CN110183251A - 一种无光釉陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种无光釉陶瓷砖及其制备方法;所述无光釉陶瓷砖的制备方法包括:A、将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;B、在陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;C、在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层;D、在第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;E、在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;F、入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。进而即提升了无光釉陶瓷砖表面釉层的厚度,提升了无光釉陶瓷砖表面的平整度,又能有效降低无光釉陶瓷砖表面光泽度,提升无光釉陶瓷砖的图案装饰层的图案装饰效果。

Description

一种无光釉陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷生产领域,尤其涉及一种无光釉陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
随着陶瓷行业的发展,陶瓷砖表面的装饰技术越来越丰富,色彩越来越宽广,表面质感越来越逼真。陶瓷砖的表面装饰效果大多来自于自然界的天然材料,比如仿天然大理石、天然花岗石、仿各类壁纸、布艺的肌理,仿皮质的肌理,金属物、建筑物腐蚀斑驳的效果等,而仿天然木材的肌理也成为近几年陶瓷砖纹理设计的一个重要的流行趋势。仿天然木材的陶瓷砖产品其特点优势非常明显,它不仅具有木材的表面色彩、纹理,更具有陶瓷砖的硬度、耐磨、防滑、防火、防潮、防蛀、仿伸缩等功能。木纹砖的设计与大量使用,降低了家居装饰对天然木材的依赖,减少了用于制作实木地板的数量,从而减少了树木的砍伐,具有积极的环保和绿色功能。
无光釉陶瓷砖是仿木纹陶瓷砖的一种,相对于普通的仿木纹陶瓷砖,适当增加了表面光泽效果(表面光泽度应当控制在一定范围内)。但是,现有的无光釉陶瓷砖为了提升木纹砖装饰效果,降低了无光釉陶瓷砖的表面釉层厚度,从而导致其表面平整度降低,主要表现为无光釉陶瓷砖的表面明显可见凹凸不平的颗粒,与真实木材的质感相差甚远。若为了解决上述技术问题增加无光釉陶瓷砖的釉层厚度,虽然会提高其表面平整度,但会使无光釉陶瓷砖的表面光泽度过高,从而降低无光釉陶瓷砖的仿木纹效果。
因此,如何在提高无光釉陶瓷砖的釉层的厚度的同时,不会使其表面光泽度过高成为了亟待解决的技术问题。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种无光釉陶瓷砖及其制备方法,旨在提供一种提高无光釉陶瓷砖的釉层的厚度的同时,不会使其表面光泽度过高的技术方案。
本发明为解决上述技术问题,提供的技术方案如下:一种无光釉陶瓷砖的制备方法,其包括步骤:
A、将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;
B、在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;
C、在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层;
D、在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;
E、在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;
F、入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。
进一步的,所述步骤A中辊道窑内最高温度为160℃,干燥周期为50~60分钟,所述陶瓷坯体的出窑温度为80~100℃。
进一步的,所述步骤B中无光面釉层中无光面釉的原料按重量份数计,由以下原料组成:氧化锌2份,硅酸锆15份,钾长石14份,钠长石10份,708熔块19份,烧滑石7份,碳酸钙10份,氧化铝8份,高岭土15份。
进一步的,所述步骤B中无光面釉层的化学组成按质量百分比计,包括:SiO2 49.08%,Al2O3 21.35%,Fe2O3 0.26%,CaO 9.29%,MgO 3.31%,K2O 2.52%,Na2O 1.8%,ZnO2.13%和ZrO2 10.26%。
进一步的,所述步骤B中的无光面釉的加工过程包括:
