%，Na₂O1~3%，ZnO0~5%。

将经过上釉工序制得的具有透明底釉层、花釉层和最上面的全抛釉层的砖坯制品，在1150～1250℃进窑高温煅烧60～90min。最后抛光处理，制得产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强的本发明的立体幻彩陶瓷产品。

参看图3，作为第二示例方案，本发明的上釉工序包括依次在经压制成的砖坯上施以第一透明底釉层、第一花釉层、第二透明底釉层、第二花釉层和最上面的全抛釉层的工序。在本方案中，第一透明底釉层和第二透明底釉层其施釉量均控制在180～300g/m²，形成的釉层厚度为0.1～0.4mm。第一花釉层和第二花釉层的釉层厚度为0.1～0.3mm。而该第一透明底釉层、第一花釉层、第二透明底釉层、第二花釉层和最上面的全抛釉层的其他方面的参数参看上面的第一示例方案。

作为一个示例，本发明的方法可以包括以下步骤：

a、利用粉体多管布料设备，将不同颜色、不同质感的粉料按照设计要求布出带有微粉线条等效果的图案后经压机压制成型；

b、砖坯干燥后利用抛坯机对干燥坯表面进行打磨处理，得到图案纹理清晰的砖坯；

c、将抛坯后的砖坯表面喷淋一层透明釉后再进行印花装饰；

d、采用印刷或者钟罩淋釉或者堆透明熔块的方式上一层全抛透明釉。经辊道窑高温烧成后抛光磨边得到产品。

在所属工艺步骤c过程中，可以先印花装饰再喷淋透明釉，再印花装饰，如此反复多次以增加立体装饰效果。透明釉的比重为1.25～1.45g/cm³，施釉量180～400g/m²。

在所属工艺步骤c过程中，印花装饰可以采用丝网印刷、辊筒印刷和喷墨印刷中的一种或几种。

实施例1

利用粉体布料器将不同类型粉料按照设计要求布出线条图案，经压机压制成型干燥后通过抛坯机对干燥坯表面进行抛坯处理，抛坯深度为0.3mm，得到具有微粉图案的干燥坯。在此干燥坯表面喷淋一层比重为1.28g/cm³的透明釉，施釉量为220g/m²，接着通过辊筒印花机进行印花装饰，叠加更为丰富的辊筒图案，使砖面图案更加饱满。最后采用丝网印刷全抛透明釉，入窑一次烧成抛光磨边后得到最终产品。

实施例2

在实施案例1中，将印花装饰后的砖坯再喷淋一层比重为1.35g/cm³的透明釉，施釉量为280g/m²，通过皮带输送至陶瓷喷墨打印机进行喷墨印花装饰，后续工艺同案例1。

本发明的有益效果为：通过该生产方法制备的产品结合了粉体图案粗犷、质感真实和仿古砖图案丰富细腻等特点。通过施透明釉再印花多次反复，可以呈现出多层次三维立体装饰效果。产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强，整体铺贴效果优于天然石材，具有非常好的市场推广前景。

Claims

1.一种立体幻彩陶瓷产品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将配制好的砖坯粉料通过粉体多管布料设备布出设计的图案，然后经压机压制成砖坯；对经干燥的所述砖坯利用抛坯机进行抛坯处理；在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉；在所述底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层；并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，得生坯制品；将所述生坯制品干燥、经窑炉高温烧成、抛光后得所述立体幻彩陶瓷产品。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述粉料包括面料和底料，所述面料由质量百分含量为80～95%具有半透明质感的低温料和质量百分含量为5～15%的高温不透明料组成。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于还包括在所述花釉层上印刷第二透明底釉层和第二花釉层，之后在所述第二花釉层上布上一层全抛透明釉。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述抛坯处理过程中的抛坯厚度为0.2～0.6mm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，透明底釉比重为1.25～1.45g/cm³，施釉量180～400g/m²。

6.权利要求1至5中任一项所述的制备方法，其特征在于，通过在所述花釉层上布透明熔块的方式形成所述全抛透明釉层。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，通过钟罩淋釉方式在所述花釉层上布上一层全抛透明釉。

8.一种立体幻彩陶瓷产品，其特征在于，根据权利要求1至7中任一项所述的方法制备而成。

9.一种立体幻彩陶瓷产品，其特征在于从底到面依次具备带图案层的砖坯层，透明釉层，花釉层和最上层的全抛透明釉层。

10.根据权利要求9所述的立体幻彩陶瓷产品，其特征在于，还具备在所述花釉层之上的第二透明釉层和在所述第二透明釉层之上的第二花釉层，最上层的所述全抛透明釉层在所述第二花釉层上。