CN104961502A - 一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法 - Google Patents

一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法，其是在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。本发明通过配方创新增强了坯体强度，解决了坯体变形以及快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。本发明实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，解决了现有陶瓷砖不能同时具备微晶砖的立体感和抛釉砖发色好图案丰富易于控制特性的问题。

Description

一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种陶瓷砖，尤其涉及的是一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法。
背景技术
2008年以来陶瓷行业最火爆的产品当属抛釉砖产品，其表面的图案和颜色非常丰富，是其他瓷砖无法比拟的，仿制天然石材特别有优势，随后出现的淋抛釉加喷墨工艺生产抛釉砖大大降低了抛釉砖生产控制难度和生产成本，造成各个公司如雨后春笋般的改生产线，重新建生产线来生产抛釉砖，随之而来的市场竞争愈演愈烈，产品同质化越来越严重，产品价格和利润也越来越低。
2010以来，微晶砖的出现，改变了人们对瓷砖的重新定义，丰富的立体感和温润感奠定了其瓷砖王者的地位，深受高端消费者的青睐。但是其存在很多不足，超高成本（是普通抛釉砖成本的3倍以上）导致很多厂无法接受，不能广泛生产；高昂的售价导致其市场很狭小；两次烧成（素烧100分钟左右，釉烧120～150分钟）导致能源消耗特别高，违背国家节能政策；高温烧成和熔块吃色导致喷墨发色特别差；注定了微晶砖这两年一路下滑的趋势。虽然其后出现的一次烧微晶砖大大缩短了烧成周期（烧成时间为80～100分钟）、降低了能耗和成本，但其表面毛孔吸纳和熔块发懵极大的影响了其装饰效果至今都无法解决，也注定了其在行业中逐渐销声匿迹。
专利201410185336.X公开了一种超平厚抛釉及超平厚抛釉瓷质砖的制造方法，釉由高温流动性好的熔块和部分生料组成，1.6mm直径视域内气泡个数为1～3个，气泡直径为0.02mm～0.06mm，但该方案不能使抛釉砖产品同时具备微晶砖的立体感和温润感，又具备抛釉砖发色好图案丰富易于控制的特点。因此，现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法，旨在解决现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制，不能同时具备微晶砖的立体感和温润感，又具备抛釉砖发色好图案丰富易于控制的问题。
本发明的技术方案如下：
一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，用于生产该新型抛釉砖的坯体成型后，在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，所述施面釉工序中使用的面釉按重量百分比计，包括以下组分：面釉粉：63.46%，硅酸锆：9.52%，羧甲基纤维素钠：0.13%，三聚磷酸钠：0.24%，水：26.65%。
其中，面釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：69.33%，Al2O3：19.51%，Fe2O3：0.21%，TiO2：0.2%，CaO：1.04%，MgO：1.54%，K2O：3.88%，Na2O：1.15%， ZrO2：0.62%，ZnO：0.01%，烧失：1.27%。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，厚抛釉包括的组分及其重量百分比如下：厚抛釉粉：71.64%，羧甲基纤维素钠：0.14%，三聚磷酸钠：0.27%，水：27.94%。
其中，厚抛釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：48.28%，Al2O3：11.52%，Fe2O3：0.12%，TiO2：0.01%，CaO：10.12%，MgO：3.56%，K2O：3.69%，Na2O：1.92%，ZrO2：0.21%，ZnO：9.32%，烧失：4.96%。
上述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，具体包括以下步骤：
（1）根据坯体配方进行配料入球磨机，球磨达到工艺要求细度的泥浆经放浆、过筛、除铁入泥浆池搅拌陈腐待用；
（2）陈腐后的泥浆通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥得到粉料，入均化料仓；
（3）均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，成型后坯体入干燥窑；
（4）通过干燥器完成干燥过程后，进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉，经烘干窑烘干后入烧成窑炉；
（5）烧成之后的产品经抛光、纳米防污、分选、打包进仓。
其中，坯体配方包括的组分及其重量百分比如下：球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%。
所述坯体若以化学组成计，其所包含的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：68.45%，Al2O3：19.24%，Fe2O3：1.10%，TiO2：0.14%，CaO：0.20%，MgO：0.45%，K2O：3.38%，Na2O：2.21%，烧失：4.83%。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，坯料工艺参数为：浆料水份：33%～37%，浆料流速：30～70s，浆料细度：0.8～1.0g/250目筛余，粉料水份：6.7%～7.2%，粉料级配：20目上≤1%、40%≤40目上≤48%、100目下≤4.5%。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，成型参数为：成型压力5000±200T，压制次数4.0±0.2次/分，成型厚度12.1mm～12.4 mm，成型尺寸900×900 mm。