每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.3克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.3~0.4%,陈腐时间不小于24小时。
进一步的,所述步骤C和步骤E中无光透明釉的原料按重量份数计,由以下组分组成:氧化锌1.37份,碳酸钡8.22份,钾长石16.44份,602熔块26份,烧滑石6.85份,碳酸钙1.37份,硅灰石6.85份,高岭土24.66份,煅烧高岭土8.22份。
进一步的,所述步骤C第一无光透明层和步骤E中的第二无光透明层,按百分比数份计,包括:SiO2 52.45%,Al2O3 20.28%,Fe2O3 0.43%,CaO 7.59%,MgO 3.55%,K2O 3.63%,Na2O 0.78%,ZnO 2.73%,BaO 8.54%和B2O3 0.02%。
进一步的,所述步骤C和步骤E中无光透明釉制备工艺包括:
每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.35克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:原料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.1~0.3%,陈腐时间不小于24小时。
进一步的,所述步骤F中入窑烧制成型时的烧成温度为1195~1210℃,烧成周期为60~65分钟;所述步骤B中无光面釉层的光泽度为5~7度;烧制成型的无釉陶瓷砖的光泽度为3~6度,烧制成型的无釉陶瓷砖的莫氏硬度为5。
本发明为解决上述技术问题,提供的又一技术方案如下:一种无光釉陶瓷砖,其中,所述无釉陶瓷砖由如上任一项所述的无光釉陶瓷砖的制备方法制备获得,所述无光釉陶砖由下至上依次包括陶瓷砖坯体、无光面釉层、第一无光透明釉层、图案装饰层和第二无光透明层。
有益效果:本发明提供了一种无光釉陶瓷砖及其制备方法,所述无光釉陶瓷砖的制备方法,包括步骤:A、将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;B、在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;C、在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层;D、在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;E、在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;F、入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。进而通过在所述步骤C和步骤E中的无光透明釉为同一无光透明釉,其配方相同;通过施加两层无光透明釉层,进而显著的提升了无光釉陶瓷砖的哑光效果,通过施加3层釉层,进而提升了无光釉陶瓷砖上的釉层厚度,进而显著提升了无光釉陶瓷砖的表面平整度。进一步的,在无光面釉层表面上施加第一无光透明釉层,然后在所述第一无光透明釉层上施加表面装饰层,最后在所述表面装饰层施加第二无光透明釉层,进而在保证无光釉陶瓷砖上设置有足够厚度的无光透明釉,提升了无光透明釉层的厚度,进而保证无光釉陶瓷砖的光泽效果;同时,又能有效避免因图案装饰层外侧无光透明层厚度过大,造成的表面光泽度过高,致使装饰效果差的问题;即提升了无光釉陶瓷砖表面釉层的厚度,提升无光釉陶瓷砖表面的平整度,又能有效降低无光釉陶瓷砖表面光泽度,提升无光釉陶瓷砖的图案装饰层的图案装饰效果。
附图说明
图1是本发明中所提供的一种无光釉陶瓷砖的制备方法流程示意图。
图2是本发明中所提供的一种无光釉陶瓷砖的立体结构示意图。
具体实施方式
本发明提供一种无光釉陶瓷砖及其制备方法,为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参阅图1,本发明实施例提供一种无光釉陶瓷砖的制备方法,其包括步骤:
步骤S11、将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;
步骤S12、在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;
步骤S13、在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层
步骤S14、在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;
步骤S15、在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;
步骤S16、入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。
本实施例中,所述步骤13和步骤14中的无光透明釉为同一无光透明釉,其配方相同;通过施加两层无光透明釉层,进而显著的提升了无光釉陶瓷砖的光泽效果,通过施加3层釉层,进而提升了无光釉陶瓷砖上的釉层厚度,进而显著提升了无光釉陶瓷砖的表面平整度。进一步的,在无光面釉层表面线施加第一无光透明釉层,然后在所述第一无光透明釉层上施加表面装饰层,最后在所述表面装饰层施加第二无光透明釉层,进而在保证无光釉陶瓷砖上设置有足够厚度的无光透明釉,进而保证无光釉陶瓷砖的光泽效果;同时,又能有效避免因图案装饰层外侧无光透明层厚度过大,造成的表面光泽度过高,致使装饰效果差的问题;即提升了无光釉陶瓷砖表面釉层的厚度,提升无光釉陶瓷砖表面的平整度,又能有效降低无光釉陶瓷砖表面光泽度,提升无光釉陶瓷砖的图案装饰层的图案装饰效果。
在一种实施方式中,所述步骤11中辊道窑内最高温度为160℃,干燥周期为50~60分钟,所述陶瓷坯体的出窑温度为80~100℃。也就是说,所述步骤11中的所述陶瓷砖坯体在压制成型后,需要在所述辊道窑进行干燥处理,并且在进行干燥处理时,所述辊道窑内的温度不高于160℃,单批陶瓷砖坯体干燥周期优选为58分钟。
在一种实施方式中,所述步骤12中无光面釉的原料按重量份数计,由以下原料组成:氧化锌2份,硅酸锆15份,钾长石14份,钠长石10份,708熔块19份,烧滑石7份,碳酸钙10份,氧化铝8份,高岭土15份。
在一种实施方式中,所述步骤12中无光面釉层的化学组成按质量百分比计,包括:SiO2 49.08%,Al2O3 21.35%,Fe2O3 0.26%,CaO 9.29%,MgO 3.31%,K2O 2.52%,Na2O 1.8%,ZnO2.13%和ZrO2 10.26%。可以理解,所述通过提升无光面釉中Al2O3、CaO和MgO的组分含量,进而有效提升了无光面釉层中Al、Ca和Mg的含量,进而显著提升了无光面釉的哑光效果。
在一种实施方式中,所述步骤12中的无光面釉的加工过程包括:
每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.3克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.3~0.4%,陈腐时间不小于24小时。
在一种实施方式中,所述步骤13和步骤15中的无光透明釉的原料按重量份数计,由以下组分组成:氧化锌1.37份,碳酸钡8.22份,钾长石16.44份,602熔块26份,烧滑石6.85份,碳酸钙1.37份,硅灰石6.85份,高岭土24.66份,煅烧高岭土8.22份。
在一种实施方式中,所述步骤13第一无光透明层和步骤15中的第二无光透明层,按百分比数份计,包括:SiO2 52.45%,Al2O3 20.28%,Fe2O3 0.43%,CaO 7.59%, MgO 3.55%,K2O 3.63%,Na2O 0.78%,ZnO 2.73%,BaO 8.54%和B2O3 0.02%。可以理解,所述通过提升无光透明釉中Al2O3、CaO和MgO的组分含量,进而有效提升了无光面釉层中Al、Ca和Mg的含量,进而显著提升了无光面釉的哑光效果。
在一种实施方式中,所述步骤13和步骤15中无光透明釉制备工艺包括:
每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.35克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:原料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.1~0.3%,陈腐时间不小于24小时。
在一种实施方式中,所述步骤16中入窑烧制成型时的烧成温度为1202℃,烧成周期为60~65分钟;所述步骤12中无光面釉层的光泽度为5~7度;烧制成型的无釉陶瓷砖的光泽度为3~6度,烧制成型的无釉陶瓷砖的莫氏硬度为5。
请参阅图2,本发明还提供了一种无光釉陶瓷砖10,其中,所述无光釉陶瓷砖由本发明上述实施例中的无光釉陶瓷砖的制备方法制备。
进一步的,所述无光釉陶瓷砖依次包括陶瓷砖坯体11、无光面釉层12、第一无光透明釉层13、图案装饰层14和第二无光透明层15。
本实施例中,所述无光釉陶瓷砖中两层中的无光透明釉为同一无光透明釉,其配方相同;通过施加两层无光透明釉层,进而显著的提升了无光釉陶瓷砖的光泽效果,通过施加3层釉层,进而提升了无光釉陶瓷砖上的釉层厚度,进而显著提升了无光釉陶瓷砖的表面平整度。进一步的,在无光面釉层表面线施加第一无光透明釉层,然后在所述第一无光透明釉层上施加表面装饰层,最后在所述表面装饰层施加第二无光透明釉层,进而在保证无光釉陶瓷砖上设置有足够厚度的无光透明釉,进而保证无光釉陶瓷砖的光泽效果;同时,又能有效避免因图案装饰层外侧无光透明层厚度过大,造成的表面装饰效果。
下面通过具体实施例对本发明进一步地详细说明。
实施例一:
一种无光釉陶瓷砖,其结构由下至上为:瓷砖坯体、无光面釉层、第一无光透明釉层、图案装饰层和第二无光透明层。
具体制备方法为:
(1)将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;
(2)在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;
(3)在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层
(4)在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;
(5)在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;
(6)入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。
上述步骤中辊道窑内最高温度为140℃,干燥周期为50分钟,所述陶瓷坯体的出窑温度为80℃。
上述步骤中无光面釉层中无光面釉的原料按重量份数计,由以下原料组成:氧化锌2份,硅酸锆15份,钾长石14份,钠长石10份,708熔块19份,烧滑石7份,碳酸钙10份,氧化铝8份,高岭土15份。
上述步骤中无光面釉层的化学组成按质量百分比计,包括:SiO2 49.08%,Al2O3 21.35%,Fe2O3 0.26%,CaO 9.29%,MgO 3.31%,K2O 2.52%,Na2O 1.8%,ZnO 2.13%和ZrO2 10.26%。
上述步骤中的无光面釉的加工过程包括:每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.3克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.3%,陈腐时间不小于24小时。
上述步骤中的无光透明釉的原料按重量份数计,由以下组分组成:氧化锌1.37份,碳酸钡8.22份,钾长石16.44份,602熔块26份,烧滑石6.85份,碳酸钙1.37份,硅灰石6.85份,高岭土24.66份,煅烧高岭土8.22份。
上述步骤中第一无光透明层和第二无光透明层按百分比数份计,包括:SiO2 52.45%,Al2O3 20.28%,Fe2O3 0.43%,CaO 7.59%,MgO 3.55%,K2O 3.63%,Na2O 0.78%,ZnO2.73%,BaO 8.54%和B2O3 0.02%。
上述步骤中的无光透明釉制备工艺包括:每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.35克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:原料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.1%,陈腐时间不小于24小时。
上述步骤中入窑烧制成型时的烧成温度为1202℃,烧成周期为60分钟;所述步骤B中无光面釉层的光泽度为5~7度;烧制成型的无釉陶瓷砖的光泽度为3~6度,烧制成型的无釉陶瓷砖的莫氏硬度为5。
实施例二
一种无光釉陶瓷砖,其结构由下至上为:瓷砖坯体、无光面釉层、第一无光透明釉层、图案装饰层和第二无光透明层。
具体制备方法为:
(1)将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;
(2)在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;
(3)在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层
(4)在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;
(5)在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;
(6)入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。
上述步骤中辊道窑内最高温度为150℃,干燥周期为55分钟,所述陶瓷坯体的出窑温度为90℃。
上述步骤中无光面釉层中无光面釉的原料按重量份数计,由以下原料组成:氧化锌2份,硅酸锆15份,钾长石14份,钠长石10份,708熔块19份,烧滑石7份,碳酸钙10份,氧化铝8份,高岭土15份。
上述步骤中无光面釉层的化学组成按质量百分比计,包括:SiO2 49.08%,Al2O3 21.35%,Fe2O3 0.26%,CaO 9.29%,MgO 3.31%,K2O 2.52%,Na2O 1.8%,ZnO 2.13%和ZrO2 10.26%。