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa，上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，施面釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速26±5S，比重1.90±0.05g/ml，施釉量456±7.6g /片，细度（325目筛余）0.4%～0.7%重量百分比。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，喷墨印花的参数为：皮带速度22米/min，温度40～42℃，通道颜色为蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、黑色、桔黄色，真空度为80、90、90、85、90、65。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/片，细度（325目筛余）0.7%～1.0%。
所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其中，产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃。
附图说明
图1是本发明中生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法流程图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。
本发明提供了一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法，实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，单片800砖可高达1200～1800克水釉（干料850～1275克），解决了现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制，不能同时具备微晶砖的立体感和温润感，又具备抛釉砖发色好图案丰富易于控制的问题。
所述生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖，在坯体成型后，在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。
其中，所述施面釉工序中使用的面釉按重量百分比计，包括以下组分：面釉粉：63.46%，硅酸锆：9.52%，羧甲基纤维素钠：0.13%，三聚磷酸钠：0.24%，水：26.65%。其中，面釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：69.33%，Al2O3：19.51%，Fe2O3：0.21%，TiO2：0.2%，CaO：1.04%，MgO：1.54%，K2O：3.88%，Na2O：1.15%， ZrO2：0.62%，ZnO：0.01%，烧失：1.27%。
所述淋生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉，按重量百分比计，包括以下组分：厚抛釉粉：71.64%，羧甲基纤维素钠：0.14%，三聚磷酸钠：0.27%，水：27.94%。其中，厚抛釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：48.28%，Al2O3：11.52%，Fe2O3：0.12%，TiO2：0.01%，CaO：10.12%，MgO：3.56%，K2O：3.69%，Na2O：1.92%，ZrO2：0.21%，ZnO：9.32%，烧失：4.96%。
为了使得到的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖有更好的效果，本发明通过提高原始配方的高强度原矿泥含量，增加坯体的强度，解决了淋生料厚抛釉后裂砖问题；增加坯体铝含量，解决了变形问题；通过在釉中大量引入硅灰石和氧化锌，在坯体中引入大量低温水磨石粉，解决了快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。
其中，坯体配方包括的组分及其重量百分比如下：球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%。坯体配方包括的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：68.45%，Al2O3：19.24%，Fe2O3：1.10%，TiO2：0.14%，CaO：0.20%，MgO：0.45%，K2O：3.38%，Na2O：2.21%，烧失：4.83%。干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa，上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间。
如图1所示，是厚抛釉的新型抛釉砖及其制备方法的步骤流程图。一种如上述所述的厚抛釉的新型抛釉砖及其制备方法，具体步骤如下：
S1、原料配料。根据上述的坯体配方配置配料，装料进入球磨机。
S2、球磨。通过球磨机球磨使泥浆细度达到工艺要求。其中，球磨工艺参数为：浆料水份：33%～37%，浆料流速：30～70s，浆料细度：0.8～1.0g/250目筛余，粉料水份：6.7%～7.2%，粉料级配：20目上≤1%、40%≤40目上≤48%、100目下≤4.5%。
S3、陈腐。经放浆、过筛、除铁入泥浆池搅拌陈腐待用
S4、喷雾塔喷粉。陈腐后的泥浆通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥得到粉料，并入均化料仓。
S5、配送料。按照以下组分及重量百分比配制：球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%。
S6、压制成型。均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程。其中，成型参数为：成型压力5000±200T，压制次数4.0±0.2次/分，成型厚度12.1mm～12.4 mm，成型尺寸900×900 mm。
S7、干燥。成型后坯体入干燥窑进行干燥。其中，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa，上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间。
S8、喷水。