上述步骤中的无光面釉的加工过程包括:每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.3克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.2%,陈腐时间不小于24小时。
上述步骤中的无光透明釉的原料按重量份数计,由以下组分组成:氧化锌1.37份,碳酸钡8.22份,钾长石16.44份,602熔块26份,烧滑石6.85份,碳酸钙1.37份,硅灰石6.85份,高岭土24.66份,煅烧高岭土8.22份。
上述步骤中第一无光透明釉层和第二无光透明釉层的化学,组成按百分比数份计,包括:SiO2 52.45%,Al2O3 20.28%,Fe2O3 0.43%,CaO 7.59%,MgO 3.55%,K2O 3.63%,Na2O0.78%,ZnO 2.73%,BaO 8.54%和B2O3 0.02%。
上述步骤中的无光透明釉制备工艺包括:每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.35克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:原料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.2%,陈腐时间不小于24小时。
上述步骤中入窑烧制成型时的烧成温度为1202℃,烧成周期为63分钟;所述步骤B中无光面釉层的光泽度为5~7度;烧制成型的无釉陶瓷砖的光泽度为3~6度,烧制成型的无釉陶瓷砖的莫氏硬度为5。
实施例三
一种无光釉陶瓷砖,其结构由下至上为:瓷砖坯体、无光面釉层、第一无光透明釉层、图案装饰层和第二无光透明层。
具体制备方法为:
(1)将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;
(2)在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;
(3)在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层
(4)在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;
(5)在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;
(6)入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。
上述步骤中辊道窑内最高温度为160℃,干燥周期为60分钟,所述陶瓷坯体的出窑温度为100℃。
上述步骤中无光面釉层中无光面釉的原料按重量份数计,由以下原料组成:氧化锌2份,硅酸锆15份,钾长石14份,钠长石10份,708熔块19份,烧滑石7份,碳酸钙10份,氧化铝8份,高岭土15份。
上述步骤中无光面釉层的化学组成按质量百分比计,包括:SiO2 49.08%,Al2O3 21.35%,Fe2O3 0.26%,CaO 9.29%,MgO 3.31%,K2O 2.52%,Na2O 1.8%,ZnO 2.13%和ZrO2 10.26%。
上述步骤中的无光面釉的加工过程包括:每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.3克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.4%,陈腐时间不小于24小时。
上述步骤中的无光透明釉的原料按重量份数计,由以下组分组成:氧化锌1.37份,碳酸钡8.22份,钾长石16.44份,602熔块26份,烧滑石6.85份,碳酸钙1.37份,硅灰石6.85份,高岭土24.66份,煅烧高岭土8.22份。
上述步骤中第一无光透明釉层和第二无光透明釉层的化学组成,按百分比数份计,包括:SiO2 52.45%,Al2O3 20.28%,Fe2O3 0.43%,CaO 7.59%,MgO 3.55%,K2O 3.63%,Na2O0.78%,ZnO 2.73%,BaO 8.54%和B2O3 0.02%。
上述步骤中的无光透明釉制备工艺包括:每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.35克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:原料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.3%,陈腐时间不小于24小时。
上述步骤中入窑烧制成型时的烧成温度为1202℃,烧成周期为65分钟;所述步骤B中无光面釉层的光泽度为5~7度;烧制成型的无釉陶瓷砖的光泽度为3~6度,烧制成型的无釉陶瓷砖的莫氏硬度为5。