S9、淋面釉。施面釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速26±5S，比重1.90±0.05g/ml，施釉量456±7.6g /片，细度（325目筛余）0.4%～0.7%。
S10、喷墨印花。喷墨印花的参数为：皮带速度22米/min，温度40～42℃，通道颜色为蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、黑色、桔黄色，真空度为80、90、90、85、90、65。
S11、淋厚抛釉。淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/片，细度（325目筛余）0.7%～1.0%。
S12、烘干。
S13、烧成。其中，产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃。
S14、抛光、
S15、纳米防污。
S16、分选。
S17、打包进仓。
本发明的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖制备工艺实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，单片800砖可高达1200～1800克水釉（干料850～1275克），解决了现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制，不能同时兼备微晶砖的立体感/温润感和抛釉砖发色好图案丰富易于控制特点的问题。
除此之外，还通过提高原始配方的高强度原矿泥含量，增加坯体的强度，解决了淋生料厚抛釉后裂砖问题；增加坯体铝含量，解决了变形问题；通过在釉中大量引入硅灰石和氧化锌，在坯体中引入大量低温水磨石粉，解决了快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。
本发明通过以下具体实施例进一步阐述本发明的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖制备工艺。
实施例1：
按质量百分比计，将球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%称量配料，作为厚抛釉的新型抛釉砖的坯体配方。根据坯体配方进行配料入球磨机，坯料工艺参数为：浆料水份：33%～37%，浆料流速：30～70s，浆料细度：0.8～1.0g/250目筛余，粉料水份：6.7%～7.2%，球磨达到工艺要求细度的泥浆经放浆、过筛、除铁入泥浆池搅拌陈腐待用。陈腐后的泥浆通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥得到粉料，粉料级配：20目上≤1%、40%≤40目上≤48%、100目下≤4.5%，入均化料仓。均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，成型参数为：成型压力5000±200T，压制次数4.0±0.2次/分，成型厚度12.1mm～12.4 mm，成型尺寸900×900 mm，成型后坯体入干燥窑，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa，上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间。通过干燥器完成干燥过程后，进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉。面釉包括的组分及其重量百分比如下：面釉粉：63.46%，硅酸锆：9.52%，羧甲基纤维素钠：0.13%，三聚磷酸钠：0.24%，水：26.65%。其中，面釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：69.33%，Al2O3：19.51%，Fe2O3：0.21%，TiO2：0.2%，CaO：1.04%，MgO：1.54%，K2O：3.88%，Na2O：1.15%， ZrO2：0.62%，ZnO：0.01%，烧失：1.27%，施面釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速26±5S，比重1.90±0.05g/ml，施釉量456±7.6g/片，细度（325目筛余）0.4%～0.7%。喷墨印花的参数为：皮带速度22米/min，温度40～42℃，通道颜色为蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、黑色、桔黄色，真空度为80、90、90、85、90、65。厚抛釉包括的组分及其重量百分比如下：厚抛釉粉：71.64%，羧甲基纤维素钠：0.14%，三聚磷酸钠：0.27%，水：27.94%。其中，厚抛釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：48.28%，Al2O3：11.52%，Fe2O3：0.12%，TiO2：0.01%，CaO：10.12%，MgO：3.56%，K2O：3.69%，Na2O：1.92%，ZrO2：0.21%，ZnO：9.32%，烧失：4.96%，淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200g/片，细度（325目筛余）0.7%～1.0%。砖坯经烘干窑烘干后入烧成窑炉，产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃。
根据上述制得的厚抛釉的新型抛釉砖的烧成时间、抛釉量（单砖干料）、产品花色、光泽度、耐污染性与全抛釉砖、微晶石砖的对比结果如下：
  实施例1 全抛釉砖 微晶石砖
烧成时间 65min 65min 150min
抛釉量（单砖干料） 850±20g 240±10g 3500~4000g
产品花色 可扩大色彩选择范围、有利于增加产品花色品种、减少色号 墨水发色受烧成温度限制、小色号多 色料发色受烧成温度限制、小色号多
光泽度 90～105 80～90 90～100
耐污染性 5级 不低于3级 不低于3级
实施例2：
按质量百分比计，将球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%称量配料，作为厚抛釉的新型抛釉砖的坯体配方。根据坯体配方进行配料入球磨机，坯料工艺参数为：浆料水份：33%～37%，浆料流速：30～70s，浆料细度：0.8～1.0g/250目筛余，粉料水份：6.7%～7.2%，球磨达到工艺要求细度的泥浆经放浆、过筛、除铁入泥浆池搅拌陈腐待用。陈腐后的泥浆通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥得到粉料，粉料级配：20目上≤1%、40%≤40目上≤48%、100目下≤4.5%，入均化料仓。均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，成型参数为：成型压力5000±200T，压制次数4.0±0.2次/分，成型厚度12.1mm～12.4 mm，成型尺寸900×900 mm，成型后坯体入干燥窑，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa，上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间。通过干燥器完成干燥过程后，进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉。面釉包括的组分及其重量百分比如下：面釉粉：63.46%，硅酸锆：9.52%，羧甲基纤维素钠：0.13%，三聚磷酸钠：0.24%，水：26.65%。其中，面釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：69.33%，Al2O3：19.51%，Fe2O3：0.21%，TiO2：0.2%，CaO：1.04%，MgO：1.54%，K2O：3.88%，Na2O：1.15%， ZrO2：0.62%，ZnO：0.01%，烧失：1.27%，施面釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速26±5S，比重1.90±0.05g/ml，施釉量456±7.6g/片，细度（325目筛余）0.4%～0.7%。喷墨印花的参数为：皮带速度22米/min，温度40～42℃，通道颜色为蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、黑色、桔黄色，真空度为80、90、90、85、90、65。厚抛釉包括的组分及其重量百分比如下：厚抛釉粉：71.64%，羧甲基纤维素钠：0.14%，三聚磷酸钠：0.27%，水：27.94%。其中，厚抛釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：48.28%，Al2O3：11.52%，Fe2O3：0.12%，TiO2：0.01%，CaO：10.12%，MgO：3.56%，K2O：3.69%，Na2O：1.92%，ZrO2：0.21%，ZnO：9.32%，烧失：4.96%，淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1500g/片，细度（325目筛余）0.7%～1.0%。砖坯经烘干窑烘干后入烧成窑炉，产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃。
根据上述制得的厚抛釉的新型抛釉砖的烧成时间、抛釉量（单砖干料）、产品花色、光泽度、耐污染性与全抛釉砖、微晶石砖的对比结果如下：
  实施例2 全抛釉砖 微晶石砖
烧成时间 65min 65min 150min
抛釉量（单砖干料） 1060±20 240±10g 3500~4000g
产品花色 可扩大色彩选择范围、有利于增加产品花色品种、减少色号 墨水发色受烧成温度限制、小色号多 色料发色受烧成温度限制、小色号多
光泽度 90～105 80～90 90～100
耐污染性 5级 不低于3级 不低于3级
实施例3：
按质量百分比计，将球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%称量配料，作为厚抛釉的新型抛釉砖的坯体配方。根据坯体配方进行配料入球磨机，坯料工艺参数为：浆料水份：33%～37%，浆料流速：30～70s，浆料细度：0.8～1.0g/250目筛余，粉料水份：6.7%～7.2%，球磨达到工艺要求细度的泥浆经放浆、过筛、除铁入泥浆池搅拌陈腐待用。陈腐后的泥浆通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥得到粉料，粉料级配：20目上≤1%、40%≤40目上≤48%、100目下≤4.5%，入均化料仓。均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，成型参数为：成型压力5000±200T，压制次数4.0±0.2次/分，成型厚度12.1mm～12.4 mm，成型尺寸900×900 mm，成型后坯体入干燥窑，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa，上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间。通过干燥器完成干燥过程后，进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉。面釉包括的组分及其重量百分比如下：面釉粉：63.46%，硅酸锆：9.52%，羧甲基纤维素钠：0.13%，三聚磷酸钠：0.24%，水：26.65%。其中，面釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：69.33%，Al2O3：19.51%，Fe2O3：0.21%，TiO2：0.2%，CaO：1.04%，MgO：1.54%，K2O：3.88%，Na2O：1.15%， ZrO2：0.62%，ZnO：0.01%，烧失：1.27%，施面釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速26±5S，比重1.90±0.05g/ml，施釉量456±7.6g/片，细度（325目筛余）0.4%～0.7%。喷墨印花的参数为：皮带速度22米/min，温度40～42℃，通道颜色为蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、黑色、桔黄色，真空度为80、90、90、85、90、65。厚抛釉包括的组分及其重量百分比如下：厚抛釉粉：71.64%，羧甲基纤维素钠：0.14%，三聚磷酸钠：0.27%，水：27.94%。其中，厚抛釉粉的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：48.28%，Al2O3：11.52%，Fe2O3：0.12%，TiO2：0.01%，CaO：10.12%，MgO：3.56%，K2O：3.69%，Na2O：1.92%，ZrO2：0.21%，ZnO：9.32%，烧失：4.96%，淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1800g/片，细度（325目筛余）0.7%～1.0%。砖坯经烘干窑烘干后入烧成窑炉，产品烧成时高温区控制范围为1140～1230℃。