综上所述,本发明提供了一种无光釉陶瓷砖及其制备方法,本发明中,所述步骤13和步骤15中的无光透明釉为同一无光透明釉,其配方相同;通过施加两层无光透明釉层,进而显著的提升了无光釉陶瓷砖的哑光效果,通过施加3层釉层,进而提升了无光釉陶瓷砖上的釉层厚度,进而显著提升了无光釉陶瓷砖的表面平整度。进一步的,在无光面釉层表面线施加第一无光透明釉层,然后在所述第一无光透明釉层上施加表面装饰层,最后在所述表面装饰层施加第二无光透明釉层,进而在保证无光釉陶瓷砖上设置有足够厚度的无光透明釉,进而保证无光釉陶瓷砖的哑光效果;同时,又能有效避免因图案装饰层外侧无光透明层厚度过大,造成的表面光泽度过高、装饰效果差的问题;即提升了无光釉陶瓷砖表面釉层的厚度,提升无光釉陶瓷砖表面的平整度,又能有效降低无光釉陶瓷砖表面光泽度,提升无光釉陶瓷砖的图案装饰层的图案装饰效果。。
应当理解的是,本发明的应用不限于上述的举例,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,包括步骤:
A、将坯体压制成型,并置于辊道窑中进行干燥,形成陶瓷砖坯体;
B、在所述陶瓷砖坯体表面施加无光面釉,形成无光面釉层;
C、在所述无光面釉层表面施加无光透明釉,形成第一无光透明釉层
D、在所述第一无光透明釉层上通过喷墨印刷、平板印刷或辊筒印刷进行表面装饰,形成图案装饰层;
E、在所述图案装饰层上施加无光透明釉,形成第二无光透明釉层;
F、入窑烧制成型,获得无光釉陶瓷砖。
2.根据权利要求1中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤A中辊道窑内最高温度为160℃,干燥周期为50~60分钟,所述陶瓷坯体的出窑温度为80~100℃。
3.根据权利要求1中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤B中无光面釉层中无光面釉的原料按重量份数计,由以下原料组成:氧化锌2份,硅酸锆15份,钾长石14份,钠长石10份,708熔块19份,烧滑石7份,碳酸钙10份,氧化铝8份,高岭土15份。
4.根据权利要求1中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤B中无光面釉层的化学组成按质量百分比计,包括:SiO2 49.08%,Al2O3 21.35%,Fe2O3 0.26%,CaO9.29%,MgO 3.31%,K2O 2.52%,Na2O 1.8%,ZnO 2.13%和ZrO2 10.26%。
5.根据权利要求3中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤B中的无光面釉的加工过程包括:
每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.3克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.3~0.4%,陈腐时间不小于24小时。
6.根据权利要求1中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤C和步骤E中无光透明釉的原料按重量份数计,由以下组分组成:氧化锌1.37份,碳酸钡8.22份,钾长石16.44份,602熔块26份,烧滑石6.85份,碳酸钙1.37份,硅灰石6.85份,高岭土24.66份,煅烧高岭土8.22份。
7.根据权利要求1中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤C第一无光透明层和步骤E中的第二无光透明层,按百分比数份计,包括:SiO2 52.45%,Al2O3 20.28%,Fe2O3 0.43%,CaO 7.59%,MgO 3.55%,K2O 3.63%,Na2O 0.78%,ZnO 2.73%,BaO 8.54%和B2O30.02%。
8.根据权利要求6中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤C和步骤E中无光透明釉制备工艺包括:
每100克原料加入0.3克三聚磷酸钠、0.35克羧甲基纤维素和70克水,进行球磨处理;其中,按质量比计,球:原料:水=1:1.5:0.7,球磨细度为325目筛余0.1~0.3%,陈腐时间不小于24小时。
9.根据权利要求1中所述的无光釉陶瓷砖的制备方法,其特征在于,所述步骤F中入窑烧制成型时的烧成温度为1202℃,烧成周期为60~65分钟;所述步骤B中无光面釉层的光泽度为5-7度;烧制成型的无釉陶瓷砖的光泽度为3~6度,烧制成型的无釉陶瓷砖的莫氏硬度为5。
10.一种无光釉陶瓷砖,其特征在于,所述无釉陶瓷砖由权利要求1-9任一项所述的无光釉陶瓷砖的制备方法制备获得,所述无光釉陶砖由下至上依次包括陶瓷砖坯体、无光面釉层、第一无光透明釉层、图案装饰层和第二无光透明层。
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