根据上述制得的厚抛釉的新型抛釉砖的烧成时间、抛釉量（单砖干料）、产品花色、光泽度、耐污染性与全抛釉砖、微晶石砖的对比结果如下：
  实施例2 全抛釉砖 微晶石砖
烧成时间 65min 65min 150min
抛釉量（单砖干料） 1275±20g 240±10g 3500~4000g
产品花色 可扩大色彩选择范围、有利于增加产品花色品种、减少色号 墨水发色受烧成温度限制、小色号多 色料发色受烧成温度限制、小色号多
光泽度 90～105 80～90 90～100
耐污染性 5级 不低于3级 不低于3级
从实施例1-3制备的产品与全抛釉砖和微晶石砖的比对结果可以看出，本发明的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖制备工艺实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，单片800砖可高达1200～1800克水釉（干料850～1275克），使得本发明抛釉砖同时具备微晶砖的立体感和温润感，又具备抛釉砖发色好图案丰富易于控制的优点。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，用于生产该新型抛釉砖的坯体成型后，在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。
2.根据权利要求1所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述施面釉工序中使用的面釉按重量百分比计，包括以下组分：面釉粉：63.46%，硅酸锆：9.52%，羧甲基纤维素钠：0.13%，三聚磷酸钠：0.24%，水：26.65%，其中，所述面釉粉按重量百分比计，包括以下化学组分：SiO2：69.33%，Al2O3：19.51%，Fe2O3：0.21%，TiO2：0.2%，CaO：1.04%，MgO：1.54%，K2O：3.88%，Na2O：1.15%， ZrO2：0.62%，ZnO：0.01%。
3.根据权利要求1所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述淋生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉，按重量百分比计，包括以下组分：厚抛釉粉：71.64%，羧甲基纤维素钠：0.14%，三聚磷酸钠：0.27%，水：27.94%，其中，所述厚抛釉粉按重量百分比计包括以下化学组分：SiO2：48.28%，Al2O3：11.52%，Fe2O3：0.12%，TiO2：0.01%，CaO：10.12%，MgO：3.56%，K2O：3.69%，Na2O：1.92%，ZrO2：0.21%，ZnO：9.32%。
4.根据权利要求1所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，施面釉的方式为钟罩淋釉，参数为：浆料流速26±5S，比重1.90±0.05g/ml，施釉量456±7.6g/片，细度为经325目筛余后干料重量百分比为0.4%～0.7%；
淋生料厚抛釉的方式为钟罩淋釉，参数为：浆料流速37±3S，比重1.91±0.03g/ml，施釉量1200～1800g/片，细度为经325目筛余后的干料重量百分比为0.7%～1.0%。
5.根据权利要求1所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，喷墨印花的参数为：坯体传送皮带速度22米/min，温度40～42℃，喷墨机设置有六个喷墨通道，各通道颜色分别为蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、黑色、桔黄色，以上通道的真空度分别为80、90、90、85、90、65。
6.根据权利要求1所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述产品经窑炉烧成时，烧成温度的高温区控制范围为1140～1230℃。
7.根据权利要求1所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述坯体的制备包括以下步骤：
A：根据坯体配方进行配料入球磨机，球磨达到工艺要求细度的泥浆经放浆、过筛、除铁入泥浆池搅拌陈腐待用，其中，球磨工艺参数为：浆料水份重量百分比：33%～37%，浆料流速：30～70s，浆料细度：0.8～1.0g/250目筛余，粉料水份重量百分比：6.7%～7.2%；
 B：陈腐后的泥浆通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥得到粉料，入均化料仓，其中，粉料级配为：20目上≤1%、40%≤40目上≤48%、100目下≤4.5%；
C：均化料仓陈腐后粉料通过压机完成成型过程，其中，成型参数为：成型压力5000±200T，压制次数4.0±0.2次/分，成型厚度12.1mm～12.4 mm，成型尺寸900×900 mm。
8.根据权利要求7所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述坯体配方中按重量百分比计包括以下组分：球土：5.02%，原矿泥：18.05%，中温砂：32.10%，水磨石粉：21.06%，长石：20.06%，高铝砂：2.01%，滑石：1.71%；所述坯体以化学组成计，其所包含的化学组分及其重量百分比如下：SiO2：68.45%，Al2O3：19.24%，Fe2O3：1.10%，TiO2：0.14%，CaO：0.20%，MgO：0.45%，K2O：3.38%，Na2O：2.21%，烧失：4.83%。
9.根据权利要求7所述的生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖的制备方法，其特征在于，成型后坯体入干燥窑通过干燥器进行干燥，干燥后的坯体在上釉前，坯体温度控制在70～85℃之间，其中，干燥参数为：用正干燥，进窑次数7.5±0.2次/分，干燥坯体强度大于1.6Mpa。
10.一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖，其特征在于，所述生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖采用如权利要求1-9任一项所述的方法制备而成。
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